JP2009016439A - Method and apparatus for correcting proximity effect correction rate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は近接効果補正量の補正方法及び装置に関し、再現性の低いエラーが発生しても描画は停止せず、ランニングコストの悪化を防げるようにした近接効果補正量の補正方法及び装置に関する。 The present invention relates to a proximity effect correction amount correction method and apparatus, and more particularly to a proximity effect correction amount correction method and apparatus that do not stop drawing even if an error with low reproducibility occurs and prevent deterioration in running cost.
荷電粒子ビーム装置により特定のパターンを描画する際、荷電粒子ビーム装置のビーム電流、マスクのレジスト感度等から最適なショット時間を求め描画を行なったとしても、パターンの密な領域において、描画パターンが太る現象が起こる。この現象は、マスクに照射された荷電粒子ビームが散乱し、周囲に広がることにより起こるものであり、近接効果と呼ばれる。 When drawing a specific pattern with a charged particle beam device, even if the optimum shot time is determined from the beam current of the charged particle beam device, the resist sensitivity of the mask, etc. A fattening phenomenon occurs. This phenomenon occurs when the charged particle beam irradiated to the mask is scattered and spreads around, and is called a proximity effect.
この効果を相殺し、描画パターンの粗密に依存しない描画パターンを得るために近接効果補正(Proximity Effect Correction:以下、PECという)を行なう。図3は荷電粒子ビーム描画装置の構成例を示す図である。ここでは、荷電粒子ビームとして電子ビームが用いられている。図において、1は描画パターンデータやジョブデータが格納されるディスクである。2は該ディスク1に記憶されているパターンデータを読み出して近接効果補正を行なう近接効果補正装置である。該近接効果補正装置2からは、パターン毎の近接効果補正信号Smod+1が出力される。
Proximity effect correction (hereinafter referred to as PEC) is performed to offset this effect and obtain a drawing pattern that does not depend on the density of the drawing pattern. FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration example of a charged particle beam drawing apparatus. Here, an electron beam is used as the charged particle beam. In the figure,
3はディスク1からの描画パターンデータと近接効果補正装置2からの近接効果補正信号Smod+1を受けて、電子ビーム描画装置の各構成要素にデータを転送するデータ転送システムである。4はデータ転送システム3から送られてくるショット時間データを受けるブランキングアンプである。
A
5は電子ビーム6を出射する電子銃、7は該電子ビーム6を集束する第1レンズ、8は該第1レンズ7の近傍であってかつ光軸に設けられたブランキング電極である。該ブランキング電極8は、前記ブランキングアンプ4により駆動され、露光時間が制御される。9は該ブランキング電極8の真下に設けられたブランキング絞りである。
10は電子ビーム6の一部を透過させる第1成形スリット、11は第1成形スリット10の真下に設けられた上下2段の電極よりなる成形偏向器である。該成形偏向器11は前記データ転送システム3から成形制御信号を受けるようになっている。12は第2レンズ、13は前記成形偏向器11の真下に配置された第2成形スリットである。前記第1成形スリット及び第2成形スリット13を用いて電子ビーム6の面積が決定される。14は第3レンズである。
15は前記データ転送システム3からの偏向信号を受けて、電子ビーム6を偏向する副偏向器、16は対物レンズ、17は光軸を囲むように形成され、電子ビーム6に含まれる各種の非点収差を補正する非点補正器、18は前記データ転送システム3からの偏向信号を受けて、電子ビーム6を偏向させる主偏向器、19はその表面に描画がなされる描画材料面である。
15 is a sub deflector for deflecting the electron beam 6 upon receiving a deflection signal from the
ディスク1には描画するパターンデータ、描画条件等が格納されており、近接効果補正装置、データ転送システムは描画時に必要なデータをこのディスクから読み出す。近接効果補正装置2は、描画に先駆けてディスク1からパターンデータ、描画条件を読み込み、近接効果補正量(Smod+1)を出力する。
The
