JP2008522377A - 質量分析計 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (96)
- 装置であって、
使用時にイオンが移動する面に通常又は実質的に配置された平面状、板状、又は網状中間電極の層を1層以上と、
前記1層以上の平面状、板状、又は網状中間電極の層の第1の側に配置された、第1電極の第1アレイと、
前記装置の少なくとも一部分を通して、及び/又はこれに沿って少なくとも一部のイオンを推進、前進、強制移動、又は加速させるため、前記第1電極の第1アレイに1以上の電圧又は1以上の電圧波形を印加するように配置及び適合させた電圧手段とを備えたことを特徴とする装置。 - 前記第1電極の第1アレイが、少なくとも2個、3個、4個、5個、6個、7個、8個、9個、10個、11個、12個、13個、14個、15個、16個、17個、18個、19個、20個、又は20個を超える電極を備えている、請求項1に記載の装置。
- 前記第1電極の第1アレイが、(i)プリント回路基板、プリント配線基板、又はエッチング配線基板、(ii)非導電性基板上に塗布又は積層された複数の導電性トレース、(iii)基板上に配置された複数の銅製又は金属製電極、(iv)スクリーン印刷、写真製版、エッチング、又は切削されたプリント回路基板、(v)フェノール樹脂を含浸させた紙基板上に配置された複数の電極、(vi)エポキシ樹脂内で含浸させたファイバーグラスマット上に配置された複数の電極、(vii)プラスチック基板上に配置された複数の電極、又は(viii)基板上に配置された複数の電極を備えている、請求項1又は2に記載の装置。
- 前記第1電極の少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、又は100%が、(i)<1mm、(ii)1〜2mm、(iii)2〜3mm、(iv)3〜4mm、(v)4〜5mm、(vi)5〜6mm、(vii)6〜7mm、(viii)7〜8mm、(ix)8〜9mm、(x)9〜10mm、(xi)10〜11mm、(xii)11〜12mm、(xiii)12〜13mm、(xiv)13〜14mm、(xv)14〜15mm、(xvi)15〜16mm、(xvii)16〜17mm、(xviii)17〜18mm、(xix)18〜19mm、(xx)19〜20mm、及び(xxi)>20mmからなる群から選択される軸方向の中心間距離を有する、請求項1、2又は3に記載の装置。
- 前記第1電極の少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、又は100%が、(i)<1mm、(ii)1〜2mm、(iii)2〜3mm、(iv)3〜4mm、(v)4〜5mm、(vi)5〜6mm、(vii)6〜7mm、(viii)7〜8mm、(ix)8〜9mm、(x)9〜10mm、(xi)10〜11mm、(xii)11〜12mm、(xiii)12〜13mm、(xiv)13〜14mm、(xv)14〜15mm、(xvi)15〜16mm、(xvii)16〜17mm、(xviii)17〜18mm、(xix)18〜19mm、(xx)19〜20mm、及び(xxi)>20mmからなる群から選択される軸方向長さを有する、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記第1電極の少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、又は100%が、(i)<1mm、(ii)1〜2mm、(iii)2〜3mm、(iv)3〜4mm、(v)4〜5mm、(vi)5〜6mm、(vii)6〜7mm、(viii)7〜8mm、(ix)8〜9mm、(x)9〜10mm、(xi)10〜11mm、(xii)11〜12mm、(xiii)12〜13mm、(xiv)13〜14mm、(xv)14〜15mm、(xvi)15〜16mm、(xvii)16〜17mm、(xviii)17〜18mm、(xix)18〜19mm、(xx)19〜20mm、及び(xxi)>20mmからなる群から選択される幅を有する、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記第1電極が、(i)<0.01mm、(ii)0.01〜0.1mm、(iii)0.1〜0.2mm、(iv)0.2〜0.3mm、(v)0.3〜0.4mm、(vi)0.4〜0.5mm、(vii)0.5〜0.6mm、(viii)0.6〜0.7mm、(ix)0.7〜0.8mm、(x)0.8〜0.9mm、(xi)0.9〜1.0mm、(xii)1〜2mm、(xiii)2〜3mm、(xiv)3〜4mm、(xv)4〜5mm、及び(xvi)>5mmからなる群から選択される厚みを有する、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記第1電極の少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、又は100%が、使用時において、前記平面状、板状、又は網状中間電極の少なくとも一部又は全部の中間若しくは平均電圧又は電位に対して第1バイアスDC電圧又は電位でバイアスされる、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記第1DCバイアス電圧又は電位が、(i)−10V未満、(ii)−9〜−8V、(iii)−8〜−7V、(iv)−7〜−6V、(v)−6〜−5V、(vi)−5〜−4V、(vii)−4〜−3V、(viii)−3〜−2V、(ix)−2〜−1V、(x)−1〜0V、(xi)0〜1V、(xii)1〜2V、(xiii)2〜3V、(xiv)3〜4V、(xv)4〜5V、(xvi)5〜6V、(xvii)6〜7V、(xviii)7〜8V、(xix)8〜9V、(xx)9〜10V、及び(xxi)10Vを超える電圧又は電位からなる群から選択される、請求項8に記載の装置。
