JP2008516369A - 近接場の光学レンズとキャリア間のアプローチ - Google Patents

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Abstract

本発明は、近接場の光スキャニング装置を提供し、特に、記録キャリア11の表面に関して遠隔のポジションから近接場のポジションに近接場の光スキャニング装置のレンズを移動させる方法を提供する。本発明は、SIL(Solid Immersion Lens)と記録キャリアの表面との間のギャップのサイズを示すアパーチャピューピルイメージの画像処理を好ましくは利用する。アパーチャピューピルイメージの画像分析により、マイクロメートルのレンジでエアギャップ距離のアプローチ手順のための制御信号を導出することができる。これにより、ヘッドの動きの変動する速度を利用した高速、効率的、正確かつ信頼性の高いアプローチ手順が可能となる。さらに、本発明は、二者択一的に、アプローチ手順の制御信号を発生し、アパーチャピューピルイメージのセクションの強度の分析に画像分析を低減するのを原理的に可能にする、アパーチャピューピルイメージで発展する干渉縞の検出スキームを利用するのを可能にする。

Description

本発明は、記録キャリアをスキャニングする光スキャニングデバイスの分野に関し、より詳細には、限定されることなしに、放射線のエバネッセント結合を使用した記録キャリアのスキャニングに関する。
SIL(Solid Immersion Lens)を使用した近接場の記録及び読取りは、たとえば直径で12cmを有する光ディスクのような、特に記録キャリアを使用することで、高密度の光記録及び読み取りを提供する。記録キャリアの情報レイヤに光放射線の十分に小さなスキャニングスポットを実現するため、SILから記録キャリアへの放射線ビームのエバネッセント結合が望まれる。エバネッセント結合は、印加される光波長のフラクション以下であるSILと記憶キャリアの表面との距離で効率的に生じる。したがって、SILと記録キャリアとのギャップサイズは、典型的に、たとえば25nmから30nmのレンジにある必要がある。かかるシステムは、近接場システムとして知られ、SILのエグジットフェースでのエバネッセント波により形成される近接場からそれらの名前を導出している。例示的な光スキャニング装置は、青色レーザである放射線源を使用し、約405nmの波長を有する放射線ビームを放出する。
記録キャリアのスキャニングの間、従って情報の記録又は読取りの間、SILのエグジットフェースと記録キャリアの表面との間のエバネッセント結合が維持される必要がある。このエバネッセント結合の効率は、SILと記録キャリアの表面との間のギャップサイズに強く依存する。ギャップサイズが増加し、たとえば50nmよりも十分に大きくなると、結合効率は著しく減少し、おそらくはデータ信号へのエラーの導入により、読み取られているデータの品質における減少につながる。
記録キャリアのスキャニング手順を実行する前に、光スキャニングデバイスにとって、スタートアップ手順を実行することは一般的である。たとえば記録キャリアからのデータの読み取り又は記録キャリアへのデータの書込みといったスキャニング手順がハイレベルの品質で実行されるように、かかるスタートアップ手順は、光スキャニングデバイスのコンポーネントが正しく位置合わせされることを保証する。
スタートアップ手順は、スタンバイポジションからスキャニングポジションへのスキャニングデバイスの対物系を移動させることを含む。これは、開ループ動作を使用したアプローチ手順と閉ループ動作を使用したプルイン手順との組み合わせを含み、対物系と記録キャリアの間のギャップのサイズがスキャニング手順について最適化されるのを保証する。対物系、特にSILは、たとえばスキャニングのための記録キャリアが光スキャニング装置に配置されていないとき、スタンバイポジションにあるか、記録キャリアへのパワーがスイッチオフにされているか又はスタンバイモードにセットされるか、若しくはこれを通して記録キャリアがスキャニングデバイスに挿入されるスキャニングデバイスのオープニングが開いている。さらに、スタンバイポジションにおいて、衝撃、スクラッチ、及びたとえばほこりといった他の汚れから対物系のデリケートな光学コンポーネントが保護されるように、対物系が配置される。
近接場の光学系は、K. Saito等による“Readout Method for Read Only Memory Signal and Air Gap Control Signal in a Near Field Optical Disc System” Jpn. J. Appl. Phys. Vol.41 (2002), pp.1898-1902から知られている。この文献は、光学的な近接場のスキャニングデバイス、及び近接場の光ディスクシステムの光学的なエアギャップ制御システムを取得する方法を開示している。このエアギャップ制御信号は、ギャップサイズを調節するサーボシステムを制御するのを可能にし、スキャニング手順のための最適なポジションにサーボシステムにより対物系を移動させるプルイン手順で使用される。典型的に、エアギャップ制御システムは、反射光と入射光の偏波状態の間の差を使用することで得られる。この偏波状態における差は、SILがディスク表面に近いときに生じ、すなわちエバネッセント結合状態が生じるサイズをエアギャップが有するときに生じる。したがって、エアギャップ制御信号は目安となるものであり、SILと50nmよりも小さいディスク表面との間の距離について利用可能となる。
しかし、スタンバイポジションにおいて、対物系と記録キャリアとの間のエアギャップは、数マイクロメータ又は数百マイクロメータの特性を有する。エアギャップ制御信号は、スタートアップ手順の間、小さなフラクションのマイクロメータのレンジにおける距離についてのみ利用可能であるので、対物系及びSILは、最適なポジションを超えて移動されず、記録キャリアと衝突しない十分に小さな速度で記録キャリアにアプローチする必要がある。かかる衝突は、ダメージ、又は対物系又は記録キャリアのいずれかの破壊になる場合がある。
したがって、本発明は、非常に大きなエアギャップについて利用可能なエアギャップ制御信号を供給し、これにより高速かつ効率的なやり方でアプローチ手順を実行することを可能にする光スキャニング装置を提供することを目的とする。
本発明は、記録キャリアに関して対物系(objective system)を正確かつ効率的に位置合わせすることでエバネッセント結合を使用して記録キャリアをスキャニングするための近接場の光スキャニング装置を提供する。本発明の光スキャニング装置は、対物系を有するヘッド、特に記録キャリアの表面に関して近接場のポジションにおいて位置合わせされるように調整されるSILを有するヘッドを有する。本装置は、SIL及びヘッドの対物系を介して光ヘッドに入力する放射線を検出するための空間解像度を有する検出器を更に有する。さらに、近接場の光スキャニング装置は、検出器出力を分析し、レンズ特にSILと記録キャリア間の距離を示す制御信号を生成する画像処理モジュールを有する。制御信号は、エアギャップ制御信号としての役割を果たし、近接場の光スキャニング装置により取得された画像の画像処理により生成される。さらに、近接場の光スキャニング装置は、レンズと記録キャリアの表面との間のギャップのギャップサイズを制御する制御モジュールを有する。この制御モジュールは、画像処理により生成された制御信号を使用することにより近接場のポジションに遠隔地のポジションからレンズを移動させるアプローチモードで作用する。
