JP2009011526A - X線診断装置 - Google Patents

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Abstract


【課題】バックライトの電圧値と撮影条件との相関関係に着目することにより、残像除去率を向上する。
【解決手段】X線管2から照射されるX線をX線検出器4で検出し、検出された検出信号を画像処理部7で画像データとして取得処理する。X線管2から照射するX線撮影条件を設定する撮影条件設定手段6と、X線検出器4に残像除去のためのバックライトを照射する光照射部と、その光照射部から照射するバックライトの電圧値を設定する電圧値設定手段23と、予め撮影条件設定手段6で設定される撮影条件それぞれに対応して求められた残像除去に最適なバックライト電圧値を格納した撮影条件―電圧値相関テーブル25とを備え、撮影条件に応じて、撮影条件―電圧値相関テーブル25から最適なバックライト電圧値を抽出し、電圧値設定手段23におけるバックライト電圧値となるように置換し、バックライトを照射する。
【選択図】図4

Description

この発明は、被検体にX線を照射するX線管などのX線照射手段と、X線照射手段から照射されるX線を受けるX線検出器と、そのX線検出器で検出された検出信号を画像データとして取得処理する画像処理部と、X線照射手段から照射するX線撮影条件を設定する撮影条件設定手段と、X線検出器に残像除去のためのバックライトを照射する光照射部とを備えたX線診断装置に関する。
この種のX線診断装置では、X線検出器において、それを構成する分割電極間に溜まった電荷がX線照射後に掃き出されたり、分割電極領域に電荷が溜まって分割電極近傍の電位が上昇するといった現象を生じ、それらに起因して残像を生じる問題があった。
このような残像を除去するためにバックライトを照射するようにしており、従来では、次のようなものが知られている。
A.第1従来例
放射線(X線)の検出中に、波長が、使用する半導体の透過率半減波長よりも短く、かつ、バンドギャップエネルギーに対応する波長よりも長い光を照射するようにしている(特許文献1参照)。
B.第2従来例
基板層上に複数個の放射線感応センサが配列されるとともに、その周囲に光導電層が形成され、光導電層上に上部誘電体層が設けられるとともに、上部誘電体層上に最上部誘電体層が設けられている。
最上部誘電体層上に、第1の実質的に均一なパターンの光を光導電層に照射する第1の発光パネルが設けられている。また、基板層の下方に、第2のパターンの低エネルギー光線を光導電層に供給する第2の発光パネルが設けられている(特許文献2参照)。
特開2004−146769号公報 特開平9−9153号公報
しかしながら、上述第1および第2従来例のいずれの場合も、その光照射、すなわち、バックライトのエネルギーとして適切な値に設定するものでは無く、未だ改善の余地があった。
この発明は、上述のような事情に鑑みてなされたものであって、バックライトの電圧値と撮影条件との相関関係に着目することにより、残像除去率を向上できるようにすることを目的とする。
請求項1に係る発明は、上述のような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、被検体にX線を照射するX線照射手段と、前記X線照射手段から照射されるX線を受けるX線検出器と、前記X線検出器で検出された検出信号を画像データとして取得処理する画像処理部と、前記X線照射手段から照射するX線撮影条件を設定する撮影条件設定手段と、前記X線検出器に残像除去のためのバックライトを照射する光照射部とを備えたX線診断装置において、
前記光照射部から照射するバックライトの電圧値を設定する電圧値設定手段と、予め前記撮影条件設定手段で設定される撮影条件それぞれに対応して求められた残像除去に最適なバックライト電圧値を格納した撮影条件―電圧値相関テーブルと、前記撮影条件設定手段で設定された撮影条件に対応した最適なバックライト電圧値を前記撮影条件―電圧値相関テーブルから抽出して前記電圧値設定手段におけるバックライト電圧値を最適なバックライト電圧値に置換する電圧値制御手段とを備えたことを特徴としている。
撮影条件とバックライト電圧値との相関関係について考察した結果、X線線量とバックライト電圧値との間に比例的あるいは反比例的といったような関係を見出すことができず、撮影条件それぞれで固有のバックライト電圧値に設定する必要があることを見出すに至った。