データ転送システム3は、ディスク1に格納れているパターンデータ、描画条件を鏡筒の各偏向器、ブランキングのタイミング(ショット時間)、フォーカス非点補正のデータに変換する。パターンデータ、描画条件から求めたショット時間に対し、近接効果補正量Smod+1を乗算により変調させてブランキングアンプに出力する。
The
ブランキングアンプ4は、データ転送システム3により出力されたショット時間(デジタルデータ)のパルス幅を持つアナログ信号をブランキング電極に出力する。このように構成された装置の動作を説明すれば、以下の通りである。
The blanking amplifier 4 outputs an analog signal having a pulse width of the shot time (digital data) output from the
先ず、ディスク1に記憶されているパターンデータが近接効果補正装置2に入り、近接効果補正データSmod+1が出力される。データ転送システム3は、ディスク1からのパターンデータと近接効果補正装置2で得られた近接効果補正データSmod+1とを受けて、近接効果が発生しないようにパターンデータのショット時間を決め、ブランキングアンプ4にショット時間データを与える。
First, pattern data stored in the
該ブランキングアンプ4は、ブランキング電極8のオン/オフを制御し、所定のショット時間だけパターンデータをオンにする。このパターンデータは、第1成形スリット10を通り、成形偏向器11により成形された後、第2成形スリット13を通り、副偏向器15で偏向され、非点補正器17で収差補正がなされた後、対物レンズ16で描画材料面19に焦点を合わせられ、照射される。この場合において、ショットされるパターンデータに応じて、主偏向器18で描画材料面19上に所定のパターンを描画していく。
The blanking amplifier 4 controls on / off of the
この実施の形態によれば、近接効果補正装置2により補正データSmod+1がパターンデータに加味されたショット時間で描画材料面19に描画されるので、近接効果の影響を除去した描画パターンを得ることができる。
According to this embodiment, the correction data Smod + 1 is drawn on the drawing material surface 19 by the proximity
ここで、近接効果補正装置2の動作について説明する。図4は近接効果補正装置の構成を示すブロック図である。近接効果補正装置2は、パターンデータ受信/制御部20と、複数(n個)のパターン展開基板21と、展開パターン受信/制御部22と、複数(m個)のPEC演算基板23と、PEC補正量出力制御部24から構成されており、PEC補正量出力制御部24からPEC補正量出力が出力される。なお、演算速度を速くする必要から、パターン展開基板21とPEC演算基板23はハードウェアで構成されている。
Here, the operation of the proximity
ディスクに格納されているパターンデータをパターンデータ受信/制御部20が受け取る。該パターンデータ受信/制御部20は、受け取ったパターンデータを荷電粒子ビーム装置の定めるサイズに分割し、処理を行なっていない#1〜#nまでのパターン展開基板21に順次転送する。パターン展開基板21は、それぞれ特定のフォーマットで送られてくるパターンデータを2次元情報に展開する。
The pattern data reception /
パターン展開基板21は、高速化を実現するため、完全に並列に展開を実行する。展開されたパターンデータを展開パターン受信/制御部22が受け取り、処理を行なっていないPEC演算基板23に転送する。これらPEC演算基板23は、受け取った展開済みの2次元状のデータに対してPEC演算を行なう。
The
PEC補正量出力制御部24は、PEC演算基板23から出力されるPEC補正量を受信し、荷電粒子ビーム描画装置の定めるプロトコルでPEC補正量出力を出力する。図4に示す構成は、大きく分けて、パターン展開演算を行なう#1〜#nまでのパターン展開基板21と、PEC演算を行なうPEC演算基板23と、これらの演算部に効率よくデータを供給し、出力データの受信を行なう制御部20,22,24に分けられる。
The PEC correction amount
この種の装置としては、制御信号に基づいて電子ビームの照射又は非照射を行う照射手段と、電子ビーム源から発生する電子ビームを露光パターンに対応して偏向する偏向手段と、前記電子ビームを露光物上に集束する集束手段とを備え、前記制御信号の異常を監視する監視手段と、前記制御信号が異常である場合に、該制御信号を前記照射手段へ入力させないマスク手段を有する技術が知られている(例えば特許文献1参照)。 This type of apparatus includes an irradiation unit that performs irradiation or non-irradiation of an electron beam based on a control signal, a deflection unit that deflects an electron beam generated from an electron beam source in accordance with an exposure pattern, and the electron beam. A technique comprising: a focusing unit that focuses on an exposure object; and a monitoring unit that monitors an abnormality of the control signal; and a mask unit that prevents the control signal from being input to the irradiation unit when the control signal is abnormal. It is known (see, for example, Patent Document 1).
