JP2008311419A - Load port device, and wafer state correction method - Google Patents

Load port device, and wafer state correction method Download PDF

Info

Publication number
JP2008311419A
JP2008311419A JP2007157549A JP2007157549A JP2008311419A JP 2008311419 A JP2008311419 A JP 2008311419A JP 2007157549 A JP2007157549 A JP 2007157549A JP 2007157549 A JP2007157549 A JP 2007157549A JP 2008311419 A JP2008311419 A JP 2008311419A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carrier
wafer
mover
state
load port
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007157549A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsuhisa Suzuki
敦久 鈴木
Kenichi Komatsu
健一 小松
Kazuhiro Tauchi
和博 田内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Control Systems Corp
Original Assignee
Hitachi High Tech Control Systems Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi High Tech Control Systems Corp filed Critical Hitachi High Tech Control Systems Corp
Priority to JP2007157549A priority Critical patent/JP2008311419A/en
Publication of JP2008311419A publication Critical patent/JP2008311419A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a load port device capable of stably carrying a wafer by detecting a forward sagging state of the wafer, and correcting the forward sagging state by using a simple mechanism. <P>SOLUTION: This load port device equipped with a table for mounting a carrier for housing a wafer therein is provided with a mechanism for allowing a movable element to execute projecting/retracting operations from a carrier mounting surface of the table. When the wafer in the carrier is in a forward sagging state, vibration is applied to the carrier by operating the movable element to correct the forward sagging state of the wafer to a state parallel to a robot hand. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体製造装置において、キャリアからウェーハを取り出すためのロードポート装置及びキャリア内のウェーハの状態を修正する方法に関する。   The present invention relates to a load port apparatus for taking out a wafer from a carrier and a method for correcting the state of the wafer in the carrier in a semiconductor manufacturing apparatus.

半導体製造装置は、局所的にクリーン度を高めたミニエンバイロメント装置と、製造装置又は検査装置等を収容するウェーハ処理装置からなる。ミニエンバイロメント装置は、ロードポート装置と、ウェーハをウェーハ処理装置に搬送するためのロボットを備えている。ロードポート装置は、キャリア載置テーブルを備えており、複数枚のウェーハを収納可能なキャリアを載置する。前記キャリアには、ウェーハをその内部に一定の間隔で収納するため、例えば25段のスロットが内壁に設けられている。また、前記キャリアには、ロボットがキャリアからウェーハを取り出してウェーハ処理装置に搬送するため、開口部が設けられている。キャリア内のウェーハは、ウェーハを搬送するロボットのハンドに対して平行な状態で収納されており、ロボットは、ウェーハとウェーハの隙間にハンドを挿入して搬送動作を行う。   A semiconductor manufacturing apparatus includes a mini-environment apparatus having a locally improved degree of cleanness and a wafer processing apparatus that accommodates a manufacturing apparatus or an inspection apparatus. The mini-environment apparatus includes a load port device and a robot for transporting the wafer to the wafer processing apparatus. The load port device includes a carrier placement table, and places a carrier capable of storing a plurality of wafers. In the carrier, for example, 25-stage slots are provided on the inner wall in order to store the wafers therein at regular intervals. The carrier is provided with an opening for the robot to take out the wafer from the carrier and transport it to the wafer processing apparatus. The wafer in the carrier is stored in parallel with the hand of the robot that transports the wafer, and the robot inserts the hand into the gap between the wafer and performs the transport operation.

キャリアからウェーハを取り出すためには、搬送対象のウェーハと搬送作業を行うロボットのハンドの高さを揃える必要があり、その方法として、例えばロボットのハンドを上下方向に移動させる方法がある。双方の高さを揃えたら、ロボットのハンドをキャリアのスロット間に伸ばし、搬送対象のウェーハを取り出してウェーハ処理装置へ搬送する。   In order to take out the wafer from the carrier, it is necessary to align the height of the wafer to be transferred and the height of the robot hand that performs the transfer operation. For example, there is a method of moving the robot hand vertically. When the heights of the two are equal, the robot hand is extended between the slots of the carrier, the wafer to be transferred is taken out and transferred to the wafer processing apparatus.

ところで、キャリアは、経年劣化等により変形したり傷や歪み等ができたりしてしまう場合がある。このようなキャリアでは、ウェーハの搬送を繰り返し行っていると、ウェーハがロボットのハンドに対して傾いた状態でキャリアに収納される可能性がある。特に、キャリアの開口部に対向するキャリア奥側の内壁に傷や歪み等があると、ウェーハは、前記の傷や歪み部分に引っ掛かり、引っ掛かった部分がスロットの正規のウェーハ支持部から浮き上がった状態で収納され、ロボットのハンドに対して平行にならない場合がある。このような状態は、キャリアの奥側の内壁から開口部に向けて、ウェーハが垂れ下がって収納されているような状態であるので、「前垂れ状態」と称する。このようなウェーハの前垂れが生じている場合に、キャリア内にロボットのハンドを挿入してウェーハを搬送しようとすると、本来は存在しないはずの位置にウェーハが存在しているので、ロボットのハンドがウェーハに接触して破損させてしまうこともある。   By the way, the carrier may be deformed or scratched or distorted due to aging or the like. In such a carrier, when the wafer is repeatedly transferred, the wafer may be stored in the carrier in a state of being inclined with respect to the robot hand. In particular, if there is a scratch or distortion on the inner wall of the carrier facing the carrier opening, the wafer is caught by the scratch or distortion, and the hooked part is lifted from the regular wafer support part of the slot. And may not be parallel to the robot's hand. Such a state is referred to as a “front drooping state” because it is a state in which the wafer hangs down from the inner wall on the back side of the carrier toward the opening. If this kind of wafer sagging occurs and you try to transport the wafer by inserting the robot's hand into the carrier, the robot's hand It may be damaged by contact with the wafer.

そこで、ミニエンバイロメント装置やロードポート装置に備えられている光学センサ等でウェーハの位置や収納状態を調べ、ロボットのハンドがウェーハを破損させてしまう可能性がある場合には、ロボットハンドの伸縮を停止させて搬送動作を中止、又はロボットハンドを伸ばす高さを補正して搬送動作をする公知例や(特許文献1参照)、ウェーハを収納するキャリアを任意の角度に傾けてロボットハンドを衝突させないようにする公知例がある(特許文献2参照)。また、特許文献3には、ウェーハローディング装置において、ローディングカセットに複数枚のウェーハを収納した後に、ローディングカセットを載置する揺動基台(載置テーブル)をローディングカセットと共に、ウェーハ挿入口側が持ち上がるように傾ける技術が開示されている。この技術は、ローディングカセットを傾けることで、カセットの各棚に収納されたウェーハ端をカセット奥面に当接させてウェーハの並びを一致させているが、上記「前垂れ状態」を解消する技術は開示されていない。   Therefore, if the robot's hand may damage the wafer by checking the position and storage state of the wafer with an optical sensor or the like provided in the mini-environment device or load port device, the robot hand can be extended or contracted. Stops the transfer operation and stops the transfer operation, or corrects the height of the robot hand and corrects the transfer operation (refer to Patent Document 1), tilts the carrier for storing the wafer to an arbitrary angle, and collides the robot hand There is a publicly known example that prevents this (see Patent Document 2). Further, in Patent Document 3, in a wafer loading apparatus, after a plurality of wafers are stored in a loading cassette, a swing base (mounting table) on which the loading cassette is placed is lifted together with the loading cassette on the wafer insertion port side. Such a tilting technique is disclosed. In this technology, by tilting the loading cassette, the end of the wafer stored in each shelf of the cassette is brought into contact with the rear surface of the cassette so that the alignment of the wafers matches. Not disclosed.

