JP2008293881A - 画像表示装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】より一層高精細な画像表示装置を実現する。
【解決手段】基板の上にそれぞれ異なる色を表示する複数の画素部材から構成される絵素が複数設けられ、画素部材のそれぞれに、信号が入力されることで画像を表示する画像表示装置である。第1の画素部材13と、第2の画素部材14と、第3の画素部材15と、第2の画素部材14と同一の色を表示する第4の画素部材16と、がその順で繰り返し基板11の上に設けられている。絵素は、画素部材13、14、15、または、画素部材15、16、13の組み合わせによって構成される。絵素を構成する画素部材13には、ある絵素を構成する画素部材13に対応した入力信号と、他の絵素を構成する画素部材13に対応した入力信号と、に基づいて生成された2つの信号21が入力される。画素部材15には、ある絵素を構成する画素部材15に対応した入力信号と、他の絵素を構成する画素部材15に対応した入力信号と、に基づいて生成された2つの信号21が入力される。
【選択図】図1

Description

本発明は、複数の画素部材に信号が入力されることで画像を表示する画像表示装置に関するものである。
近年、大きくて重いCRT(Cathode Ray Tube)ディスプレイに代わるディスプレイとしてフラットパネルディスプレイが注目されている。例えば、液晶ディスプレイ(Liquid Crystal Display)やプラズマディスプレイ(Plasma Display)が盛んに研究開発されている。また、有機ELディスプレイ(Organic Electroluminescence Display)、フィールドエミッションディスプレイ(Field Emission Display)などの研究開発も盛んである。
CRTディスプレイを含む上記ディスプレイは、異なる色を表示する複数の画素部材を有する点で共通している。そして、ディスプレイの高精細化を実現するために、画素部材の配置に関して様々な提案がなされている。
特許文献1には、上記画素部材の一つであって、電子ビームが照射されると発光する蛍光体を次のように配置することが記載されている。すなわち、発光色が異なる複数の蛍光体をそれら蛍光体への電子ビームの照射によって形成される発光部形状の短軸方向に沿って配列することが記載されている。また、特許文献1には、赤(R)、緑(G)、青(B)の3色の蛍光体を上記のように配置することが記載されている。
特許文献2には、図13(a)(b)に示すような蛍光体の配置が記載されている。具体的には、赤(R)の蛍光体ストライプ3、緑(G)の蛍光体ストライプ2、および青(B)の蛍光体ストライプ1を一組とし、各組の蛍光体ストライプ1、2、3を同一色の蛍光体ストライプが隣接するように配置することが記載されている。
特開平7−302551号公報 特開平7−169420号公報
本発明は、従来技術とは異なるアプローチでより一層高精細な画像を表示できる画像表示装置を実現しようとするものである。
本発明の画像表示装置は、基板の上にそれぞれ異なる色を表示する複数の画素部材から構成される絵素が複数設けられ、前記複数の画素部材のそれぞれに、信号が入力されることで画像を表示する画像表示装置である。第1の画素部材と、第2の画素部材と、第3の画素部材と、前記第2の画素部材と同一の色を表示する第4の画素部材と、がその順で繰り返し前記基板の上に設けられている。前記絵素は、前記第1の画素部材、前記第2の画素部材および前記第3の画素部材、または、前記第3の画素部材、前記第4の画素部材および繰り返し設けられた前記第1の画素部材の組み合わせによって構成されている。前記絵素を構成する前記第1の画素部材には、ある絵素を構成する前記第1の画素部材に対応した入力信号と、他の絵素を構成する前記第1の画素部材に対応した入力信号と、に基づいて生成された2つの信号が入力される。前記第3の画素部材には、ある絵素を構成する前記第3の画素部材に対応した入力信号と、他の絵素を構成する前記第1の画素部材に対応した入力信号と、に基づいて生成された2つの信号が入力される。
高精細な画像を表示できる画像表示装置が実現される。
以下、表面伝導型電子放出素子を用いたフィールドエミッションディスプレイを例にとって本発明の画像表示装置の実施形態の一例について説明する。尚、フィールドエミッションディスプレイは、高画質なフラットパネルディスプレイであるが、本発明を適用することによって、画質をさらに向上させることが可能である。
