JP2008302317A - コールドスプレー方法、コールドスプレー装置 - Google Patents
コールドスプレー方法、コールドスプレー装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008302317A JP2008302317A JP2007152894A JP2007152894A JP2008302317A JP 2008302317 A JP2008302317 A JP 2008302317A JP 2007152894 A JP2007152894 A JP 2007152894A JP 2007152894 A JP2007152894 A JP 2007152894A JP 2008302317 A JP2008302317 A JP 2008302317A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- material powder
- temperature
- base material
- cold spray
- melting point
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C24/00—Coating starting from inorganic powder
- C23C24/02—Coating starting from inorganic powder by application of pressure only
- C23C24/04—Impact or kinetic deposition of particles
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Nozzles (AREA)
Abstract
【解決手段】材料粉末Aをノズルから高速で噴射して基材B上に堆積させるコールドスプレー装置1において、基材Bを材料粉末Aの融点以下の第一所定温度に加熱する基材加熱部50と、基材B向けて材料粉末Aを噴射するコールドスプレー部10と、を備える。
【選択図】図1
Description
材料粉末としては、金属、合金、金属間化合物、セラミックスなどが用いられる。また、作動ガスとしては、空気、窒素、ヘリウムなどが用いられ、材料粉末の融点よりも低い温度に設定される。
まず、材料粉末の粒径を微細化すると却って粉砕処理に時間がかかってコスト上昇を招いてしまう。同様に、材料粉末の噴射速度を上げると、作動ガスの使用量が増加してコスト上昇を招いてしまう。
更に、作動ガスを一定温度に制御するのは実際には困難な場合が少なくなく、作動ガスの温度のばらついた場合には、形成される皮膜の品質が不均一になってしまう等の問題がある。
第一の発明は、材料粉末をノズルから高速で噴射して基材上に堆積させるコールドスプレー方法において、前記基材を第一所定温度に温度制御する第一工程と、前記基材に向けて前記材料粉末を噴射する第二工程と、を有することを特徴とする。
これにより、ノズルから高速で噴射された材料粉末が基材に衝突した際に、基材から熱を吸収して変形しやすくなる。
また、前記第一所定温度(絶対温度)は、前記材料粉末の融点(絶対温度)の約半分の温度であることを特徴とする。
これにより、材料粉末に熱変質等が発生することを回避できる。
また、前記第一所定温度(絶対温度)は、前記基材の融点(絶対温度)の約半分の温度であることを特徴とする。
これにより、材料粉末及び基材に熱変質等が発生することを回避できる。
これにより、材料粉末が更に変形しやすくなる。
これにより、ノズルから高速で噴射された材料粉末が基材に衝突した際に、基材から熱を吸収して変形しやすくなる。
これにより、材料粉末が更に変形しやすくなる。
材料粉末をノズルから高速で噴射して基材上に堆積させる際に、基材を第一所定温度に温度制御して、材料粉末が変形しやすくしているので、噴射された材料粉末の殆どが基材に付着するようになり、材料粉末の付着効率向上を達成することができる。
また、ノズルから噴射される材料粉末を予め加熱しておくことで、更に材料粉末が変形しやすくなり、材料粉末の付着効率の向上を図ることができる。
図1は、本実施形態に係るコールドスプレー装置1の概略構成を示す模式図である。
図2は、本実施形態に係るコールドスプレー部10の概略構成を示す模式図である。
コールドスプレーシステム1は、コールドスプレー部10と、基材Bを載置すると共に基材Bを一定温度に温度制御する基材温度調整部50等から構成される。
なお、作動ガスGとしては、空気、窒素、ヘリウムなどが用いられる。特に、不活性ガス(ヘリウム)が好適である。ガス圧力は、0.27〜0.69MPa程度であるが、特に、0.59〜0.69MPa程度が好適である。
従来のプラズマ溶射法、フレーム溶射法、高速フレーム溶射法などに比べ、材料粉末をあまり加熱せずに固相状態のまま基材Bに付着させることができる。
これによって得た皮膜Rは、緻密で密度、熱伝導率・導電性が高い、密着性も良好である等の優れた性質を有する。特に、材料粉末Aを加熱して溶融させないので、酸化や熱変質が殆どないという優れた性質を有する。
加熱ヒータ54としては、高周波コイル(高周波誘導加熱装置)が好適に用いられる。交流電源に接続された加熱ヒータ54(高周波コイル)を作動させると、加熱プレート52の表面付近に高密度のうず電流が発生し、そのジュール熱で加熱プレート52が誘導加熱するようになっている。
これにより、基材Bが例えばセラミックスのように非導電性物質の場合であっても、加熱プレート52上に基材Bを載置することで、加熱プレート52からの熱伝導により加熱される。
したがって、温度制御部58は、温度センサ56の検出結果に基づいて加熱ヒータ54を制御することで、基材Bを所望の温度に加熱・維持することが可能となっている。
基材Bが加熱されていると、基材Bに材料粉末Aが衝突した際に、基材Bから材料粉末Aに熱が伝導し、これにより材料粉末Aが塑性変形しやすくなる。この際、基材Bが材料粉末Aの融点よりも低い温度に設定されているので、材料粉末Aが溶解したり、材質変化(酸化や熱変質)が発生したりすることはない。更に、噴射された材料粉末Aの殆どが基材Bに付着するようになり、材料粉末Aの付着効率向上を達成することができる。