好ましくは、近接場の光スキャニング装置のヘッドの対物系は、横方向の放射線分布(transverse radiation distribution)を画像処理モジュールにより処理可能な出力信号を生成する検出器に投影する。典型的に、検出器の出力は、たとえば対物系のアパーチャピューピルイメージ(aperture pupil image)又はその断面を表す、2次元又は1次元の横方向の光分布を示す。
アパーチャピューピルの画像は、典型的に対物系と記録キャリアの表面との間の距離を変えることで変動する。有利なことに、光ヘッドに入力する放射線、すなわち記録キャリアにより反射される放射線の横方向の空間構造は、10以上のマイクロメータまでのギャップサイズについて検出可能な変更を有する。ピューピルイメージの横方向の光分布における変化は、対物系と記録キャリアの表面との間のギャップが低減されたとき、益々顕著になる。
ヘッドに入力する放射線の横方向の空間構造は減少するギャップサイズにつれて更に顕著になるので、制御信号は、より小さな距離に向けて増加する精度で生成される。これにより、対物系と記録キャリアとの間の衝突を効果的に防止する高い精度を有する高速かつ効率的なアプローチメカニズムを実現することが可能である。
さらに、検出された放射線の横方向の光分布パターンは、数十のマイクロメータのレンジでのギャップサイズを示し、画像処理モジュールにより生成された制御信号は、マイクロメータレンジにおけるギャップサイズを示す。結果的に、制御信号を利用する制御モジュールは、高速かつ効率的なやり方で対物系のアプローチ手順を実行する。
好適な実施の形態では、近接場の光スキャニング装置の制御モジュールは、変動する速度でリモートポジションから近接場のポジションにレンズを移動させるために作用する。好ましくは、初期速度及び速度を変化する方式は、画像処理モジュールにより生成される制御信号に依存する。
本発明の更なる好適な実施の形態によれば、制御モジュールは、最大速度で開始する減少する速度プロファイルを利用することで、レンズを移動させるために更に作用する。また、最大速度及び速度プロファイルは、SILと記録キャリアの表面との間の現実のギャップサイズを示す画像処理モジュールから制御信号を受信することに応じて決定される。制御信号が、たとえば10〜20マイクロメータ若しくは更にそれ以上のレンジで大きなギャップサイズを表す場合、制御モジュールは、記録キャリアの表面に向かって最大速度で対物系及び/又はSILを移動させ、ギャップサイズがたとえば1マイクロメータ前後であるときに速度を減少させる。
速度が低減される必要があるギャップサイズは生成された制御信号の精度に依存する。制御信号の精度情報は、キャリブレーション手順により得られる。アプローチ手順の間の速度の減少は、異なるやり方で実行される。たとえば、速度の減少は、ステップ毎又は連続的なモードで、リニア又はノンリニアのいずれかで実行される。好ましくは、減少する速度プロファイルは、Cを定数及びtを時間としてexp(−C/t)のようなネガティブアーグメントを有する指数関数により記載される。
本発明の更に好適な実施の形態によれば、少なくとも第二の制御信号は、レンズの動きの間に生成され、制御モジュールは、動きの間に少なくとも第二の制御信号を処理するために作用する。少なくとも第二の制御信号は、アプローチ手順の間に制御信号の連続的な生成を表す。このように、対物系及びSILの動きは十分に制御され、SILは、遠隔地のポジションから所望の近接場のポジションに移動される。これにより、アプローチ手順を効果的に制御及び調節することができ、SILと記録キャリアとの間の衝突を防止するための制御メカニズムを効率的に提供する。
本発明の更なる好適な実施の形態によれば、画像処理モジュールは、放射線の横方向の平面において、放射線の中央セクションのサイズを決定するために適合される。中央セクションのサイズ又は直径は、レンズと記録キャリアとの間のエバネッセント結合が効果的に生じるギャップサイズよりも実質的に大きいギャップサイズに対応する。この検出器により検出される横方向の光分布の中央セクションのサイズは、制御信号を生成するために画像処理モジュールにより使用される。したがって、画像処理モジュールは、検出された放射線の個別の光分布パターンのサイズ又は直径を判定するために調整される。
この個別の光分布パターンは、典型的に、検出された横方向の光分布の2次元の表現の中央における明るいスポット又は明るい円状の領域。典型的に、対物系に入力する放射線の横方向の光分布は、外側の明るいリングと低い強度をもつ内側の円状の領域とを有するアパーチャピューピルの画像を提供する。対物系と記録キャリアの間の大きなエアギャップサイズについて、内側領域は、むしろ均質な低い強度を備え、ギャップサイズを示す明るい中央スポットを有するむしろ暗い円状の領域として現れる。
アパーチャピューピルイメージの外側の明るいリングは、SILのエグジットの表面で光線の全体の内部反射が原因である。これらの光線は、総内部反射を受けやすく、総内部反射の臨界角を超える角度で伝播する。この大きな伝播角度のため、この全反射された光は、アパーチャピューピルイメージの外側の明るいリングとして現れる。内部の、むしろ暗い、セントラルアパーチャピューピルイメージの円状の領域は、記録キャリアに向かってSILを通して光ビームの透過による。これら透過された光ビームは、全体の内部反射の臨界角以下の角度で伝播する。対物系の光アレンジメントのため、アパーチャピューピルイメージにおける内部の円状領域と外部の円状領域との間の境界は、SILの総内部反射の角度により支配され、すなわち開口数(NA)=1である。明るい、外側のリング状の領域の外側の境界は、周辺光線の角度により支配され、すなわち対物系の開口数はたとえばNA=1.9である。
近接場の光スキャニングについて、対物系の焦点は、SILの低いほうの表面、すなわちエグジットサーフェイス(exit surface)とほぼ一致する。アパーチャピューピルイメージは、入射角を維持することで、SILのエグジットサーフェイスで反射されている光に基づいて取得する。また、明るい中央のセクションは、アパーチャピューピルイメージで典型的に現れる。この、アパーチャピューピルイメージの典型的に円状の明るい中央のセクションは、記録キャリアで反射されている光によるものである。この中央のセクションのサイズ及び横方向の直径は、SILと記録キャリアの表面の間のギャップが減少するにつれて著しく増加する。有利なことに、アパーチャピューピルイメージの明るい中央のスポット又は明るい中央のセクションは、数十マイクロメータの距離及びギャップサイズで明らかに検出される。
画像処理モジュールは、画像処理手段を利用することで、明るい中央セクションのサイズの正確及び信頼できる判定を可能にするブライトネス及びコントラスト変更手段を含むアパーチャピューピルイメージの明るい中央のセクションを識別するために適合される。中央のセクションのサイズの判定は、2次元の画像処理に基づいているか、又は、1次元ストライプ検出器がアパーチャピューピルイメージの明るい中央セクションと交わることが条件とされる1次元の画像処理に基づいている。したがって、近接場の光スキャニング装置の検出器は、1又は2次元の電荷結合素子(CCD)のような1次元又は2次元検出器アレイとして実現される。