請求項1に係る発明のX線診断装置の構成によれば、上記知見に基づき、試行錯誤的に撮影条件ごとに最適なバックライト電圧値を求め、撮影条件と最適なバックライト電圧値との相関テーブルを作成し、撮影条件が変わるたびに、撮影条件―電圧値相関テーブルから最適なバックライト電圧値を抽出し、電圧値設定手段におけるバックライト電圧値となるように置換し、バックライトを照射する。
したがって、撮影条件が変わっても、最適なバックライト電圧値でバックライトを照射でき、残像除去率を向上できる。
次に、この発明の実施例について、図面に基づいて詳細に説明する。
図1は、この発明に係る実施例のX線診断装置を示す全体構成図であり、被検体Hを載置する撮影台1の上方に、被検体HにX線を照射するX線照射手段としてのX線管2がX線管保持装置3を介して設けられている。撮影台1の下面に、X線管2から照射されて被検体Hを透過したX線を受けるX線検出器としてのフラットパネル型X線検出器4が設けられている。
X線管2には、X線を発生するX線発生装置5が接続され、そのX線発生装置5には、X線強度を調整するために管電圧や管電流などのX線管2から照射するX線の条件を設定するX線条件設定手段6が接続されている。
フラットパネル型X線検出器4には、そこで受けて検出された検出信号を画像データとして取得処理する画像処理部7が接続されるとともに、その画像処理部7に、処理した画像を表示する画像表示部8が接続されている。
図2のフラットパネル型X線検出器の概略構成の横断面図、および、図3のフラットパネル型X線検出器の概略構成を示す平面図に示すように、フラットパネル型X線検出器4は、X線の入射側から順に、バイアス電圧を印加する印加電極9と、X線を電荷に変換する半導体層10と、分割電極11やスイッチング素子s等を有するアクティブマトリクス基板12とを積層して構成されている。分割電極11は、半導体層10で変換された電荷を検出信号として収集するようになっている。スイッチング素子sは、収集した検出信号をオン状態に移行して読み出すようになっている。半導体層10としては、アモルファス・セレン等が例示される。
アクティブマトリクス基板12の背面(半導体層10が設けられた面とは反対の面)側には、半導体層10の分割電極11が設けられている方に向けて、残像除去のためのバックライトを照射する光照射部13が設けられている。図2では、1点鎖線で光を模式的に示す。更に、各スイッチング素子sを駆動するゲートドライバ14と、そのゲートドライバ14を操作して検出信号の読み出しを制御する駆動制御回路15と、その駆動制御回路15と連携しつつ読み出された検出信号を処理する2つのアンプアレイ回路16a,16bと、駆動制御回路15と連携して光照射部13を制御する光制御部17とが備えられている。
アクティブマトリクス基板12は、電気絶縁性を有する透明なガラス基板18上に、分極性電極11とコンデンサCaとスイッチング素子sと走査線19と信号線20等を形成して構成されている。分割電極11は多数個であり、半導体層10の下面側において交差する2軸方向である行と列に沿って互いに分離された状態で配列されている。各分割電極11には、それぞれ収集された検出信号を蓄積するコンデンサCaが接続されている。分割電極11およびコンデンサCaの各対には、それぞれスイッチング素子sが接続されている。スイッチング素子sとしては、薄膜トランジスタ(TFT)が例示される。
これら1組の分割電極11とコンデンサCaとスイッチング素子sとは、これに応じた領域の半導体層10および印加電極9と併せて、1個の検出素子dを構成する。したがって、フラットパネル型X線検出器4の検出面を平面視すると、図3に示すように、多数個の検出素子dが、行列状に配列されていると見ることができる。
更に、走査線19は検出素子dの行ごとに形成され、各行のスイッチング素子sのゲートに共通に接続されている。信号線20は、各列ごとに2本形成されており、それぞれ略中央から両側に延びている。そして、各列の略半数のスイッチング素子sがそれぞれ信号線20に共通に接続されている。なお、行と列は、方向を区別するために便宜上用いているに過ぎず、列ごとに走査線19を設け、行ごとに信号線20を設けると考えてもよい。
ゲートドライバ15は、各走査線19の一端側と接続されている。そして、各走査線19を介して各行のスイッチング素子sをオン/オフ駆動させるためのゲートパルスを出力するようになっている。アンプアレイ回路16a,16bは、それぞれ検出素子d群の両側方に別個に設けられており、それぞれ検出素子d群から引き出された信号線20が接続されている。
これにより、全てのスイッチング素子sは、アンプアレイ回路16a,16bに応じた2つの素子グループG1,G2に分けられることになり、各アンプアレイ回路16a,16bは、それぞれ対応する素子グループG1,G2に含まれているスイッチング素子sから読み出される検出信号を処理するようになっている。駆動制御回路15は、垂直同期信号および水平同期信号に基づいて、上述したゲートドライバ14とアンプアレイ回路16a,16bとを総括的に制御するようになっている。