図1は、本例の画像表示装置の概略構造を示す模式的分解斜視図である。図中、符号11は基板、12は黒色部材、13は第1の画素部材、14は第2の画素部材、15は第3の画素部材、16は第4の画素部材、17はメタルバック、21は入力信号に基づいて信号発生源から出力される信号をそれぞれ示している。また、符号31は基板11に対向する別の基板(リア側基板)、33および34は素子電極、35は信号線、36は絶縁層、37は走査線、38は導電性膜、41は枠部材、42は大気圧支持部材、をそれぞれ示している。そして、フェースプレート10aは、基板11、黒色部材12、画素部材13〜16、メタルバック17を有する。また、リアプレート10bは、リア側基板31と、素子電極33、34及び導電成膜38を有する表面伝導型電子放出素子32と、信号線35と、絶縁層36と、走査線37とを備える。
図1では、基板11と、黒色部材12及び各画素部材13〜16とを分離して示してあるが、黒色部材12及び各画素部材13〜16は、基板11の上に形成されている。また、第1の画素部材13、第2の画素部材14及び第3の画素部材15は、それぞれ異なる色を表示する。また、第4の画素部材16と第2の画素部材14とは同一の色を表示する。具体的には、第1の画素部材13は、信号21が入力されると赤(R)の光を発する蛍光体であり、第2、第4の画素部材14、16は、緑(G)の光を発する蛍光体であり、第3の画素部材15は、青(B)の光を発する蛍光体である。ここで同一の色には、実質的に同一の色も含まれる。
基板11は、例えば石英ガラス、青板ガラス、無アルカリガラス、高歪点ガラスなどである。特に高歪点ガラスは、製造工程中の熱処理工程でひずみ難いという点で好ましい。尚、基板11は、画素部材からの発光を透過できる程度の透明性を備えていればよい。
また、黒色部材12は、例えば、カーボン、クロム、コバルト、チタン、ルテニウム等や、それらの化合物等を含有し、可視光反射率の低いものであれば特に限定されるものではない。尚、黒色部材12は、コントラスト向上、画素間の混色防止を目的として形成されている。また、黒色部材12は、通常のフォトリソグラフィ法などによって形成することができる。
画素部材13〜16には、カソードルミネッセンス材料を用いることができる。具体的な材料としては、Y22S:Eu3+、Zn3(PO42:Mn2+、ZnS:Cu,Al、ZnS:Au,Cu,Al、Zn2SiO4:Mn2+,As、ZnS:Agなどが挙げられる。
尚、図1では、便宜上、4つの画素部材13〜16と、それらに対応する表面伝導型電子放出素子32と、が設けられた構成を示しているが、高精細な画像を表示するために、具体的には以下のように構成される。
複数設けられた各画素部材13〜16は、以下の順序で繰り返し配置されている。すなわち、第1の画素部材13に第2の画素部材14が隣接し、第2の画素部材14に第3の画素部材15が隣接し、第3の画素部材15に第4の画素部材16が隣接し、第4の画素部材16に次の第1の画素部材13が隣接している。もっとも、上記配列は、水平方向(図1中の矢印x方向)における配列を述べたものである。垂直方向(図1中の矢印y方向)においては、同一の画素部材が連続して配置されている。
信号21は、各画素部材13〜16に照射または印加することによって、各画素部材13〜16に所定の色を表示させることが可能なものである。この信号21は、例えば、赤、青、緑の3色の発光を1組とし、それらを組み合わせて画像を表示するように、映像信号がそれぞれの発光に対応して分割されている場合には、各映像信号に対応する信号のことをいう。
信号21は、画素部材13〜16に対応した入力信号に基づいて生成される。ここで入力信号は、画像を表示するための情報が信号化された映像信号である。入力信号の典型例としては、画像表示装置に接続される駆動回路(ドライバ)に入力される前の映像信号が挙げられる。そして、この典型例では、映像信号が、駆動回路で画像表示装置を駆動するための電気信号に変換され、信号21が生成される。