また、露光動作を制御するための制御データの処理の際に発生し得るエラーを検知し、そのエラーを完全に訂正するようにした技術が知られている(例えば特許文献2参照)。
描画パターンは、微細化、高集積化の傾向があり、描画時間の短縮も望まれている。このため、パターン展開演算部、PEC演算部共に、より大量かつ高速な演算が必要となる。これらを実現するために、ハードウェア動作はより厳しくなり、以前に比べて以下のような問題が頻繁に生じるようになった。
1)エラーが発生した際、原因の特定、解決に時間がかかる。
2)エラーに再現性がなく、原因を特定しづらい。
3)高集積化のため、基板不良によりエラーが発生する場合があり、1),2)との切り分けが難しい。
Drawing patterns tend to be miniaturized and highly integrated, and shortening of drawing time is also desired. For this reason, both the pattern development calculation unit and the PEC calculation unit require a larger amount and a higher speed calculation. In order to realize these, hardware operations have become more severe, and the following problems have occurred more frequently than before.
1) When an error occurs, it takes time to identify and resolve the cause.
2) The error is not reproducible and it is difficult to identify the cause.
3) Due to high integration, an error may occur due to a substrate defect, and it is difficult to separate 1) and 2).
このため、荷電粒子ビーム描画装置において、描画中に異常が発生した場合、修正に時間がかかり、ランニングコストが悪化してしまう。
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであって、エラーを検出しても荷電粒子ビーム描画装置を極力停止することなく稼働率を向上させることができる近接効果補正量の補正方法及び装置を提供することを目的としている。
For this reason, in the charged particle beam drawing apparatus, when an abnormality occurs during drawing, the correction takes time and the running cost is deteriorated.
The present invention has been made in view of such problems, and a proximity effect correction amount correction method capable of improving the operation rate without stopping the charged particle beam drawing apparatus as much as possible even if an error is detected, and The object is to provide a device.
(1)請求項1記載の発明は、荷電粒子ビームを材料面に照射して該材料面上に所定のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画装置における近接効果補正量の補正方法において、パターンデータを入力してパターン展開するパターン展開工程と、該パターン展開されたデータを受けてPEC演算を行なうPEC演算工程とを有し、前記パターン展開工程と、PEC演算工程のそれぞれにおいて、同じ基板で連続してエラーが発生した場合、所定回数のリトライを行ない、最大リトライ回数以下でエラーが復帰した場合には通常の処理に戻り、最大リトライ回数リトライしてもエラーが復帰しない場合には、当該基板を使用しないようにすることを特徴とする。
(2)請求項2記載の発明は、荷電粒子ビームを材料面に照射して該材料面上に所定のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画装置における近接効果補正量の補正装置において、パターンデータを受けるパターンデータ受信/制御部と、該パターンデータ受信/制御部の出力を受けてパターン展開する複数のパターン展開基板と、該パターン展開基板の出力を受ける展開パターン受信/制御部と、該展開パターン受信/制御部からの出力を受けてPEC演算を行なう複数のPEC演算基板と、該PEC演算基板の出力を受けてPEC補正量を出力するPEC補正量出力制御部とを有し、前記パターン展開基板及び/又はPEC演算基板でエラーが発生した時、所定回数のリトライを行ない、最大リトライ回数以下でエラーが復帰した場合には通常の処理に戻り、最大リトライ回数リトライしてもエラーが復帰しない場合には、当該基板を使用しないようにすることを特徴とする。
(1) The invention according to
(2) The invention according to
(1)請求項1記載の発明によれば、最大リトライ回数以下でエラーが復帰した場合には通常の処理に戻り、最大リトライ回数リトライしてもエラーが復帰しない場合には当該基板を使用しないようにするので、エラーを検出しても荷電粒子ビーム描画装置を極力停止することなく稼働率を向上させることができる。
(2)請求項2記載の発明によれば、最大リトライ回数以下でエラーが復帰した場合には通常の処理に戻り、最大リトライ回数リトライしてもエラーが復帰しない場合には当該基板を使用しないようにするので、エラーを検出しても荷電粒子ビーム描画装置を極力停止することなく稼働率を向上させることができる。
(1) According to the first aspect of the invention, when the error is recovered within the maximum number of retries, the process returns to the normal processing, and when the error is not recovered even after retrying the maximum number of retries, the board is not used. Therefore, even if an error is detected, the operating rate can be improved without stopping the charged particle beam drawing apparatus as much as possible.