- 前記第1電極の第1アレイには、操作モードにおいて、DC電圧のみを供給する、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記第1電極の第1アレイには、操作モードにおいて、AC又はRF電圧のみを供給する、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記第1電極の第1アレイには、操作モードにおいて、DC電圧及びAC又はRF電圧を供給する、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記装置の少なくとも一部分又は少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、若しくは100%を通して、及び/又はこれに沿って少なくとも一部のイオンを推進、前進、強制移動、又は加速させるため、前記第1電極の第1アレイに1以上の過渡DC電圧又は電位、或いは1以上の過渡DC電圧又は電位波形を印加するように、前記電圧手段を配置及び適合させた、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記装置の少なくとも一部分又は少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、若しくは100%を通して、及び/又はこれに沿って少なくとも一部のイオンを推進、前進、強制移動、又は加速させるため、前記第1電極の第1アレイに1以上の実質的に一定のDC電圧又は電位を印加するように、前記電圧手段を配置及び適合させた、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記装置の少なくとも一部分又は少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、若しくは100%を通して、及び/又はこれに沿って少なくとも一部のイオンを推進、前進、強制移動、又は加速させるため、前記第1電極の第1アレイに2以上の位相シフトAC又はRF電圧を印加するように、前記電圧手段を配置及び適合させた、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記1層以上の平面状、板状、又は網状中間電極の層の、前記第1電極の第1アレイが配置された側とは異なる及び/又は反対の第2の側に配置された第2電極の第2アレイをさらに備えている、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記装置の少なくとも一部分を通して、及び/又はこれに沿って少なくとも一部のイオンを推進、前進、強制移動、又は加速させるため、前記第2電極の第2アレイに1以上の電圧又は1以上の電圧波形を印加するように、前記電圧手段を配置及び適合させた、請求項16に記載の装置。
- 前記第2電極の第2アレイが、少なくとも2個、3個、4個、5個、6個、7個、8個、9個、10個、11個、12個、13個、14個、15個、16個、17個、18個、19個、20個、又は20個を超える電極を備えている、請求項16又は17に記載の装置。
- 前記第2電極の第2アレイが、(i)プリント回路基板、プリント配線基板又はエッチング配線基板、(ii)非導電性基板上に塗布又は積層された複数の導電性トレース、(iii)基板上に配置された複数の銅製又は金属製電極、(iv)スクリーン印刷、写真製版、エッチング、又は切削されたプリント回路基板、(v)フェノール樹脂を含浸させた紙基板上に配置された複数の電極、(vi)エポキシ樹脂内で含浸させたファイバーグラスマット上に配置された複数の電極、(vii)プラスチック基板上に配置された複数の電極、又は(viii)基板上に配置された複数の電極を備えている、請求項16、17又は18に記載の装置。
- 前記第2電極の少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、又は100%が、(i)<1mm、(ii)1〜2mm、(iii)2〜3mm、(iv)3〜4mm、(v)4〜5mm、(vi)5〜6mm、(vii)6〜7mm、(viii)7〜8mm、(ix)8〜9mm、(x)9〜10mm、(xi)10〜11mm、(xii)11〜12mm、(xiii)12〜13mm、(xiv)13〜14mm、(xv)14〜15mm、(xvi)15〜16mm、(xvii)16〜17mm、(xviii)17〜18mm、(xix)18〜19mm、(xx)19〜20mm、及び(xxi)>20mmからなる群から選択される軸方向の中心間距離を有する、請求項16〜19のいずれか一項に記載の装置。