本例の画像表示装置では、第1の画素部材13及び第3の画素部材15には、2つの信号21が入力され、第3の画素部材14及び第4の画素部材16には1つの信号21が入力される。そして、第1の画素部材13には、ある絵素を構成する第1の画素部材13に対応した入力信号と、他の絵素を構成する第1の画素部材13に対応した入力信号と、に基づいて生成された2つの信号21が入力される。また、第3の画素部材15には、ある絵素を構成する第3の画素部材15に対応した入力信号と、他の絵素を構成する第3の画素部材15に対応した入力信号と、に基づいて生成された2つの信号21が入力される。ある絵素および他の絵素は、画像を構成する互いに別個の要素である。第1の画素部材13および第3の画素部材15では、ある絵素および他の絵素の映像情報が1つの画素部材に入力され、画素部材13〜16が繰り返し配置されることで、全体として高精細な画像表示が可能となる。尚、絵素は、複数の画素部材から構成され、カラー画像を表示するための最小要素である。例えば、カラー画像を表示するために、赤、青、緑の3色の発光が用いられる場合には、その3色に対応した画素部材を含み、連続して配列される構成単位が絵素となる。
ここで、画素部材13〜16がカソードルミネッセンス材料である本例の画像表示装置(フィールドエミッションディスプレイ)にあっては、電子線(電子ビーム)が信号21に相当する。一方、画素部材がフォトルミネッセンス材料である場合には紫外線が信号に相当し、エレクトロルミネッセンス材料である場合には電圧が信号に相当する。また、画素部材が光学フィルターである場合には、可視光などが信号に相当する。このように、信号は、画素部材に応じて異なり、画素部材はディスプレイの種類によって異なる。
1つの画素部材に2つの信号を入力する方法の1つには、2つの信号を1つの画素部材に入力する方法がある。具体的には、2つの異なる絵素を構成する別々の画素に対応した入力信号(映像信号)に基づいて2つの信号を生成し、それら2つの信号を1つの画素(画素部材)に入力して該画素部材を励起する方法である。
1つの画素部材に2つの信号を入力する方法の他の1つは、2つの異なる絵素を構成する別々の画素に対応した入力信号(映像信号)が合成された1つの信号を1つの画素(画素部材)に入力する方法である。2つの映像信号が合成された1つの信号を生成する方法としては、2つの映像信号を加算して1つの信号を生成する方法、2つの映像信号を平均して1つの信号を生成する方法、2つの映像信号を加算及び平均して1つの信号を生成する方法などを用いる。さらに具体的な例としては、次の2つ方法が考えられる。
(a)2つの映像信号を加算した量に相当する強度(例えば電流量)の信号を生成する方法
(b)単位選択期間を2つに分割し、前半の期間を端から奇数番目に位置する画素の選択期間、後半を偶数番目に位置する画素の選択期間とし、それぞれの期間に対応する画素の映像信号に相当する強度の信号を生成する方法
上記(b)の方法における単位選択期間とは、1つの画素を励起するのに連続して割り当てられた期間であって、線順次点灯のディスプレイならば映像の1フレーム期間を走査線本数で分割した期間に相当する。サブフィールド点灯のディスプレイならば各サブフィールドが相当する。
また、CRTディスプレイの場合に2つの信号を1つの画素部材に入力する具体的方法の一例として、1画素に対応するカソードルンミネッセンス材料に電子線を2度照射する方法が挙げられる。プラズマディスプレイの場合には、1画素に対応するフォトルミネッセンス材料に紫外線を2度照射する方法が挙げられる。有機ELディスプレイの場合には、1画素に対応するエレクトロルミネッセンス材料に電圧を2度印加する方法が挙げられる。液晶表示装置の場合には光学フィルターに可視光を2度照射する方法が挙げられる。
画素部材は、画像表示装置の種類によって適用する材料を選択する。画像表示装置がプラズマディスプレイの場合、画素部材は、フォトルミネッセンス材料である。フォトルミネッセンス材料の例としては、YVO4:Eu3+、Y23:Eu3+、YP0.650.354:Eu3+、YBO3:Eu3+、Zn2SiO4:Mn、Y3(Al,Ga)512:Ceが挙げられる。また、BaMg2Al1424:Eu,Mn、CeMgAl1119:Tb、Mg(Ga,Al)24:Mn、CaWO4:Pb、CaWO4:W、Sr3(PO42:Eu2+、Ba3(PO42:Eu2+、Y2SiO5:Ce3+なども挙げられる。さらに、YP0.850.154、SrMg(SiO42:Eu2+、BaMg2Al1424:Eu2+、Sr5Cl(PO43:Eu2+なども挙げられる。