光照射部13は、面状導光部21と発光部22とから構成されている。面状導光部21は、光透過性を有するアクリルやガラス等の板状物によって形成され、アクティブマトリクス基板12側を発光面とする板状物である。発光部22は、面状導光部21の端面に対して光を発光するようになっている。この発光部22としては、発光ダイオードや冷陰極管等が例示される。
光制御部17は、上述の駆動制御回路15と連携をとりつつ、光照射部13の点灯/消灯の切り換えを制御するようになっている。具体的には、発光部22の種類に応じて、電流制限回路やスイッチング回路、または、インバータによる昇圧回路等で実現される。
駆動制御回路15には、光照射部13から照射するバックライトの電圧値を設定する電圧値設定手段23が接続されている。
電圧値設定手段23には、図4のブロック図に示すように、電圧値制御手段24が接続され、その電圧値制御手段24に撮影条件設定手段6と撮影条件―電圧値相関テーブル25とが接続されている。
電圧値制御手段24では、撮影条件設定手段6で設定された撮影条件に基づき、その撮影条件に対応した最適なバックライト電圧値を撮影条件―電圧値相関テーブル25から抽出して電圧値設定手段23におけるバックライト電圧値を最適なバックライト電圧値に置換するようになっている。
撮影条件―電圧値相関テーブル25では、予め撮影条件設定手段6で設定される撮影条件それぞれに対応して求められた残像除去に最適なバックライト電圧値が格納されている。
次に、撮影条件―電圧値相関テーブル25で格納する最適なバックライト電圧値について説明する。
下記の撮影条件(1)および(2)について残像率を測定した。
残像率は、次のようにして算出した。
ある線量を照射し、一定時間経過後の残線量を照射線量で割り、照射線量に対する残線量の割合をだしたものとなり、実際には最初の照射後の画素値Aを算出し、一定時間経過後の画素値Bを算出し、A/B×100(%)と算出する。
画素値AはX線照射時の読み出し値、画素値Bは一定時間経過後に再度読み出した値となる。
撮影条件(1)
X線管の管電圧80kV、管電流160mA、X線照射時間71msec(付加フィルター無し)
予め定めた輝度になるように設定された電圧を通常時のバックライト電圧VBLとし、そのバックライト電圧VBL、通常時のバックライト電圧VBLよりも一定電圧小さい電圧(VBL−ΔV)、および、通常時のバックライト電圧VBLよりも一定電圧大きい電圧(VBL+ΔV)それぞれにバックライトの電圧値を設定してバックライトを照射した。
撮影条件(2)
X線管の管電圧80kV、管電流250mA、X線照射時間200msec(付加フィルター無し)
予め定めた輝度になるように設定された電圧を通常時のバックライト電圧VBLとし、そのバックライト電圧VBL、通常時のバックライト電圧VBLよりも一定電圧小さい電圧(VBL−ΔV)、および、通常時のバックライト電圧VBLよりも一定電圧大きい電圧(VBL+ΔV)それぞれにバックライトの電圧値を設定してバックライトを照射した。
上記条件で残像率を測定した結果、次のような結果が得られた。
撮影条件 バックライトの電圧値 残像率(%)
条件(1) : VBL−ΔV : 0.0076
: VBL : 0.0056
: VBL+ΔV : 0.0084
条件(2) : VBL−ΔV : 0.0094
: VBL : 0.0126
: VBL+ΔV : 0.0169
上記の結果から、撮影条件が(1)の場合は、通常時のバックライト電圧VBLでバックライトを照射したときが、最も残像除去率を高くできて残像を少なくできることがわかった。一方、撮影条件が(2)の場合は、通常時のバックライト電圧VBLよりも下げた電圧でバックライトを照射したときが、最も残像除去率を高くできて残像を少なくできることがわかった。
その他の撮影条件でも、各撮影条件それぞれで最適なバックライト電圧値が固有の値を示し、撮影条件それぞれに応じて試行錯誤的に最適なバックライト電圧値を求め、その電圧値に置換してバックライトを照射することが好適であることがわかった。このようにして求められた好適なバックライトの電圧値が、撮影条件―電圧値相関テーブル25に撮影条件と対応づけて格納されることになる。
上述のようにして試行錯誤的に好適な電圧値を求めた結果、撮影条件(1)の場合のバックライトの電圧値は8.9Vであり、一方、撮影条件(2)の場合のバックライトの電圧値は8.0Vであった。
次に、フラットパネル型X線検出器4の動作例につき、図5のタイミングチャートを用いて説明する。
