JP2008544086A - Device for processing flat and planar objects - Google Patents

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Abstract

本発明は、境界領域(19)に提供された電気的な接触のための接触ホイール(28)を有する回路基板(16)用の鍍金装置(11)に関するものである。接触ホイール(28)は、境界領域(19)内において、回路基板(16)の下面(17)にのみ接触している。回路基板(16)の上面(18)上には、搬送ホイールと、電気的な接触を保証する逆圧ホイール(31)のみが提供されている。接触ホイール(28)を底面にのみ配置することにより、回路基板のコーティングにおいて発生する銅の破片又は類似したものが容易に落下可能であり、除去可能である。
【選択図】図1
The present invention relates to a plating device (11) for a circuit board (16) having a contact wheel (28) for electrical contact provided in a boundary region (19). The contact wheel (28) is in contact only with the lower surface (17) of the circuit board (16) in the boundary region (19). On the upper surface (18) of the circuit board (16), only a transport wheel and a counter pressure wheel (31) that ensures electrical contact are provided. By placing the contact wheel (28) only on the bottom surface, copper debris or similar that occurs in the coating of the circuit board can be easily dropped and removed.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、物体を処理する装置、更に詳しくは、プリント回路基板用の鍍金装置に関するものである。プリント回路基板は、処理チャンバを通じて通過経路を通過可能であり、このために、電解液などの処理媒体を通じた搬送手段が存在している。又、電気的な接触及び電源から物体への電力の供給のための接触手段も存在している。   The present invention relates to an apparatus for processing an object, and more particularly to a plating apparatus for a printed circuit board. The printed circuit board can pass through a processing path through the processing chamber. For this purpose, there is a conveying means through a processing medium such as an electrolytic solution. There are also contact means for electrical contact and the supply of power from the power source to the object.

本発明における問題点は、従来技術の問題点を回避可能な前述の装置を提供することにあり、更に詳しくは、限られた費用により、処理対象の物体に対する確実な接触及び電力の供給を保証することにある。   The problem in the present invention is to provide the above-mentioned apparatus capable of avoiding the problems of the prior art, more specifically, guaranteeing reliable contact and power supply to the object to be processed with limited cost. There is to do.

この問題点は、請求項1の特徴を具備した装置によって解決される。本発明の有利で好適な拡張は、更なる請求項の対象を形成しており、従って、以下、これらについて詳述する。明示的な参照により、請求項の記述内容は、本明細書の内容の一部として包含される。   This problem is solved by a device having the features of claim 1. Advantageous and preferred extensions of the invention form the subject of further claims and are therefore detailed below. By express reference, the content of the claims is included as part of the content of the specification.

物体を処理チャンバを通じて搬送するべく、搬送手段が提供されており、これにより、物体は、連続的に又は段階的に、前述のチャンバを通過している。処理チャンバは、例えば、鍍金装置の場合には、電解液などの処理媒体を収容している。又、物体との電気的な接触のための接触手段も存在しており、対応する電源が電力を供給している。物体は、例えば、下面と上面などの2つの表面を具備している。本発明によれば、それぞれのケースにおいて、物体の1つの面に電気的に接触する接触手段は、1つの表面上にのみ、即ち、上面上にのみ、又は下面上にのみ、提供されている。接触要素が、その場所において、物体と密着すると共に必要な電気的な接触を提供しており、この結果、電力供給が保証されている。例えば、物体の左側又は右側に、相互に対向する方式によってはなく、1つの表面上にのみ、具体的には、下面上にのみ、接触手段が提供されている。   A transport means is provided for transporting the object through the processing chamber, whereby the object passes through the aforementioned chamber, either continuously or stepwise. For example, in the case of a plating apparatus, the processing chamber contains a processing medium such as an electrolytic solution. There are also contact means for electrical contact with the object, and the corresponding power supply supplies power. The object has, for example, two surfaces such as a lower surface and an upper surface. According to the invention, in each case, contact means for electrical contact with one surface of the object is provided only on one surface, i.e. only on the upper surface or only on the lower surface. . The contact element is in intimate contact with the object at that location and provides the necessary electrical contact, so that a power supply is guaranteed. For example, the contact means are provided only on one surface, specifically on the lower surface, not on the left or right side of the object, depending on the manner in which they face each other.

