JP2008272638A - 処理装置 - Google Patents

処理装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2008272638A
JP2008272638A JP2007117513A JP2007117513A JP2008272638A JP 2008272638 A JP2008272638 A JP 2008272638A JP 2007117513 A JP2007117513 A JP 2007117513A JP 2007117513 A JP2007117513 A JP 2007117513A JP 2008272638 A JP2008272638 A JP 2008272638A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
treated
gas
liquid
supplied
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2007117513A
Other languages
English (en)
Inventor
Hidetoshi Morimoto
秀敏 森本
Koichi Kubo
浩一 久保
Yosuke Inoue
陽介 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JDC Corp
Original Assignee
JDC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JDC Corp filed Critical JDC Corp
Priority to JP2007117513A priority Critical patent/JP2008272638A/ja
Publication of JP2008272638A publication Critical patent/JP2008272638A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)

Abstract

【課題】 簡単かつ安価な構成でありながら、メンテナンスフリーを実現しつつ、外部へ有害な物質を流出させることなく、被処理流体に対して効率良く浄化、殺菌、消毒等の所定の処理を施すことができる処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 貯水槽1から供給通路2を介して被処理水がマイクロバブラー3に供給され、マイクロバブラー3において微細気泡が発生された被処理水がリアクター装置7に供給される。リアクター装置7の処理空間8では、微細気泡の有する特性を利用して、被処理水中に含まれるVOC等の有機物を酸化分解して浄化したり、細菌等を殺菌、消毒等する。処理空間8内で所定に処理された液体を排出するための液体排出通路11は、マイクロバブラー3に接続される。また、処理空間8の上方空間10内の気体は、気体還流通路13を介して、マイクロバブラー3に供給される。
【選択図】図1

Description

本発明は、処理装置に関する。より詳しくは、微細気泡(マイクロバブル或いはナノバブル)を利用して、水道水、下水、地下水、河川水、湖沼水、産業排水(廃水)など、及び所定の成分を含む気体などに対して、浄化等の所定の処理を施す処理装置に関する。
近年、微細気泡を利用して、例えば、水などの液体の浄化,殺菌,消毒を行うことが行われている。
すなわち、微細気泡は、マイクロバブルと称される直径が50マイクロメータ以下のミクロンオーダーの微細な気泡、或いはナノバブルと称されるナノオーダーの超微細な気泡であり、一般に、このようなサイズの気泡は、水の中を漂いながら、周囲流体への気泡内気体の溶け込みにより、液中で縮小していき、約1〜3分程度で完全溶解すること、微細気泡は、周囲液体への溶け込みにしたがって直径が減少するため、表面張力の効果により内部が高温,高圧になること、気泡は微細になるほど体積に対する表面積比が大きくなるため溶解効率が高くなるが気体の圧力に比例して溶解度が増加するヘンリーの法則によって溶解が更に促進されること(所謂自己加圧効果)、微細気泡にはマイナスの電荷を帯びる帯電作用があること、微細気泡はその消滅時にラジカルを発生すること、このラジカル作用と前記帯電作用による吸着作用とが相俟って、微細気泡に吸着された細菌,有機物を効果的に分解することで浄化、殺菌、消毒効果などが得られること、など様々な特性を有することが知られている。
