JP2008545561A5 - - Google Patents

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開示された押出しフィルムのクロスウェブ厚さの制御システム及び方法は、フィルムを作成しながら厚さプロファイルの積極的かつ精密な制御を可能とする。クロスウェブ厚さ制御は、クロスウェブ厚さプロファイルを監視し、延伸又は変形中のフィルムに送達される熱の熱分配プロファイルを制御することで達成され得る。クロスウェブ厚さ制御の監視は、物理的又は光学的な厚さプロファイルの測定及び熱分配制御が起こる位置への測定されたプロファイルのマッピングを含み得る。監視されたプロファイルに対応するクロスウェブ熱分配の様々な制御システム及び方法が論議されるであろう。厚さの監視及び熱分の調節工程は、フィルムにおいて所望の仕上げ厚さプロファイルに達するまで繰り返して使用されるフィードバックループを形成できる。開示されたシステム及び方法はまた、ダイボルト調節と連動して使用することができ、クロスウェブ厚さプロファイルの制御を提供する。
ある開示された実施形態において、2軸配向高分子フィルムのクロスウェブ厚さプロファイルを制御するために特定の技術が用いられる。例えば、ある場合には、熱分プロファイルを調節するのにチャネル遮断物が使用され、ある場合には、熱分プロファイルを調節するのに再配置可能かつ枢動可能な加熱素子が使用される。これらの技術は、例えば、長手方向、横方向、2軸的な延伸などの変形中、又は制御された弛緩中に、単独で又は組み合わせて使用することができる。例えば、チャネル遮断物は、長手方向にフィルムを延伸するためのレングスオリエンター、又は、横方向又は2軸的にフィルムを延伸するためのテンターにおいて採用することができる。同時に、再配置可能かつ枢動可能な加熱素子は、レングスオリエンター又はテンターにおいて採用することができる。2軸配向高分子フィルムのクロスウェブ厚さプロファイルの制御方法は、現在開示されている任意の熱分システム並びに当該技術において既知の他の加熱システムとともに使用することができる。
開示されているクロスウェブ熱分システムは、フィルムを延伸しながら熱を送達することができ、その上、送達される熱の調節可能な位置制御及び調節可能なプロファイル制御を提供する。所望であれば、これは、クロスウェブ厚さプロファイルにおいて既知のシステムよりもより精密な制御を提供することができる。開示されたシステムはまた、一般的に、既知のシステムと比較してより早い応答時間を提供できる。
2軸配向フィルムのクロスウェブ厚さプロファイルの新規の制御方法が開示されている。この方法は、レングスオリエンター(LO)の延伸領域又は延伸領域付近における熱分を制御し、続いてテンターにおいてフィルムを変形し、テンターにおける変形領域後に生じたクロスウェブ厚さプロファイルを測定し、測定された厚さプロファイルをもとにしてLOにおいて熱分を調節することによるものである。1つの実施形態において、変形領域はラインの終端部であって、巻取り機の直前であり得る。他の実施形態において、変形領域は、例えば図1に示すように他の領域間に位置することができる。他の実施形態は、続けて第2のレングスオリエンターのような付加要素を有してよい。
ある実施形態において、クロスウェブ熱分システムは、複数個のチャネル遮断物と組み合わせた少なくとも1つの横方向加熱素子を含む。かかるシステムの3つの例を図2a〜図2cに示す。これらの図において、フィルムはレングスオリエンターにおいて延伸される。図2a及び2cにおいて、プルロール102、104及び106がSラップ配置で設置される。図2bにおいて、プルロールは垂直又は卓上配置で設置される。図2a〜cで描かれる実施形態は、フィルム20の長手方向延伸領域140又は140bに選択可能な熱の分配を提供するために、1組のチャネル遮断物170と一緒になっている加熱アセンブリ150a〜cをそれぞれ採用する。