具体的には、材料粉末Aがアルミニウムの場合には、アルミニウムの融点が993Kなので、基材Bの加熱温度を466.5K以下に設定する。材料粉末Aがニッケル(融点1726K)の場合には、基材Bの加熱温度を863K以下に設定する。
同様に、金(融点1337K)の場合は加熱温度668.5K以下、銀(融点1234K)の場合は加熱温度617K以下、銅(融点1356K)の場合は加熱温度678K以下、鉄(融点1808K)の場合は加熱温度904K以下に、それぞれ設定する。
しかし、一般に基材Bの融点はWCのそれより大幅に低く、たとえばNi基合金を基材Bとして用いるのであれば、その融点は1600〜1900K程ほどであるから、その半分以下の800〜950K以下が望ましい。
特に、基材Bの加熱温度K1として、基材Bの融点(絶対温度)の約半分程度の温度(絶対温度)とすることが好ましい。材質変化の発生を確実に回避するためである。
具体的には、基材Bがアルミニウムの場合には、アルミニウムの融点が993Kなので、基材Bの加熱温度を466.5K以下に設定する。基材Bがニッケル(融点1726K)の場合には、基材Bの加熱温度を863K以下に設定する。
同様に、金(融点1337K)の場合は加熱温度668.5K以下、銀(融点1234K)の場合は加熱温度617K以下、銅(融点1356K)の場合は加熱温度678K以下、鉄(融点1808K)の場合は加熱温度904K以下に、それぞれ設定する。
これにより、材料粉末Aと基材Bとの温度差が小さくなるので、材料粉末Aが基材Bに衝突した際に、瞬間的に確実に熱伝導が行われて、材料粉末Aが塑性変形しやすくなる。つまり、基材Bから材料粉末Aへの熱伝導量を少なくすることができ、基材Bから材料粉末Aへの熱伝導が確実となる。
また、作動ガスGによる材料粉末Aの加熱温度K2は、基材Bの加熱温度K1よりも低く設定されているので、材料粉末Aの熱が基材Bに吸収されてしまうことを防止できる。
例えば、材料粉末AがAlの場合は、作動ガスG温度K2は466.5K以下、Niの場合(融点1728K)には864K以下、Tiの場合(融点1940K)には970K以下に設定する。
具体的には、材料粉末Aが軟質材料であるアルミニウムの場合には、作動ガスGの加熱温度K2を437K(200℃)程度に設定する。この際、基材Bの加熱温度K1は、最高466K程度である。これにより、材料粉末Aと基材Bとの温度差が小さくなり、材料粉末Aが基材Bに衝突した際に、瞬間的に確実に熱伝導が行われて、材料粉末Aが塑性変形し、良好な皮膜Rが形成できる。
同様に、材料粉末Aが金,銀の場合も、作動ガスGの加熱温度K2を437K(200℃)程度に設定する。この際、基材Bの加熱温度K1は、最高668K,617K程度である。
材料粉末Aが硬質材料である鉄の場合には、作動ガスGの加熱温度K2を637K(400℃)程度に設定する。この際、基材Bの加熱温度K1は、最高904K程度である。
例えば、基材Bが導電体の場合には、加熱プレート52を用いなくてもよい。すなわち、加熱ヒータ54(高周波コイル)を作動させると、基材Bにうず電流が発生して、非接触かつ直接に基材Bを誘導加熱される。
10…コールドスプレー部
11N…ノズル
13…ガス加熱器(ガス加熱部)
50…基材温度調整部(基材加熱部)
B…基材
A…材料粉体
G…作動ガス
R…皮膜
K1…基材の加熱温度(第一所定温度)
K2…作動ガスの加熱温度(第二所定温度)
Claims (8)
- 材料粉末をノズルから高速で噴射して基材上に堆積させるコールドスプレー方法において、
前記基材を第一所定温度に温度制御する第一工程と、
前記基材に向けて前記材料粉末を噴射する第二工程と、
を有することを特徴とするコールドスプレー方法。 - 前記第一所定温度は、前記材料粉末の融点以下の温度であることを特徴とする請求項1に記載のコールドスプレー方法。
- 前記第一所定温度(絶対温度)は、前記材料粉末の融点(絶対温度)の約半分の温度であることを特徴とする請求項2に記載のコールドスプレー方法。
- 前記第一所定温度は、前記基材の融点以下の温度であることを特徴とする請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載のコールドスプレー方法。
- 前記第一所定温度(絶対温度)は、前記基材の融点(絶対温度)の約半分の温度であることを特徴とする請求項4に記載のコールドスプレー方法。
- 第二工程は、前記ノズルから前記材料粉末と共に噴射する作動ガスにより前記材料粉末を前記第一所定温度以下の第二所定温度に予加熱する工程を含むことを特徴とする請求項1から請求項5のうちいずれか一項に記載のコールドスプレー方法。
- 材料粉末をノズルから高速で噴射して基材上に堆積させるコールドスプレー装置において、
前記基材を前記材料粉末の融点以下の第一所定温度に加熱する基材加熱部と、
前記基材に向けて前記材料粉末を噴射するコールドスプレー部と、
を備えることを特徴とするコールドスプレー装置。 - 前記コールドスプレー部は、前記ノズルから前記材料粉末と共に噴射する作動ガスを前記第一所定温度以下の第二所定温度に加熱するガス加熱部を備えることを特徴とする請求項7に記載のコールドスプレー装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007152894A JP4973324B2 (ja) | 2007-06-08 | 2007-06-08 | コールドスプレー方法、コールドスプレー装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007152894A JP4973324B2 (ja) | 2007-06-08 | 2007-06-08 | コールドスプレー方法、コールドスプレー装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008302317A true JP2008302317A (ja) | 2008-12-18 |
JP4973324B2 JP4973324B2 (ja) | 2012-07-11 |
Family
ID=40231495