(2) According to the invention described in
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。図1はパターン展開処理を示すフローチャートである。荷電粒子ビーム描画装置及び近接効果補正装置としては、図3及び図4を用いるものとする。近接効果補正装置2は、通常の動作中にパターン展開基板21でエラーが発生したかどうかを常時監視している(S1)。エラーが発生していない場合には、通常処理を続行する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a flowchart showing pattern development processing. 3 and 4 are used as the charged particle beam drawing apparatus and the proximity effect correction apparatus. The proximity
パターン展開エラーが発生した場合には、エラーの発生したパターン展開基板21が自分の番号#i(i=1〜n)と、エラーの発生したパターン区画番号Fiを展開パターン受信/制御部22に通知する(S2)。ここで、区画番号とはフィールド番号のことである(以下同じ)。該展開パターン受信制御部22は、Fiの区画のパターンを再読み込みする(S3)。そして、近接効果補正装置2は、同じ#i,Fiでエラーが連続的に発生した回数が最大リトライ回数以下であるかどうかチェックする(S4)。ここで、最大リトライ回数は、予め近接効果補正装置2に設定され、記憶されているものとする。
When a pattern development error occurs, the
エラーが発生した回数が最大リトライ回数以下であった場合、即ち最大リトライ回数まで達しない間にエラーが復帰した場合、近接効果補正装置2は、パターン展開基板#iを初期化し、エラー状態から復帰する(S5)。そして、展開パターン受信/制御部22がパターン展開基板#iに区画Fiのパターンを転送する(S6)。パターン展開基板#iが区画Fiを再展開する(S7)。その後、ステップS1に戻る。
When the number of times that an error has occurred is less than or equal to the maximum number of retries, that is, when the error is recovered without reaching the maximum number of retries, the proximity
一方、ステップS4においてエラーが連続的に発生した回数が最大リトライ回数を超えた場合、そのパターン展開基板21は使用しないようにする。このため、近接効果補正装置2は、以降、パターン展開基板#iをパターン展開に使用しないように設定する(S8)。次に、展開パターン受信/制御部22がパターン展開基板#i、及び過去エラーの発生したパターン展開基板21以外のパターン展開基板21に区画Fiのパターンを転送する(S9)。この場合において、区画Fiのパターンを受け取ったパターン展開基板21が区画Fiパターンを再展開し、ステップS1に戻る。
On the other hand, if the number of consecutive errors in step S4 exceeds the maximum number of retries, the
図2はPEC演算処理を示すフローチャートである。荷電粒子ビーム描画装置及び近接効果補正装置としては、図3及び図4を用いるものとする。近接効果補正装置2は、通常の動作中にPEC演算基板23でエラーが発生したかどうかを常時監視している(S1)。エラーが発生していない場合には、通常処理を続行する。
FIG. 2 is a flowchart showing the PEC calculation process. 3 and 4 are used as the charged particle beam drawing apparatus and the proximity effect correction apparatus. The proximity
エラーが発生した場合には、エラーの発生したPEC演算基板23が自分の#jと、エラーの発生した展開パターン区画番号Fjを展開パターン受信制御部22に通知する(S2)。展開パターン受信制御部22がFjの区画の展開パターンを再度読み込む(S3)。次に、近接効果補正装置2は同じ#j,Fjでエラーが連続的に発生した回数が最大リトライ回数以下であるかどうかチェックする(S4)。
When an error occurs, the
最大リトライ回数以下であった場合、エラーは回復していることになる。そこで、近接効果補正装置2はPEC演算基板#1〜#mを初期化し、エラー状態から復帰させる(S5)。そして、展開パターン受信/制御部22がPEC演算基板#jに区画Fjの展開パターンを転送する(S6)。次に、PEC演算基板#jが区画Fj展開パターンを再演算し(S7)、ステップS1に戻る。
If it is less than the maximum number of retries, the error is recovered. Therefore, the proximity
一方、ステップS4にて、エラー回数が最大リトライ回数を超えた場合、以降、近接効果補正装置2は、PEC演算基板#jをパターン展開に使用しないように設定する(S8)。その後、展開パターン受信/制御部22がPEC演算基板#j及び過去エラーの発生したPEC演算基板23以外に区画Fjの展開パターンを転送する(S9)。そして、区画Fjの展開パターンを受け取ったPEC演算基板23が、区画Fjの展開パターンを再演算し(S10)、ステップS1に戻る。
On the other hand, if the number of errors exceeds the maximum number of retries in step S4, the proximity