この図5においては、X線の検出動作と垂直同期信号と水平同期信号とスイッチング素子とバックライト照射のそれぞれについて模式的に示している。また、バックライト電圧値については、撮影条件の設定に合わせて、電圧制御手段24により、撮影条件に対応した電圧値が撮影条件―電圧値相関テーブル25から抽出され、撮影条件に対応した最適な電圧値が電圧値設定手段23で設定されている。
検出動作が行われている検出期間(時刻t1〜時刻t6)において、半導体層10は、印加電極9によってバイアス電圧が印加されており、入射するX線を電荷に変換する。変換された電荷はいずれかの分割電極11に収集される。この検出期間中、駆動制御回路15の制御によって、収集された電荷を読み出す読み出し動作(時刻t2〜時刻t3と、時刻t4〜時刻t5)と、電荷を蓄積する蓄積動作(時刻t1〜時刻t2と、時刻t3〜時刻t4と、時刻t5〜時刻t6)が交互に行われるようになっている。
<読み出し動作>
駆動制御回路15は、垂直同期信号と水平同期信号とに基づいてゲートドライバ14を操作する。これにより、ゲートドライバ14は、水平同期信号に同期して順次各走査線19にゲートパルスを出力し、スイッチング素子sを駆動する(時刻t2〜時刻t3と、時刻t4〜時刻t5)。したがって、時刻t2から時刻t3の期間、および、時刻t4から時刻t5の期間は、いずれかのスイッチング素子sから検出信号が読み出されている「読み出し期間」に相当する。図5におけるスイッチング素子sのタイミングチャートでは、いずれかのスイッチング素子sが駆動されてオン状態に移行している期間を「ON」と表示している。垂直同期信号の周期としては、例えば、33.3msecである。
また、光制御部17は、駆動制御回路15と連携して、読み出し期間に光照射部13を点灯させる。光照射部13は、アクティブマトリクス基板12を介して、半導体層10の分割電極11が形成されている方に向けてバックライトを照射する。これにより、分割電極11間のスペースには、照射した光に応じた電荷が掃き出されることなく溜められる。
スイッチング素子sは、走査線19に接続される1行単位で順次にオン状態に移行し、検出信号はオン状態のスイッチング素子sを経由して順次に読み出される。素子グループG1のスイッチング素子sから読み出された検出信号はアンプアレイ回路16aに送られ、素子グループG2のスイッチング素子sから読み出された検出信号はアンプアレイ回路16bに送られる。アンプアレイ回路16a,16bは、それぞれ駆動制御回路15と連携して検出信号を増幅する等の処理を行う。そして、各読み出し期間で得られた検出信号ごとに画像が生成される。
<蓄積動作>
駆動制御回路15による操作により、ゲートドライバ14はいずれのスイッチング素子sも駆動しない。したがって、時刻t1から時刻t2の期間、時刻t3から時刻t4の期間、および、時刻t5から時刻t6の期間は、いずれのスイッチング素子sからも検出信号が読み出されていない「蓄積期間」に相当する。図5では、いずれのスイッチング素子sもオフ状態である期間を「OFF」と表示している。光制御部17は、駆動制御回路15と連携して、蓄積期間において光照射部13を消灯させる。
このように、読み出し期間において、撮影条件に応じた最適なバックライトの電圧値で光照射部13を点灯し、バックライトを照射するから、各スイッチング素子sから検出信号を読み出すときに残留出力が発生することを防止し、読み出された検出信号に基づいて得られる画像において、残像が発生することを抑制できる。
この発明に係る実施例のX線診断装置を示す全体構成図である。 フラットパネル型X線検出器の概略構成を示す横断面図である。 フラットパネル型X線検出器の概略構成を示す平面図である。 実施例2の制御系を示すブロック図である。 フラットパネル型X線検出器の動作例の説明に供するタイミングチャートである。
符号の説明
2…X線管(X線照射手段)
4…フラットパネル型X線検出器(X線検出器)
6…撮影条件設定手段
7…画像処理部
13…光照射部
23…電圧値設定手段
24…電圧値制御手段
25…撮影条件―電圧値相関テーブル
H…被検体

Claims (1)

  1. 被検体にX線を照射するX線照射手段と、前記X線照射手段から照射されるX線を受けるX線検出器と、前記X線検出器で検出された検出信号を画像データとして取得処理する画像処理部と、前記X線照射手段から照射するX線撮影条件を設定する撮影条件設定手段と、前記X線検出器に残像除去のためのバックライトを照射する光照射部とを備えたX線診断装置において、