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007152894A Expired - Fee Related JP4973324B2 (ja) | 2007-06-08 | 2007-06-08 | コールドスプレー方法、コールドスプレー装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4973324B2 (ja) |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010162602A (ja) * | 2009-01-07 | 2010-07-29 | General Electric Co <Ge> | コールド・スプレー技術を用いて金属部品を結合するシステム及び方法 |
JP2011023475A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Mitsubishi Materials Corp | 絶縁基板、絶縁回路基板、半導体装置、絶縁基板の製造方法及び絶縁回路基板の製造方法 |
WO2012128327A1 (ja) | 2011-03-23 | 2012-09-27 | 日本発條株式会社 | 積層体、導電材料および積層体の製造方法 |
WO2012137950A1 (ja) | 2011-04-06 | 2012-10-11 | 日本発條株式会社 | 積層体および積層体の製造方法 |
US8414977B2 (en) | 2010-05-10 | 2013-04-09 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Masking jig, substrate heating device, and coating method |
JP2013513029A (ja) * | 2009-12-04 | 2013-04-18 | ザ リージェンツ オブ ユニバーシティー オブ ミシガン | 同軸レーザ支援コールド・スプレー・ノズル |
JP2013177670A (ja) * | 2012-02-09 | 2013-09-09 | Tocalo Co Ltd | フッ化物溶射皮膜の形成方法およびフッ化物溶射皮膜被覆部材 |
WO2014128952A1 (ja) * | 2013-02-25 | 2014-08-28 | 株式会社 日立製作所 | Ti被覆構造体とその製法 |
JP2015145538A (ja) * | 2015-04-28 | 2015-08-13 | 日本発條株式会社 | 積層体の製造方法 |
US9421570B2 (en) | 2012-02-09 | 2016-08-23 | Tocalo Co., Ltd. | Method for forming fluoride spray coating and fluoride spray coating covered member |
JP2016209563A (ja) * | 2015-04-30 | 2016-12-15 | アービンメリトール・テクノロジー,エルエルシー | シャフト釣合いシステムおよびシャフトの釣合いをとる方法 |
EP3156514A4 (en) * | 2014-06-11 | 2018-01-24 | NHK Spring Co., Ltd. | Method for producing laminate, and laminate |
CN108188401A (zh) * | 2018-03-22 | 2018-06-22 | 顺德职业技术学院 | 高频感应加热辅助冷喷涂沉积金属3d打印方法与设备 |
CN108247043A (zh) * | 2018-03-22 | 2018-07-06 | 顺德职业技术学院 | 可熔化去除支撑的冷喷涂沉积金属3d打印方法与设备 |
US10119195B2 (en) | 2009-12-04 | 2018-11-06 | The Regents Of The University Of Michigan | Multichannel cold spray apparatus |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102084235B1 (ko) * | 2015-12-28 | 2020-03-03 | 아이원스 주식회사 | 투명 불소계 박막의 형성 방법 및 이에 따른 투명 불소계 박막 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09184080A (ja) * | 1995-12-27 | 1997-07-15 | Vacuum Metallurgical Co Ltd | 超微粒子による薄膜形成方法、およびその薄膜形成装置 |
JP2005095886A (ja) * | 2003-09-02 | 2005-04-14 | Nippon Steel Corp | コールドスプレー用ノズル並びにコールドスプレー被膜及び製造方法 |
JP2006116532A (ja) * | 2004-08-23 | 2006-05-11 | Delphi Technologies Inc | 動的スプレー処理による、高速被覆溶着のための連続インライン製造工程 |
JP2008544092A (ja) * | 2005-06-28 | 2008-12-04 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト | セラミック層を製作する方法 |
-
2007
- 2007-06-08 JP JP2007152894A patent/JP4973324B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09184080A (ja) * | 1995-12-27 | 1997-07-15 | Vacuum Metallurgical Co Ltd | 超微粒子による薄膜形成方法、およびその薄膜形成装置 |