特開2003−168715JP2003-168715A 特開2002−305224JP 2002-305224 A 特開平11−204615JP-A-11-204615

前述したように、ウェーハがロボットのハンドに対して平行でない状態で収納されている場合、特に前垂れ状態の場合には、キャリア内にロボットのハンドを挿入してウェーハを搬送しようとすると、ロボットのハンドがウェーハに接触して破損させてしまうこともある。このようなウェーハの破損を防ぐために、特許文献1や2をはじめ従来の技術においては、ロボットハンドの動作を停止させて搬送を中止する、ロボットハンドを伸ばす高さを補正して搬送動作をする、又は、ウェーハを収納するキャリアを任意の角度に傾けてロボットハンドを衝突させないようにする、といった手段を提供している。   As described above, when the wafer is stored in a state that is not parallel to the robot hand, particularly in the case of a drooping state, if the robot hand is inserted into the carrier and the wafer is transferred, The hand may come into contact with the wafer and cause damage. In order to prevent such damage to the wafer, in the conventional techniques including Patent Documents 1 and 2, the operation of the robot hand is stopped to stop the transfer, and the transfer operation is performed by correcting the height at which the robot hand is extended. Alternatively, a means for preventing the robot hand from colliding by tilting the carrier for storing the wafer to an arbitrary angle is provided.

しかしながら、キャリアを任意の角度に傾けるための機構は複雑であり、メンテナンスが煩雑になったりコストが上昇したりするという課題がある。また、スループットの低下を防ぐためにも、ウェーハ搬送を可能な限り中止することなく行えることが望ましい。   However, the mechanism for tilting the carrier at an arbitrary angle is complicated, and there is a problem that maintenance becomes complicated and costs increase. In order to prevent a decrease in throughput, it is desirable that the wafer transfer can be performed without interruption as much as possible.

本発明は、上記の課題を解決するために、ウェーハが前垂れ状態であることを検知しても搬送動作を中止するのではなく、なるべく簡単な機構を用いて、前垂れ状態であるウェーハをロボットハンドに対して平行な状態に修正することで、ウェーハの安定した搬送が可能なロードポート装置を提供することを目的とする。   In order to solve the above-described problems, the present invention does not stop the transfer operation even if it is detected that the wafer is in the front-slung state, but uses a simple mechanism as much as possible to remove the wafer in the front-slung state from the robot hand. It is an object of the present invention to provide a load port device capable of stably transporting a wafer by correcting to a state parallel to the above.

上記課題を解決するために、本発明は、ウェーハを収納するためのキャリアを載置するテーブルを備えたロードポート装置において、可動子を前記テーブルのキャリア載置面から突き出し引っ込み動作させるための機構を設けるものである。   In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a mechanism for projecting and retracting a movable element from a carrier mounting surface of the table in a load port device including a table for mounting a carrier for storing a wafer. Is provided.

上記構成によれば、可動子の突き出し引っ込み動作により、キャリアの少なくとも一部は、キャリア載置面から浮かされた後に可動子による支えが外されるので、キャリア載置面に衝撃を伴って戻される。この衝撃は、前記キャリアの押し上げ(浮かせ)を適度に設定することで、キャリアひいてはウェーハに過度の衝撃を与えることなく上記前垂れの原因となるウェーハの引っ掛かりを外す程度の衝撃力に設定可能である。この衝撃力の程度は、キャリアの形状、大きさ、重量により様々であるので、一様に特定できるものではなく、実機テストの試行により定められる。   According to the above configuration, the support by the mover is removed after the carrier is lifted from the carrier placement surface by the projecting and retracting operation of the mover, so that the carrier placement surface is returned with an impact. . This impact can be set to an impact force that removes the catch of the wafer that causes the forward sag without giving an excessive impact to the carrier and thus the wafer by appropriately setting the carrier to be pushed up (floating). . The degree of the impact force varies depending on the shape, size, and weight of the carrier, and thus cannot be specified uniformly, and is determined by a trial of an actual machine test.

本発明のロードポート装置では、ウェーハが前垂れ状態であることを検知しても搬送動作を中止するのではなく、なるべく簡単な機構を用いて、前垂れ状態であるウェーハをロボットハンドに対して平行な状態に修正することができ、ウェーハの安定した搬送が可能となる。   In the load port apparatus according to the present invention, even if it is detected that the wafer is in the front drooping state, the transfer operation is not stopped, but the wafer in the front drooping state is parallel to the robot hand using a simple mechanism as much as possible. The state can be corrected, and the wafer can be stably conveyed.

以下、図面を用いて、本発明の第1の実施例を説明する。   Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明に係わるウェーハ前垂れ修正機構を有するロードポート装置100を備えたウェーハ搬送システムの全体図である。このシステムは、前記ロードポート装置100の他に、局所的にクリーン度を高めたミニエンバイロメント装置101と、製造装置又は検査装置等を収容するウェーハ処理装置102と、キャリア内のウェーハの位置や状態を調べるマッピングユニット103と、ウェーハを搬送するためのロボット104とを有する。   FIG. 1 is an overall view of a wafer transfer system including a load port apparatus 100 having a wafer sag correction mechanism according to the present invention. In addition to the load port device 100, the system includes a mini-environment device 101 having a locally improved cleanness, a wafer processing device 102 that accommodates a manufacturing device or an inspection device, and the position of the wafer in the carrier. It has a mapping unit 103 for checking the state and a robot 104 for transporting the wafer.

ミニエンバイロメント装置101は、ウェーハ処理装置102のウェーハ搬入出口のある面に沿って設置され、ウェーハ処理装置102と対面する側にロードポート装置100を備える。   The mini-environment apparatus 101 is installed along the surface of the wafer processing apparatus 102 where the wafer loading / unloading port is located, and includes a load port apparatus 100 on the side facing the wafer processing apparatus 102.

ロードポート装置100は、ステージ400とキャリア載置テーブル202とを備え、複数枚のウェーハが収納可能であるキャリア105を載置することができる。また、ロードポート装置100には、ウェーハを搬送するために開口部100aが設けられており、開口部100aは図示していないドアにより開閉可能である。   The load port apparatus 100 includes a stage 400 and a carrier placement table 202, and can place a carrier 105 that can store a plurality of wafers. Further, the load port apparatus 100 is provided with an opening 100a for transporting the wafer, and the opening 100a can be opened and closed by a door (not shown).

キャリア105には、ウェーハをその内部に一定の間隔で保持するためのスロットが設けられている。また、キャリア105には、ウェーハを搬送するために開口部が設けられており、その開口部は図示していない開閉蓋により開閉可能である。ロードポート装置のドア及びキャリアの開閉蓋を開くと、キャリア105内のウェーハは、搬送ロボット104のハンド106により、ウェーハ処理室102へ搬入することができる。   The carrier 105 is provided with slots for holding the wafers at regular intervals. The carrier 105 is provided with an opening for transporting the wafer, and the opening can be opened and closed by an opening / closing lid (not shown). When the door of the load port device and the opening / closing lid of the carrier are opened, the wafer in the carrier 105 can be carried into the wafer processing chamber 102 by the hand 106 of the transfer robot 104.

図2は、キャリア載置テーブル202上の複数枚のウェーハ203を収納したキャリア105と、マッピングユニット103と、マッピングユニット103のセンサアーム200及び201との位置関係を平面的に示した図である。キャリア105は、その外形の輪郭のみを実線で表した。マッピングとは、搬送ロボット104のハンド106でウェーハ203を搬送するに先立って、マッピングユニット103により、キャリア105に収納されたウェーハの位置や収納状態を調べることである。   FIG. 2 is a plan view showing the positional relationship between the carrier 105 storing a plurality of wafers 203 on the carrier mounting table 202, the mapping unit 103, and the sensor arms 200 and 201 of the mapping unit 103. As shown in FIG. . Only the outline of the outer shape of the carrier 105 is represented by a solid line. The mapping is to check the position and storage state of the wafer stored in the carrier 105 by the mapping unit 103 before the wafer 203 is transferred by the hand 106 of the transfer robot 104.

マッピングユニット103は、図示されない駆動機構によりロードポート装置100の上下方向(Z軸方向)に移動可能であり、マッピング用のセンサ103aを有する。マッピング用のセンサ103aは、発光素子200を有するアーム(以下、「発光側センサアーム200」又は「センサアーム200」と称することもある)と、受光素子201を有するアーム(以下、「受光側センサアーム201」又は「センサアーム201」と称することもある)とを有する。このセンサ103aは、図示されない駆動機構によりX軸方向に移動可能にマッピングユニット103に装着されている。   The mapping unit 103 is movable in the vertical direction (Z-axis direction) of the load port device 100 by a driving mechanism (not shown), and has a mapping sensor 103a. The mapping sensor 103a includes an arm having a light emitting element 200 (hereinafter also referred to as “light emitting side sensor arm 200” or “sensor arm 200”) and an arm having a light receiving element 201 (hereinafter referred to as “light receiving side sensor”). Arm 201 "or" sensor arm 201 "). The sensor 103a is attached to the mapping unit 103 so as to be movable in the X-axis direction by a drive mechanism (not shown).

図2のセンサ103aは、マッピングユニット103が最上位置(図1の一点鎖線Z1に示す位置)にあるときにキャリア内に前進移動して、センサアーム200及び201がウェーハ203の前垂れ状態を検出できる位置にセットされている状態を示している。このセンサアーム200及び201をマッピング開始位置(キャリア105内に設けられている最上段スロットよりも上の所定の位置)にセットして、発光側センサアーム200を発光させながら、センサアーム200及び201を最下段のスロット位置より下の所定の位置まで下降移動させる。このセンサアームの下降動作に伴って、発光側センサアーム200から放射された光(図2では点線で表している)は、各ウェーハが存在する位置では、各ウェーハの一部により遮光される。このため、受光側センサアーム201で検知する光量が変化し、この光量の変化から各ウェーハの位置や収納状態を調べることができる。上記マッピングの具体的な工程については、後述する。   The sensor 103a in FIG. 2 can move forward into the carrier when the mapping unit 103 is at the uppermost position (position indicated by the one-dot chain line Z1 in FIG. 1), and the sensor arms 200 and 201 can detect the front drooping state of the wafer 203. The state set to the position is shown. The sensor arms 200 and 201 are set at a mapping start position (a predetermined position above the uppermost slot provided in the carrier 105), and the light emitting side sensor arm 200 is caused to emit light while the sensor arms 200 and 201 are emitted. Is moved downward to a predetermined position below the lowermost slot position. As the sensor arm descends, light emitted from the light emitting side sensor arm 200 (represented by a dotted line in FIG. 2) is shielded by a part of each wafer at a position where each wafer exists. For this reason, the amount of light detected by the light receiving side sensor arm 201 changes, and the position and storage state of each wafer can be checked from the change in the amount of light. Specific steps of the mapping will be described later.

マッピングユニット103により、キャリア105内に複数枚収納されているウェーハ203をマッピングし、マッピングデータを図4に示す制御コントローラ407に記憶させる。また、予め、マッピング開始位置とウェーハの基準厚み及びウェーハの基準間隔の各データを、図4に示すロードポート装置100内の制御コントローラ407に記憶させておく。   The mapping unit 103 maps a plurality of wafers 203 stored in the carrier 105, and stores the mapping data in the controller 407 shown in FIG. Further, the data of the mapping start position, the reference thickness of the wafer, and the reference interval of the wafer are stored in advance in the controller 407 in the load port apparatus 100 shown in FIG.

上記マッピングデータと、予め制御コントローラ407に記憶させておいたマッピング開始位置とウェーハ基準厚み及びウェーハ基準間隔データとから、キャリア105内のウェーハの位置情報と収納状態を算出することができる。一般的に、マッピングユニット103の受光側の光量が変化した位置と時間を演算し、前記マッピング開始位置とウェーハ基準厚み及びウェーハ基準間隔データとの比較を行い、キャリア105内のどの位置にどのような状態でウェーハ203が置かれているのかを算出する。   From the mapping data and the mapping start position, wafer reference thickness, and wafer reference interval data stored in advance in the controller 407, the position information and storage state of the wafer in the carrier 105 can be calculated. In general, the position and time at which the amount of light on the light receiving side of the mapping unit 103 is changed are calculated, and the mapping start position is compared with the wafer reference thickness and wafer reference interval data. In this state, it is calculated whether the wafer 203 is placed.

図3は、キャリア105の断面図であり、キャリア105内の一部のウェーハが前垂れとなっている状態を示している。各ウェーハ203は、キャリア105内部の両側壁に設けた各スロット(ウェーハ支持部)108に支持されて、キャリア105に収納される。ウェーハ203aが前垂れ状態となっているウェーハである。ウェーハ203aは、その一部がキャリア105の開口部に対向する内壁(奥側内壁)に生じた傷107に引っ掛かっているため、その部分がスロットのウェーハ支持部108から浮き上がっており、ロボットハンドに対して平行ではない状態で収納されている。この状態のままロボットハンド106をキャリア105内に挿入させると、ウェーハ203aを破損させるおそれがある。   FIG. 3 is a cross-sectional view of the carrier 105 and shows a state in which some of the wafers in the carrier 105 are drooping forward. Each wafer 203 is stored in the carrier 105 by being supported by each slot (wafer support portion) 108 provided on both side walls inside the carrier 105. This is a wafer in which the wafer 203a is in a drooping state. Since part of the wafer 203a is caught by the scratch 107 formed on the inner wall (back inner wall) facing the opening of the carrier 105, the part is lifted from the wafer support part 108 of the slot. It is stored in a state that is not parallel to it. If the robot hand 106 is inserted into the carrier 105 in this state, the wafer 203a may be damaged.

図4は、本実施形態であるロードポート装置100の側面断面図である。ロードポート装置100は、ステージ400と、キャリア105を載置するためのキャリア載置テーブル202とを備える。また、図5は、前記キャリア載置テーブル202の上面図である。一点鎖線で示したのは、キャリア105が載置されたときの、キャリア105の輪郭である。キャリア載置テーブル202は、キャリア105を載置する位置を定めるための位置決めピン410と、キャリア105を固定するためのクランプピン402と、キャリア105内のウェーハ203をロボットハンド106に対して平行な状態に修正するための可動子403、403aとを備える。なお、図4及び図5に示した可動子403、403aと位置決めピン410の数はそれぞれ3個で、それらはそれぞれ3点配置されているが、この態様は一例であり、本例の数と位置に限られるものではない。   FIG. 4 is a side sectional view of the load port device 100 according to the present embodiment. The load port apparatus 100 includes a stage 400 and a carrier mounting table 202 for mounting the carrier 105. FIG. 5 is a top view of the carrier mounting table 202. What is indicated by a one-dot chain line is the outline of the carrier 105 when the carrier 105 is placed. The carrier mounting table 202 is configured so that the positioning pins 410 for determining the position for mounting the carrier 105, the clamp pins 402 for fixing the carrier 105, and the wafer 203 in the carrier 105 are parallel to the robot hand 106. Movable elements 403 and 403a for correcting the state are provided. The number of movers 403, 403a and positioning pins 410 shown in FIGS. 4 and 5 is three, and each of them is arranged at three points, but this mode is an example, and the number of this example and It is not limited to the position.

位置決めピン410は、キャリア載置テーブル202の載置面から突出しており、キャリア105の載置時にキャリア105の底部に設けられた凹部(位置決め穴)411に入り込むことで、キャリアの載置位置を決定する。   The positioning pin 410 protrudes from the mounting surface of the carrier mounting table 202, and enters the concave portion (positioning hole) 411 provided at the bottom of the carrier 105 when the carrier 105 is mounted. decide.