フィルムのクロスウェブ厚さプロファイルの精密な制御を可能とするために、図2aのクロスウェブ熱分システムは、加熱アセンブリ150aを通してフィルムの延伸領域に熱を送達すると同時に、各チャネル遮断物170の位置を変更することで送達される熱において調節可能なプロファイル制御を提供する。図2a〜cの各々において、チャネル遮断物170は、所望のクロスウェブ位置で所望な熱部分を優先的に遮断する。加熱素子がフィルムに熱を提供する際に、チャネル遮断物又は1組のチャネル遮断物は、フィルム上に効果的な影を投影するように配置されることができ、それによって選択された特定位置においてフィルムに送達される熱量を削減できる。各特定のチャネル遮断物を配置することによって、精密に制御されるフィルムの領域に対応する位置に影を投影する。解像度は、フィルムに対するチャネル遮断物の近接並びにチャネル遮断物の寸法によって調節され得る。図2aにおいて、チャネル遮断物170は、加熱アセンブリ150aの加熱素子160に対して、一般的に水平及び平行に配置される。図2aにおけるフィルムは、Sラップ配置にある。したがって、チャネル遮断物170は、Sラップ配置フィルム平面に対して傾斜している。図2bにおいて、チャネル遮断物170も一般的に水平に配置されるが、フィルムは卓上配置にあるので、チャネル遮断物はフィルムの平面に対して平行である。図2cにおいて、チャネル遮断物は、Sラップ配置であるフィルム平面に対して平行となるように角度が付けられる。
図2a〜2cのシステム及び方法は、特定の領域へ送達される熱量を迅速に変更することが可能である。以下でさらに議論されるように、一連のヒーターに提供される電力を変更することによって、クロスウェブ熱分プロファイルが変更される際に、代替のクロスウェブ熱分システムを使用することができる。代替のシステムは、可動部がないなどの特定の利点を有してよいが、空間分解能が低い、及び、応答時間が遅いなどの使用されるヒーターの種類による欠点も有してよい。例えば、ある工業用グレードのIRヒーターは、昇温に5分かかり、冷却に15分かかる。対照的に、可動チャネル遮断物を採用したシステムは、比較的早い応答時間及び高い空間分解能を有するように設計することができる。チャネル遮断物又は1組のチャネル遮断物を移動することでフィルム上に影を投影し、それによってフィルムに送達される熱量が削減されることで、従来のIRヒーターの応答時間よりも早くなる。チャネル遮断物を使用するシステムの応答時間は、チャネル遮断物がいかに早く移動するか、及びウェブが応答するのにどの位の時間がかかるかによってのみ制限される。これは、特定のチャネル遮断物アセンブリ及びその制御機構の機械的な設計に依存するであろう。当業者は、チャネル遮断物アセンブリの機械的制御に好適な、様々な設計が可能であることを評価するであろう。
図3は、チャネル遮断物アセンブリ300における1つの例示的な設計の平面図を示す。アセンブリ300は、互いに近接するように配置され、フィルムの幅全体にわたって制御されるように配置された34個のチャネル遮断物を有する。所望であれば、フィルムの物理的な寸法は、例えば、使用可能な中央フィルム部分を残してフィルムの外端を切り取って処分するか又は再利用し、制御されるフィルムの幅を超えて伸長してよい。図3に描かれるもののようなチャネル遮断物アセンブリと組み合わされたクロスウェブ熱分システムは、レングスオリエンター、テンター、又は両方において使用され得る。
フィードバック機構は、物理的又は光学的な厚さプロファイルを繰り返し測定し、任意で延伸領域に測定した厚さプロファイルをマップし、及び測定した又はマップしたプロファイルに応じてクロスウェブ熱分システムを調節するのに使用することができる。フィードバック機構は既知であり、詳細に記載はしない。簡潔には、フィードバック機構は、オペレーターによる手動制御の形態か、コンピュータ制御か、又はコンピュータと手動制御の組み合わせが可能である。例えば、かかるフィードバック機構の1つは、手動制御機能を備えたコンピュータ制御システムであることができる。好ましくは、フィードック機構は、本明細書で記載される任意のマッピング方法を使用するコンピュータ制御マッピングアルゴリズムを採用する。手動マッピングアルゴリズムも使用できる。