JP2005095886A (ja) * | 2003-09-02 | 2005-04-14 | Nippon Steel Corp | コールドスプレー用ノズル並びにコールドスプレー被膜及び製造方法 |
JP2006116532A (ja) * | 2004-08-23 | 2006-05-11 | Delphi Technologies Inc | 動的スプレー処理による、高速被覆溶着のための連続インライン製造工程 |
JP2008544092A (ja) * | 2005-06-28 | 2008-12-04 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト | セラミック層を製作する方法 |
Cited By (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010162602A (ja) * | 2009-01-07 | 2010-07-29 | General Electric Co <Ge> | コールド・スプレー技術を用いて金属部品を結合するシステム及び方法 |
JP2011023475A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Mitsubishi Materials Corp | 絶縁基板、絶縁回路基板、半導体装置、絶縁基板の製造方法及び絶縁回路基板の製造方法 |
US10119195B2 (en) | 2009-12-04 | 2018-11-06 | The Regents Of The University Of Michigan | Multichannel cold spray apparatus |
US9481933B2 (en) | 2009-12-04 | 2016-11-01 | The Regents Of The University Of Michigan | Coaxial laser assisted cold spray nozzle |
KR101770576B1 (ko) * | 2009-12-04 | 2017-08-23 | 더 리젠츠 오브 더 유니버시티 오브 미시건 | 동축 레이저 보조형 콜드 스프레이 노즐 |
JP2013513029A (ja) * | 2009-12-04 | 2013-04-18 | ザ リージェンツ オブ ユニバーシティー オブ ミシガン | 同軸レーザ支援コールド・スプレー・ノズル |
US8414977B2 (en) | 2010-05-10 | 2013-04-09 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Masking jig, substrate heating device, and coating method |
WO2012128327A1 (ja) | 2011-03-23 | 2012-09-27 | 日本発條株式会社 | 積層体、導電材料および積層体の製造方法 |
KR20130126734A (ko) | 2011-04-06 | 2013-11-20 | 니혼 하츠쵸 가부시키가이샤 | 적층체 및 적층체의 제조 방법 |
CN103459671A (zh) * | 2011-04-06 | 2013-12-18 | 日本发条株式会社 | 层叠体及层叠体的制造方法 |
EP2695972A1 (en) * | 2011-04-06 | 2014-02-12 | NHK Spring Co., Ltd. | Laminate, and method for producing laminate |
CN105195746A (zh) * | 2011-04-06 | 2015-12-30 | 日本发条株式会社 | 层叠体及层叠体的制造方法 |
EP2695972A4 (en) * | 2011-04-06 | 2014-12-17 | Nhk Spring Co Ltd | LAMINATE AND MANUFACTURING PROCESS FOR THE LAMINATE |
JP2012219304A (ja) * | 2011-04-06 | 2012-11-12 | Nhk Spring Co Ltd | 積層体および積層体の製造方法 |
WO2012137950A1 (ja) | 2011-04-06 | 2012-10-11 | 日本発條株式会社 | 積層体および積層体の製造方法 |
US9162251B2 (en) | 2011-04-06 | 2015-10-20 | Nhk Spring Co., Ltd. | Lamination and method for manufacturing lamination |
JP2013177670A (ja) * | 2012-02-09 | 2013-09-09 | Tocalo Co Ltd | フッ化物溶射皮膜の形成方法およびフッ化物溶射皮膜被覆部材 |
US9421570B2 (en) | 2012-02-09 | 2016-08-23 | Tocalo Co., Ltd. | Method for forming fluoride spray coating and fluoride spray coating covered member |
JP2015042786A (ja) * | 2012-02-09 | 2015-03-05 | トーカロ株式会社 | フッ化物溶射皮膜の形成方法およびフッ化物溶射皮膜被覆部材 |
JPWO2014128952A1 (ja) * | 2013-02-25 | 2017-02-02 | 株式会社日立製作所 | Ti被覆構造体とその製法 |
WO2014128952A1 (ja) * | 2013-02-25 | 2014-08-28 | 株式会社 日立製作所 | Ti被覆構造体とその製法 |
EP3156514A4 (en) * | 2014-06-11 | 2018-01-24 | NHK Spring Co., Ltd. | Method for producing laminate, and laminate |
US10315388B2 (en) | 2014-06-11 | 2019-06-11 | Nhk Spring Co., Ltd. | Method of manufacturing laminate and laminate |