画像表示装置が有機ELディスプレイの場合、画素部材は、エレクトロルミネッセンス材料となる。エレクトロルミネッセンス材料の例としては、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系等の系の蛍光増白剤が挙げられる。また、金属キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物、ジスチリルピラジン誘導体、ポリフェニル系化合物も挙げられる。また、12−フタロペリノン、1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、1,1,4,4−テトラフェニル−1,3−ブタジエン、ナフタルイミド誘導体、ペリレン誘導体も挙げられる。さらに、オキサジアゾール誘導体、アルダジン誘導体、ピラジリン誘導体、シクロペンタジエン誘導体も挙げられる。加えて、ピロロピロール誘導体、スチリルアミン誘導体、クマリン系化合物、芳香族ジメチリディン化合物、8−キノリノール誘導体等の金属錯体等や、ポリフェニレンビニレン類などの全共役系ポリマーなども挙げられる。
画像形成素子が液晶ディスプレイの場合、画素部材は光学フィルターになる。
再び図1を参照する。画素部材13〜16には、横×縦=50〜300μm×50〜900μmのサイズを適用することが可能であり、画像表示装置の画素数は、横×縦=320〜4000×RGB×240〜2000画素、画面サイズは20〜100インチを適用することができる。
より好ましくは、ハイビジョン対応の画素数(1920×RGB×1080)の場合は30インチ程度、いわゆる4k2k対応の画素数(3840×RGB×2048)の場合は、60インチ程度の画面サイズを適用できる。
以上説明した本発明の構成は、上述した実施形態に限定されることはなく、本発明の目的を達成するものであれば、各構成要素が代替物や均等物に置換されたものであってもよい。
(実施例1)
次に、本発明の画像表示装置の第1の実施例について説明する。図2は、本例の画像表示装置の模式的断面図である。図3は、本例の画像表示装置のフェースプレート10aの模式的平面図である。図4は、本例の画像表示装置のリアプレート10bの模式的平面図である。尚、本例の画像表示装置の全体構成は図1に示すとおりである。
まず、フェースプレート10aの製造工程について説明する。十分に洗浄した基板(高歪点ガラス)11上にスパッタ法にて、Cr23を厚さ=30nmで成膜した。引き続き、Crを厚さ=60nmで成膜した。その後、フォトリソグラフィ法を用いて、図3中、a=240μm、b=80μm、c=120μm、d=200μm、e=80μmにパターニングを行い、黒色部材(ブラックマトリクス)12を形成した。尚、図3から明らかではあるが、念のため図中のa〜eが示す各サイズについて説明する。aは、第1及び第2の画素部材13、15の水平方向における長さ(幅)である。bは、水平方向に隣接する画素部材間におけるブラックマトリクス12の幅である。cは、第2及び第4の画素部材14、16の水平方向における長さ(幅)である。dは、各画素部材13〜16の垂直方向における長さ(高さ)である。eは、垂直方向に隣接する画素部材間におけるブラックマトリクス12の幅である。また、画素数=1280×RGB×768画素、画面サイズ=664.84mm×215.04mmで形成した。
次に、緑色蛍光体粉末(化成オプトニクス社製P22−GN4)を、ポリビニルアルコールと重クロム酸塩の混合水溶液に分散させ、緑色蛍光体スラリーを作製した。その後、スピンコート法により、上述の緑色蛍光体スラリーを膜厚=15μmで塗布し、オーブンにて80℃×15分の乾燥を行った。さらに、フォトリソグラフィ法によりパターニングを行い、ブラックマトリクス12の開口部(図3中、Gと示す)に第2、第4の画素部材14、16として緑色蛍光体を形成した。
次に、赤色蛍光体粉末(化成オプトニクス社製P22−RE3)、青色蛍光体粉末(化成オプトニクス社製P22−B1)を用いて赤色蛍光体ペースト及び青色蛍光体ペーストを作製した。具体的には、上記蛍光体粉末、テルピネオール、およびブチルカルビトールアセテートとエチルセルロースを混合して得たビヒクルを混合した。さらに、赤色蛍光体ペーストをスクリーン印刷法により、ブラックマトリクス12の開口部(図3中、Rと示す)に塗布し、オーブンにて80℃×15分の乾燥を行って第1の画素部材13として赤色蛍光体を形成した。次いで、青色蛍光体ペーストを同様にブラックマトリクス12の開口部(図3中、Bと示す)に塗布し、第3の画素部材15として青色蛍光体を形成した。その後、オーブンにて450℃×60分で焼成することで、それぞれの蛍光体中に含まれる樹脂分を分解除去した。