このように、本実施の形態によれば、最大リトライ回数以下でエラーが復帰した場合には通常の処理に戻り、最大リトライ回数リトライしてもエラーが復帰しない場合には当該基板を使用しないようにするので、エラーを検出しても荷電粒子ビーム描画装置を極力停止することなく稼働率を向上させることができる。 As described above, according to the present embodiment, when the error is recovered within the maximum number of retries, the process returns to the normal processing, and when the error is not recovered even after the maximum number of retries is retried, the board is not used. Therefore, even if an error is detected, the operation rate can be improved without stopping the charged particle beam drawing apparatus as much as possible.
次に、近接効果補正(PEC)の原理について説明する。荷電粒子ビームの散乱によるビームショット位置周辺への散乱分布は以下の式で表される。 Next, the principle of proximity effect correction (PEC) will be described. The scattering distribution around the beam shot position due to the scattering of the charged particle beam is expressed by the following equation.
ここで、Eはマスク上の入射電子エネルギー分布であり、塗りつぶしに必要なエネルギーで規格化された量である。パターンを描きたい位置で1、パターンの無いところで0となるもので、近似を含まない現時点では、1,0の2値のみ持つ分布量である。Eidは、電子線がマスク上のある一点のみに照射された際の電子線の分布を表す。近接効果補正により、パターンの分布に依らずEで狙ったとおりのパターンを得るために以下の演算を行なう。 Here, E is the incident electron energy distribution on the mask, which is an amount normalized by the energy required for painting. It is 1 at the position where the pattern is to be drawn, and 0 when there is no pattern. At the present time, including no approximation, the distribution amount has only binary values of 1, 0. Eid represents the distribution of the electron beam when the electron beam is applied to only one point on the mask. By the proximity effect correction, the following calculation is performed in order to obtain a pattern as aimed at E regardless of the pattern distribution.
ここで、Daは1図形を描くための電子線第1ショット毎の電子線エネルギー量、ηは後方散乱係数である。この式の意味は入射電子量を表す第1項、入射された電子の散乱を表す第2項を足したものが一定になることを表す方程式である。そのため、電子線1ショット毎にこの式を満たすSmod+1を求めることが近接効果補正演算の目的となる。但し、(2),(3)式をSmod+1につて解析的に解くことは難しい。(2),(3)式の第2項のSmod+1が、EとEidの畳み込み積分におけるEに対する重みとなっているためである。そのため、(2),(3)式の第2項のSmod+1をEbpのかけ算であると見なして(4)式のようにする。
(Smod+1)+C2×η×Ebp(x,y)×{Smod(x−x´,y−y´)+1}
=C1 (4)
(4)式をSmod+1について解くと、
Smod(x,y)+1=C1/{1+C2×η×Ebp(x,y)} (5)
しかしながら、(5)式で求まるのは、(4)式で行なった近似を含むものであるため、以下の手順により(2),(3)式の解析的な値に漸近させる。(5)式で求めたSmod+1を再度(2),(3)式に代入すると、Ebp´は次式で表される。
Here, Da is the amount of electron beam energy for each electron beam first shot for drawing one figure, and η is the backscattering coefficient. The meaning of this equation is an equation indicating that the sum of the first term representing the amount of incident electrons and the second term representing the scattering of incident electrons is constant. Therefore, the object of the proximity effect correction calculation is to obtain Smod + 1 that satisfies this equation for each electron beam shot. However, it is difficult to solve equations (2) and (3) analytically for Smod + 1. This is because Smod + 1 in the second term of the expressions (2) and (3) is a weight for E in the convolution integral of E and Eid. Therefore, Smod + 1 in the second term of the expressions (2) and (3) is regarded as a multiplication of Ebp, and the expression (4) is obtained.