また、オゾンの溶け込んだオゾン水は酸化還元電位が高く、強力な殺菌効果を有することなどから、オゾンを前記微細気泡に含ませることで、より一層、浄化、殺菌、消毒効果を促進した装置、例えば、特許文献1に記載されているような洗浄装置が提案されている。
このものは、水に空気を溶解した溶解水を加圧作用により製造するための溶解水製造手段と、当該溶解水を加圧状態から解放して微細気泡を発生させつつ外部へ吐出するバブル発生ノズルと、を備えると共に、前記溶解水製造手段の上流側にオゾン発生装置を接続して、オゾンを含む微細気泡を発生させている。
また、特許文献2には、オゾンを含む微細気泡を被処理水に混入し、当該オゾン微細気泡混入の被処理水を水処理槽に注入して被処理水を消毒処理するようにした水処理設備が記載されている。
特許第3782090号明細書 特開2007−21393号公報
上述した特許文献1や特許文献2には、オゾンを微細気泡に含ませることで、効果的に浄化、殺菌、消毒等の促進を図っているが、より一層効率良く浄化、殺菌、消毒等することが望まれる。
また、水やガス等の処理対象物を浄化、殺菌、消毒等するための装置から外部へ、浄化、殺菌、消毒等の際に生成される有害な中間生成物や副生成物や、余剰のオゾン等が流出することを、メンテナンスフリーを実現しつつ簡単かつ低コストな構成で防止することが望まれる。
本発明は、かかる実情に鑑みなされたもので、簡単かつ安価な構成でありながら、メンテナンスフリーを実現しつつ、外部へ有害な物質を流出させることなく、被処理流体に対して効率良く浄化、殺菌、消毒等の所定の処理を施すことができる処理装置を提供することを目的とする。
このため、本発明に係る処理装置は、
水を主成分とする液体にオゾンを含む気体からなる微細気泡を発生させつつ吐出する微細気泡発生装置と、
当該微細気泡発生装置から供給される微細気泡が発生された液体を介して被処理流体に対して所定の処理を施す処理空間を有するリアクター装置と、
を備えた処理装置であって、
リアクター装置に供給された液体を、微細気泡発生装置において用いられる液体として利用することを特徴とする。
本発明においては、リアクター装置の処理空間内の気体を、微細気泡発生装置において用いられる気体として利用することを特徴とすることができる。
本発明においては、複数のリアクター装置及び微細気泡発生装置が備えられることを特徴とすることができる。
本発明においては、単一のリアクター装置及び前記微細気泡発生装置が備えられることを特徴とすることができる。
本発明においては、被処理流体が液体であり、微細気泡発生装置において用いられる液体として供給されることを特徴とすることができる。
本発明においては、被処理流体が気体であることを特徴とすることができる。
本発明においては、前記処理空間内に対して紫外線を照射することができる。
本発明においては、前記処理空間内に光酸化触媒を配設することができる。
本発明によれば、簡単かつ安価な構成でありながら、メンテナンスフリーを実現しつつ、外部へ有害な物質を流出させることなく、被処理流体に対して効率良く浄化、殺菌、消毒等の所定の処理を施すことができる処理装置を提供することができる。
以下に、本発明の係る処理装置の実施の形態について、添付の図面を参照しつつ説明する。なお、以下で説明する実施の形態により、本発明が限定されるものではない。
本発明の第一の実施の形態に係る処理装置は、被処理流体が液体の場合の例を示しており、例えば揮発性有機化合物(VOC)等が混入された地下水や排水など(以下、被処理水と称する)を浄化処理等するための処理装置に関する。
なお、揮発性有機化合物(VOC)等は有機物に含まれ、揮発性有機化合物(VOC)等としては、例えば、アセトアルデヒド、アセトン、トリクロロエチレン、ベンゼン、トルエン等の揮発性有機化合物や、ガソリン、灯油、軽油等の揮発油等が想定される。
図1に示すように、本実施の形態に係る処理装置では、貯水槽1に、VOC等が混入された被処理水が供給され、当該貯水槽1から配管部材等により構成される供給通路2を介して前記被処理水が、微細気泡発生装置であるマイクロバブラー3に供給される。