クランプピン402は、アクチュエータ412によりクランプ動作、クランプ解除動作を行う。クランプピン402とそのアクチュエータ412は、キャリア載置テーブル202に装着されている。クランプ動作時には、クランプピン402がキャリア載置テーブル202の載置面から突出し、キャリア105の底部に設けられた被クランプ部に係止して、キャリア105を固定する。このようにしてキャリア105を固定することを、クランプと呼ぶ。クランプピン402を図4の実線位置から後ろに傾倒させることで、クランプが解除される。   The clamp pin 402 performs a clamp operation and a clamp release operation by the actuator 412. The clamp pin 402 and its actuator 412 are mounted on the carrier mounting table 202. During the clamping operation, the clamp pin 402 protrudes from the mounting surface of the carrier mounting table 202 and is locked to the clamped portion provided on the bottom of the carrier 105 to fix the carrier 105. Fixing the carrier 105 in this way is called a clamp. The clamp is released by tilting the clamp pin 402 backward from the solid line position in FIG.

可動子403は、その先端がZ軸方向のプラス側(上側)を向くようにキャリア載置テーブル202に設置され、可動子用アクチュエータ406の動力により、Z方向へ移動させることが可能である。可動子403を、Z軸方向のプラス側に移動させていくと、その先端がキャリア載置テーブル202のキャリア載置面から突出する状態になる。この突出状態から可動子403をZ軸方向のマイナス側(下側)に移動させていくと、その先端が上記載置面より下に位置して引っ込んだ状態になる。可動子用アクチュエータ406は、動力として例えばエアーを供給することにより、可動子403をZ方向に移動させる。可動子403の拡大図を図6に示す。本例では、キャリア載置テーブル202に可動子403とエアー供給路の出口側ポート408が設けられている。   The mover 403 is installed on the carrier mounting table 202 such that the tip thereof faces the plus side (upper side) in the Z-axis direction, and can be moved in the Z direction by the power of the mover actuator 406. When the mover 403 is moved to the plus side in the Z-axis direction, the tip of the mover 403 protrudes from the carrier placement surface of the carrier placement table 202. When the mover 403 is moved to the minus side (lower side) in the Z-axis direction from this projecting state, the tip of the mover 403 is located below the placement surface and retracted. The mover actuator 406 moves the mover 403 in the Z direction by supplying, for example, air as power. An enlarged view of the mover 403 is shown in FIG. In this example, the carrier mounting table 202 is provided with a mover 403 and an outlet side port 408 of the air supply path.

ステージ400は、レール404を備えており、レール404には、ガイド405が設けられている。ガイド405は、例えば図7に示すように、キャリア載置テーブル202とボルト700で固定されており、テーブル用アクチュエータ401の動力で、キャリア載置テーブル202をX軸方向へ移動させることができる。テーブル用アクチュエータ401の動力は、例えばスクリュー機構で、ガイド405ひいてはキャリア載置テーブル202をX軸方向へ移動させる。   The stage 400 includes a rail 404, and a guide 405 is provided on the rail 404. For example, as shown in FIG. 7, the guide 405 is fixed by a carrier mounting table 202 and a bolt 700, and the carrier mounting table 202 can be moved in the X-axis direction by the power of the table actuator 401. The power of the table actuator 401 is, for example, a screw mechanism, and moves the guide 405 and thus the carrier mounting table 202 in the X-axis direction.

テーブル用アクチュエータ401及び可動子用アクチュエータ406は、制御コントローラ407で制御されている。搬送ロボットのハンド106によりキャリア105内のウェーハ203を取り出す場合(ウェーハ搬送工程)には、キャリア載置テーブル202を、図4の矢印Aに示すように、ロードポート装置の開口部100aに接近するように移動制御させる。このようにテーブル用アクチュエータ401でキャリア載置テーブル202をX軸方向のプラス側(矢印A方向)に移動させた場合、エアー供給路の出口側ポート408とステージ側ポート409とが一致しない構造になっている。したがって、ウェーハ搬送中は、上記エアー供給用のポート408と409とが一致していないため、エアーの供給路は遮断されている。このため、ウェーハ搬送中にエアーが漏れ出したとしても、可動子403はZ軸方向に誤って移動しない。   The table actuator 401 and the mover actuator 406 are controlled by a controller 407. When the wafer 203 in the carrier 105 is taken out by the hand 106 of the transfer robot (wafer transfer process), the carrier mounting table 202 approaches the opening 100a of the load port device as shown by an arrow A in FIG. To control the movement. Thus, when the carrier mounting table 202 is moved to the plus side (arrow A direction) in the X-axis direction by the table actuator 401, the outlet side port 408 and the stage side port 409 of the air supply path do not coincide with each other. It has become. Therefore, during the wafer transfer, the air supply ports 408 and 409 do not match, so the air supply path is blocked. For this reason, even if air leaks during wafer transfer, the mover 403 does not move in the Z-axis direction by mistake.

本実施例の処理手順を、図8のフロー図に従い説明する。   The processing procedure of this embodiment will be described with reference to the flowchart of FIG.

ウェーハ処理室102にウェーハ203を搬送するため、ウェーハ203が複数枚収納されたキャリア105は、図示されていない人や自走台車等から、ロードポート装置100に備えられたキャリア載置テーブル202へ搭載される。キャリア載置テーブル202上のキャリア105の位置は、位置決めピン410により決められる。そして、ウェーハ処理室から発行される搬入開始命令によって、ウェーハ搬送動作が開始される。   In order to transfer the wafer 203 to the wafer processing chamber 102, the carrier 105 in which a plurality of wafers 203 are stored is transferred from a person not shown or a self-propelled carriage to the carrier mounting table 202 provided in the load port device 100. Installed. The position of the carrier 105 on the carrier mounting table 202 is determined by the positioning pins 410. Then, the wafer transfer operation is started by a carry-in start command issued from the wafer processing chamber.

この一連の動作を以下に詳述する。   This series of operations will be described in detail below.

始めに、キャリア載置テーブル202へ位置決めされて載置されたキャリア105を、クランプピン402を作動させてクランプする(ステップ800)。   First, the carrier 105 positioned and placed on the carrier placement table 202 is clamped by operating the clamp pin 402 (step 800).

クランプ状態を確認後、テーブル用アクチュエータ401の動力で、キャリア105を載置したテーブル202を、X軸方向のプラス側へ移動させる。キャリア105がロードポート装置の開口部近くまで移動したら、図示していないドア開閉機構によりキャリア105の開閉蓋(図示せず)を開き、キャリア105を開口する(ステップ801)。   After confirming the clamped state, the table 202 on which the carrier 105 is placed is moved to the plus side in the X-axis direction by the power of the table actuator 401. When the carrier 105 has moved to the vicinity of the opening of the load port device, an opening / closing lid (not shown) of the carrier 105 is opened by a door opening / closing mechanism (not shown) to open the carrier 105 (step 801).

そしてマッピング動作を実行し、キャリア105内のどの位置にどのような状態でウェーハが収納されているかを算出する(ステップ802)。   Then, a mapping operation is executed to calculate in which position in the carrier 105 and in what state the wafer is stored (step 802).

ここで、上記キャリアの蓋開閉機構について簡単に説明する。キャリアの開閉蓋は、上記ロードポート装置開口部のドア(図示せず)に設けた吸着機構により、吸着され保持される。ロードポート装置の開口部のドアは、キャリアの開閉蓋を保持したまま、図示しない開口部のドア移動機構により、ミニエンバイロメント装置101の内部に移動し、次いで下降する。この一連の動作により、キャリア105及びロードポート装置100は開口し、ウェーハを搬送できるようになる。   Here, the lid opening / closing mechanism of the carrier will be briefly described. The opening / closing lid of the carrier is adsorbed and held by an adsorbing mechanism provided at a door (not shown) of the load port device opening. The door of the opening portion of the load port device moves to the inside of the mini-environment device 101 by the door moving mechanism of the opening portion (not shown) while holding the carrier open / close lid, and then descends. By this series of operations, the carrier 105 and the load port device 100 are opened, and the wafer can be transferred.