(Smod + 1) + C2 × η × Ebp (x, y) × {Smod (xx ′, yy ′) + 1}
= C1 (4)
Solving equation (4) for Smod + 1,
Smod (x, y) + 1 = C1 / {1 + C2 × η × Ebp (x, y)} (5)
However, since what is obtained by equation (5) includes the approximation performed by equation (4), it is asymptotic to the analytical values of equations (2) and (3) by the following procedure. By substituting Smod + 1 obtained by the equation (5) into the equations (2) and (3) again, Ebp ′ is expressed by the following equation.
(5)式で求めたSmod+1を用いて(6)式を求めて(6)式をEbpとして(2),(3)式に代入すると、Smod+1は次式で表される。
Smod+1=C1−{C2×η×Ebp´(x,y)} (7)
となり、Smod+1について解くことができる。以降、同様に(6)式,(7)式の計算を繰り返すことで、Smod+1は(2),(3)式の解析解に漸近させることができる。
When Smod + 1 obtained by the equation (5) is used to obtain the equation (6) and the equation (6) is substituted as Ebp into the equations (2) and (3), Smod + 1 is expressed by the following equation.
Smod + 1 = C1− {C2 × η × Ebp ′ (x, y)} (7)
And can be solved for Smod + 1. Subsequently, Smod + 1 can be made asymptotic to the analytical solution of equations (2) and (3) by repeating the calculations of equations (6) and (7) in the same manner.
しかしながら、実際の計算では、(1),(5),(6),(7)式はハードウェアで高速に演算されるため、各信号をサンプリング、量子化する必要がある。(1),(5),(6),(7)式はそれぞれ(8),(9),(10),(11)式のようになる。 However, in actual calculations, since the equations (1), (5), (6), and (7) are calculated at high speed by hardware, it is necessary to sample and quantize each signal. Expressions (1), (5), (6), and (7) are respectively expressed by expressions (8), (9), (10), and (11).
Smod+1=C1/(1+C2×η×Ebpm,n) (9) Smod + 1 = C1 / (1 + C2 × η × Ebp m, n ) (9)
Smod+1=C1−{C2×η×Ebp´m,n} (11)
(8)式から(11)式はm,n,i,jで全て同じ区画でサンプリングされる。但し、Eは(1)式における1,0のみの2値信号から、区画内全て塗りつぶしで1、区画内に一切パターンが無い場合で0という、電子の入射エネルギーの割合となり、0〜1の範囲で値を持つ。
Smod + 1 = C1- {C2 * [eta] * Ebp'm , n } (11)
Expressions (8) to (11) are all sampled in the same section with m, n, i, and j. However, E is the ratio of the incident energy of electrons from the binary signal of only 1 and 0 in the equation (1), which is 1 when the entire area is filled and 0 when there is no pattern in the area. Has a value in the range.
以上から、近接効果補正を行なうにあたり、ハードウェアは(8),(10)式の畳み込みと、(9),(11)式に必要な四則演算を行なう。
以上、説明した本発明の効果を説明すれば、以下の通りである。
1)再現性の低いエラーが発生しても描画は停止せず、ランニングコストの悪化を防げる。2)また、再現性の低いエラーによる影響は描画に現れないため、マスクが無駄にならない。
3)不良基板が特定されるため、基板交換により迅速に不具合に対処することができる。
From the above, when performing proximity effect correction, the hardware performs the convolution of equations (8) and (10) and the four arithmetic operations necessary for equations (9) and (11).