本発明の更に好適な実施の形態によれば、画像処理モジュールは、放射線の水平面における放射線の中央のセクションの空間構造を分析するために更に調整される。中央セクションの空間構造は、SIL又は対物系と記録キャリアの表面との間のギャップサイズを示す制御信号を生成する画像処理モジュールにより更に使用される。近接場の光スキャニング装置の対物系は記録キャリアに向かって送出される放射線を供給するので、アパーチャピューピルイメージの中央セクションは、たとえば入射光と反射光との間の干渉による強度変調を備える。
特に、アパーチャピューピルイメージの明るい中央のセクションの空間構造における干渉縞の数は、ギャップサイズを示す。このように、水平の直径を決定することによるのみでなく、アパーチャピューピルイメージにおける明るい中央のセクションの空間構造を分析することで、数マイクロのレンジにおけるギャップサイズが正確に測定され、連続的にモニタされる。
更なる好適な実施の形態によれば、画像処理モジュールは、トランスバースプレーン(transverse plane)における放射線の中央のセクションの強度をモニタし、予め定義された閾値を超える強度に応じて制御信号を生成するために調整される。入力する放射線の中央のセクションの強度のモニタは、中央のセクションのサイズを判定する代替的な手段としても役割を果たす。強度のモニタ及び測定は、入力する放射線のトランスバースプレーンにおける予め定義されたセクションに基づいて実行される。たとえば、強度は、アパーチャピューピルイメージの全体の内側の円状領域に渡り検出されるものではなく、任意のサイズを備えるアパーチャピューピルイメージ内の特定のポジションでのみ検出される。さらに、強度を監視することにより、検出器の空間解像度は一般に必要とされない。このように、近接場の光スキャニング装置の検出器は、従来のフォトダイオードとして実現される。係る実施の形態を利用することで、画像処理の複雑さを低減することができる。したがって、フォトダイオードにより検出されている強度は、制御ユニットにより処理される必要がある制御信号としての役割を直接的に果たす。
好ましくは、放射線の中央のセクションの強度は、近接場に向けてのレンズの変位の間にモニタされる。典型的に、アパーチャピューピルイメージの中央のセクションの強度は、10マイクロメートルを超えるレンジにおけるギャップサイズについて実質的に一定のままである。アパーチャピューピルイメージの中央のセクションの横方向の直径が増加するとすぐ、干渉縞は、中央のセクションにおいて典型的に発展する。アパーチャピューピルイメージの小さなセクションのみが取得された場合、レンズの連続的な変位の間の全体の取得される強度の発振が観察される場合がある。この強度変調は、中央のセクションの増加する全体の強度信号を典型的に伴い、5までの約50nm若しくは更に多くのマイクロメータのレンジにおけるギャップサイズを示す制御信号を発生するために効果的に使用される。
本発明の更なる好適な実施の形態によれば、放射線のトランスバースプレーンにおける放射線の中央のセクションは、レンズ及び対物系に再入力する放射線に実質的に対応する。この再入力は、典型的に、記録キャリアに向けてレンズを通して透過された後、記録キャリアの表面での反射による。対物系の焦点は、SILの下側の表面又はエグジットフェースとほぼ一致するので、大きなギャップサイズについて、記録キャリアに向かうレンズを通して透過される放射線は、強く分散し、大きなトランスバース領域にわたり記録キャリアの表面に衝突する。結果的に、記録キャリアのプレーナ表面での反射のため、透過された光の非常に小さなフラクションのみが対物系に再入力する。大きなギャップサイズについて、対物系の光軸に関して小さな入射角度で伝播する放射線のみが対物系に再入力し、アパーチャピューピルイメージの明るい中央のセクションとして表される。
小さなギャップサイズについて、記録キャリアの表面で透過される光の環境が減少し、反射された光の大きな部分が大きな入射角で対物系に再入力し、対物系に入力する放射線の明るい中央のセクションの大きな直径につながる。
本発明の更に好適な実施の形態によれば、制御モジュールは、レンズが近接場のポジションに移動されている場合に、ギャップ制御モードにスイッチするために適合される。したがって、制御モジュールは、アプローチにおいて、ギャップ制御モードにおいて作用する。好ましくは、ギャップ制御モードで、制御信号は、反射光と入射光との間の偏波の状態を比較することに基づいて生成される。偏波状態におけるこの必要とされる変化は、SILが記録キャリアの表面に関して近接場の距離にあるときに効果的に生じるので、制御モジュールは、記録キャリアのスキャニングの間、すなわち対物系及び/又はSILが近接場のポジションにあるときにギャップ制御モードで作用し、このことは、記録キャリアと対物系の間の光放射の効率的なエバネッセント結合を提供するためにギャップが十分に小さいことを意味する。
別の態様では、本発明は、記録キャリアの表面に関して、遠隔のポジションから近接場のポジションに近接場の光スキャニング装置の光ヘッドのレンズを移動させる方法を提供する。本発明の方法は、空間解像度を有する検出器を利用することで光学ヘッドに入力する放射線を検出する手段を有する。本方法は、レンズと記録キャリアの間の距離を示す制御信号を発生する画像処理モジュールを利用することで検出器の出力を分析することを更に含む。
本発明は、制御信号を利用することで遠隔のポジションから近接場のポジションにレンズを移動させることを更に含む。制御信号は、ヘッド又はその対物系に入力する1次元又は2次元空間の光分散の円状の中央の明るいセクションのサイズ及び/又は直径を識別することで生成されることが好ましい。明るい中央のセクションは、たとえば数マイクロメートルのレンジで大きなキャップ距離について既に発展しているので、制御信号は、これら大きなギャップサイズについて既に利用可能であり、対物系及びそのSIIについて高速、効果的、正確及び信頼性の高いアプローチのスキームを実行することが可能である。
更に好適な実施の形態では、本方法は、制御信号の発生の前に記録キャリアに向かって予め定義された速度でレンズを移動させること、予め定義された速度でのレンズの移動の間に検出器と画像処理モジュールにより、放射線のトランスバースプレーンにおける放射線の中央のセクションのサイズをモニタすることを含む。本方法は、放射線の中央のセクションの監視されるサイズを利用することで制御信号を生成することを更に含む。たとえば、制御信号は、中央のセクションのサイズが予め定義された閾値を超えるときに発生され、これによりSILと記憶キャリアの表面との間のギャップサイズが予め定義された値以下に降下されることを示す。
別の態様では、本発明は、記録キャリアの表面に関して遠隔のポジションから近接場のポジションに、近接場の光スキャニング装置の光学ヘッドのレンズを移動させる方法を提供する。この方法は、好ましくは、予め定義された速度を利用し、及び検出器を利用することによるレンズの移動の間に光学ヘッドに入力する放射線の強度をモニタすることで、記憶キャリアに向かって遠隔のポジションからレンズを移動させることを含む。さらに、レンズと記録キャリアの表面との間の距離を示す制御信号が発生される。
制御信号は、レンズの動きに関して放射線の強度の少なくとも1つの発振の検出に応じて発生される。ヘッドのレンズ又は対物系は、制御信号の利用により近接場のポジションに移動される。この方法は、特に、フォトダイオードのような、空間解像度を備えない検出器の利用を可能にする。ここで、検出器は、到来する放射線の強度を検出する必要がある。到来する放射線の強度をモニタすることは、到来する放射線のトラバースプレーン内の全体の強度を示すか、又は予め定義されたスポット又はセクションの強度を示す場合がある。