- 前記第2電極の少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、又は100%が、(i)<1mm、(ii)1〜2mm、(iii)2〜3mm、(iv)3〜4mm、(v)4〜5mm、(vi)5〜6mm、(vii)6〜7mm、(viii)7〜8mm、(ix)8〜9mm、(x)9〜10mm、(xi)10〜11mm、(xii)11〜12mm、(xiii)12〜13mm、(xiv)13〜14mm、(xv)14〜15mm、(xvi)15〜16mm、(xvii)16〜17mm、(xviii)17〜18mm、(xix)18〜19mm、(xx)19〜20mm、及び(xxi)>20mmからなる群から選択される軸方向長さを有する、請求項16〜20のいずれか一項に記載の装置。
- 前記第2電極の少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、又は100%が、(i)<1mm、(ii)1〜2mm、(iii)2〜3mm、(iv)3〜4mm、(v)4〜5mm、(vi)5〜6mm、(vii)6〜7mm、(viii)7〜8mm、(ix)8〜9mm、(x)9〜10mm、(xi)10〜11mm、(xii)11〜12mm、(xiii)12〜13mm、(xiv)13〜14mm、(xv)14〜15mm、(xvi)15〜16mm、(xvii)16〜17mm、(xviii)17〜18mm、(xix)18〜19mm、(xx)19〜20mm、及び(xxi)>20mmからなる群から選択される幅を有する、請求項16〜21のいずれか一項に記載の装置。
- 前記第2電極が、(i)<0.01mm、(ii)0.01〜0.1mm、(iii)0.1〜0.2mm、(iv)0.2〜0.3mm、(v)0.3〜0.4mm、(vi)0.4〜0.5mm、(vii)0.5〜0.6mm、(viii)0.6〜0.7mm、(ix)0.7〜0.8mm、(x)0.8〜0.9mm、(xi)0.9〜1.0mm、(xii)1〜2mm、(xiii)2〜3mm、(xiv)3〜4mm、(xv)4〜5mm、及び(xvi)>5mmからなる群から選択される厚みを有する、請求項16〜22のいずれか一項に記載の装置。
- 前記第2電極の少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、又は100%が、使用時において、前記平面状、板状、又は網状電極の少なくとも一部又は全部の中間若しくは平均電圧又は電位に対して第2バイアスDC電圧又は電位でバイアスされる、請求項16〜23のいずれか一項に記載の装置。
- 前記第2DCバイアス電圧又は電位が、(i)−10V未満、(ii)−9〜−8V、(iii)−8〜−7V、(iv)−7〜−6V、(v)−6〜−5V、(vi)−5〜−4V、(vii)−4〜−3V、(viii)−3〜−2V、(ix)−2〜−1V、(x)−1〜0V、(xi)0〜1V、(xii)1〜2V、(xiii)2〜3V、(xiv)3〜4V、(xv)4〜5V、(xvi)5〜6V、(xvii)6〜7V、(xviii)7〜8V、(xix)8〜9V、(xx)9〜10V、及び(xxi)10Vを超える電圧又は電位からなる群から選択される、請求項24に記載の装置。
- 前記第2電極の第2アレイには、操作モードにおいて、DC電圧のみを供給する、請求項16〜25のいずれか一項に記載の装置。
- 前記第2電極の第2アレイには、操作モードにおいて、AC又はRF電圧のみを供給する、請求項16〜26のいずれか一項に記載の装置。
- 前記第2電極の第2アレイには、操作モードにおいて、DC及びAC又はRF電圧を供給する、請求項16〜27のいずれか一項に記載の装置。
- 前記装置の少なくとも一部分又は少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、若しくは100%を通して、及び/又はこれに沿って少なくとも一部のイオンを推進、前進、強制移動、又は加速させるため、前記第2電極の第2アレイに1以上の過渡DC電圧又は電位、或いは1以上の過渡DC電圧又は電位波形を印加するように、前記電圧手段を配置及び適合させた、請求項16〜28のいずれか一項に記載の装置。
- 前記装置の少なくとも一部分又は少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、若しくは100%を通して、及び/又はこれに沿って少なくとも一部のイオンを推進、前進、強制移動、又は加速させるため、前記第2電極の第2アレイに1以上の実質的に一定のDC電圧又は電位を印加するように、前記電圧手段を配置及び適合させた、請求項16〜29のいずれか一項に記載の装置。
- 前記装置の少なくとも一部分又は少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、若しくは100%を通して、及び/又はこれに沿って少なくとも一部のイオンを推進、前進、強制移動、又は加速させるため、前記第2電極の第2アレイに2以上の位相シフトAC又はRF電圧又は電位を印加するように、前記電圧手段を配置及び適合させた、請求項16〜30のいずれか一項に記載の装置。