従って、本発明によれば、従来技術とは異なり、物体に対する両側からの接触が存在しておらず、この代わりに、一方からのみの電気的な接触の形式が存在している。本発明の枠内において、このような一方からのみの接触により、例えば、回路基板用の鍍金装置の場合に、満足できる結果を得ることが可能であることが判明した。物体のもう1つの表面に対する電力供給は、回路基板上に存在する孔や面間接続などを通じて実現されている。   Therefore, according to the present invention, unlike the prior art, there is no contact from both sides to the object, and instead there is a form of electrical contact from only one. Within the framework of the present invention, it has been found that such a contact from only one side can achieve satisfactory results, for example, in the case of a plating device for circuit boards. Power supply to the other surface of the object is realized through a hole or an inter-surface connection existing on the circuit board.

本発明は、半数の接触手段しか必要としていないため、接触手段と関係した機械的な費用の関連した節約に結び付いている。更には、接触手段に伴って発生可能な問題が減少すると共に、この結果、必要な保守も減少するため、機械の稼働時間を増大させることも可能である。   Since the present invention only requires half the contact means, it leads to a related saving in mechanical costs associated with the contact means. Furthermore, the problems that can occur with the contact means are reduced and, as a result, the required maintenance is also reduced, so that the machine uptime can be increased.

接触手段は、リボルビング又はロータリー方式で構成するのが有利である。これらは、ホイール又はローラー状であるのが特に有利である。このような接触手段の構成については、例えば、独国特許出願第103 23 660 A1号(DE 103 23 660 A1)及び欧州特許出願第819 781 A1号(EP 819 781 A1)に開示されており、詳細については、これらの文献を参照されたい。   The contact means is advantageously constructed in a revolving or rotary manner. These are particularly advantageously in the form of wheels or rollers. The configuration of such contact means is disclosed, for example, in German Patent Application No. 103 23 660 A1 (DE 103 23 660 A1) and European Patent Application No. 819 781 A1 (EP 819 781 A1), Please refer to these documents for details.

例えば、通過方向において見た場合に、物体の左側及び右側に、但し、物体の1つの表面上にのみ、接触手段を提供可能である。好ましくは、これらは、物体の同一表面上に配置又は密着されている。特に好適な方式においては、接触手段は、例えば、金属コーティングを伴う鍍金装置の場合に前述の表面又は接触手段上に形成される金属の破片又はフレークなどの堆積物が、重量によって剥離して落下できるように、物体の表面と密着している。物体を実質的に水平に搬送する場合には、接触手段を物体の下面上に配置するのが適当である。   For example, contact means can be provided on the left and right sides of the object, but only on one surface of the object when viewed in the direction of passage. Preferably, they are arranged or adhered on the same surface of the object. In a particularly preferred manner, the contact means may, for example, in the case of a plating device with a metal coating, deposits such as metal debris or flakes formed on said surface or contact means fall off by weight. It is in close contact with the surface of the object so that it can. If the object is transported substantially horizontally, it is appropriate to place the contact means on the lower surface of the object.

良好な電気的な接触及び電力の供給のためには、通過方向において見た場合に、物体に密着した複数の接触手段を提供することが有利である。このために、例えば、連続した接触ホイール又はこれに類似したものの列を具備することが可能である。   For good electrical contact and power supply, it is advantageous to provide a plurality of contact means that are in close contact with the object when viewed in the direction of passage. For this purpose, for example, it is possible to have a row of continuous contact wheels or the like.