ある実施形態において、クロスウェブ熱分システムは、オリエンターにおいて横方向に沿って配列される再配置可能な1組の加熱素子を含む。以下に示す例示的な実施形態において、このようなクロスウェブ熱分システムはテンターにおいて使用される。テンターの変形領域は、単に、横方向延伸領域、弛緩領域、機械方向延伸領域、又は、2軸延伸領域であり得る。このような再配置可能な加熱素子を含むクロスウェブ熱分システムは、レングスオリエンターにおいて使用することもできる。
図4は、本実施形態の1つの実施を図式的に説明する。図4において、フィルムは、テンターオーブン200において(図1を参照)横方向に延伸される。この特定の実施において、再配置可能な加熱素子は枢動可能でもある。クロスウェブ熱分システム250は、1対の実装チャネル253上に実装された5つの再配置可能なロッドヒーター260a〜eを含む。他の実施も可能であり、限定はされないが、直線状又は特定の所望な応答のために最適化された任意の他の形状に配列された一連の小さな熱源を含む。
図4の実施形態において、ヒーターがオリエンターの延伸領域中に配置されているが、この配置は延伸領域に限定されない。オリエンターは、クロスウェブ熱分システムが使用され得る付加的な領域又は他の変形領域を有してよい。付加的な領域には、限定されないが、予熱領域、アニール領域、及びヒートセット領域が挙げられる。レングスオリエンターにおいて使用される場合、延伸領域は長手方向延伸領域である。テンターにおいて使用される場合、変形領域は、横方向延伸領域、弛緩領域、機械方向延伸領域、又は2軸延伸領域であり得る。クロスウェブ熱分システムは、これらのうちのいずれかの領域において、又は領域に近接して配置することができる。本明細書で開示されるほとんどの実施形態は延伸領域に言及しているが、クロスウェブ熱分システムも他の領域において、又は領域に近接して存在できることを意図する。本出願において、任意の実施形態でクロスウェブ熱分システムが存在する位置は、熱分領域と呼ばれるであろう。
図4の熱分システム250において、加熱素子は2つの方法で再配置が可能である。まず、加熱素子はフィルムの幅に沿って任意の配置に実装されるチャネルに沿って、横方向の移動が可能である。次に、加熱素子は枢動可能でもある。枢動ヒーターの利点は以下で議論する。他の実施及び実施形態も意図される。例えば、加熱素子は、フィルム平面に対して垂直な平面において、フィルムに向かって及びフィルムから離れて動くことができるように再配置が可能である。
クロスウェブ熱分配システムのロッドヒーター260a〜eは、ヒーターが互いに独立して配置できるように実装される。所望により、横方向の移動に加えて、各ロッドヒーターは枢動できるようにも取り付けることができる。枢動可能ヒーターは、2つの利点を有する。まず、枢動ロッドヒーターは、配置されるフィルムにおいて特定のレーンの進行方向に一直線に配列することができる。次に、枢動ロッドヒーターは、任意の単一な加熱ロッドから幅広い熱分プロファイルを提供するために、フィルムレーンの進行方向に対して角度をつけることができる。この熱分プロファイルにおける広がり効果は、以下の実施例においてより詳細に議論されるであろう。枢動かつ再配置可能な加熱素子は、フィルムに送達される熱の優れた制御を提供し、言い換えれば、既知のシステムと比較してより精密な調節が可能な熱分プロファイルを提供する。
図5は、熱分システム250における単一な再配置可能な加熱素子の拡大を示す。加熱素子260は、2つの実装チャネル253L及び253Rに沿って任意の位置に配置することができる。所望により、破線で示すように、加熱素子260は、機械方向25に対して角度θを形成するように線26と一直線になるように回転することもできる。1つの実施形態において、回転は、1つの固定ボルト266及び、加熱素子260が回転する際にスライディングチャネル270に沿って動くのが可能な及び1つのボルトを有することで達成される。固定ボルト266は、加熱素子の旋回軸としての役割を果たし、本実施形態において加熱素子260の中央に配置される。枢動が必要でない場合、スライディングチャネル270は除かれ、両ボルトとも固定することができる。他の配置も意図される。