    前記光照射部から照射するバックライトの電圧値を設定する電圧値設定手段と、予め前記撮影条件設定手段で設定される撮影条件それぞれに対応して求められた残像除去に最適なバックライト電圧値を格納した撮影条件―電圧値相関テーブルと、前記撮影条件設定手段で設定された撮影条件に対応した最適なバックライト電圧値を前記撮影条件―電圧値相関テーブルから抽出して前記電圧値設定手段におけるバックライト電圧値を最適なバックライト電圧値に置換する電圧値制御手段とを備えたことを特徴とするX線診断装置。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101042046B1 (ko) 2010-05-31 2011-06-16 주식회사 디알텍 디지털 엑스선 검출장치 및 초기화 방법
WO2012008769A2 (ko) * 2010-07-14 2012-01-19 (주)디알텍 엑스선 검출장치의 초기화 제어 장치 및 방법
US20120119097A1 (en) * 2010-11-15 2012-05-17 Fujifilm Corporation Radiographic imaging device and radiographic imaging system
WO2014019818A1 (de) * 2012-07-31 2014-02-06 Siemens Aktiengesellschaft Detektion von röntgenstrahlung und röntgendetektorsystem
CN104510484A (zh) * 2013-10-04 2015-04-15 富士胶片株式会社 放射线图像摄影装置及消除光源的控制方法
KR20160124748A (ko) * 2014-02-20 2016-10-28 엑스카운터 에이비 방사선 검출기 및 방사선 검출기에 포획된 전하 캐리어의 양을 감소시키는 방법

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08163441A (ja) * 1994-12-07 1996-06-21 Hitachi Medical Corp X線透視/撮影装置
JPH099153A (ja) * 1995-06-07 1997-01-10 E I Du Pont De Nemours & Co 撮像パネルおよびその残留電荷を除去する方法
JP2000105297A (ja) * 1997-08-19 2000-04-11 Fuji Photo Film Co Ltd 静電記録体、静電潜像記録装置および静電潜像読取装置
JP2004146769A (ja) * 2002-08-30 2004-05-20 Shimadzu Corp 放射線検出器
JP2005024368A (ja) * 2003-07-01 2005-01-27 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線画像検出器の残像消去方法および装置
JP2006304849A (ja) * 2005-04-26 2006-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線画像情報検出方法および放射線画像情報検出装置
JP2007129347A (ja) * 2005-11-01 2007-05-24 Fujifilm Corp 放射線固体検出器の残留電荷消去方法、および放射線画像記録読取装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08163441A (ja) * 1994-12-07 1996-06-21 Hitachi Medical Corp X線透視/撮影装置
JPH099153A (ja) * 1995-06-07 1997-01-10 E I Du Pont De Nemours & Co 撮像パネルおよびその残留電荷を除去する方法
JP2000105297A (ja) * 1997-08-19 2000-04-11 Fuji Photo Film Co Ltd 静電記録体、静電潜像記録装置および静電潜像読取装置
JP2004146769A (ja) * 2002-08-30 2004-05-20 Shimadzu Corp 放射線検出器
JP2005024368A (ja) * 2003-07-01 2005-01-27 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線画像検出器の残像消去方法および装置
JP2006304849A (ja) * 2005-04-26 2006-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線画像情報検出方法および放射線画像情報検出装置