良好な電気的な接触のためには、物体のもう1つの表面上に、特に正確に対向した方式において、逆圧手段を提供するのが有利である。これにより、物体上における接触手段の良好且つ一定な密着が保証されることになる。この逆圧手段も、接触手段と同様に、ホイール又はローラー状であるのが有利である。又、ホイール又はローラー状の構造の結果として、特に、接触手段及び逆圧手段は、回転することにより、物体の表面に沿った損耗を防止可能である。この結果、機械的な損傷又はこれに類似したものが確実に防止されることになる。このために、接触手段及び逆圧手段は、物体上においてきれいに回転するように、同一の速度において、且つ、同一の円周速度において、回転することが有利である。接触手段及び/又は逆圧手段は、特に、搬送手段と結合された状態において、駆動可能である。或いは、この代わりに、これらは、搬送手段を少なくとも部分的に形成又は置換することも可能であり、或いは、例えば、非駆動型の搬送ロール又はローラーなどの搬送手段を介して少なくとも駆動装置の機能を少なくとも部分的に形成又は置換することも可能である。   For good electrical contact, it is advantageous to provide a counter-pressure means on the other surface of the object, especially in a precisely opposed manner. This ensures good and constant contact of the contact means on the object. The back pressure means is also advantageously in the form of a wheel or a roller, like the contact means. Also, as a result of the wheel or roller-like structure, in particular, the contact means and the counter pressure means can be rotated to prevent wear along the surface of the object. As a result, mechanical damage or the like is reliably prevented. For this purpose, it is advantageous that the contact means and the counter pressure means rotate at the same speed and at the same circumferential speed so as to rotate cleanly on the object. The contact means and / or the counter pressure means can be driven, particularly in a state of being coupled to the conveying means. Alternatively, they can also at least partially form or replace the conveying means, or at least the function of the drive device via conveying means such as a non-driven conveying roll or roller, for example. Can be at least partially formed or substituted.

接触手段は、物体に密着する接触表面と同一の方法において、金属、好ましくは、銅から製造可能である。逆圧手段は、非導電性の材料から製造可能である。これは、電気的に不活性になるように、特に、プラスチックから製造されているか、或いは、少なくともその表面がプラスチックによってコーティングされている。この結果、例えば、鍍金装置による金属コーティングの場合に、金属が堆積することがない。   The contact means can be manufactured from a metal, preferably copper, in the same way as the contact surface that adheres to the object. The back pressure means can be manufactured from a non-conductive material. It is produced in particular from plastic so that it is electrically inert, or at least its surface is coated with plastic. As a result, for example, metal is not deposited in the case of metal coating by a plating apparatus.

これら及び更なる特徴については、添付の請求項、本明細書、及び添付の図面を参照することによって明らかとなるが、個々の特徴は、本発明の一実施例において、並びに、その他の分野において、単独で、或いは、サブ組み合わせにおける複数の形態において実装可能であり、且つ、本明細書において保護を請求している有利で独立的に保護可能な構造を表現可能である。本出願の個々の節へのサブ分割及びサブ表題は、それぞれに記述されている内容の一般的な有効性をなんら制限するものではない。   These and further features will be apparent with reference to the appended claims, specification, and accompanying drawings, wherein individual features may be found in one embodiment of the invention and in other fields. It can be implemented alone, or in multiple forms in subcombinations, and can represent an advantageous and independently protectable structure that claims protection in this specification. The subdivisions and subtitles into individual sections of this application do not limit the general validity of the contents described in each.

唯一の図面である図1には、上位液体レベルまで電解液14を収容している処理チャンバ13を有する鍍金装置11が概略的に示されている。この鍍金装置11は、例えば、欧州特許出願第819 781 A1号(EP 819 781 A1)に記述及び図示されているものなどの標準的な鍍金装置に対応しており、詳細については、この文献を参照されたい。   FIG. 1, the only drawing, schematically shows a plating apparatus 11 having a processing chamber 13 containing an electrolyte solution 14 to the upper liquid level. This plating apparatus 11 corresponds to standard plating apparatuses such as those described and illustrated in European Patent Application No. 819 781 A1 (EP 819 781 A1). Please refer.

処理チャンバ13又は電解液14内には、下面17及び上面18を有する平坦なプリント回路基板16が配置されている。この回路基板16は、図面の面内に向かって水平に搬送されるものと理解されたい。又、これは、右側端部領域19をも具備している。尚、この断面図には、回路基板16の左側端部領域が図示されてはいない。但し、図1には、図示されていない左側にも、右側に対応した同一の構造が存在可能であることを理解されたい。   A flat printed circuit board 16 having a lower surface 17 and an upper surface 18 is disposed in the processing chamber 13 or the electrolytic solution 14. It should be understood that the circuit board 16 is conveyed horizontally in the plane of the drawing. It also comprises a right end region 19. In this sectional view, the left end region of the circuit board 16 is not shown. However, it should be understood that the same structure corresponding to the right side can exist on the left side (not shown) in FIG.