前記マッピング動作は、このキャリアの蓋開閉動作と並行して実行される。ここで、マッピング動作について簡単に説明する。   The mapping operation is executed in parallel with the lid opening / closing operation of the carrier. Here, the mapping operation will be briefly described.

上記ロードポート装置開口部のドアが、上記キャリアの開閉蓋を保持したまま、上記ミニエンバイロメント装置101の内部に移動すると、図示しないマッピングユニット作動機構により、マッピングユニット103のセンサ103a(センサアーム200及び201)が、ミニエンバイロメント装置101の内部からキャリア105内部に進入し、マッピング開始位置まで移動する。マッピング開始位置は、既述したようにキャリア105の内部に設けられている最上段のスロットよりも上である。   When the door of the opening portion of the load port device moves into the mini-environment device 101 while holding the opening / closing lid of the carrier, a sensor 103a (sensor arm 200) of the mapping unit 103 is operated by a mapping unit operating mechanism (not shown). And 201) enter the carrier 105 from the inside of the mini-environment device 101 and move to the mapping start position. The mapping start position is above the uppermost slot provided in the carrier 105 as described above.

そして、前述したように、上記ロードポート装置開口部のドアが、上記キャリアの開閉蓋を保持したまま、ミニエンバイロメント装置101の内部で下降すると、この下降動作に合わせて、マッピングユニット103が、発光側センサアーム200を発光させながら、最下段のスロット位置より下の所定の位置まで下降する。マッピングユニット103が下降している間、発光側センサアーム200から放射された光は、各ウェーハの存在する位置では遮光されて透過しない。この光量の変化を受光側センサアーム201で検知し、光量が変化した位置と時間を演算して、予め制御コントローラ407に記憶させておいたウェーハ基準厚み及びウェーハ基準間隔データと比較することにより、各ウェーハの位置や収納状態を調べることができる。所定の位置まで下降したマッピングユニット103のセンサ103a(センサアーム200及び201)は、ウェーハの状態修正工程やウェーハの搬送作業の妨げとならないように、図示しないマッピングユニット作動機構により、上記キャリア内から再び上記ミニエンバイロメント装置101の内部に移動(後退動作)する。このようにしてキャリア105内に複数枚収納されているウェーハ203をマッピングし、マッピングデータを図4に示す制御コントローラ407に記憶させる。   As described above, when the door of the load port device opening is lowered inside the mini-environment device 101 while holding the opening / closing lid of the carrier, the mapping unit 103 is moved in accordance with the lowering operation. While the light emitting side sensor arm 200 emits light, the light emitting side sensor arm 200 is lowered to a predetermined position below the lowest slot position. While the mapping unit 103 is lowered, the light emitted from the light emitting side sensor arm 200 is shielded and does not pass through the position where each wafer exists. By detecting the change in the light amount by the light receiving side sensor arm 201, calculating the position and time at which the light amount has changed, and comparing it with the wafer reference thickness and wafer reference interval data stored in the controller 407 in advance. The position and storage state of each wafer can be checked. The sensor 103a (sensor arms 200 and 201) of the mapping unit 103 lowered to a predetermined position is moved from the inside of the carrier by a mapping unit operating mechanism (not shown) so as not to interfere with the wafer state correction process and the wafer transfer operation. It moves (retreats) into the mini-environment device 101 again. In this way, a plurality of wafers 203 stored in the carrier 105 are mapped, and the mapping data is stored in the controller 407 shown in FIG.

ここで、図8のフロー図に戻り説明を続ける。制御コントローラ407は、上記マッピング工程で得られた情報からキャリア105内のウェーハ状態を算出して、前垂れ状態が無いかどうかを判断する(ステップ803)。   Returning to the flowchart of FIG. The controller 407 calculates the wafer state in the carrier 105 from the information obtained in the mapping step, and determines whether or not there is a front drooping state (step 803).

キャリア105内に前垂れ状態のウェーハが存在せず、ウェーハの収納状態が正常の場合、ウェーハ搬入準備処理は終了する。   If there is no wafer hanging forward in the carrier 105 and the stored state of the wafer is normal, the wafer carry-in preparation process ends.

キャリア105内に前垂れ状態のウェーハが存在した場合は、修正リトライ回数が所定回数未満であるかどうかを判定する(ステップ804)。この修正リトライ回数とは、以下に説明するウェーハ前垂れ修正処理を実行した回数のことである。   If there is a wafer that hangs forward in the carrier 105, it is determined whether the number of correction retries is less than a predetermined number (step 804). The number of correction retries is the number of times that the wafer sag correction process described below has been executed.

修正リトライ回数が、予め制御コントローラ407に記憶させておいた所定の回数未満の場合、キャリア105の開閉蓋を開けたまま、テーブル用アクチュエータ401の動力で、キャリア載置テーブル202をX軸方向のマイナス側へ移動させ、エアー供給路の出口側ポート408とステージ側ポート409とを一致させる。これにより、可動子403の移動が待機状態になる。次いで、キャリア105とクランプピン402のクランプを解除する(ステップ805)。   When the number of correction retries is less than the predetermined number stored in the controller 407 in advance, the carrier mounting table 202 is moved in the X-axis direction with the power of the table actuator 401 while the opening / closing lid of the carrier 105 is opened. Moving to the minus side, the outlet side port 408 and the stage side port 409 of the air supply path are matched. As a result, the mover 403 moves to a standby state. Next, the clamp between the carrier 105 and the clamp pin 402 is released (step 805).

次に、可動子用アクチュエータ(空気圧式アクチュエータ)406でエアーを供給し、エアーの圧力で可動子403をZ軸方向のプラス側に移動させていき、キャリア載置テーブル202の載置面から突出させる(ステップ806)。このとき、キャリア105とクランプピン402はクランプされていないため、キャリア105は、可動子403により押し上げられ、その底部がキャリア載置テーブル202の載置面から離れる。可動子403がキャリア載置テーブル202の載置面から突出する高さは、位置決めピン410の高さより低くする。このため、キャリア105がキャリア載置テーブル202の載置面上で押し上げられても、位置決めピン410は、キャリア105の底部に設けられた凹部411に嵌め合った状態を維持している。したがって、キャリア105は、可動子403で押し上げられても位置ずれすることはない。   Next, air is supplied by a mover actuator (pneumatic actuator) 406, and the mover 403 is moved to the plus side in the Z-axis direction by the pressure of the air, and protrudes from the placement surface of the carrier placement table 202. (Step 806). At this time, since the carrier 105 and the clamp pin 402 are not clamped, the carrier 105 is pushed up by the mover 403, and its bottom part is separated from the placement surface of the carrier placement table 202. The height at which the mover 403 protrudes from the placement surface of the carrier placement table 202 is set lower than the height of the positioning pin 410. For this reason, even if the carrier 105 is pushed up on the mounting surface of the carrier mounting table 202, the positioning pin 410 maintains a state in which the positioning pin 410 is fitted in the recess 411 provided at the bottom of the carrier 105. Therefore, even if the carrier 105 is pushed up by the mover 403, the carrier 105 is not displaced.