レンズの動きに関して監視される強度の発振は、カウンタを伝播する光線間の干渉のため、すなわち記録キャリアに向かってSILを通して透過される光と、対物系の開口に向かって記録キャリアから反射される光と間の干渉のために発展することが好ましい。強度の発振の連続する最大又は最小は、印加される放射線の波長の半分のレンズの動きに移動する。このように、記録キャリアに向かってレンズを移動させる間、これらの発振の最大及び/又は最小をカウントすることで、ギャップサイズは、λ/2以下の精度で、放射線のλ/2の倍数の少なくとも範囲内で決定される。
したがって、強度の発振は、放射線の波長の半分の数倍のレンジにおけるギャップサイズを示し、エバネッセント結合は、近接場の光スキャニング装置で印加される波長の小さなフラクションのレンジでのギャップサイズについて効果的に生じる。結果的に、アパーチャピューピルイメージの中央の明るいセクションの強度をモニタすることで、数マイクロメータまでのギャップサイズを示す制御信号が発生される。かかる制御信号を利用して、遠隔のポジションから近接場のポジションにSILを移動させるアプローチ手順は、多様な異なる速度で実行され、SILと記録キャリアとの間で効率的かつ高速なアプローチを実現することが可能となる。
以下、本発明の好適な実施の形態は添付図面を参照しながら記載される。
近接場の光学ヘッドを使用した光記録システムは、非球面レンズ及びSIL(Solid Immersion Lens)を有しており、50ギガバイト以上を12cmの光ディスクで読み取るための技術として提案されている。このシステムでは、エバネッセント波が検出可能な近接場において、SILのボトムとディスクとの間のエアギャップを維持することがきわめて重要である。この上、エアギャップサーボシステムが必要とされる。
図1は、エアギャップサーボを有する光記録装置を示す。この装置は、近接場の光学システムを介して記録キャリア11のデータを光学的に読み取るか、記録キャリアにデータを書き込むためのものである。例示される近接場の光学システムは、たとえばK.Saito等による“Readout Method for Read Only Memory Signal and Air Gap Control Signal in a Near Field Optical Disc System” Jpn.J.Appl.Phys.Vol.41(2002), pp.1898-1902のように知られるシステムに類似している。ディスク状の記録キャリア11は、情報レイヤに実質的に平行したトラックを構成する螺旋又は環状の回転パターンとして配置されるトラックを有する。レコーダブルタイプの記録キャリアのトラックは、たとえば案内溝といったブランク記録キャリアの製造の間に供給される前もって型押しされたトラック構造により示される。トラック構造は、サーボ信号を周期的に生じさせる規則的に拡散されたマークにより形成される。記録された情報は、トラックに沿って記録された光学的に検出可能なマークにより情報レイヤに表現される。マークは、たとえば、ダイ、合金又は相変化材料のような材料に記憶する時に得られる反射における変動、又は光磁気材料における材料に記録する時に得られる偏向の方向における変動といった、物理パラメータの変動により構成され、これにより、それらの周囲とは異なる光学特性を有する。記録キャリアは、たとえばビデオ又はオーディオ情報、若しくはコンピュータデータのような他の情報といったリアルタイム情報を保持することが意図される。
近接場の光スキャニング装置は、ヘッド22に結合された画像処理ユニット50をさらに有する。画像処理モジュール50は、中央の開口領域、すなわちヘッド22により取得されるアパーチャピューピルイメージの中央に配置される明るい領域を識別して、この中央に配置される明るいセクションの直径に依存する制御信号を発生するために適合される。画像処理モジュール50は、ヘッド22の検出器により発生された出力信号を処理するために適合される。画像処理モジュール50は、取得されたアパーチャピューピルイメージにおける中央に配置される円形状の明るいセクションのサイズ及び/又は直径を識別し、この明るいセクションの横方向のサイズを示す対応する制御信号を発生する。アパーチャピューピルイメージにおけるこの明るいセクションの横方向のサイズはレンズ24と記録キャリア11との間のギャップサイズに直接的に相関付けされるので、対応する制御信号は、ヘッド22及びレンズ24を高速かつ効率的なやり方で近接場の距離又は近接場のポジション23に移動させるため、制御ユニット20により利用される。
装置には、記録キャリア11にトラックをスキャニングする手段が設けられており、この手段は、記録キャリア11を回転させる駆動ユニット21、ヘッド22、トラックにヘッド22を位置合わせするサーボユニット25、及び制御ユニット20を含む。ヘッド22は、記録キャリアの情報レイヤのトラックの放射線スポットに焦点合わせされた光学素子を通して導かれる放射線ビームを生成する公知のタイプの光学システムを有する。放射線ビームは、たとえばレーザダイオードといった放射線源により生成される。ヘッドは、レンズ24、及び記録キャリア11の表面から近接場の距離23でレンズを位置合わせするためのサーボユニット25におけるエアギャップサーボコントローラに結合されるレンズアクチュエータ35を有する。ヘッドにおける光学素子に詳細な例は、図2に示されている。本発明によれば、エアギャップサーボは、エアギャップコントローラ32を含み、このコントローラは、ハンドオーバモードのためのリファレンスジェネレータ34を含む。エアギャップコントローラは、画像処理モジュール50により発生された制御信号を利用することで、遠隔の距離から近接場の距離にレンズを移動させるためにアプローチモードを有する。最後に、レンズが近接場の距離にあるとき、エアギャップコントローラは、閉ループモードに切り替える。開ループアプローチモードから閉ループモードへの切り替えは、ハンドオーバモードで実行され、その間、レンズの位置、並びに/又は、速度及び加速度のリファレンスの起動は、リファレンスジェネレータ34により生成される。エアギャップサーボシステムの実施の形態及びエレメントは、以下に更に詳細に説明及び図示される。
ヘッドは、ビームを焦点合わせして、ビームの光軸に沿って放射線ビームの焦点を移動させることでトラックに放射線スポットを形成するフォーカスアクチュエータ、及びトラックの中央に半径方向でスポットを位置合わせするトラッキングアクチュエータを更に有する(図示せず)。トラッキングアクチュエータは、光学素子を半径方向に移動させるためにコイル及び永久磁石を有するか、又は代替的に、反射素子の角度を変えるために構成される。読み取りのため、情報レイヤにより反射される放射線は、トラッキング及びフォーカシングのためにメインスキャニング信号33及びサブ検出器信号を含めて、検出器信号を発生するため、ヘッド22におけるたとえば4象現ダイオードといった通常のタイプの検出器により検出される。フロントエンドユニット31は、トラックから反射された放射線に基づいて検出器信号を受けるためにヘッド22に結合される。メインスキャニング信号33は、情報を検索するため、復調器、デフォーマッタ及び出力ユニットを含む通常のタイプの読み取り処理ユニット30により処理される。