回路基板16は、下部搬送ホイール20上に配置されており、これらの下部搬送ホイールは、処理チャンバ13を通じて回路基板を搬送するべく、下部搬送シャフト21によって駆動されている。上部搬送シャフト22上の上部搬送ホイール20は、回路基板16の上面18上に配置されている。これらの搬送シャフトには、それぞれのケースにおいて、下部駆動装置24及び上部駆動装置26が提供されており、この結果、回路基板16は、処理チャンバ13を通じて移動するようになっている。   The circuit board 16 is disposed on the lower conveyance wheel 20, and these lower conveyance wheels are driven by the lower conveyance shaft 21 to convey the circuit board through the processing chamber 13. The upper conveyance wheel 20 on the upper conveyance shaft 22 is disposed on the upper surface 18 of the circuit board 16. These transport shafts are provided with a lower drive device 24 and an upper drive device 26 in each case, so that the circuit board 16 moves through the processing chamber 13.

下部搬送シャフト21上には、接触ホイール28も配置されており、これは、その中央領域内に、わずかに突出した接触セグメント29を具備している。接触ホイール28及び接触セグメント29は、基本的に銅から製造するのが有利である。これらは、具体的には、独国特許出願第103 23 660 A1号(DE 103 23 660 A1)及び/又は欧州特許第819 781号(EP 819 781)に記述されている方式において構築可能であり、詳細については、これらの文献を参照されたい。接触ホイール28又は接触セグメント29は、回路基板16の下面17に対して、具体的には、右側端部領域19内において、密着している。   A contact wheel 28 is also arranged on the lower conveying shaft 21 and comprises a slightly projecting contact segment 29 in its central region. The contact wheel 28 and the contact segment 29 are advantageously made essentially from copper. These can in particular be constructed in the manner described in German Patent Application No. 103 23 660 A1 (DE 103 23 660 A1) and / or European Patent No. 819 781 (EP 819 781). Refer to these documents for details. The contact wheel 28 or the contact segment 29 is in close contact with the lower surface 17 of the circuit board 16, specifically, in the right end region 19.

回路基板16の上面18上には、接触ホイール28と対向した状態において、わずかに隆起した中央稼動表面32を有する逆圧ホイール31が提供されている。対向する更なる接触ホイールを有する従来技術の場合と同様に、逆圧ホイール31は、回路基板16又はその下面17に対する接触ホイール28の良好な密着を保証している。但し、逆圧ホイール31は、例えば、プラスチックから製造されているか、或いは、いずれにしても非導電性を有しており、且つ、回路基板16に電力を供給するべく使用されてはいない。従って、少なくとも回路基板16の前述の端部領域19内においては、下部接触ホイール28が回路基板16との唯一の接点を表している。回路基板16の右側全体に沿って、回路基板16の下面17上にのみ、接触ホイール28に類似した接触ホイールが提供されている。回路基板16の図示されてはいない左側にも、類似の更なる接触ホイールを下面17上に提供可能である。   On the upper surface 18 of the circuit board 16, a counter pressure wheel 31 is provided having a slightly raised central working surface 32 in opposition to the contact wheel 28. As in the case of the prior art with further contact wheels facing each other, the counter pressure wheel 31 ensures good adhesion of the contact wheel 28 to the circuit board 16 or its lower surface 17. However, the counter pressure wheel 31 is made of, for example, plastic, or is non-conductive anyway, and is not used to supply power to the circuit board 16. Thus, at least in the aforementioned end region 19 of the circuit board 16, the lower contact wheel 28 represents the only contact with the circuit board 16. A contact wheel similar to the contact wheel 28 is provided only on the lower surface 17 of the circuit board 16 along the entire right side of the circuit board 16. A similar further contact wheel can also be provided on the lower surface 17 on the left side of the circuit board 16 (not shown).