この状態のままエアー供給を停止し、続いてエアーを抜いて可動子403に作用するエアーの圧力を下げ、可動子403をZ軸方向のマイナス側に移動させ、その先端が上記載置面より下に位置し引っ込んだ状態にする(ステップ807)。可動子403をZ軸方向のマイナス側に移動させるスピードは、可動子403をZ軸方向のプラス側に移動させるスピードより速い。押し上げられていたキャリア105は、可動子403の支えがなくなるために、キャリア載置テーブル202に衝撃を伴って戻る。このとき、キャリア105の押し上げ量は、位置決めピン410の高さを超えない程度なので、キャリア105に過度の衝撃が加わらない。このような適度な衝撃をキャリア105に加えることにより、キャリア内部の前垂れ状態となっていたウェーハは、上記衝撃により生じる振動のために前垂れ原因の引っ掛かりが外れて前垂れ状態が解消され、ロボットハンド106に対して平行な状態に修正される。   In this state, the air supply is stopped, then the air is removed to lower the pressure of the air acting on the mover 403, the mover 403 is moved to the negative side in the Z-axis direction, and the tip of the mover 403 is above the mounting surface. It is located below and is in a retracted state (step 807). The speed for moving the mover 403 to the minus side in the Z-axis direction is faster than the speed for moving the mover 403 to the plus side in the Z-axis direction. The pushed carrier 105 returns to the carrier mounting table 202 with an impact because the support of the movable element 403 is lost. At this time, the push-up amount of the carrier 105 is such that it does not exceed the height of the positioning pin 410, so that an excessive impact is not applied to the carrier 105. By applying such a moderate impact to the carrier 105, the wafer that has been in the front-sag state inside the carrier is released from the front-sag state due to vibration caused by the impact and the front-sag state is eliminated. Is corrected to a state parallel to.

キャリア105は、少なくともその一部を前記載置面から浮かせ、衝撃を伴うように前記載置面に戻せばよい。つまり、上記可動子を複数有する装置の場合、全ての可動子を作動させてもよいし、一部の可動子だけを作動させてもよい。図4及び図5は、可動子403を3個有する装置の例であるが、3個の可動子全てを移動させてもよいし、3個のうち1個又は2個だけを移動させてもよい。   The carrier 105 may be lifted at least partially from the placement surface and returned to the placement surface so as to cause an impact. That is, in the case of an apparatus having a plurality of the above-described movers, all the movers may be operated, or only some of the movers may be operated. 4 and 5 are examples of a device having three movers 403, all three movers may be moved, or only one or two of the three movers may be moved. Good.

一部の可動子だけを移動させる場合は、キャリアの一部に振動を加えることになるが、前垂れ状態の修正のためには、ウェーハがキャリアの内壁の傷や歪み部分に引っ掛かっている部分に近い位置に振動を加えるほうが有効である。すなわち、キャリアの開口部に対向する内壁に近い位置の可動子、図4及び図5の例では403aの可動子を移動させると、効果的に前垂れ状態を修正できる。   When only a part of the mover is moved, vibration is applied to a part of the carrier, but in order to correct the sag, the wafer is caught on the scratched or distorted part of the inner wall of the carrier. It is more effective to add vibration to a close position. That is, when the mover close to the inner wall facing the opening of the carrier, that is, the mover 403a in the example of FIGS. 4 and 5, is moved, the forward sagging state can be effectively corrected.

ここで、キャリア105の開閉蓋をしめた状態でステップ806、807を実行しても、ウェーハ203は、キャリア105内で動く余裕が無いため、ロボットハンド106に対して平行な状態にはならない。   Here, even if the steps 806 and 807 are executed with the opening / closing lid of the carrier 105 closed, the wafer 203 does not have a room to move in the carrier 105 and therefore does not become parallel to the robot hand 106.

また、ステップ806、807は、位置決めピン410がキャリア105の底部に設けられた凹部に嵌め合った状態を維持したまま実行される。このため、キャリア105は、ステップ806、807が実行されている間も位置が固定されているので、キャリア載置テーブル202の載置面に戻ったときの衝撃で位置がずれることはない。   Steps 806 and 807 are executed while maintaining the state where the positioning pin 410 is fitted in the recess provided in the bottom of the carrier 105. For this reason, since the position of the carrier 105 is fixed even while Steps 806 and 807 are executed, the position of the carrier 105 is not shifted by an impact when returning to the placement surface of the carrier placement table 202.

ステップ806及びステップ807における可動子403のZ軸方向への移動は、予め制御コントローラ407に記憶させておいた所定回数だけ行う(ステップ808)。   The movement of the mover 403 in the Z-axis direction in Step 806 and Step 807 is performed a predetermined number of times previously stored in the controller 407 (Step 808).

所定回数だけ、可動子403の移動を行うと、修正リトライ回数のカウントを1つだけ増やし、再びキャリア105とクランプピン402をクランプさせる(ステップ800)。そして、キャリアの蓋開閉動作(ステップ801)、マッピング動作(ステップ802)を行い、キャリア105内のウェーハ203の収納状態を判別する。その結果、前垂れ状態であったウェーハがロボットハンド106に対して平行な状態になった場合は、ロボットハンド106を挿入してもウェーハを破損することがないので、ウェーハ搬入準備処理を終了する。しかし、前垂れ状態が修正されていない場合は、再び前記前垂れ修正処理を行う。   When the mover 403 is moved a predetermined number of times, the correction retry count is incremented by 1, and the carrier 105 and the clamp pin 402 are clamped again (step 800). Then, a carrier lid opening / closing operation (step 801) and a mapping operation (step 802) are performed to determine the storage state of the wafer 203 in the carrier 105. As a result, if the wafer that has been drooping is parallel to the robot hand 106, the wafer is not damaged even if the robot hand 106 is inserted, and thus the wafer carry-in preparation process ends. However, if the sag state is not corrected, the sag correction process is performed again.

前記前垂れ修正処理を繰り返し行い、所定の修正リトライ回数以内でウェーハの前垂れ状態が修正された場合は、ロボットハンド106を挿入してもウェーハを破損することがないので、ウェーハ搬入準備処理を終了する。しかし、所定の修正リトライ回数以内でウェーハの前垂れ状態が修正されなかった場合は、図示していないミニエンバイロメント装置の制御コントローラにエラー信号を送信し、本前垂れ修正処理を終了する。   The sag correction process is repeated, and if the sag state of the wafer is corrected within a predetermined number of correction retries, the wafer is not damaged even if the robot hand 106 is inserted. . However, if the front sag state of the wafer is not corrected within the predetermined number of correction retries, an error signal is transmitted to the control device of the mini-environment apparatus (not shown), and the front sag correction process is terminated.

上述した第1の実施例では、初めにキャリア105内のウェーハ203の状態をマッピングして、前垂れ状態のウェーハが存在した場合に、可動子403をZ軸方向に移動させてウェーハの前垂れ状態を修正する手順を説明した。本発明の第2の実施例は、キャリア105がキャリア載置テーブル202に載置された時に、先に可動子403をZ軸方向に移動させてウェーハの前垂れ状態を予め修正してから、マッピング動作を実行するものである。その手順を図9に示す。本実施例は、前垂れ状態が比較的多く発生するキャリアに対して有効である。   In the first embodiment described above, the state of the wafer 203 in the carrier 105 is first mapped, and when there is a wafer in the front droop state, the mover 403 is moved in the Z-axis direction to change the front droop state of the wafer. Explained how to fix. In the second embodiment of the present invention, when the carrier 105 is placed on the carrier placing table 202, the movable element 403 is first moved in the Z-axis direction to correct the front drooping state of the wafer before mapping. The operation is executed. The procedure is shown in FIG. This embodiment is effective for carriers in which a relatively large amount of forward sagging occurs.

以上、本発明の第1の実施例及び第2の実施例では、可動子403の設置場所は、キャリア載置テーブル202内部であるが、この場所に限定されるものではない。例えば、可動子403は、ステージ400内部に設置することもできる。この場合、可動子403は、エアーの供給制御により、ステージ400内部から、キャリア載置テーブル202に設けたスルーホール(可動子ガイド穴)を通して、キャリア載置テーブル202の載置面上に突出させるようにすればよい。エアーを抜けば、可動子403は、上記スルーホールを通してステージ400内部まで引っ込むことになる。   As described above, in the first and second embodiments of the present invention, the installation location of the mover 403 is inside the carrier placement table 202, but is not limited to this location. For example, the mover 403 can be installed inside the stage 400. In this case, the mover 403 projects from the stage 400 through the through-hole (movable element guide hole) provided in the carrier placement table 202 on the placement surface of the carrier placement table 202 by air supply control. What should I do? If the air is removed, the mover 403 is retracted into the stage 400 through the through hole.