- 前記装置の少なくとも一部分又は少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、若しくは100%に沿って非ゼロDC電圧又は電位勾配を保持するための手段をさらに備えている、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記非ゼロDC電圧又は電位勾配が、前記装置の少なくとも一部分又は少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、若しくは100%に沿ってイオンを加速させる、請求項32に記載の装置。
- 前記非ゼロDC電圧又は電位勾配が、イオンの前方への搬送を妨害するように働くか、或いはイオンを減速させるように働く電位障壁又は電位の山を生じさせ、前記非ゼロDC電圧又は電位勾配が、前記装置の少なくとも一部分又は少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、若しくは100%に沿って保持される、請求項32に記載の装置。
- 前記電圧手段により、イオンが前記非ゼロDC電圧又は電位勾配による影響を克服し、前記装置内のイオンの少なくとも一部又は少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、若しくは100%が前記非ゼロDC電圧又は電位勾配を横切って、或いは通過して前方に搬送される、請求項34に記載の装置。
- 前記1層以上の平面状、板状、又は網状中間電極の層が、1層、2層、3層、4層、5層、6層、7層、8層、9層、10層、11層、12層、13層、14層、15層、16層、17層、18層、19層、20層、又は20層を超える平面状、板状、又は網状中間電極の層を含む、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 平面状、板状、又は網状中間電極の各層が、2個以上の長手電極を備えている、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記長手電極のうちの少なくとも1個又は少なくとも2個が、(i)<1mm、(ii)1〜2mm、(iii)2〜3mm、(iv)3〜4mm、(v)4〜5mm、(vi)5〜6mm、(vii)6〜7mm、(viii)7〜8mm、(ix)8〜9mm、(x)9〜10mm、(xi)10〜11mm、(xii)11〜12mm、(xiii)12〜13mm、(xiv)13〜14mm、(xv)14〜15mm、(xvi)15〜16mm、(xvii)16〜17mm、(xviii)17〜18mm、(xix)18〜19mm、(xx)19〜20mm、及び(xxi)>20mmからなる群から選択される幅方向の中心間距離を有する、請求項37に記載の装置。
- 前記長手電極のうちの少なくとも1個又は少なくとも2個が、(i)<10mm、(ii)10〜20mm、(iii)20〜30mm、(iv)30〜40mm、(v)40〜50mm、(vi)50〜60mm、(vii)60〜70mm、(viii)70〜80mm、(ix)80〜90mm、(x)90〜100mm、(xi)100〜110mm、(xii)110〜120mm、(xiii)120〜130mm、(xiv)130〜140mm、(xv)140〜150mm、(xvi)150〜160mm、(xvii)160〜170mm、(xviii)170〜180mm、(xix)180〜190mm、(xx)190〜200mm、及び(xxi)>200mmからなる群から選択される軸方向長さを有する、請求項37又は38に記載の装置。
- 前記長手電極のうちの少なくとも1個又は少なくとも2個が、(i)<1mm、(ii)1〜2mm、(iii)2〜3mm、(iv)3〜4mm、(v)4〜5mm、(vi)5〜6mm、(vii)6〜7mm、(viii)7〜8mm、(ix)8〜9mm、(x)9〜10mm、(xi)10〜11mm、(xii)11〜12mm、(xiii)12〜13mm、(xiv)13〜14mm、(xv)14〜15mm、(xvi)15〜16mm、(xvii)16〜17mm、(xviii)17〜18mm、(xix)18〜19mm、(xx)19〜20mm、及び(xxi)>20mmからなる群から選択される幅を有する、請求項37、38又は39に記載の装置。
- 前記長手電極のうちの少なくとも1個又は少なくとも2個が、(i)<0.01mm、(ii)0.01〜0.1mm、(iii)0.1〜0.2mm、(iv)0.2〜0.3mm、(v)0.3〜0.4mm、(vi)0.4〜0.5mm、(vii)0.5〜0.6mm、(viii)0.6〜0.7mm、(ix)0.7〜0.8mm、(x)0.8〜0.9mm、(xi)0.9〜1.0mm、(xii)1〜2mm、(xiii)2〜3mm、(xiv)3〜4mm、(xv)4〜5mm、及び(xvi)>5mmからなる群から選択される厚みを有する、請求項37〜40のいずれか一項に記載の装置。
- 前記2個以上の長手電極が、実質的に同一平面上にある、請求項37〜41のいずれか一項に記載の装置。