電気的に接触するべく、下部接触ホイール28は、下部電圧源34及び上部電圧源35に対する電気端子25と接続されている。これらの電圧源34及び35は、その正極により、回路基板16の上部及び下部に配置されている陽極37に接続されており、これらは、横方向に延長した棒又はこれに類似したものの形態において、いくつかのものが存在するのが有利である。接触ホイール28及び陽極37により、回路基板16の表面を鍍金するのに必要な電力が電解液14を介して生成されている。   For electrical contact, the lower contact wheel 28 is connected to an electrical terminal 25 for the lower voltage source 34 and the upper voltage source 35. These voltage sources 34 and 35 are connected by their positive electrodes to anodes 37 located at the top and bottom of the circuit board 16, which are in the form of laterally extending rods or the like. Advantageously, there are several things. Electric power necessary for plating the surface of the circuit board 16 is generated via the electrolytic solution 14 by the contact wheel 28 and the anode 37.

前述のように、鍍金装置11の動作の際には、接触ホイール28が、回路基板16の下面17上における直接的な電気的接触を常に保証している。この結果、例えば、回路基板16の下面17における銅のコーティングが始まることになる。回路基板16上の孔や開口部などを利用することにより、回路基板16の上面18上における銅のコーティングが形成され、従って、上面18への電気的な接触を形成している。この結果、前述の上面18も、電気的に接触され、且つ、鍍金により、銅によってコーティングされることになる。   As described above, during the operation of the plating apparatus 11, the contact wheel 28 always ensures direct electrical contact on the lower surface 17 of the circuit board 16. As a result, for example, the coating of copper on the lower surface 17 of the circuit board 16 starts. By utilizing holes or openings on the circuit board 16, a copper coating is formed on the upper surface 18 of the circuit board 16, thus making electrical contact to the upper surface 18. As a result, the above-mentioned upper surface 18 is also electrically contacted and coated with copper by plating.

従って、回路基板16の下面17上における接触ホイール28を介した電気的な接触は、その両側における鍍金又はコーティングのために十分なものになっており、従って、上面18に対して直接的に接触する必要はない。従って、既知の鍍金装置と比較した場合に、接触手段、特に、回路基板の上部に位置しているものの数を半減させることが可能である。   Thus, the electrical contact via the contact wheel 28 on the lower surface 17 of the circuit board 16 is sufficient for plating or coating on both sides thereof, and therefore is in direct contact with the upper surface 18. do not have to. Therefore, it is possible to halve the number of contact means, in particular those located on the top of the circuit board, when compared with known plating devices.

前述の銅の破片を容易に除去可能であれば、相対的に単純な構造を接触ホイールに付与可能である。具体的には、この場合には、銅から製造された又は銅表面を有する構造で十分である。標準的な高価なプラチナコーティングは不要であり、この結果、製造の努力と、特に、費用を低減可能である。   If the aforementioned copper debris can be easily removed, a relatively simple structure can be imparted to the contact wheel. Specifically, in this case, a structure made from copper or having a copper surface is sufficient. A standard expensive platinum coating is not required, which can reduce manufacturing effort and, in particular, costs.

本発明の更なる利点は、例えば、前述の銅のコーティングの場合には、電解液から分離された所謂銅の破片が、接触ホイール又は対応する接触手段上に堆積されるという点にある。回路基板の下方から密着している接触ホイールの場合には、前述の破片は、容易に剥離して除去可能であり、この結果、これらは、容易に落下することになる。既知の鍍金装置の上部密着接触ホイールの場合には、このような破片が落下せず、従って、大量に集積されて、特定に状況においては、回路基板上において上部密着接触ホイール又は搬送ホイールによって堅固に加圧されるか、或いは、汚染又は損傷が生じるという問題がしばしば発生している。本発明によれば、このような上部密着接触ホイールにおいて特に発生する問題を回避可能である。このような銅の破片の洗浄に伴う既知の解決策は、格段に複雑であり、このようにすることにより、節約可能である。   A further advantage of the present invention is, for example, in the case of the aforementioned copper coating, that so-called copper debris separated from the electrolyte is deposited on the contact wheel or corresponding contact means. In the case of a contact wheel that is in close contact from below the circuit board, the aforementioned debris can be easily peeled off and removed, and as a result, they will easily fall. In the case of the top-contacting contact wheel of the known plating device, such debris does not fall, and thus is accumulated in large quantities and, in certain circumstances, is firmly fixed by the top-contacting contact wheel or the transport wheel on the circuit board. There are often problems of being pressurized or causing contamination or damage. According to the present invention, it is possible to avoid a problem that particularly occurs in such an upper contact wheel. Known solutions associated with such copper debris cleaning are much more complex and can be saved by doing so.