図6は、図4の熱分システム250の部分透視図を示す。図6は、チャネル253L及び253Rに実装される2つの加熱素子260a及び260bを示す。加熱素子260aの配置は、1対のねじ付きロッド262aによって制御される。同様に、加熱素子260bの配置は、1対のねじ付きロッド262bによって制御される。加熱素子260bの任意の回転は、固定側(253R)のチャネル253R上のナット264bをチャネル253R上のねじ付きロッド262bに沿った一箇所に配置し、対応するナット264bをチャネル253L上に実装される対応するねじ付きロッドに沿った異なる箇所に配置することで達成される。これは、図5でも見ることができる。各ヒーター260のクロスウェブへの配置は、各ねじ付きロッド対に連結される一対のねじ(図示なし)とともにテンターオーブンの外から正確に調節することができる。さらに、ヒーターの配向角度も、スクリュー対によって制御される枢着点266b及び268の相対位置によってテンターオーブンの外から正確に調節することができる。
チャネル遮断物の実施形態にあるように、本実施形態もまた、早い応答時間、熱分における精密で積極的な制御という利点を有する。ウェブがラインスピードまで加速する際の制御位置が長さ配向ステーションである場合、クロスウェブ熱分システムから巻取り機までの遅延時間は、ダイから巻取り機までのものより実質的に短い。したがって、制御における応答時間は短く、それによって短サイクル時間となり、所望の仕上げ厚さの均一性を達成するのがより早くなる。さらに、長さ配向ステーションはしばしば開放空間にあり、容易に接触できるため、クロスウェブ熱分システムの設置を簡便にできる。制御位置はテンター中にあり、サイクル時間及び応答時間はさらに短くできる。
一般的に、フィルムの厚さプロファイルは、クロスウェブ熱分システムの位置から下流の任意の地点で測定することができる。例えば、開示されたクロスウェブ熱分システムのいずれかをレングスオリエンターにおいて採用するシステムにおいて、クロスウェブ厚さプロファイルはレングスオリエンターから下流で測定することができる。テンターオーブンにおいてクロスウェブ熱分システムを採用するシステムにおいて、クロスウェブ厚さプロファイルはテンターオーブンから下流で測定することができる。或いは、クロスウェブ厚さプロファイルは、クロスウェブ熱分システムが存在する場合に、その変形領域の直後のテンターオーブンの内部で測定することもできる。レングスオリエンターにおいてクロスウェブ熱分システムを採用するだけでなく、続く横方向延伸のためにテンターを採用するシステムにおいて、クロスウェブ厚さプロファイル測定は、レングスオリエンターの下流かつテンターオーブンの上流で行うことができる。しかしながら、出願人は、レングスオリエンターにおけるクロスウェブ熱分の制御、続くテンターにおける変形、続く変形領域から下流のフィルムのクロスウェブ厚さプロファイルの測定によって、予期しない結果が提供されることを発見した。以下の実施例2で、かかるシステム及び方法の1つを記載する。
測定されたフィルム厚さプロファイルは、クロスウェブ熱分システムが存在する場所に対応するフィルム配置に任意でマップされる。ある実施形態において、横方向延伸領域後に測定されたフィルム厚さプロファイルは、レングスオリエンターの長手方向延伸領域におけるフィルムにマップされ得る。他の実施形態において、フィルム厚さプロファイルは熱分システムから下流で測定され、熱分領域にマップされる。マッピングは、多くの方法で行うことができる。簡単なマッピング方法としては、例えば図3及び図4において想像線として示すように、フィルムの幅を1組の架空のフィルムレーンフィルムに分配することを含む。図3において、フィルムは、各レーンに1つのチャネル遮断物が対応する34のフィルムレーンに分配される。この特定の実施形態において、チャネル遮断物301及び334は残存するチャネル遮断物302〜333よりも幅が広い。したがって、それに対応するレーン1及び34は、レーン2〜33よりも幅が広い。図4において、5つのフィルムレーン40a〜eが想像線で示されている。5つのレーン40a〜eの各々の中央は、それぞれ中央線22a〜eで示される。