- 前記2個以上の長手電極に対し、使用時に、実質的に同位相の二相又は多相のAC若しくはRF電圧又は信号が供給される、請求項37〜42のいずれか一項に記載の装置。
- 隣接した平面状、板状、又は網状電極の層には、互いに逆位相又は異なる位相のAC若しくはRF電圧又は信号が供給される、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記AC若しくはRF電圧又は信号が、(i)<100kHz、(ii)100〜200kHz、(iii)200〜300kHz、(iv)300〜400kHz、(v)400〜500kHz、(vi)0.5〜1.0MHz、(vii)1.0〜1.5MHz、(viii)1.5〜2.0MHz、(ix)2.0〜2.5MHz、(x)2.5〜3.0MHz、(xi)3.0〜3.5MHz、(xii)3.5〜4.0MHz、(xiii)4.0〜4.5MHz、(xiv)4.5〜5.0MHz、(xv)5.0〜5.5MHz、(xvi)5.5〜6.0MHz、(xvii)6.0〜6.5MHz、(xviii)6.5〜7.0MHz、(xix)7.0〜7.5MHz、(xx)7.5〜8.0MHz、(xxi)8.0〜8.5MHz、(xxii)8.5〜9.0MHz、(xxiii)9.0〜9.5MHz、(xxiv)9.5〜10.0MHz、及び(xxv)>10.0MHzからなる群から選択される周波数を有する、請求項43又は44に記載の装置。
- 前記AC若しくはRF電圧又は信号の振幅が、(i)<50V頂点間、(ii)50〜100V頂点間、(iii)100〜150V頂点間、(iv)150〜200V頂点間、(v)200〜250V頂点間、(vi)250〜300V頂点間、(vii)300〜350V頂点間、(viii)350〜400V頂点間、(ix)400〜450V頂点間、(x)450〜500V頂点間、及び(xi)>500V頂点間からなる群から選択される、請求項43、44又は45に記載の装置。
- 前記平面状、板状、又は網状中間電極の少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、又は100%に、AC若しくはRF電圧又は信号が供給される、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記平面状、板状、又は網状中間電極の層の少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、又は100%が、実質的に互いに平行に配置されている、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記平面状、板状、又は網状中間電極の層の少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、又は100%が、実質的に平面状又は平坦であり、前記装置が、前記電極の面内において湾曲している、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記平面状、板状、又は網状中間電極の層の少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、又は100%が実質的に非平面状又は非平坦であり、前記電極が、その軸方向長さに沿って湾曲している、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記平面状、板状、又は網状中間電極の層の少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、又は100%が、実質的に互いに等間隔に配置されている、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記平面状、板状、又は網状中間電極の層の少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、又は100%が、(i)5mm以下、(ii)4.5mm以下、(iii)4mm以下、(iv)3.5mm以下、(v)3mm以下、(vi)2.5mm以下、(vii)2mm以下、(viii)1.5mm以下、(ix)1mm以下、(x)0.8mm以下、(xi)0.6mm以下、(xii)0.4mm以下、(xiii)0.2mm以下、(xiv)0.1mm以下、及び(xv)0.25mm以下からなる群から選択される距離だけ互いに離間している、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記装置が、実質的に直線状のイオン案内領域を有する、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記装置が、実質的に曲線状のイオン案内領域を有する、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記装置が、第1軸に沿ってイオンを受け取るための入口と、イオンが第2軸に沿って前記装置から流出する出口とを備え、前記第2軸が、前記第1軸に対して角度θを成し、θは、(i)<10°、(ii)10〜20°、(iii)20〜30°、(iv)30〜40°、(v)40〜50°、(vi)50〜60°、(vii)60〜70°、(viii)70〜80°、(ix)80〜90°、(x)90〜100°、(xi)100〜110°、(xii)110〜120°、(xiii)120〜130°、(xiv)130〜140°、(xv)140〜150°、(xvi)150〜160°、(xvii)160〜170°、及び(xviii)170〜180°からなる群から選択される範囲内にある、請求項54に記載の装置。
- 前記装置が、前記装置のイオン入口と前記装置のイオン出口との間に配置されたイオン案内領域を備え、前記イオン案内領域が、実質的に直線状、曲線状、「S」字状であるか、或いは1以上の変曲点を有する、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記装置が、イオンを受け取るための1以上の別個の入口と、イオンが前記装置から流出し得る1以上の別個の出口とを有する、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記装置が、第1断面プロファイル及び第1断面積を有する入口と、第2断面プロファイル及び第2断面積を有する出口とを有する、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記第1断面プロファイルが、前記第2断面プロファイルとは異なり、及び/又は、前記第1断面積が、前記第2断面積とは異なる、請求項58に記載の装置。
- 前記第1断面プロファイル及び/又は前記第2断面プロファイルが、実質的に円形、楕円形、長方形、又は正方形の断面を有する、請求項58又は59に記載の装置。
- (i)実質的に円形、正方形、長方形、又は楕円形の断面プロファイルを有するイオン光学部品、(ii)実質的に円形又は楕円形の断面プロファイルを有する四重極質量フィルター/分析器、(iii)実質的に正方形又は長方形の断面プロファイルを有する直交加速式飛行時間質量分析器、(iv)実質的に長方形の断面プロファイルを有する磁場型分析器、(v)実質的に円形又は楕円形の断面プロファイルを有するフーリエ変換イオンサイクロトロン共鳴(「FTICR」)質量分析器、(vi)実質的に円形又は楕円形の断面プロファイルを有する二次元(線形)四重極イオントラップ、及び(vii)実質的に円形又は楕円形の断面プロファイルを有する三次元(ポール)四重極イオントラップからなる群から選択されるイオン光学部品に結合されるように前記装置を配置及び適合させた、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記装置が、入口と出口との間に配置されたイオン案内領域を備え、前記イオン案内領域が、(i)前記イオン案内領域の長さに沿って大きさ及び/又は形状が変化するか、或いは(ii)サイズが徐々に小さくなるか、又は大きくなる幅及び/又は高さを有している、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記装置が、使用時、(i)>0.0001mbar、(ii)>0.001mbar、(iii)>0.01mbar、(iv)>0.1mbar、(v)>1mbar、(vi)>10mbar、(vii)>100mbar、(viii)0.0001〜0.001mbar、(ix)0.001〜0.01mbar、(x)0.01〜0.1mbar、(xi)0.1〜1mbar、(xii)1〜10mbar、(xiii)10〜100mbar、及び(xiv)100〜1000mbarからなる群から選択される圧力に保持される、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記装置が、使用時、(i)<0.0001mbar、(ii)<0.001mbar、(iii)<0.01mbar、(iv)<0.1mbar、(v)<1mbar、(vi)<10mbar、(vii)>100mbar、(viii)0.0001〜100mbar、(ix)0.001〜10mbar、及び(x)0.01〜1mbarからなる群から選択される圧力に保持される、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記装置がイオンガイドを備えている、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記装置がイオン移動度分光計又はセパレータを備えている、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記イオン移動度分光計又はセパレータが、気相電気泳動装置を備えている、請求項66に記載の装置。
- 前記装置が、衝突、フラグメンテーション又は反応装置を備えている、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 衝突誘起解離(「CID」)によってイオンをフラグメンテーションするように前記装置を配置及び適合させた、請求項68に記載の装置。
- 前記衝突、フラグメンテーション又は反応装置が、(i)表面誘起解離(「SID」)フラグメンテーション装置、(ii)電子移動解離フラグメンテーション装置、(iii)電子捕獲解離フラグメンテーション装置、(iv)電子衝突又は衝撃解離フラグメンテーション装置、(v)光誘起解離(「PID」)フラグメンテーション装置、(vi)レーザー誘起解離フラグメンテーション装置、(vii)赤外線誘起解離装置、(viii)紫外線誘起解離装置、(ix)ノズル−スキマー・インターフェースフラグメンテーション装置、(x)インソースフラグメンテーション装置、(xi)イオン源衝突誘起解離フラグメンテーション装置、(xii)熱又は温度源フラグメンテーション装置、(xiii)電場誘起フラグメンテーション装置、(xiv)磁場誘起フラグメンテーション装置、(xv)酵素消化又は酵素分解フラグメンテーション装置、(xvi)イオン−イオン反応フラグメンテーション装置、(xvii)イオン−分子反応フラグメンテーション装置、(xviii)イオン−原子反応フラグメンテーション装置、(xix)イオン−準安定イオン反応フラグメンテーション装置、(xx)イオン−準安定分子反応フラグメンテーション装置、(xxi)イオン−準安定原子反応フラグメンテーション装置、(xxii)イオンを反応させて付加又は生成イオンを形成するイオン−イオン反応装置、(xxiii)イオンを反応させて付加又は生成イオンを形成するイオン−分子反応装置、(xxiv)イオンを反応させて付加又は生成イオンを形成するイオン−原子反応装置、(xxv)イオンを反応させて付加又は生成イオンを形成するイオン−準安定イオン反応装置、(xxvi)イオンを反応させて付加又は生成イオンを形成するイオン−準安定分子反応装置、及び(xxvii)イオンを反応させて付加又は生成イオンを形成するイオン−準安定原子反応装置からなる群から選択される、請求項68に記載の装置。
- 前記1以上の平面状、板状、又は網状中間電極の層の間に、交えるか、或いは挟み込まれた複数の絶縁層をさらに備えている、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記1層以上の平面状、板状、又は網状中間電極の層の少なくとも5%、10%、15%、20%、25%、30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、又は100%を、前記絶縁層上に配置又は蒸着させる、請求項71に記載の装置。
- 操作モードにおいて、第1軸方向にイオンを搬送するように前記装置を配置及び適合させた、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 操作モードにおいて、第2軸方向にイオンを搬送するように前記装置を配置及び適合させ、前記第2軸方向が、前記第1軸方向に対して角度αを成し、αが、(i)<10°、(ii)10〜20°、(iii)20〜30°、(iv)30〜40°、(v)40〜50°、(vi)50〜60°、(vii)60〜70°、(viii)70〜80°、(ix)80〜90°、(x)90〜100°、(xi)100〜110°、(xii)110〜120°、(xiii)120〜130°、(xiv)130〜140°、(xv)140〜150°、(xvi)150〜160°、(xvii)160〜170°、(xviii)170〜180°、及び(xix)実質的に180°からなる群から選択される、請求項73に記載の装置。
- 前記装置を、実質的に連続したイオンのビームを受け取るように配置及び適合させ、また複数のイオンパケット又はイオン束としてイオンを放出又は射出するように配置及び適合させた、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 実質的に連続したイオンのビームをイオンのパルス又は不連続ビームへと変換するように前記イオンガイドを配置及び適合させた、前記請求項のいずれか一項に記載の装置。
- 前記請求項のいずれか一項に記載の装置を1以上備えた質量分析計。
- イオン源をさらに備えている、請求項77に記載の質量分析計。
- 前記イオン源が、(i)エレクトロスプレーイオン化(「ESI」)イオン源、(ii)大気圧光イオン化(「APPI」)イオン源、(iii)大気圧化学イオン化(「APCI」)イオン源、(iv)マトリックス支援レーザー脱離イオン化(「MALDI」)イオン源、(v)レーザー脱離イオン化(「LDI」)イオン源、(vi)大気圧イオン化(「API」)イオン源、(vii)シリコンを用いた脱離イオン化(「DIOS」)イオン源、(viii)電子衝撃(「EI」)イオン源、(ix)化学イオン化(「CI」)イオン源、(x)電界イオン化(「FI」)イオン源、(xi)電界脱離(「FD」)イオン源、(xii)誘導結合プラズマ(「ICP」)イオン源、(xiii)高速原子衝撃(「FAB」)イオン源、(xiv)液体二次イオン質量分析(「LSIMS」)イオン源、(xv)脱離エレクトロスプレーイオン化(「DESI」)イオン源、(xvi)ニッケル−63放射性イオン源、(xvii)大気圧マトリックス支援レーザー脱離イオン化イオン源、及び(xviii)サーモスプレーイオン源からなる群から選択される、請求項78に記載の質量分析計。
- 前記イオン源が、パルス化又は連続イオン源を備えている、請求項78又は79に記載の質量分析計。
- 前記装置の下流に配置された質量分析器をさらに備えている、請求項77〜80のいずれか一項に記載の質量分析計。