このマイクロバブラー3は、図5に示すように、マイクロバブルと称される直径が50マイクロメータ以下のミクロンオーダーの微細気泡、或いはナノバブルと称されるナノオーダーの超微細気泡(以下、これらを単に微細気泡と称する)を発生させるために、供給される被処理水に加圧作用により空気を溶解させた溶解水を製造する溶解水製造手段4と、当該溶解水を加圧状態から解放して微細気泡を発生させつつリアクター装置7へ吐出するバブル発生ノズル5と、を備えると共に、前記溶解水製造手段4の上流側にオゾン発生装置6を接続して、当該溶解水製造手段4において空気を前記溶解水に溶解させる際に同時にオゾンを溶解させ、前記バブル発生ノズル5により発生される被処理水中の微細気泡中にオゾンを含ませることができるように構成されている(特許文献2に記載されている微細気泡発生機構等参照)。
そして、前記バブル発生ノズル5から吐出される微細気泡を含む被処理水は、図1に示すように、リアクター装置7の内部に下部から供給されるようになっている。
このリアクター装置7は、内部に処理空間8を有しており、当該処理空間8は、前記バブル発生ノズル5から供給された微細気泡を含む被処理水を所定容積収容可能に構成され、当該収容された被処理水に対して、前記バブル発生ノズル5から供給される被処理水中の微細気泡を所定に漂わせることで微細気泡の有する特性を利用して、被処理水中に含まれるVOC等の有機物を酸化分解して浄化したり、被処理水中に含まれる細菌等を殺菌、消毒等することができるようになっている。
なお、処理空間8内の被処理水中を微細気泡が所定に漂うことができるように、すなわち微細気泡の消滅に必要な時間やラジカル反応時間などを確保することができるように、処理空間8には、微細気泡の浮上速度を制御するためのバッファプレート9が配設されている。図1では、2枚のバッファプレート9を記載しているが、微細気泡が所定の時間を掛けて上昇するように、適宜枚数を変更すること、その取り付け角度を適宜の値に設定或いは調整することができるものである。
また、本実施の形態では、より一層効果的に、被処理水中に含まれるVOC等の有機物を酸化分解して浄化したり、被処理水中に含まれる細菌等を殺菌、消毒等することができるように、リアクター装置7の処理空間8において微細気泡の消滅或いはオゾンによるラジカル反応中の被処理水に対して、紫外線を照射することができるように構成されている。例えば、処理空間8内に紫外線照射ランプを配設する構成や、処理空間8を画成する隔壁を石英ガラス等で形成してその外部に紫外線照射ランプを配設するように構成することができる。
これにより、微細気泡に含まれるオゾンに紫外線が照射されるためオゾンが活性化されてラジカルが発生し、微細気泡の消滅時に発生するラジカルと相俟って、一層強力かつ安定した酸化作用を生じさせることができ、以って被処理水中に含まれるVOC等の有機物を効果的に酸化分解して浄化したり、被処理水中に含まれる細菌等を効果的に殺菌、消毒等することができることになる。
更に、バッファプレート9の表面に、二酸化チタン等の光酸化触媒Pを例えばコーティング等の方法で配設することができる。当該光酸化触媒Pは、紫外線等が照射されると、その表面でラジカルが発生して強力な酸化作用が生じるため、当該光酸化触媒Pに接触する被処理水中に含まれるVOC等の有機物を効果的に酸化分解して浄化したり、被処理水中に含まれる細菌等を効果的に殺菌、消毒等することができることになる。紫外線照射ランプを処理空間8の内部に配設する場合には処理空間8の内壁に、或いは紫外線照射ランプを処理空間8の外部に配設する場合には紫外線照射の妨げとならない処理空間8の内壁領域に、光酸化触媒Pをコーティング等することもできる。
このようにして、微細気泡、オゾン、紫外線、光酸化触媒等の作用により処理された被処理水は、処理空間8の上部に接続された液体排出通路11を介して処理空間8から排出される。この液体排出通路11には、当該液体排出通路11を流れる被処理水中に含まれるVOC等の有機物等の濃度を測定するための液体濃度測定器12が配設されている。
また、処理空間8に収容される被処理水の上方空間10は、被処理水中で消滅せずに被処理水から未反応のまま放出される微細気泡中のオゾン、或いは微細気泡の消滅時におけるラジカル反応、或いはオゾン、紫外線、光酸化触媒によるラジカル反応が十分でなく中間生成或いは副生成された有害成分を含む気体などで満たされることになるが、これらをそのまま大気中へ放出することは環境破壊等の面から避けるべきことである。
このため、従来においては、例えばこれらを活性炭等により吸着することで、大気中への放出を防止していた。しかしながら、活性炭等は比較的高価であると共に、所定期間毎に再生や交換が必要であり維持コストが嵩むばかりでなく、メンテナンス作業が必要で設備の維持という点で煩わしさが残るといった問題がある。