クロスウェブ厚さプロファイルは、クロスウェブ熱分システムが存在する場合、熱分領域から下流で測定される。フィルムの測定位置において、制御が起こる際、フィルムは、熱分システムの位置におけるフィルムの幅と同じ幅でなくてよい。したがって、マッピングアルゴリズムは、1つの位置から他の位置へマップするのに使用される。マッピングアルゴリズムは、本質的に、1つの位置におけるフィルムの各クロスウェブ配置を、他の位置における対応するフィルムのクロスウェブ配置に並進する。マッピングアルゴリズムは、限定はしないが、延伸、収縮、湾曲、1つの位置においてフィルムの端部が切り取られるかどうか、延伸前のクロスウェブの均一性における変動、テンターにおけるクロスウェブ熱分の変動、又は押し出された混合物の均質性の変動を含む、2つの位置間におけるフィルムの幅の差異に影響し得る任意又は全ての要因を考慮することができる。
例えば、図4において、フィルムは長手方向位置60に配置されるクロスウェブ熱分システム250を使用するシステム中で横方向に延伸される。ある実施形態において、クロスウェブ厚さプロファイルは、位置60でのフィルムよりもフィルム幅が広い横方向位置70で測定される。位置60における熱分を制御するのに、位置70で測定されたプロファイルが熱分システム60の位置にマッピングされる。次に、熱分システムは、フィルムプロファイルにおいて任意の厚い点又は薄い点又は凹凸をならすように調節され得る。他の例において、かかるシステムは位置50に第2クロスウェブ熱分システムを備えることができる。この場合、位置70で測定されたクロスウェブ厚さプロファイルを第2熱分システムが存在する位置50にマップすることが可能である。
使用可能な熱分システムは、例えば、再配置可能な加熱素子、チャネル遮断物を備える加熱素子、又はこれら2つの組み合わせを使用するシステムのような、上で記載される任意のシステムであることができる。目的に応じた調整が可能なクロスウェブプロファイルによるウェブへの熱を送達できる、任意の他の既知又は後に開発されたクロスウェブ熱分システムも使用することができる。クロスウェブ熱分システムは、レングスオリエンター又はテンターにおいて使用することができる。レングスオリエンター中で使用される場合、フィルムの変形領域に熱の選択的な分が提供される。レングスオリエンターにおいて使用される場合、フィルムの長手方向延伸領域に熱の選択的な分が提供される。
以下の実施例1に記載されるように、測定されたフィルムプロファイルがレーン08にマップされる厚いか又は高い点を有する場合、次に、対応するチャネル遮断物308はレーン08により多くの熱が送達されるように調節することができる。これは、そのレーンにおけるフィルムのさらなる延伸を可能とし、それによって仕上げフィルムにおける厚い点を削減する。同様に、測定されたフィルムプロファイルが対応するレーン22におけるフィルム上に低い点を示す場合、例えば図3に示すように、チャネル遮断物322をその位置においてフィルムに届く熱から遮断するように移動することが可能である。1つの実施形態において、遮断又は非遮断の程度は、シャフト180と回転するねじ付きロッドを通してチャネルの前進によって調節される。かかる前進は非常に精密に行われ、熱分の優れた制御をレンダリングすることが明らかである。
ある実施形態において、長さ配向フィルムは、続いてテンターにおいて変形され得る。このような場合、テンターよりもむしろ長さ配向ステーションにおいてクロスウェブ熱分を調節することは、テンターの下流における仕上げフィルムでクロスウェブ厚さプロファイルを修正するのに有効であることは、直感で分かるものではない。以下の実施例2は、驚くべきことに、クロスウェブ厚さは、長手方向延伸中にフィルムに送達される熱を選択的に遮断する部分によって精密に制御され、それによってより均一な2軸配向延伸フィルムを提供することを示している。実施例2ではチャネル遮断物熱分システムを使用するが、本方法は、本明細書に開示される再配置可能な加熱素子、又は当該技術分野において既知の他のクロスウェブ熱分システムのような任意の他のクロスウェブ熱分システムとともに使用されることができる。長手方向に延伸しながらレングスオリエンターにおいて熱分を制御し、続いてテンターにおいて変形されるフィルムにおいて均一なクロスウェブ厚さを達成する本方法における新奇な手法は、非常に優れた結果を提供することができる。