制御ユニット20は、情報の記録及び検索を制御し、ユーザからのコマンド又はホストコンピュータからのコマンドを受けるために構成される。制御ユニット20は、たとえばシステムバスといったコントロールライン26を介して装置における他のユニットに接続される。制御ユニット20は、以下に記載されるように手順及び機能を実行するため、たとえばマイクロプロセッサ、プログラムメモリ及びインタフェースといった制御回路を有する。制御ユニット20は、ロジック回路におけるステートマシンとして実現される場合もある。
装置には、書き換え可能(writable)及び再書き換え可能(re-writable)なタイプの記録キャリアに情報を記録及び読み取りする記録及び読み取り手段が設けられる。記録手段は、ヘッド22と、放射線の書込みビームを発生するフロントエンドユニット31と協働するものであり、記録手段は、入力情報を処理して、ヘッド22を駆動するための書き込み信号を発生する書込み処理手段を有しており、この書込み処理手段は、入力ユニット27、フォーマット28及び変調器29を有する。たとえば、情報を書き込むため、放射線ビームの電力は、記録レイヤで光学的に検出可能なマークを形成するために変調器29により制御される。
実施の形態では、入力ユニット27は、アナログオーディオ及び/又はビデオ、若しくはデジタル非圧縮のオーディオ/ビデオのような入力信号の圧縮手段を有する。適切な圧縮手段は、MPEG規格においてビデオ向けに記載されており、MPEG−1は、ISO/IEC11172に定義されており、MPEG−2は、ISO/IEC13818に定義されている。入力信号は、代替的に、かかる規格に従って既にエンコードされている場合がある。
図2は、近接場の光記録用のヘッドにおけるエレメントの概念的な図を示している。この概念図は、読み取り実験用に使用される近接場の光プレーヤのセットアップの例を提供する。実験のプレーヤでは、従来のDVDアクチュエータは、開口数NA=1.9を有する特別の近接場のレンズが搭載されるエアギャップコントロール及びトラッキングのために使用される。図では、PBS=Polarizing Beam-Splitter、NBS=Non-polarizing beam-splitter、及びλ/2=半波プレートである。セットアップは、ブルー−バイオレットレーザ40及びコリメータレンズ、ビーム成型光学系41、2つのビームスプリッタ及びNA=1.9レンズ43の焦点調節のためのテレスコープ42を有するメインブランチから構成される。図におけるレフトサイドブランチは、データ情報を含むRF中央開口信号の検出用のフォトダイオード44を含み、メインビームに並列に偏向される。同じブランチでは、スプリット検出器45は、プッシュプルトラッキングエラー信号を発生するために位置合わせされる。さらに、実験のセットアップのみについて、CCDカメラ46は、エグジットピューピルで放射照度のパターンを観察するため、従ってアパーチャピューピルイメージを取得するために含まれる。半波プレートλ/2は、PBSが分割する光の量を制御し、RF検出器及びプッシュプル検出器のそれぞれに向ける。
図のライトサイドの第二のブランチは、エアギャップコントロール用のエラー信号を発生するために使用される。近接場の光ディスクシステムでは、SILレンズ43は、ディスクからのエバネッセントの減衰の距離内に位置される必要がある。セットアップでは、SILからディスクへの距離は、典型的に25nmである。かかる微小な距離でメカニカルアクチュエータとのエアギャップ制御を可能にするため、適切なエラー信号が必要とされる。記載されるように、ギャップエラー信号(GES)として適切なリニア信号は、ディスクに焦点合わせされたメインビームのそれに垂直な偏向状態をもつ反射された光から得られる。光の重要なフラクションは、SIL−エア−ディスクインタフェースでの反射後に楕円偏向される。この作用は、反射された光が偏向子を通して観察されるときに公知のマルタ十字機構を形成する。偏向光学系及び単一の光検出器47を使用してこのマルタ十字機構の全ての光を統合することで、いわゆる“RF⊥pol”信号が得られ、ギャップエラー信号GESは、“RF⊥pol”から生成される。
CCDアレイ検出器46の出力は、図1に示される画像処理モジュール50に結合される。検出器46の出力に基づいて、画像処理モジュール50は、必要とされる制御信号を発生し、レンズ24と記録キャリア11との間で高速、正確及び信頼性の高いアプローチを実行するために前記制御信号を制御ユニット20に供給する。
図3は、ギャップ距離と時間との関係、レンズの動きの速度と時間との関係を例示する2つのグラフ100,200を示す。図100は、100マイクロメートルの単位でのギャップ距離108と時間との関係を例示しており、それは任意の単位で与えられる。曲線102は、一定の低速の速度でのヘッドとSILを含むその対物系の動きに対応する。かかる一定かつ低速の速度は、すなわち、たとえば50nmから100nmのレンジにある近接場のポジションの振幅のオーダにおける非常に小さなギャップ距離について制御信号を示すギャップサイズが利用可能であるときに必要とされる。記録キャリア11に向かうレンズ24のかかる一定の低速のアプローチは、従来技術の制約を反映するものであり、マイクロメートルのレンジにおけるギャップサイズのギャップサイズ情報は、一般に利用可能ではない。
曲線104,106は、非常に高速のアプローチを表しており、ギャップ距離108は、比較的短時間のインターバルでナノメートルのレンジで所望の値に到達する。曲線104は、ギャップ距離108の指数関数的な減少に対応し、曲線106は、平方の時間パラメータによる指数関数的な減少に対応する。特に、曲線104は、A−Bexp(−C/time)に対応し、曲線106は、平方された時間パラメータをもつ類似の数学的表現A’−B’exp(−C’/time)に対応し、A,B,C及びA’,B’,C’は、一定のパラメータを示す。図100に示されるように、曲線104は、14の任意の時間単位の後に必要とされる近接場の距離に到達し、曲線106は、幾つかの任意の時間ユニットの後に予め定義された近接場のポジションに到達する。
制御ユニット20は、かかる指数関数的に減少関数104,106を計算又は記憶し、曲線104及び106により与えられた方法でサーボユニット25及びアクチュエータ35を駆動するために調整される。グラフ100及び120により与えられた方法でギャップサイズを減少させることで、アプローチ手順は、大きなギャップサイズについて大きさ速度で開始し、続いて、ギャップサイズの減少につれてアプローチ速度を減少させることで最適化される。
このように、アプローチ又はSILのブリングイン手順は、記録キャリアとSILとの間の衝突が生じないことを同時に保証しつつ、高速かつ効率的なやり方で実行することができる。ギャップ距離が100マイクロメートルからたとえば10又は20マイクロメートルに減少するとすぐ、ギャップサイズを示す制御信号を高い精度で決定することができ、これにより、アプローチ手順の速度を劇的に適合するのを可能にする。非常に小さなギャップサイズの実質的に低速の動きは、制御ユニット20のために連続的な制御信号を発生することを効率的に可能にする。
グラフ120は、ギャップ距離のグラフ100について、対応する速度対時間の関係を例示している。さらに、三角形状の曲線122は、ヘッド22の一定かつ小さな速度を示す。曲線126は、グラフ100の曲線106に対応し、曲線124は、グラフ100の曲線104により与えられる動きに対応する。両方の曲線124及び126は、減少する速度対時間110を例示している。速度は、ヘッド22の動きがギャップサイズを最小にするとき任意の単位で負の速度として与えられる。図130は、3つの曲線122,124及び126の挿入ポイントの拡大されたビューを例示している。曲線126は、ゼロ速度にはじめに到達し、続いて曲線124が到達する。