続いて、コロイダルシリカ(日産化学工業社製スノーテックス)をスピンコート法により塗布し、オーブンにて100℃×10分の乾燥を行った。尚、コロイダルシリカ塗布は、上記蛍光体の付着力強化のために行った。
さらに、アクリルエマルジョンをスピンコート法により全面に塗布し、オーブンにて120℃×10分の熱処理を行って、いわゆるフィルミング膜を形成した。尚、フィルミング膜は、後述するメタルバック17の平坦化を目的として形成した。
その後、EB蒸着法によって、Alを膜厚=100nmで形成し、450℃×60分の焼成を行い、上記フィルミング膜を分解除去することで、メタルバック17を形成した。尚、メタルバック17は、画素部材13〜16に入力される信号21の発生源である表面伝導型電子放出素子32から放出される電子の加速電極として機能する。さらに、画素部材13〜16から発せられた光のうち、メタルバック17側に放出されたものを画像表示側に反射させ、輝度を向上させる機能も果たす。以上の工程を経てフェースプレート10aを製造した。
次に、リアプレート10bについて説明する。図4は、本例におけるリアプレート10bの構造を示す模式的平面図である。まず、図4中、j=120μm、k=200μmとなるように素子電極33、34を形成した。その後、公知の手法により、信号線35、絶縁層36、走査線37、導電性膜38を順次形成して、表面伝導型電子放出素子32を備えるリアプレート10bを製造した。
続いて、画像表示装置の組み立て工程について説明する。図1に示すように、フェースプレート10aとリアプレート10bの間に枠部材41及び大気圧支持部材42を低融点ガラス(不図示)を用いて接着し、気密容器を得た。その後、真空排気孔(不図示)から真空排気及び封止を行うことで、本例の画像表示装置を組み立てた。
また、本例の画像表示装置では、不図示の高圧電源によってメタルバック17に10kVの高電圧を印加するとともに、表面伝導型電子放出素子32に外部の駆動ドライバ(不図示)より駆動信号を入力することで、信号(電子線)21を放出させる。そして、電子線21を各画素部材13〜16に照射することで画像が表示される。尚、図3中の符号25は、表面伝導型電子放出素子32から放出される電子線21の照射形状(スポット形状)を模式的に示したものである。ここで、異なる色の画素部材が繰り返し配置される方向における絵素の大きさを絵素幅(W)とする。尚、絵素幅は、1絵素分の入力信号に基づいて生成された信号が入力される領域であって、繰り返し連続して配列される構成単位となる部分に該当する。
以上のように構成した本例の画像表示装置では、絵素幅(W)=520μmとなり、高い解像度の画像が得られた。
(比較例)
図5は、本発明の画像表示装置と対比される画像表示装置(比較例)の断面図である。図6は、比較例におけるフェースプレートの正面図である。
図6中b=80μm、c=120μm、d=200μm、e=80μmとなるように実施例1と同様の手法を用いて本発明を適用しない画像表示装置を製造し、同一条件で比較検討を行った。ここで、本発明を適用しないとは、本発明の第4の画素部材に相当に画素部材が設けられていないこと、及びすべての画素部材に1つの信号が入力されることを意味する。前者について捕捉して説明すれば、図6に示すように、比較例では第1の画素部材13、第2の画素部材14及び第3の画素部材15が繰り返し配置されている。第1の画素部材13、第2の画素部材14及び第3の画素部材15の材料に関しては実施例1と比較例との間に相違点はない。
実施例1の画像表示装置と比較例の画像表示装置とを比較した結果、前者では絵素幅(W)が520μmであるのに対し、後者の絵素幅(W)は600μmであり、実施例1の画像表示装置の方が高精細であることが確認された。
さらに、実施例1と比較例の画像表示装置を2台並べ、それぞれ同一の画像を表示して比較した。その結果、実施例1の画像表示装置は、画像表示上の不具合もなく、比較例の画像表示装置よりも高精細・高密度の画像が表示されていることが確認された。
(実施例2)
次に、本発明の画像表示装置の第2の実施例について説明する。図7は、本例の画像表示装置の模式的断面図である。図8は、本例の画像表示装置のフェースプレート10aの模式的平面図である。図9は、本例の画像表示装置のリアプレート10bの模式的平面図である。尚、本例の画像表示装置の全体構成は図1に示すとおりである。