JP2007129347A (ja) * 2005-11-01 2007-05-24 Fujifilm Corp 放射線固体検出器の残留電荷消去方法、および放射線画像記録読取装置

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101042046B1 (ko) 2010-05-31 2011-06-16 주식회사 디알텍 디지털 엑스선 검출장치 및 초기화 방법
WO2012008769A2 (ko) * 2010-07-14 2012-01-19 (주)디알텍 엑스선 검출장치의 초기화 제어 장치 및 방법
WO2012008769A3 (ko) * 2010-07-14 2012-04-19 (주)디알텍 엑스선 검출장치의 초기화 제어 장치 및 방법
KR101238024B1 (ko) * 2010-07-14 2013-03-04 주식회사 디알텍 엑스선 검출장치의 초기화 제어 장치 및 방법
US8729484B2 (en) * 2010-11-15 2014-05-20 Fujifilm Corporation Radiographic imaging device and radiographic imaging system
US20120119097A1 (en) * 2010-11-15 2012-05-17 Fujifilm Corporation Radiographic imaging device and radiographic imaging system
CN104641256A (zh) * 2012-07-31 2015-05-20 西门子公司 X射线辐射的检测和x射线检测器系统
WO2014019818A1 (de) * 2012-07-31 2014-02-06 Siemens Aktiengesellschaft Detektion von röntgenstrahlung und röntgendetektorsystem
US9829586B2 (en) 2012-07-31 2017-11-28 Siemens Aktiengesellschaft Detection of x-rays, and x-ray detector system
EP2864814B1 (de) * 2012-07-31 2021-04-21 Siemens Healthcare GmbH Detektion von röntgenstrahlung und röntgendetektorsystem
CN104510484A (zh) * 2013-10-04 2015-04-15 富士胶片株式会社 放射线图像摄影装置及消除光源的控制方法
US9510794B2 (en) 2013-10-04 2016-12-06 Fujifilm Corporation Radiation image capture device, control method for erasing light source, and computer-readable storage medium
KR20160124748A (ko) * 2014-02-20 2016-10-28 엑스카운터 에이비 방사선 검출기 및 방사선 검출기에 포획된 전하 캐리어의 양을 감소시키는 방법
JP2017506326A (ja) * 2014-02-20 2017-03-02 エックスカウンター アーベー 放射線検出器、および放射線検出器内の捕捉電荷担体の量を低減する方法
EP3108267A4 (en) * 2014-02-20 2017-09-20 XCounter AB Radiation detector and method for reducing the amount of trapped charge carriers in a radiation detector
US9784855B2 (en) 2014-02-20 2017-10-10 Xcounter Ab Radiation detector and method for reducing the amount of trapped charge carriers in a radiation detector
KR102363575B1 (ko) 2014-02-20 2022-02-16 엑스카운터 에이비 방사선 검출기 및 방사선 검출기에 포획된 전하 캐리어의 양을 감소시키는 방법

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