The effects of the present invention described above will be described as follows.
1) Even if an error with low reproducibility occurs, drawing does not stop, and deterioration of running cost can be prevented. 2) Further, since the influence of errors with low reproducibility does not appear in drawing, the mask is not wasted.
3) Since a defective board is specified, it is possible to quickly cope with a problem by replacing the board.
このように、本発明によれば、エラーを検出しても荷電粒子ビーム描画装置を極力停止することなく稼働率を向上させることができる近接効果補正量の補正方法及び装置を提供することができる。 As described above, according to the present invention, it is possible to provide a proximity effect correction amount correction method and apparatus that can improve the operation rate without stopping the charged particle beam drawing apparatus as much as possible even if an error is detected. .
20 パターンデータ受信/制御部
21 パターン展開基板
22 展開パターン受信/制御部
23 PEC演算基板
24 PEC補正量出力制御部
20 Pattern Data Reception /
Claims (2)
パターンデータを入力してパターン展開するパターン展開工程と、
該パターン展開されたデータを受けてPEC演算を行なうPEC演算工程と、
を有し、前記パターン展開工程と、PEC演算工程のそれぞれにおいて、同じ基板で連続してエラーが発生した場合、所定回数のリトライを行ない、最大リトライ回数以下でエラーが復帰した場合には通常の処理に戻り、
最大リトライ回数リトライしてもエラーが復帰しない場合には、当該基板を使用しないようにする
ことを特徴とする近接効果補正量の補正方法。 In a method for correcting a proximity effect correction amount in a charged particle beam drawing apparatus that irradiates a material surface with a charged particle beam and draws a predetermined pattern on the material surface.
Pattern development process to input pattern data and develop the pattern,
A PEC operation step of receiving the pattern expanded data and performing a PEC operation;
In each of the pattern development process and the PEC calculation process, when an error occurs continuously on the same substrate, a predetermined number of retries are performed, and when the error is restored below the maximum number of retries, a normal operation is performed. Return to processing
A proximity effect correction amount correction method, wherein an error is not recovered even after retrying the maximum number of retries, and the board is not used.
パターンデータを受けるパターンデータ受信/制御部と、
該パターンデータ受信/制御部の出力を受けてパターン展開する複数のパターン展開基板と、
該パターン展開基板の出力を受ける展開パターン受信/制御部と、
該展開パターン受信/制御部からの出力を受けてPEC演算を行なう複数のPEC演算基板と、
該PEC演算基板の出力を受けてPEC補正量を出力するPEC補正量出力制御部と、
を有し
前記パターン展開基板及び/又はPEC演算基板でエラーが発生した時、所定回数のリトライを行ない、最大リトライ回数以下でエラーが復帰した場合には通常の処理に戻り、
最大リトライ回数リトライしてもエラーが復帰しない場合には、当該基板を使用しないようにすることを特徴とする近接効果補正量の補正装置。 In a proximity effect correction amount correction apparatus in a charged particle beam drawing apparatus that irradiates a material surface with a charged particle beam and draws a predetermined pattern on the material surface.
A pattern data receiving / control unit for receiving pattern data;
A plurality of pattern development substrates that receive the output of the pattern data reception / control unit and develop a pattern;
A development pattern receiving / control unit for receiving the output of the pattern development substrate;
A plurality of PEC operation boards for performing a PEC operation in response to an output from the development pattern reception / control unit;
A PEC correction amount output control unit that receives the output of the PEC calculation board and outputs a PEC correction amount;
When an error occurs in the pattern development board and / or the PEC calculation board, a predetermined number of retries are performed, and when the error is restored below the maximum number of retries, the process returns to normal processing.
A proximity effect correction amount correction apparatus, wherein an error is not recovered even after retrying the maximum number of retries, and the board is not used.
Priority Applications (1)
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