JP2015145538A (ja) * | 2015-04-28 | 2015-08-13 | 日本発條株式会社 | 積層体の製造方法 |
JP2016209563A (ja) * | 2015-04-30 | 2016-12-15 | アービンメリトール・テクノロジー,エルエルシー | シャフト釣合いシステムおよびシャフトの釣合いをとる方法 |
CN108188401A (zh) * | 2018-03-22 | 2018-06-22 | 顺德职业技术学院 | 高频感应加热辅助冷喷涂沉积金属3d打印方法与设备 |
CN108247043A (zh) * | 2018-03-22 | 2018-07-06 | 顺德职业技术学院 | 可熔化去除支撑的冷喷涂沉积金属3d打印方法与设备 |
CN108247043B (zh) * | 2018-03-22 | 2024-04-02 | 顺德职业技术学院 | 可熔化去除支撑的冷喷涂沉积金属3d打印方法及设备 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4973324B2 (ja) | 2012-07-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4973324B2 (ja) | コールドスプレー方法、コールドスプレー装置 | |
CA3067686C (en) | Cold spray gun and cold spray device equipped therewith | |
Amin et al. | A review on thermal spray coating processes | |
JP3918379B2 (ja) | 溶射方法、溶射装置及び粉末通路装置 | |
JP4795157B2 (ja) | コールドスプレー装置 | |
TWI432603B (zh) | 冷噴霧器用噴嘴及使用該冷噴霧器用噴嘴之冷噴霧器裝置 | |
US7654223B2 (en) | Cold spray apparatus having powder preheating device | |
US20100193480A1 (en) | Deposition of materials with low ductility using solid free-form fabrication | |
JP5745315B2 (ja) | 積層体および積層体の製造方法 | |
US20160047052A1 (en) | Gas dynamic cold spray method and apparatus | |
CN103459667A (zh) | 层叠体、导电材料及层叠体的制造方法 | |
JP2012025983A (ja) | 被膜形成方法及びその方法により形成される複合材 | |
JP2022552886A (ja) | コールドスプレーシステムにおける多重ノズルの設計および関連する方法 | |
WO2008119696A1 (en) | Composite aluminium or aluminium alloy porous structures | |
US7244466B2 (en) | Kinetic spray nozzle design for small spot coatings and narrow width structures | |
JP2019014914A (ja) | 金属セラミックス基材、金属セラミックス接合構造、金属セラミックス接合構造の作製方法、及び混合粉末材料 | |
JP2018178149A (ja) | コールドスプレーガン及びそれを備えたコールドスプレー装置 | |
JP2008302311A (ja) | コールドスプレー方法 | |
JP5130991B2 (ja) | コールドスプレー方法、コールドスプレー装置 | |
Li et al. | Effects of spray parameters on the microstructure and property of Al2O3 coatings sprayed by a low power plasma torch with a novel hollow cathode | |
JP6014199B2 (ja) | 積層体の製造方法 | |
CN100560781C (zh) | 表面改质方法及装置、旋转部件及流体机械 | |
US20050074560A1 (en) | Correcting defective kinetically sprayed surfaces | |
JP5428302B2 (ja) | 樹脂構造体の製造方法および樹脂構造体製造装置 | |
US20120193126A1 (en) | Method of forming sensors and circuits on components |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100426 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111017 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111025 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111226 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120313 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120326 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4973324 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150420 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |