JP2008521229A - SOI基板材料、及び互いに異なる配向をもつSi含有SOIと下部基板とを形成する方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 SOI基板材料と、上部Si含有層と下部Si含有層が異なる結晶配向を有する、上部Si含有層(12)及び下部Si含有層(14)を含むハイブリッドSOI基板を形成する方法とが提供される。埋込み絶縁領域(22)は、Si含有層の一方の中に配置することができ、又は2つのSi含有層の間に位置する界面(13)を貫通して配置することもできる。
【選択図】 図3
Description
ここに用いられる「高ドーズ量」という用語は、4×1017cm−2又はそれより大きいイオンドーズ量を意味し、4×1017cm−2から2×1018cm−2までのイオンドーズ量がより好ましい。高イオンドーズ量を用いることに加えて、この注入は、一般に、0.05mA/cm2から500mA/cm2までのビーム電流密度及び40keVから240keVまでのエネルギーで作動するイオン注入装置において行われる。
本発明のこの実施形態においてここに用いられる「低ドーズ量」という用語は、4×1017cm−2又はそれより小さいイオンドーズ量を意味し、1×1016cm−2から3.9×1017cm−2までのイオンドーズ量がより好ましい。この低ドーズ量注入は、40keVから240keVまでのエネルギーで行われる。
ここに用いられる「高ドーズ量」という用語は、4×1017cm−2又はそれより大きいイオンドーズ量を意味し、4×1017cm−2から2×1018cm−2までのイオンドーズ量がより好ましい。高イオンドーズ量を用いることに加えて、この注入は、一般に、0.05mA/cm2から500mA/cm2までのビーム電流密度及び40keVから240keVまでのエネルギーで作動するイオン注入装置において行われる。
本発明のこの実施形態においてここに用いられる「低ドーズ量」という用語は、4×1017cm−2又はそれより小さいイオンドーズ量を意味し、1×1016cm−2から3.9×1017cm−2までのイオンドーズ量がより好ましい。この低ドーズ量注入は、40keVから240keVまでのエネルギーで行われる。
Claims (42)
- ハイブリッドSOI基板材料を形成する方法であって、
第1の結晶配向の上部Si含有層及び第2の結晶配向の下部Si含有層を含む積層体を準備するステップであって、前記第1の結晶配向は前記第2の結晶配向とは異なる、ステップと、
前記積層体内にイオンを注入し、内部にイオン・リッチ注入領域を形成するステップと、
前記イオン・リッチ注入領域内のイオンが前記積層体内への埋込み絶縁領域の形成を促進する温度まで、該積層体を加熱するステップと
を含む方法。 - 前記積層体を準備する前記ステップは、少なくとも前記上部Si含有層を含む第1のウェハと、少なくとも前記下部Si含有層を含む第2のウェハとを選択し、接合するステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記接合するステップは、前記第1及び第2のウェハを互いに緊密に接触させ、随意的に外力を加え、15℃から40℃、最大で400℃までの温度でアニールするステップを含む、請求項2に記載の方法。
- 前記アニールするステップの後、接合強化アニール・プロセスをさらに含む、請求項3に記載の方法。
- 前記接合するステップの後、前記上部Si含有層を薄層化するステップをさらに含む、請求項2に記載の方法。
- 前記薄層化するステップは、接合するステップの前に前記上部Si含有層内にイオンを注入し、接合するステップの後に分離アニール・ステップを行うこと、研削、研磨、エッチング、気体反応又は注入、及び平坦化のうちの少なくとも1つを含む、請求項5に記載の方法。
- 前記第1及び第2の結晶配向は、(110)、(111)、(100)、(422)、(311)、(521)及びSi含有材料の任意の他の長軸又は短軸から選択される、請求項1に記載の方法。
- 前記注入するステップは、ブランケット・イオン注入プロセスを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記注入するステップは、マスクされたイオン注入プロセスを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記注入するステップは、酸素イオン、窒素イオン、NOイオン、不活性ガス、又はこれらの混合物の1つを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記注入するステップは、酸素イオンを含む、請求項10に記載の方法。
- 前記イオン・リッチ注入領域は、1×1022原子/cm−3又はそれより高い濃度を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記イオン・リッチ注入領域は、損傷領域と、随意的なより浅いアモルファス領域とを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記注入するステップは、前記イオン・リッチ注入領域が主として前記上部Si含有層内に配置されるように行われる、請求項1に記載の方法。
- 前記注入するステップは、ベースイオン注入ステップ及び第2のイオン注入ステップを含み、前記第2のイオン注入は、前記ベースイオン注入ステップより低い温度で行われる、請求項14に記載の方法。