- 前記質量分析器が、(i)四重極質量分析器、(ii)二次元又は線形四重極質量分析器、(iii)ポール又は三次元四重極質量分析器、(iv)ペニングトラップ質量分析器、(v)イオントラップ質量分析器、(vi)磁場型質量分析器、(vii)イオンサイクロトロン共鳴(「ICR」)質量分析器、(viii)フーリエ変換イオンサイクロトロン共鳴(「FTICR」)質量分析器、(ix)静電又はオービトラップ(orbitrap)質量分析器、(x)フーリエ変換静電又はオービトラップ質量分析器、(xi)フーリエ変換質量分析器、(xii)飛行時間質量分析器、(xiii)軸方向加速式飛行時間質量分析器、及び(xiv)直交加速式飛行時間質量分析器からなる群から選択される、請求項81に記載の質量分析計。
- 前記装置の上流及び/又は下流に配置された1以上の質量又は質量電荷比フィルター及び/又は質量分析器をさらに備えている、請求項77〜82のいずれか一項に記載の質量分析計。
- 前記1以上の質量又は質量電荷比フィルター及び/又は分析器が、(i)四重極質量フィルター又は分析器、(ii)ウィーンフィルター、(iii)磁場型質量フィルター又は分析器、(iv)速度フィルター、及び(v)イオンゲートからなる群から選択される、請求項83に記載の質量分析計。
- イオンを案内する方法であって、
イオンが移動する面に通常又は実質的に配置された平面状、板状、又は網状中間電極の層を1層以上備えた装置を準備することと、
前記1層以上の平面状、板状、又は網状中間電極の層の第1の側に配置された、第1電極の第1アレイを準備することと、
前記装置の少なくとも一部分を通して、及び/又はこれに沿って少なくとも一部のイオンを推進、前進、強制移動、又は加速させるため、前記第1電極の第1アレイに1以上の電圧又は1以上の電圧波形を印加することとを含む方法。 - イオン移動度分光分析又はイオン移動度分離の方法であって、
イオンが移動する面に通常又は実質的に配置された平面状、板状、又は網状中間電極の層を1層以上備えた装置を準備することと、
前記1層以上の平面状、板状、又は網状中間電極の層の第1の側に配置された第1電極の第1アレイを準備することと、
前記装置の少なくとも一部分を通して、及び/又はこれに沿って少なくとも一部のイオンを推進、前進、強制移動、又は加速させるため、前記第1電極の第1アレイに1以上の電圧又は1以上の電圧波形を印加することとを含む方法。 - イオンを衝突、フラグメンテーション又は反応させる方法であって、
イオンが移動する面に通常又は実質的に配置された平面状、板状、又は網状中間電極の層を1層以上備えた装置を準備することと、
前記1層以上の平面状、板状、又は網状中間電極の層の第1の側に配置された第1電極の第1アレイを準備することと、
前記装置の少なくとも一部分を通して、及び/又はこれに沿って少なくとも一部のイオンを推進、前進、強制移動、又は加速させるため、前記第1電極の第1アレイに1以上の電圧又は1以上の電圧波形を印加することとを含む方法。 - 請求項85、86又は87に記載の方法を含む質量分析方法。
- 装置の製造又は作製方法であって、
1層以上の平面状、板状、又は網状中間電極の層の間に複数の絶縁体を交えるか、又は挟み込み、イオンが移動する面に通常又は実質的に配置された、積み重ねられた電極を形成するように、複数の平面状、板状、又は網状電極が前記絶縁体上に配置された装置を形成することと、
前記1層以上の平面状、板状、又は網状中間電極の層の第1の側に、第1電極の第1アレイを配置することとを含む方法。 - 前記第1電極の第1アレイが、少なくとも2個、3個、4個、5個、6個、7個、8個、9個、10個、11個、12個、13個、14個、15個、16個、17個、18個、19個、20個、又は20個を超える電極を備えている、請求項89に記載の装置の製造又は作製方法。
- 前記1層以上の平面状、板状、又は網状中間電極の層の第2の側に、第2電極の第2アレイを配置することをさらに含み、前記第2の側が、前記第1の側の反対側である、請求項89又は90に記載の装置の製造又は作製方法。
- 前記第2電極の第2アレイが、少なくとも2個、3個、4個、5個、6個、7個、8個、9個、10個、11個、12個、13個、14個、15個、16個、17個、18個、19個、20個、又は20個を超える電極を備えている、請求項91に記載の装置の製造又は作製方法。
- 前記装置が、イオンガイドを備えている、請求項89〜92のいずれか一項に記載の装置の製造又は作製方法。
- 前記装置が、イオン移動度分光計又はセパレータを備えている、請求項89〜92のいずれか一項に記載の装置の製造又は作製方法。
- 前記装置が、衝突、フラグメンテーション又は反応装置を備えている、請求項89〜92のいずれか一項に記載の装置の製造又は作製方法。
- 装置の製造又は作製方法であって、
使用時にイオンが前記装置を通って搬送される面に通常又は実質的に配置された、平面状、板状、又は網状中間電極の層を1層以上設けることと、
前記1層以上の平面状、板状、又は網状中間電極の層の第1の側に、第1電極の第1アレイを配置することとを含む方法。
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