本例の画像表示装置と実施例1の画像表示装置との相違点の1つは、フェースプレート10a上に形成されたブラックマトリクス12のパターンである。もちろん、ブラックマトリクス12のパターンが変更されたことに伴って、画素部材13〜16のサイズや間隔も変更になっている。具体的には図8に示すように、f=120μm、g=80μm、h=200μm、i=80μmに変更した。尚、図8中のfは、各画素部材13〜16の水平方向における長さ(幅)である。gは、水平方向に隣接する画素部材間におけるブラックマトリクス12の幅である。hは、各画素部材13〜16の垂直方向における長さ(高さ)である。iは、垂直方向に隣接する画素部材間におけるブラックマトリクス12の幅である。
本例の画像表示装置と実施例1の画像表示装置との相違点の他の1つは、リアプレート10b上に形成された表面伝導型電子放出素子32の間隔である。具体的には図9に示すように、l=40μm、m=170μmに変更した。
以上のように構成された本例の画像表示装置では、絵素幅(W)が400μmとなり、実施例1の画像表示装置の絵素幅(W=520μm)よりも高精細化された。
さらに、本例及び比較例の画像表示装置を2台並べ、それぞれ同一の画像を表示して比較した。その結果、比較例の画像表示装置よりも、本例の画像表示装置の方が高精細・高密度の画像を表示していることが確認された。
(実施例3)
次に、本発明の画像表示装置の第3の実施例について説明する。図10は、本例の画像表示装置の模式的断面図である。図11は、本例の画像表示装置のフェースプレート10aの模式的平面図である。図12は、本例の画像表示装置のリアプレート10bの模式的平面図である。尚、本例の画像表示装置の全体構成は図1に示すとおりである。また、フェースプレート10a上のブラックマトリクス12のパターンや画素部材13〜16のサイズ、間隔については、実施例2と同様である。
本例では、全ての表面伝導型電子放出素子32を同一間隔で配置した。具体的には図12に示すように、水平方向の配置間隔o=200μmとなるように配置した。さらに、第1の画素部材13と第3の画素部材15に対応する表面伝導型電子放出素子32に、実質的に2画素分の映像信号が加算された信号(電子ビーム)21を出力させた。具体的には、第1の画素部材13と第3の画素部材15に対応する表面伝導型電子放出素子32から、2画素分の映像信号が加算された量に相当する強度の信号(電子ビーム)21が出力されるようにした。さらに具体的には、第1及び第2の画素部材13、15の発光輝度が2画素分の輝度を足し合わせた輝度となるように、対応する表面伝導型電子放出素子32に印加される素子電圧を調整した。本実施例では、第1の画素部材13と第3の画素部材15に2絵素分(2画素分)の入力信号に基づいて生成された信号が入力されている。従って、1絵素の幅である絵素幅(W)は、図11に示すように、第1の画素部材13の半分の位置から第3の画素部材15の画素部材の半分の位置までとする。
以上のように構成された本例の画像表示装置では、絵素幅(W)が400μmとなり、実施例1の画像表示装置の絵素幅(W=520μm)よりも高精細化された。
さらに、本例及び比較例の画像表示装置を2台並べ、それぞれ同一の画像を表示して比較した。その結果、比較例の画像表示装置よりも、本例の画像表示装置の方が高精細・高密度の画像を表示していることが確認された。
(実施例4)
本例の画像表示装置は、第1の画素部材と第3の画素部材に対応する表面伝導型電子放出素子に、実質的に2画素分の映像信号が加算された信号(電子ビーム)を出力させるための具体的構成においてのみ実施例3の画像表示装置と異なる。
具体的には、第1の画素部材及び第3の画素部材の発光輝度が2つの画素の輝度を足し合わせた輝度となるように、対応する表面伝導型電子放出素子に入力される駆動信号のパルス幅を調整した。
以上のように構成した本例の画像表示装置と比較例の画像表示装置を2台並べ、それぞれ同一の画像を表示して比較した。その結果、比較例の画像表示装置よりも、本例の画像表示装置の方が高精細・高密度の画像を表示していることが確認された。
(実施例5)
本例の画像表示装置は、第1の画素部材と第3の画素部材に対応する表面伝導型電子放出素子に、実質的に2画素分の映像信号が加算された信号(電子ビーム)を出力させるための具体的構成においてのみ実施例3の画像表示装置と異なる。
具体的には、図10に示す第1の画素部材13と第3の画素部材15に対応する表面伝導型電子放出素子32に、2画素分の映像信号を平均した映像信号に基づいて生成した駆動信号を入力した。より具体的には、第1及び第3の画素部材13、15の発光輝度が2つの画素の輝度を平均した輝度となるように、対応する表面伝導型電子放出素子32に印加する素子電圧を調整した。