鍍金装置の概略図である。It is the schematic of a plating apparatus.

Claims (9)

電解液(14)などの処理媒体を具備した処理チャンバを通じて物体を搬送するための搬送手段(20、21、22)と、電気的な接触及び電源(34、35)から前記物体への電力の供給のための接触手段(28、29)と、を有する処理チャンバ(13)を通じて通過経路(20)上において平坦で平面的な前記物体を処理するための装置、具体的には、回路基板(16)用の鍍金装置(11)において、
接触手段は、前記物体(16)の2つの表面(17、18)又は側面のうちの1つの上にのみ配置されており、且つ、その場所において前記物体に密着して電気的に接触していることを特徴とする装置。
A transport means (20, 21, 22) for transporting an object through a processing chamber equipped with a processing medium such as an electrolyte (14); electrical contact and power from the power source (34, 35) to the object; A device for processing said flat and planar object on the passage path (20) through a processing chamber (13) having contact means (28, 29) for supply, in particular a circuit board ( 16) In the plating apparatus (11) for
The contact means is arranged only on one of the two surfaces (17, 18) or the side surfaces of the object (16), and is in close contact with the object and in electrical contact therewith. A device characterized by comprising.
前記接触手段(28、29)は、リボルビング又はロータリー方式で構成されており、好ましくは、ホイール又はローラー状であることを特徴とする請求項1に記載の装置。   2. Device according to claim 1, characterized in that the contact means (28, 29) are configured in a revolving or rotary manner, preferably in the form of a wheel or a roller. 通過方向において見た場合に、接触手段(28、29)は、物体(16)の左側及び右側(19)に提供されており、好ましくは、前記表面の両面上における前記接触手段は、それぞれのケースにおいて、前記上面(18)上にのみ、或いは、それぞれのケースにおいて、前記下面(17)上にのみ、提供されており、特に前記下面上にのみ提供されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の装置。   When viewed in the passing direction, contact means (28, 29) are provided on the left and right sides (19) of the object (16), preferably the contact means on both sides of the surface are The case is provided only on the upper surface (18) or in each case only on the lower surface (17), in particular only on the lower surface. The apparatus according to 1 or 2. 多数の接触手段(28、29)が、好ましくは、前記処理チャンバ(13)の長さの大きな部分に沿って連続的に提供されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の装置。   A number of contact means (28, 29) are preferably provided continuously along a large part of the length of the processing chamber (13). The device according to item. 逆圧手段(31、32)が、それぞれのケースにおいて、前記物体(16)のもう1つの平面的な面上において、前記接触手段(28、29)と対向した状態において、且つ、特に正確に対向した状態において、提供されており、好ましくは、前記逆圧手段も、ホイール又はローラー状の構造を具備していることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の装置。   The back pressure means (31, 32) is in each case on the other planar surface of the object (16) facing the contact means (28, 29) and particularly accurately 5. A device according to any one of claims 1 to 4, characterized in that it is provided in an opposed state, preferably the counter pressure means also comprises a wheel or roller-like structure. 前記逆圧手段(31、32)は、非導電性の材料、特に、プラスチックから製造されていることを特徴とする請求項5に記載の装置。   6. Device according to claim 5, characterized in that the back pressure means (31, 32) are made of a non-conductive material, in particular plastic. 前記接触手段(28、29)及び前記逆圧手段(31、32)は、いずれも、同一の円周速度において駆動されていることを特徴とする請求項5又は6に記載の装置。   The device according to claim 5 or 6, characterized in that the contact means (28, 29) and the counter pressure means (31, 32) are all driven at the same circumferential speed. 前記接触手段(28)は、銅から製造されており、前記物体(16)に密着している前記接触手段の接触面(29)も、銅から製造されていることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の装置。   The contact means (28) is made of copper, and the contact surface (29) of the contact means in close contact with the object (16) is also made of copper. The apparatus as described in any one of -7. 前記物体(16)は、前記通過経路(20)において、水平に搬送及び接触されていることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の装置。   The device according to claim 1, wherein the object (16) is conveyed and contacted horizontally in the passage path (20).
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