- 前記注入するステップは、前記イオン・リッチ注入領域が主として前記下部Si含有層内に配置されるように行われる、請求項1に記載の方法。
- 前記注入するステップは、ベースイオン注入ステップ及び第2のイオン注入ステップを含み、前記第2のイオン注入は、前記ベースイオン注入ステップより低い温度で行われる、請求項16に記載の方法。
- 前記注入するステップは、前記イオン・リッチ注入領域が、前記上部Si含有層と前記下部Si含有層との間の界面を貫通して配置されるように行われる、請求項1に記載の方法。
- 前記注入するステップは、ベースイオン注入ステップ及び第2のイオン注入ステップを含み、前記第2のイオン注入は、前記ベースイオン注入ステップより低い温度で行われる、請求項18に記載の方法。
- 前記注入するステップは、ベースイオン注入ステップ及び低ドーズ量注入ステップを含み、前記低ドーズ量注入ステップは、4×1017原子/cm2又はそれより少ないイオンドーズ量を用いて行われる、請求項1に記載の方法。
- 前記加熱するステップは、酸素含有雰囲気中で、900℃から1350℃までの温度で行われるアニール・プロセスである、請求項1に記載の方法。
- 前記酸素含有雰囲気は、不活性ガス、塩素含有雰囲気、又はこれらの混合物をさらに含む、請求項21に記載の方法。
- 前記加熱するステップは、単一の目標温度で、又は種々のランプ・サイクル、ソーク・サイクル及び冷却サイクルを用いて行われる、請求項1に記載の方法。
- 前記加熱するステップは、5%酸素とAr中で5℃/分で600℃から1000℃まで第1のランプアップを行うステップと、5%酸素とArと1.45×10−4%トリクロロエタン(TCA)中で5℃/分で1000℃から1150℃まで第2のランプアップを行うステップと、5%酸素とArと1.45×10−4%TCA中で0.1℃/分で1150℃から1300℃まで第3のランプアップを行うステップと、50%酸素とAr中で5〜10時間にわたって1320℃で第1のソークを行うステップと、4%酸素とArと1.45×10−4%TCA中で0〜5時間にわたって1320℃で第2のソークを行うステップと、前記第2のソーク・ステップにおけるものと同じ雰囲気中で1320℃から1150℃まで第1の冷却を行うステップと、N2中で1150℃から600℃まで第2の冷却を行うステップとを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記埋込み絶縁領域は、連続的なものであるか又は非連続的なものである、請求項1に記載の方法。
- 前記埋込み絶縁領域は、前記上部Si含有層又は前記下部Si含有層の少なくとも一方の中に、或いは該上部Si含有層と該下部Si含有層との間に位置する界面を貫通して配置される、請求項1に記載の方法。
- 少なくとも前記上部Si含有層は、同位体的に純粋である、請求項1に記載の方法。
- 前記上部Si含有層の上に歪み半導体を形成するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 第1の結晶配向の上部Si含有層及び第2の結晶配向の下部Si含有層を含む積層体であって、前記第1の結晶配向は前記第2の結晶配向とは異なる、積層体と、
前記上部Si含有層又は前記下部Si含有層の少なくとも一方の中に、或いは該上部Si含有層と該下部Si含有層との間に位置する界面を貫通して配置された埋込み絶縁領域と
を備えるハイブリッドSOI基板材料。 - 前記下部Si含有層及び前記上部Si含有層は、Si、SiGe、SiC、SiGeC、予め形成されたSOI、予め形成されたSiGeオン・インシュレータ及び層状構造体から成る群から選択される、同じ又は異なるシリコン含有半導体材料を含む、請求項29に記載のハイブリッドSOI基板材料。
- 前記上部Si含有層及び前記下部Si含有層の両方ともSiから成る、請求項29に記載のハイブリッドSOI基板材料。
- 前記第1及び第2の結晶配向は、(100)、(111)、(100)、(422)、(311)(521)、又はSi含有材料の任意の他の長軸又は短軸を含む、請求項29に記載のハイブリッドSOI基板材料。
- 前記埋込み絶縁領域は、連続的なものであるか又は非連続的なものである、請求項29に記載のハイブリッドSOI基板材料。
- 前記埋込み絶縁領域は、埋込み酸化物を含む、請求項29に記載のハイブリッドSOI基板材料。
- 前記埋込み酸化物は、熱酸化物である、請求項34に記載のハイブリッドSOI基板材料。
- 前記埋込み絶縁領域は、前記上部Si含有層内に存在する、請求項29に記載のハイブリッドSOI基板材料。
- 前記埋込み絶縁領域は、前記下部Si含有層内に存在する、請求項29に記載のハイブリッドSOI基板材料。
- 前記埋込み絶縁領域は、前記界面を貫通して存在する、請求項29に記載のハイブリッドSOI基板材料。
- 前記上部Si含有層の一部は、前記埋込み絶縁領域の下方に配置される、請求項36に記載のハイブリッドSOI基板材料。
- 前記下部Si含有層の一部は、前記埋込み絶縁領域の上方に配置される、請求項37に記載のハイブリッドSOI基板材料。
- 少なくとも前記上部Si含有層は、同位体的に純粋である、請求項29に記載のハイブリッドSOI基板材料。
- 前記上部Si含有層の表面上に配置された歪み半導体層をさらに備える、請求項29に記載のハイブリッドSOI基板材料。
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