また、輝度バランスを合わせるために、第2及び第4の画素部材14、16に対応する表面伝導型電子放出素子32に印加される素子電圧を調整して、発光輝度を1/2にした。
以上のように構成した本例の画像表示装置と比較例の画像表示装置を2台並べ、それぞれ同一の画像を表示して比較した。その結果、比較例の画像表示装置よりも、本例の画像表示装置の方が高精細・高密度の画像を表示していることが確認された。
(実施例6)
本例の画像表示装置は、実質的に2画素分の映像信号が加算された信号(電子ビーム)を出力させるための具体的構成においてのみ実施例5の画像表示装置と異なる。
具体的には、図10に示す第1及び第3の画素部材13、15の発光輝度が2つの画素の輝度を平均した輝度となるように、対応する表面伝導型電子放出素子32に入力される駆動信号のパルス幅を調整した。
以上のように構成した本例の画像表示装置と比較例の画像表示装置を2台並べ、それぞれ同一の画像を表示して比較した。その結果、比較例の画像表示装置よりも、本例の画像表示装置の方が高精細・高密度の画像を表示していることが確認された。
本発明の画像表示装置の実施形態の一例を示す模式的分解斜視図である。 実施例1の画像表示装置の模式的断面図である。 図2に示すフェースプレートの模式的平面図である。 図2に示すリアプレートの模式的平面図である。 比較例の画像表示装置の模式的断面図である。 図5に示すフェースプレートの模式的平面図である。 実施例2の画像表示装置の模式的断面図である。 図7に示すフェースプレートの模式的平面図である。 図7に示すリアプレートの模式的平面図である。 実施例3の画像表示装置の模式的断面図である。 図10に示すフェースプレートの模式的平面図である。 図10に示すリアプレートの模式的平面図である。 画素部材の配置の一例を示す模式図である。
符号の説明
11 基板
12 黒色部材
13 第一の画素部材
14 第二の画素部材
15 第三の画素部材
16 第四の画素部材
21 信号
32 表面伝導型電子放出素子

Claims (5)

  1. 基板の上にそれぞれ異なる色を表示する複数の画素部材から構成される絵素が複数設けられ、前記複数の画素部材のそれぞれに、信号が入力されることで画像を表示する画像表示装置であって、
    第1の画素部材と、第2の画素部材と、第3の画素部材と、前記第2の画素部材と同一の色を表示する第4の画素部材と、がその順で繰り返し前記基板の上に設けられ、
    前記絵素は、前記第1の画素部材、前記第2の画素部材および前記第3の画素部材、または、前記第3の画素部材、前記第4の画素部材および繰り返し設けられた前記第1の画素部材の組み合わせによって構成され、
    前記絵素を構成する前記第1の画素部材には、ある絵素を構成する前記第1の画素部材に対応した入力信号と、他の絵素を構成する前記第1の画素部材に対応した入力信号と、に基づいて生成された2つの信号が入力され、前記第3の画素部材には、ある絵素を構成する前記第3の画素部材に対応した入力信号と、他の絵素を構成する前記第3の画素部材に対応した入力信号と、に基づいて生成された2つの信号が入力されることを特徴とする画像表示装置。
  2. 前記第1の画素部材及び前記第3の画素部材にそれぞれ入力される前記2つの信号が、それぞれ異なる発生源から出力された信号であることを特徴とする請求項1記載の画像表示装置。
  3. 前記第1の画素部材及び前記第3の画素部材にそれぞれ入力される前記2つの信号が、同一の発生源から出力された信号であることを特徴とする請求項1記載の画像表示装置。
  4. 複数の開口部を有する黒色部材が前記基板の上に設けられ、前記第1から前記第4の画素部材は、それぞれ異なる前記開口部に設けられていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の画像表示装置。
  5. 前記第1から前記第4の画素部材に入力される前記信号が、前記基板に対向する別の基板の上に設けられた電子放出素子から放出される電子線であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の画像表示装置。
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