以上説明したように、本発明によれば、キャリア内のウェーハが前垂れ状態となっていても、ロボットハンドに対して平行な状態に修正することが可能である。したがって、前垂れ状態のウェーハがキャリア内に存在している場合でも、中止することなく安定してウェーハの搬送処理を実行することが可能となる。   As described above, according to the present invention, even when the wafer in the carrier is in a front-hanging state, it can be corrected to a state parallel to the robot hand. Therefore, even when a wafer in a drooping state exists in the carrier, the wafer transfer process can be stably executed without stopping.

ウェーハ搬送システムの構成例。1 is a configuration example of a wafer transfer system. キャリアとマッピングユニットの位置関係を示した、キャリア載置テーブルの上面図。The top view of the carrier mounting table which showed the positional relationship of a carrier and a mapping unit. 前垂れ状態のウェーハを示したキャリアの断面図。Sectional drawing of the carrier which showed the wafer of the front drooping state. 可動子とキャリア載置テーブルの移動機構を示した、ロードポート装置の側面断面図。Side surface sectional drawing of the load port apparatus which showed the moving mechanism of a needle | mover and a carrier mounting table. 可動子と位置決めピンとクランプピンを示した、キャリア載置テーブルの上面図。The top view of the carrier mounting table which showed the needle | mover, the positioning pin, and the clamp pin. 可動子の動作機構を示した拡大図。The enlarged view which showed the operation mechanism of the needle | mover. キャリア載置テーブルとガイドの結合部を示した拡大図。The enlarged view which showed the coupling | bond part of the carrier mounting table and a guide. 実施の形態1による前垂れ修正処理のシーケンス図。FIG. 6 is a sequence diagram of a sag correction process according to the first embodiment. 実施の形態2による前垂れ修正処理のシーケンス図。FIG. 11 is a sequence diagram of a sag correction process according to a second embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

100…ロードポート装置、100a…ロードポート装置の開口部、101…ミニエンバイロメント装置、102…ウェーハ処理装置、103…マッピングユニット、103a…マッピング用のセンサ、104…搬送ロボット、105…キャリア、106…搬送ロボットのハンド、107…キャリアの内壁に生じた傷、108…キャリアのスロットのウェーハ支持部、200…(発光側)センサアーム、201…(受光側)センサアーム、202…キャリア載置テーブル、203…ウェーハ、203a…前垂れ状態となっているウェーハ、400…ステージ、401…テーブル用アクチュエータ、402…クランプピン、403…可動子、403a…キャリアの開口部に対向する内壁に近い位置の可動子、404…レール、405…ガイド、406…可動子用アクチュエータ、407…制御コントローラ、408…エアー供給路の出口側ポート、409…エアー供給路のステージ側ポート、410…位置決めピン、411…キャリア105の底部に設けられた凹部(位置決め穴)、412…クランプピン用アクチュエータ、700…ボルト。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Load port apparatus, 100a ... Opening part of load port apparatus, 101 ... Mini-environment apparatus, 102 ... Wafer processing apparatus, 103 ... Mapping unit, 103a ... Sensor for mapping, 104 ... Transfer robot, 105 ... Carrier, 106 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Transfer robot hand, 107 ... Scratches generated on inner wall of carrier, 108 ... Wafer support part of carrier slot, 200 ... (light emitting side) sensor arm, 201 ... (light receiving side) sensor arm, 202 ... carrier mounting table , 203 ... wafer, 203a ... wafer in a drooping state, 400 ... stage, 401 ... table actuator, 402 ... clamp pin, 403 ... movable element, 403a ... movable at a position close to the inner wall facing the opening of the carrier Child, 404 ... rail, 405 ... guide, 06 ... Actuator for mover, 407 ... Control controller, 408 ... Outlet side port of air supply path, 409 ... Stage side port of air supply path, 410 ... Positioning pin, 411 ... Recessed part provided at bottom of carrier 105 (positioning Hole), 412 ... Clamp pin actuator, 700 ... Bolt.

Claims (8)

複数のウェーハを収納するキャリアを載置するキャリア載置テーブルを備えたロードポート装置において、
可動子を前記テーブルのキャリア載置面から突き出し引っ込み動作させるための機構を備えることを特徴とするロードポート装置。
In the load port device provided with a carrier mounting table for mounting a carrier for storing a plurality of wafers,
A load port device comprising a mechanism for projecting and retracting a mover from a carrier mounting surface of the table.
請求項1のロードポート装置において、
前記キャリア載置面に設けられたキャリア位置決めピンと、
前記キャリア位置決めピンと嵌め合うために前記キャリアの底面に設けられたキャリア位置決め穴と、
前記キャリア載置面上で前記キャリアをクランプするためのクランプ機構と、
前記キャリア内のウェーハを取り出すに際してキャリア内のウェーハの収納状態をマッピングするマッピング装置と、
マッピングの結果、キャリア内に適正な状態で収納されていないウェーハを検出した場合に前記キャリアに対する前記クランプを解除して、前記可動子を前記テーブルのキャリア載置面から突き出し引っ込み動作させる制御機構と、を備え、
前記可動子の前記キャリア載置面からの突き出し量は、前記キャリア位置決めピンと前記キャリア位置決め穴の嵌め合いが外れない範囲内で前記キャリアを上方に押し出し可能な移動量に設定してあることを特徴とするロードポート装置。
The load port device of claim 1,
A carrier positioning pin provided on the carrier mounting surface;
A carrier positioning hole provided in the bottom surface of the carrier for fitting with the carrier positioning pin;
A clamping mechanism for clamping the carrier on the carrier mounting surface;
A mapping device for mapping the storage state of the wafer in the carrier when taking out the wafer in the carrier;
As a result of mapping, when a wafer that is not stored in a proper state in the carrier is detected, a control mechanism that releases the clamp on the carrier and causes the movable element to protrude and retract from the carrier mounting surface of the table; With
The amount of protrusion of the mover from the carrier mounting surface is set to a movement amount that allows the carrier to be pushed upward within a range in which the fit between the carrier positioning pin and the carrier positioning hole is not removed. And load port device.
請求項1のロードポート装置において、
前記可動子を作動させる機構は、エアーの供給制御により前記可動子を作動させる空気圧式アクチュエータにより構成されていることを特徴とするロードポート装置。
The load port device of claim 1,
The mechanism for operating the mover is constituted by a pneumatic actuator that operates the mover by air supply control.
請求項3のロードポート装置において、
ウェーハの搬送中は、前記可動子を突き出し引っ込み動作させるための前記空気圧式アクチュエータのエアー供給路が遮断されるように設定されていることを特徴とするロードポート装置。
The load port device of claim 3,
The load port apparatus is configured so that an air supply path of the pneumatic actuator for projecting and retracting the movable element is interrupted during transfer of the wafer.
半導体の製造プロセスにおいて、
複数のウェーハを収納するキャリアの少なくとも一部を、該キャリアを載置するキャリア載置テーブルの載置面から突き出し引っ込み動作をするように設けた可動子で、前記キャリア載置面から浮かせた後に前記キャリア載置面にウェーハ位置の修正が可能な衝撃を伴って戻すことを特徴とするウェーハ状態修正方法。
In the semiconductor manufacturing process,
After floating at least a part of the carrier storing a plurality of wafers from the carrier mounting surface, with a mover provided so as to project and retract from the mounting surface of the carrier mounting table on which the carrier is mounted. A wafer state correcting method, wherein the wafer mounting surface is returned with an impact capable of correcting a wafer position.
請求項5のウェーハ状態修正方法において、
前記可動子を作動させる機構は、エアーの供給制御により前記可動子を作動させる空気圧式アクチュエータにより構成されていることを特徴とするウェーハ状態修正方法。
The wafer state correcting method according to claim 5, wherein
The wafer condition correcting method, wherein the mechanism for operating the mover is constituted by a pneumatic actuator for operating the mover by air supply control.
請求項6のウェーハ状態修正方法において、
ウェーハの搬送中は、前記可動子を突き出し引っ込み動作させるための前記空気圧式アクチュエータのエアー供給路が遮断されるように設定されていることを特徴とするウェーハ状態修正方法。
The wafer state correcting method according to claim 6,
A wafer state correcting method, wherein an air supply path of the pneumatic actuator for projecting and retracting the movable element is interrupted during wafer transfer.
複数のウェーハを収納するキャリアを、ロードポート装置のキャリア載置テーブルに載置する工程と、
前記キャリア内のウェーハの位置や状態をマッピングユニットでマッピングする工程と、
マッピングの結果、キャリア内に適正な状態で収納されていないウェーハを検出した場合、前記キャリア載置テーブルのキャリア載置面から突き出し引っ込み動作をするように設けた可動子で、前記キャリアの少なくとも一部を押し上げた後に前記キャリア載置面にウェーハ位置の修正が可能な衝撃を伴って戻す工程と、
再びマッピングユニットでウェーハの位置や状態をマッピングする工程と、
マッピングの結果、キャリア内に未だ位置修正されないウェーハが検出された場合に、再び前記可動子の動作により前記キャリアの少なくとも一部を押し上げた後に前記キャリア載置面にウェーハ位置の修正が可能な衝撃を伴って戻す工程と、
を有することを特徴とするウェーハ状態修正方法。
A step of placing a carrier storing a plurality of wafers on a carrier placement table of a load port device;
Mapping the position and state of the wafer in the carrier with a mapping unit;
As a result of mapping, when a wafer that is not properly stored in the carrier is detected, a mover is provided so as to project and retract from the carrier mounting surface of the carrier mounting table. Returning the wafer placement surface with an impact capable of correcting the wafer position after pushing up the part;
The process of mapping the position and state of the wafer with the mapping unit again,
As a result of mapping, when a wafer whose position has not been corrected is detected in the carrier, an impact capable of correcting the wafer position on the carrier mounting surface after pushing up at least a part of the carrier again by the operation of the mover Returning with
A wafer state correcting method characterized by comprising:
JP2007157549A 2007-06-14 2007-06-14 Load port device, and wafer state correction method Pending JP2008311419A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007157549A JP2008311419A (en) 2007-06-14 2007-06-14 Load port device, and wafer state correction method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007157549A JP2008311419A (en) 2007-06-14 2007-06-14 Load port device, and wafer state correction method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008311419A true JP2008311419A (en) 2008-12-25

Family

ID=40238779

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007157549A Pending JP2008311419A (en) 2007-06-14 2007-06-14 Load port device, and wafer state correction method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008311419A (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010106785A1 (en) * 2009-03-19 2010-09-23 芝浦メカトロニクス株式会社 Substrate transfer device and substrate transfer method
JP2011238646A (en) * 2010-05-06 2011-11-24 Denso Corp Conveyance system
JP2012195448A (en) * 2011-03-16 2012-10-11 Hitachi High-Tech Instruments Co Ltd Wafer ring feeding device and wafer ring feeding method
WO2013105533A1 (en) * 2012-01-10 2013-07-18 東京エレクトロン株式会社 Substrate processing system and substrate position correction method
KR20140085707A (en) * 2012-12-27 2014-07-08 세메스 주식회사 Apparatus and method for transfering substrate
JP2016072385A (en) * 2014-09-29 2016-05-09 株式会社Screenホールディングス Substrate housing container, load port device and substrate processing apparatus
US9993988B2 (en) 2008-06-27 2018-06-12 Tredegar Film Products Corporation Protective film with release surface
WO2022158174A1 (en) * 2021-01-21 2022-07-28 村田機械株式会社 Purge device and transport system

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9993988B2 (en) 2008-06-27 2018-06-12 Tredegar Film Products Corporation Protective film with release surface
JPWO2010106785A1 (en) * 2009-03-19 2012-09-20 芝浦メカトロニクス株式会社 Substrate transport apparatus and substrate transport method
WO2010106785A1 (en) * 2009-03-19 2010-09-23 芝浦メカトロニクス株式会社 Substrate transfer device and substrate transfer method
JP5499021B2 (en) * 2009-03-19 2014-05-21 芝浦メカトロニクス株式会社 Substrate transport apparatus and substrate transport method
US8620469B2 (en) 2010-05-06 2013-12-31 Denso Corporation Carrier system and method for handling carried object using the same
JP2011238646A (en) * 2010-05-06 2011-11-24 Denso Corp Conveyance system
JP2012195448A (en) * 2011-03-16 2012-10-11 Hitachi High-Tech Instruments Co Ltd Wafer ring feeding device and wafer ring feeding method
JP2013143425A (en) * 2012-01-10 2013-07-22 Tokyo Electron Ltd Substrate processing system and substrate position correction method
US9318363B2 (en) 2012-01-10 2016-04-19 Tokyo Electron Limited Substrate processing system and substrate position correction method
WO2013105533A1 (en) * 2012-01-10 2013-07-18 東京エレクトロン株式会社 Substrate processing system and substrate position correction method
KR20140085707A (en) * 2012-12-27 2014-07-08 세메스 주식회사 Apparatus and method for transfering substrate
KR102139617B1 (en) * 2012-12-27 2020-07-31 세메스 주식회사 Apparatus and method for transfering substrate
JP2016072385A (en) * 2014-09-29 2016-05-09 株式会社Screenホールディングス Substrate housing container, load port device and substrate processing apparatus
WO2022158174A1 (en) * 2021-01-21 2022-07-28 村田機械株式会社 Purge device and transport system

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008311419A (en) Load port device, and wafer state correction method
KR101877425B1 (en) Substrate transfer apparatus, substrate transfer method, and storage medium
JP6455239B2 (en) Door opener
US9696262B2 (en) Substrate processing apparatus, method of operating substrate processing apparatus, and storage medium
KR102291970B1 (en) Substrate processing apparatus, position deviation correction method and storage medium
TWI425590B (en) Substrate treating apparatus, and a substrate transporting method therefor
JP2009200063A (en) Basal plate deformation detecting mechanism, processing system, basal plate deformation detection method and recording medium
JP7148825B2 (en) Load port and substrate transfer system with load port
KR20130116021A (en) Substrate transfer device, substrate transfer method, and storage medium
JP5689096B2 (en) Substrate transfer apparatus, substrate transfer method, and substrate transfer storage medium
JP2012049382A (en) Load port and efem
KR102150670B1 (en) Stocker
JP2004266242A (en) System for transporting substrate carrier
JP6568828B2 (en) Teaching jig, substrate processing apparatus and teaching method
US12112966B2 (en) Article accommodation facility
KR102326021B1 (en) Apparatus for transferring doors
JP4976811B2 (en) Substrate processing system, substrate transfer apparatus, substrate transfer method, and recording medium
CN112956010B (en) Substrate processing apparatus and substrate conveying method
WO2024201688A1 (en) Substrate removal method and substrate transfer system
JP2011003695A (en) Substrate transfer apparatus
WO2024157316A1 (en) Substrate transport apparatus and substrate transport method
KR102264856B1 (en) Apparatus for transferring container
JP2985532B2 (en) IC device transfer method
KR20200039227A (en) Stocker
JPH0272650A (en) Substrate containing apparatus