例示される時間距離及び速度プロファイルは、レンズ24と記録キャリア11との間のアプローチ手順をどのように実行するかに関する例である。他の考案される速度プロファイルは、ステッププロファイル又は他の正弦波のプロファイル、若しくは線形に減少する速度又は距離プロファイルを備える。速度又は距離対時間の関係は、予め定義された関数として与えられるか、ヘッド22の動きの間に動的に調節される。
原理的に、先に記載された時間的な速度又は距離のプロファイルの何れかの使用によるレンズ24の動きは、レンズ24のリモートポジションがたとえばナノメートルのレンジでの精度で与えられることをアサートすることで実現することができる。このケースでは、初期のギャップサイズ及びリモートポジションは正確に知られており、距離の測定は一般に必要とされない。これは、特に、所望の高い精度で近接場の光スキャニング装置において記録キャリア11を固定するためにマウント手段を含む。
図4は、検出器46により記録されるアパーチャピューピルイメージの原点を概念的に例示する図である。図4は、フォーカスレンズ141及びSIL24を少なくとも備えるレンズシステムの断面図を示している。SIMレンズ24は、記録キャリア11に関して近接場23に位置される。記録キャリア11に向かって伝播する光線144は、SIL24のエグジットサーフェイスの近くのフォーカスレンズ141により焦点合わせされる。光線144は、SILの屈折率nにより支配される全体の内部反射ΘCの角度を超える角度でSIL24の内部を伝播する。
したがって、ギャップ23が約50nmよりも著しく大きいとき、すなわちエバネッセント結合が生じないとき、光線144は、光軸140に関してそれら大きな伝播角のためにSIL24のエグジットサーフェイスで全体の内部反射を受ける。レンズ24内で内部全反射を受ける光線144は、光線144と同じ入射角で光線145として対物系に戻る。光線144は、フォーカスレンズ141の焦点近くで全体の内部反射を受けるので、反射された光線145は、光線144が記録キャリア11に向かって伝播するのと同じやり方で対物系に再び入力する。大きな伝播角度と全体の内部反射は、アパーチャピューピルイメージにおける明るい外側のリングの形成についての理由である。この外側のリングの幅148は、フォーカスレンズ141の開口及び関与される光コンポーネントの具体的なアレンジメントにより与えられることが好ましい。
ギャップサイズが約50nmよりも小さいときにのみ、内部反射が妨げられ、光線144は、記録キャリア11に伝播する。結果的に、アパーチャピューピルイメージにおけるブライトリングが消失する。
全体の内部反射のための臨界角ΘCよりも小さい角度でSIL24を通して伝播する光線142の伝播は、SIL24を通して送信される。これらの光線142は、記録キャリア11の表面に向けて伝播し、記録キャリア11の表面での反射を受ける。記録キャリア11とSIL24との間の距離に依存して、光線142により形成される光の場は、焦点よりも非常に大きい所定の直径を有する。このケースでは、記録キャリア11に向かってSILを通して送出される放射線は、焦点の状況よりも非常に大きな表面にわたり記録キャリア11により反射される。したがって、反射された光の非常に小さなフラクションのみが、光軸140に関して小さな角度で対物系に再び入力される。
原理的に、焦点と記録キャリア11の反射表面との間の距離は、反射された光が光線142により与えられるコーンに再び入力する。この最大角よりも大きな角を有する光線は、検出器に適切に投影されず、対物系に再び入力されない。最大の入射角は、焦点と記録キャリア11の光反射表面との間の距離の減少につれて上昇する。この増加する最大角は、アパーチャピューピルイメージの中央における明るい円形状のセクションの直径の増加において反映される。したがって、SILと記録キャリアの表面との間の距離に直接的な示唆である。
本発明は、情報を表す溝を含むか、又は構造化されていない表面を有するかに関わらず記録キャリアの任意のトラックに適用される。アパーチャピューピルイメージの取得は遠視野で実行されるので、記録キャリアの表面変調に感度の高い近接場の結合は、殆ど完全に無視することができる。しかし、本発明の方法は、記録キャリア11の構造化されて表面領域にも適用可能である。
図5は、6つのアパーチャピューピルイメージ160,162,164,166,168及び170の系列を例示している。幅148を備える明るいリングは、SIL24の下側表面での全体の内部反射によるものであり、直径146を備える内部の暗い領域は、SILを通して送出された光、したがって例示された反射画像160に存在しない光に対応する。画像160により例示される構造の中央では、明るいスポット150を観察することができる。画像160,...,170の系列では、この明るいスポット150は、円形状のセクションに発展し、このセクションの直径は、画像170において、周囲の明るいリング152の内側の半径とほぼ同じ半径となるまで、連続する画像のそれぞれについて著しく増加する。画像160,...,170は、100マイクロメートル、20マイクロメートル、15マイクロメートル、10マイクロメートル、5マイクロメートル及び2マイクロメートルのギャップサイズに対応する。画像162からわかるように、20マイクロメートルのギャップサイズについて、明瞭な明るい中央のセクションが検出可能である、対応する制御信号を発生するのを可能にする。
画像処理手段は、中央の領域の明るさ及び/又は強度を、周囲の領域又は不在の記録キャリア11に対応する記憶されたリファレンス値と比較するために調整される。検出器は画像処理手段と同様に、2次元の検出及び画像処理スキームで実現されるか、又は対応する1次元の検出及び画像処理メカニズムで実現される。たとえば、検出器46は、1次元ラインのCCD画素として実現される。このケースでは、アパーチャピューピルイメージ160,...,170は、検出器のラインアレイに中心的に投影されることが保証される。一般に、アパーチャピューピルイメージの明るい中央のセクションのサイズは、基準値を超える強度を検出する検出器の画素の数により決定される。かかるリファレンス値の大きさは、記録キャリア11の不存在で取得される。代替的に、リファレンス値は、たとえば周囲の明るいリング152の平均強度として取得される明るい中央のセクション150の明るさを示す。
さらに、画像166及び168は、入射光と反射光との間の干渉による同心状の明るいリングと暗いリングの空間構造を備える。これら同心状のリングは、SIL24と記録キャリア11との間のギャップサイズを示す。リングの数は、それらのポジションと同様に、SIL24と記録キャリアの表面との間のギャップ及び距離のサイズを判定するために更に利用される。これら干渉による更なる距離のインジケータは、画像166により例示されるように10マイクロメータの距離で既に目に見える。この画像において、明るい中央の円形状のセクション内の暗いリングは明瞭に目に見える。
画像168において、これら同心状のリングは、画像166におけるのと同様に明瞭に目に見えない。画像168は、それらの存在を示す。リングのコントラストは、大気の変動によるのと同様に全体の光学システムの振動により典型的に損なわれる。画像160,...,170を取得するために短い露光時間の利用により、一般に、良好なコントラストをもつ同心状のリングを可視化するのを可能にする。
図6は、図5の画像170に対応するシミュレートされたアパーチャピューピルイメージ180を例示する。シミュレートされた画像180では、干渉縞182が明瞭に目に見える。近接場の光スキャニング装置の具体的な光学的な実現に依存して、干渉縞182は数マイクロメートルのレンジにおいてギャップサイズについて典型的に目に見えるようになる。ヘッド22又はレンズ24が記録キャリア11に向かって予め定義された速度で移動され、制御信号が未だ利用可能ではないアプリケーションのシナリオでは、アパーチャピューピルイメージ180における干渉縞の概観は、予め定義されたギャップサイズに到達された指標としての役割を果たす。
アパーチャピュープルイメージの干渉縞の検出及び/又は分析は、アパーチャピューピルイメージ180の微小領域を検出するために適合される光検出器の使用により実現することができる。アプローチ手順の間、干渉縞182は移動を受けやすく、従ってアパーチャピューピルイメージ1のトランスバースプレーンの小さなフラクションを検出する光検出器の利用を可能にする。記録された強度は、干渉パターン182の明るい又は暗いフリンジを検出器が検出するかに依存して著しく変動する。かかる発振の開始は、アプローチの動きの速度を連続的に減少させるためのトリガとしての役割を果たす。さらに、これら変動又は発振をカウントすることで、継続している動きの正確な情報を得ることができ、レンズ24の速度を調節するために更に処理することができる。
図7は、検出器の出力の強度208と減少するギャップ距離206との関係を説明する。ギャップ距離212で、信号は、ギャップサイズを減少するために増加する振幅により発振し始める。実験では、距離212は、3μmに対応する。
検出された信号の増加する振幅は、アパーチャピューピルイメージの中央の円形状のセクション150の増加する全体の強度の示唆を与え、発振は、移動する干渉縞を示す。典型的な実験の実現では、これらの変動は、10マイクロメートル前後及びそれ以下のギャップサイズについて発展する。さらに、発振する信号の連続する最大又は最小は、λ/2の動きを示す。400nm前後の放射線を利用することで、2つの最小又は最大の間の距離は、200nmの動きに対応する。
強度信号の発振212の開始を検出するため、2つの閾値202,204を使用することが便利である。閾値202は、大きなギャップ距離、従って例示されるグラフの左手側を示す距離について得られる強度信号に対応する。閾値204は、大きな距離の強度信号のノイズレベルをちょうど超えるように選択される。強度信号は、アパーチャピューピルイメージにおける干渉縞の無視することができない発生のケースで閾値204を超える。閾値202,204は、近接場の光スキャニング装置の光コンポーネントの所与のアレンジメントについてキャリブレーション手順を実行することで効果的に定義することができる。
ギャップ距離210で、強度信号は、SILと記録キャリア11の表面との間で行われ始めるエバネッセント結合のために著しく降下する。したがって、ギャップサイズ210は、アプローチ手順のターゲットポジションに対応するレンズ24の近接場のポジションに対応する。レンズ24をこのターゲットポジション又は近接場のポジションの近くに動かすことで、GESを使用した閉ループ制御メカニズムへのハンドオーバが実行される場合がある。
図8は、本発明のアプローチ手順を実行するためのフローチャートの例示である。第一のステップ300では、アパーチャピューピルイメージが検出器により取得され、画像処理モジュール50に供給される。連続的なステップ302では、画像処理モジュール50は、取得されたアパーチャピューピルイメージの中央の明るいスポット又は中央に配置される円形状のセクションを識別し、その直径又はその一般的なサイズを決定する。その後、ステップ304では、決定されたサイズ又は直径に依存して、制御信号が発生される。制御信号は、レンズ24と記録キャリア11の表面との間のギャップサイズを示す。ステップ304において制御信号を発生した後、制御信号は、ステップ306で制御ユニット20に供給され、制御信号は、記録キャリア11に関してレンズ24の効率的かつ高速なアプローチを実現するために更に処理される。
後続のステップ308では、受信された制御信号に基づいて、制御ユニット20は、予め定義された速度プロファイルを選択するか、又は速度プロファイルを計算するか、若しくは、ヘッド22の動きのために予め定義及び記憶された速度プロファイルを変更する。速度プロファイルが制御ユニット20により生成された後、対応する制御信号は、ステップ310でヘッド22の対応する動きを実行するために適合されるサーボユニット25に送出される。
ステップ304で生成される制御信号の精度に依存して、全体の手順は、ヘッド22の動きの間でさえ繰り返し実行される場合がある。これにより、アプローチ手順の間に、進行中の動きを変更し、最大の精度を提供するのを可能にする制御信号の全体のセットを連続して発生することが可能である。アパーチャピューピルイメージの画像処理を利用して、制御信号は、減少するギャップサイズの増加する精度で生成される。近接場の光スキャニング装置のこの特性により、適応的かつ正確なやり方でアプローチ手順を実行することが効果的に可能である。
図9は、記録キャリア11の表面に関して、レンズを近接場のポジションに移動させる代替的な方法を実行するフローチャートを例示する。本方法は、レンズの最初のリモートポジションについて制御信号が発生されないときに特に適用可能である。有利なことに、この方法は、アパーチャピューピルイメージの強度のモニタリングのみを利用し、アパーチャピューピルイメージの空間的に分解された画像取得を必要としない。最初のステップ400では、レンズ24及び/又はヘッド22は、アクチュエータ35の最大の速度に対応する初期速度で移動される。この動きの間、アパーチャピューピルイメージの強度は、ステップ402でモニタされる。この強度のモニタリングは、全体の画像、又はたとえば画像の中央部分といった画像のフラクションの強度をモニタすることを示す。後続のステップ404では、モニタされる強度は、図7の閾値202に対応する予め定義された閾値に比較される。
ステップ402で決定された強度が参照符号202により与えられた閾値を実質的に超えるとき、本方法は、ステップ406に継続し、レンズの動きの速度が減少する。さもなければ、強度の閾値がステップ404で超えない場合、本方法は、ステップ400に戻る。このケースでは、ステップ400,402,404は、強度が所与の閾値T1を超えない限り繰り返し適用される。
所与の閾値T1との比較に対する代替は、ステップ404は、衝突検出スキームにより実現される。このケースでは、ステップ404では、監視される強度が発振を受けるかがチェックされる。モニタされる強度が発振し始めるケースでは、本方法は、レンズ速度が低減されるステップ406に継続する。
強度信号の発振の開始の検出の後、及びステップ406における動きの速度の低減の後、ステップ408では、減少するギャップサイズで発振がカウントされる。これらのカウントは、レンズの速度を更に低減するため、及び/又は記録キャリアの表面に関してSIL24の実際のポジションを一般に制御するために利用される。連続するステップ410では、所望の近接場のギャップサイズに対応する最大のカウントに到達したかがチェックされる。したがって、最大のカウント数は、50〜150nmのレンジでギャップサイズに対応する。ステップ410で最大のカウントの検出に応じて、最終ステップ412では、反射光と入射光との間の偏向状態における変化のために導出されるエアギャップ制御信号を利用して、したがってSIL24と記録キャリア11が近接場の距離を備えるときにアクセス可能なエラー信号を利用して、閉ループ制御メカニズムへのハンドオーバが実行される。
本発明は、本発明の実施の形態で記載される特定の近接場の光スキャニング装置に決して制限されない。本発明は、矩形の光カード、磁気光ディスク又は他のタイプの情報ストレージシステム、若しくは近接場のスキャニングマイクロスコープシステムのような、レンズと記録キャリアの表面との間の小さなエアギャップを必要とする他の記録キャリアとヘッドシステムに一般に適している。近接場の光スキャニング装置“near field optical scanning device”の用語は、これら上述されたシステムの何れかを含む。本明細書では、単語「有する“comprising”」は、請求項に列挙されたエレメント又はステップ以外のエレメント又はステップの存在を排除するものではなく、本発明は、ハードウェア及びソフトウェアの両者によって実現される場合があり、幾つかの「手段」又は「ユニット」は、同一アイテムのハードウェア又はソフトウェアにより表現される。さらに、本発明の範囲は、実施の形態に限定されるものではなく、本発明は、上述された新たな機能又は新たな機能の組み合わせにある。
本発明の実施の形態に係る光スキャニング装置を概念的に示す図である。 近接場の光スキャニング用のヘッドにおけるエレメントを概念的に示す図である。 ギャップ距離と時間の関係、及びレンズの動きと時間の関係を示す2つのグラフである。 アパーチャピューピルイメージのオリジンを概念的に示す図である。 ギャップサイズを変える6つのアパーチャピューピルイメージを例示する図である。 アパーチャピューピルイメージにおけるシミュレートされた干渉パターンを例示する図である。 中央のアパーチャの強度と減少するギャップ距離の関係を示すグラフである。 画像処理を利用するアプローチプロシジャ方法の実行を説明するフローチャートである。 強度変動を利用するアプローチプロシジャの実行を説明するフローチャートである。

Claims (14)

  1. 記録キャリアをスキャニングする近接場の光スキャニング装置であって、
    記録キャリアの表面に関して近接場のポジションに位置されるように調整されるレンズを有するヘッドと、
    前記ヘッドに入射する放射線を検出する、空間解像度を有する検出器と、
    前記検出器の出力を分析し、前記レンズと前記記録キャリアとの間の距離を示す制御信号を発生するように調整される画像処理モジュールと、
    前記レンズと前記記録キャリアの表面との間のギャップのギャップサイズを制御するコントロールモジュールであって、遠隔のポジションから近接場のポジションにレンズを移動させるアプローチモードで作用するコントロールモジュールとを有し、
    前記アプローチモードは前記制御信号を利用する、装置。
  2. 前記コントロールモジュールは、前記制御信号に依存する変動する速度により、前記遠隔のポジションから前記近接場のポジションに前記レンズを移動させるために作用する、
    請求項1記載の装置。
  3. 前記コントロールモジュールは、最大速度で開始する減少する速度プロファイルを利用することで前記レンズを移動させるために更に作用する、
    請求項1記載の装置。
  4. 少なくとも第二の制御信号は、前記レンズの動きの間に発生可能であり、前記コントロールモジュールは、前記動きの間に前記少なくとも第二の制御信号を処理するために更に作用する、
    請求項1記載の装置。
  5. 前記画像処理モジュールは、前記放射線のトラバースプレーンにおいて前記放射線の中央のセクションのサイズを決定するために調整され、前記中央のセクションのサイズは、前記制御信号を発生する画像処理モジュールにより使用される、
    請求項1記載の装置。
  6. 前記画像処理モジュールは、前記放射線のトラバースプレーンにおける前記放射線の中央のセクションの空間構造を分析するために調整され、前記中央のセクションの空間構造は、前記制御信号を発生する画像処理モジュールにより使用される、
    請求項1記載の装置。
  7. 前記画像処理モジュールは、前記放射線のトラバースプレーンにおける前記放射線の中央のセクションの強度をモニタし、予め定義された閾値を超える強度に応答して前記制御信号を発生するために調整される、
    請求項1記載の装置。
  8. 前記放射線のトラバースプレーンにおける前記放射線の中央のセクションは、前記記録キャリアにより反射され、前記記録キャリアに向かって前記レンズを通して透過された後に、前記レンズに再び入力する放射線に対応する、
    請求項5記載の装置。
  9. 前記制御モジュールは、前記レンズが近接場のポジションに移動された場合に、ギャップ制御モードに切り替えるために調整される、
    請求項1記載の装置。
  10. 記録キャリアの表面に関して遠隔のポジションから近接場のポジションに近接場の光スキャニング装置のヘッドのレンズを移動させる方法であって、
    空間解像度を有する検出器を利用することで、前記ヘッドに入力する放射線を検出するステップと、
    前記レンズと前記記録キャリアの間の距離を示す制御信号を発生する画像処理モジュールを利用することで前記検出器の出力を分析するステップと、
    前記制御信号を利用して前記遠隔のポジションから前記近接場のポジションに前記レンズを移動するステップと、
    を含む方法。
  11. 最大の速度で開始する減少する速度プロファイルにより前記レンズを移動するステップを更に有し、前記速度プロファイルは、前記制御信号に関して選択又は形成される、
    請求項10記載の方法。
  12. 前記制御信号の発生前に、前記記録キャリアに向けて予め定義された速度で前記レンズを移動するステップと、
    前記予め決定された速度による前記レンズの移動の間、前記検出器及び前記画像処理モジュールにより前記放射線のトランスバースプレーンにおける前記放射線の中央のセクションのサイズをモニタするステップと、
    前記中央のセクションのサイズを利用することで前記制御信号を発生するステップと、
    を更に含む請求項10記載の方法。
  13. 記録キャリアの表面に関して遠隔のポジションから近接場のポジションに近接場の光スキャニング装置のヘッドのレンズを移動させる方法であって、
    前記記録キャリアに向かって前記遠隔のポジションから前記レンズを移動させるステップと、
    検出器の利用による前記レンズの移動の間に前記ヘッドに入力する放射線の強度をモニタするステップと、
    前記レンズと前記記録キャリアの表面との間の距離を示す制御信号であって、前記レンズの動きに関して少なくとも1つの強度の発振の検出に応じて発生される制御信号を発生するステップと、
    前記制御信号を利用することで前記近接場のポジションに前記レンズを移動させるステップと、
    を含む方法。
  14. 前記少なくとも1つの強度の発振は、前記レンズと前記記録キャリアの間のエバネッセント結合が効率的に生じる距離よりも十分に長い、前記記録キャリアの表面と前記レンズの間の距離を示す、
    請求項13記載の方法。

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