曲線8Aに示されるフィルムのプロファイルは、図8の下部の各チャネル遮断物の最終設定に示されるように、複数のチャネル遮断物の移動によって調節した。表1は、チャネル遮断物303〜331の初期及び最終設定を示す。得られた光学的な厚さプロファイルを曲線8Bに示す。曲線8Cは、最終及び初期厚さプロファイル間のパーセント変化を示す。曲線8Bは、曲線8Aに示される初期フィルムプロファイルは、1組のヒーターと1組のチャネル遮断物を有するクロスウェブ熱分システムを使用してより均一に調節され得ることを明示している。
(実施例3)
図9に示す実施例において、多層光学フィルムをポリエチレンテレフタラート(PET)の交代層とPMMAのコポリマーを押し出すことで作成した。フィルムを3.35:1の延伸率で長さ配向した。続けて、テンターにおいて、フィルムを横方向に3.3:1の延伸率で配向した。テンターは、横方向延伸領域において1組の再配置可能かつ枢動加熱素子を備えた。各加熱素子は、80mm幅の放物面反射鏡を有し、10mmの幅及び325mmの長さであった。使用される加熱素子は、米国ミズーリ州セントルイス(St. Louis)のワトローエレクトリック(Watlow Electric)社から入手可能なレイマックス(Raymax)モデル1525であった。加熱素子の中央を、本実施例において枢動点及び位置決めとして使用した。フィルムの光学的な厚さは、光学的なはさみ尺を使用するテンター後に測定した。曲線9A、9B、及び9Cは、クロスウェブ熱分システムの異なる配置におけるクロスウェブ位置の機能に応じて変化し、仕上げフィルム上の再配置可能な枢動IRヒーターの効果を明示する。加熱素子電力及び配向角度を表2及び3に列挙する。
(実施例4)
図10〜13に示す実施例において、多層光学フィルムをPETの交代層とPMMAのコポリマーを押し出すことで作成した。フィルムを3.35:1の延伸率で長さ配向した。続けて、フィルムを横方向に3.3:1の延伸率で配向した。テンターは、横方向延伸領域において、4つからなる1組の再配置可能かつ枢動加熱素子を備えた。各加熱素子は、80mm幅の放物面反射鏡を有し、10mmの幅及び325mmの長さであった。使用される加熱素子は、米国ミズーリ州セントルイス(St. Louis)のワトローエレクトリック(Watlow Electric)社から入手可能なレイマックス(Raymax)モデル1525であった。加熱素子の中央は、枢動点として使用した。表4〜7において、本実施例における各加熱素子の中央位置は、「位置、右」と示され、枢動用の可動ボルトの位置は「位置、左チルト」と示される。フィルムの光学的な厚さは、光学的なはさみ尺を使用してテンターの下流で測定した。図10〜13の各々における曲線Aは、初期の光学的なクロスウェブ厚さプロファイルを示す。図10〜13は、ヒーター設定の変化における連続的な反復を表す。最初に、フィルムにおけるクロスウェブの光学的な厚さプロファイルを測定した。測定されたデータポイントを図10の曲線Aとしてプロットする。次に、測定されたフィルムにおけるクロスウェブの光学的な厚さプロファイルを横方向延伸領域上にマップした。マップしたプロファイルに対して、表4に示されるパラメーターに従って、ヒーター1〜4を第1の反復中に設置した。得られたクロスウェブの光学的な厚さプロファイルを測定し、図10の曲線Bとして示した。第1の反復において得られたフィルムの光学的な厚さ(図10の曲線B)が、次に第2の反復における初期の厚さプロファイル(図11の曲線A)となる。光学的な厚さプロファイルを測定し、測定された光学的な厚さプロファイルを延伸領域上でマッピングし、マップされたプロファイルに対応するクロスウェブ熱分システムを調節する工程は、所望の最終厚さプロファイルに到達するまで繰り返されるフィードバックループを形成する。第2の反復において、ヒーター1〜4を表5に列挙されるパラメーターに従って設置する。得られた光学的な厚さプロファイルを図11の曲線Bとしてプロットする。表6及び7におけるヒーター設定によって示されるように、工程は2回以上反復し、厚さプロファイルを図12及び13にプロットする。仕上げフィルムにおける光学クロスウェブ厚さプロファイル上の4つからなる1組の再配置可能な枢動IRヒーターに共通する効果を、図13の曲線Bによって説明する。約1300〜1850mmの範囲内の図13の曲線Bは、関心のあるこの型に位置する4つからなる1組の再配置可能な加熱素子を使用して達成され得る平坦な最終厚さプロファイルを示す。-150mmを超えるクロスウェブ位置における「くぼみ」は、ダイボルト調節のような他の手段に処理され得る。
【図面の簡単な説明】
【0065】
【図1】2軸配向フィルムおけるフィルムラインの概略図。
【図2a】レングスオリエンターにおける、プロファイルの調節が可能なクロスウェブ熱分配システムの1つの実施形態の概略図。
【図2b】レングスオリエンターにおける、プロファイルの調節が可能なクロスウェブ熱分配システムの他の実施形態の概略図。
【図2c】レングスオリエンターにおける、プロファイルの調節が可能なクロスウェブ熱分配システムの他の実施形態の概略図。
【図3】チャネル遮断物アセンブリの1つの実施形態の概略平面図。
【図4】調節可能なクロスウェブ熱分システムの他の実施形態の概略図。
【図5】1つの実施形態における、代表的な再配置可能な枢動加熱素子の概略図。
【図6】1つの実施形態における、再配置可能な枢動加熱素子のアセンブリの部分斜視図。
【図7】実施例1における光学的な厚さにおける特定のチャネル遮断物の効果を示す。
【図8】実施例2における光学的な厚さにおける1組のチャネル遮断物の効果を示す。
【図9】実施例3におけるクロスウェブ位置に伴う光学的な厚さプロファイルの変化を示す。
【図10】実施例4の表4における加熱素子の設定の配置に対応するクロスウェブ位置に対する相対的な光学的な厚さを示す。
【図11】実施例4の表5における加熱素子の設定の配置に対応するクロスウェブ位置に対する相対的な光学的な厚さを示す。
【図12】実施例4の表6における加熱素子の設定の配置に対応するクロスウェブ位置に対する相対的な光学的な厚さを示す。
【図13】実施例4の表7における加熱素子の設定の配置に対応するクロスウェブ位置に対する相対的な光学的な厚さを示す。

Claims (5)

  1. 以下の工程、
    a)プロファイルの調節が可能なクロスウェブ方向の熱分配システムを有する、長手方向延伸装置におけるフィルムの延伸、
    b)続いて、変形領域を有するテンターにおける前記フィルムの変形、
    c)前記変形領域の下流位置における前記フィルムのクロスウェブ方向の厚さプロファイルの測定、及び
    d)前記測定されたクロスウェブ方向の厚さプロファイルに対する、前記クロスウェブ方向の熱分システムの調節、
    を含む2軸配向高分子フィルムのクロスウェブ方向の厚さプロファイルの制御方法。
  2. 前記変形領域は、横方向の延伸領域、弛緩領域および機械方向の延伸領域から選択されるものである、請求項1に記載の方法。
  3. 前記調節工程は、熱分を制御するために、熱量を削減するための少なくとも1つのチャネル遮断物選択的位置決めすることを含む、請求項1に記載の方法。
  4. 前記調節工程は、少なくとも1つの加熱素子の選択的な電力制御を含む、請求項1に記載の方法。
  5. 前記調節工程は、少なくとも1つの再配置及び/又は枢動可能な加熱素子選択的位置決め及び/又は枢動角度の決定を行うことを含む、請求項1に記載の方法。
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