そこで、本実施の形態では、このような上方空間10に貯留された気体を、気体還流通路13を介して、前記オゾン発生装置6延いてはマイクロバブラー3の入力側へ還流させるようになっている。
このようにすると、マイクロバブラー3の溶解水製造手段4においてオゾンを含む空気を被処理水中に溶解させる際に、前記還流された気体を同時に溶解させることができるため、バブル発生ノズル5により発生される被処理水中の微細気泡中に外部から取り込まれる新しい空気及びオゾンに加え、前記還流された気体を溶解させることができ、以って前記還流された気体中の有害成分を微細気泡の消滅時におけるラジカル反応、或いはオゾン、紫外線、光酸化触媒によるラジカル反応によって酸化分解することができることになる。
従って、本実施の形態においては、被処理水の浄化等が進むに連れて、前記上方空間10に貯留される気体も繰り返し前記ラジカル反応による酸化分解に供されて徐々に浄化されることになる。このため、従来のような活性炭等を用いなくても、前記上方空間10に貯留される気体から大気中へ有害成分が放出されることを防止でき、以って比較的高価な活性炭等の吸着手段を省略することが可能となり、製品コスト及び維持コストの低減、更には煩雑なメンテナンス作業を不要としてメンテナンスフリーを実現しながら、環境維持を図ることができる。
なお、本実施の形態においては、例えば、前記上方空間10と大気とを連通させる通路(図1の符号15等参照)を設け、これに活性炭等の吸着手段を介装したとしても、前記上方空間10に貯留される気体に含まれる有害成分の濃度は従来に比べて大幅に低減されるから、吸着手段の容量を従来に比べて小さくできるため、製品コスト及び維持コストの低減を図ることができるものである。
ところで、前記気体還流通路13には、当該気体還流通路13を流れる気体に含まれるVOC等の有機物等の濃度を測定するための気体濃度測定器14が配設されている。
前記液体濃度測定器12及び気体濃度測定器14は、公知の臭センサのようなリアルタイムで所定の成分濃度を測定できるものに限らず、サンプリングしたものをガスクロメータなどの分析器等で分析する測定器とすることができる。なお、細菌等が殺菌、消毒等されたか否かについては、細菌等の微生物数をレーザ光等を用いて計測する微生物測定装置、或いは顕微鏡等を用いて判断することができる。
そして、前記液体濃度測定器12、気体濃度測定器14、微生物測定装置などの測定結果に基づいて、被処理水及び上方空間10に貯留される気体中に含まれるVOC等の有機物が酸化分解されて浄化され、細菌等が殺菌、消毒等されたことが確認された場合には、本処理装置による浄化処理、殺菌消毒処理等を終了する。
しかしながら、リアクター装置7を一回通過させただけでは(言い換えれば、図1中のA群の装置群を備えるだけでは)、十分に被処理水中に含まれるVOC等の有機物を酸化分解して浄化したり、被処理水中に含まれる細菌等を殺菌、消毒等することができない場合も想定されるため、図1に示したように、貯水層1、供給通路2、マイクロバブラー3、オゾン発生装置6、リアクター装置7、液体排出通路11、液体濃度測定装置12、気体還流通路13、気体濃度測定装置14を含んで構成されるA群の処理工程下流側に、B群の装置群を配設することができる。
すなわち、本実施の形態では、図1に示したように、A群の処理工程下流側に、A群の液体排出通路11に接続されるマイクロバブラー3と、当該マイクロバブラー3にオゾンを供給するオゾン発生装置6と、前記マイクロバブラー3から微細気泡を含む被処理水が供給されるリアクター装置7と、当該リアクター装置7から処理済の被処理水を排出する液体排出通路11と、液体排出通路11に配設される液体濃度測定器12と、前記リアクター装置7の処理空間8の上方空間10に貯留される気体をオゾン発生装置6の入力側に還流させる気体還流通路13と、当該気体還流通路13に配設される気体濃度測定器14と、を含んで構成されるB群の装置群を配設している。なお、B群は複数(2〜N個)配設することもできる。
なお、B群のオゾン発生装置6の入力側には、処理工程上流側の気体還流通路13(図1ではA群の気体還流通路13)から分岐された通路を介して、処理工程上流側のリアクター装置7の処理空間8の上方空間10に貯留される気体の一部が導かれるようになっている。
また、B群の処理工程下流側には、図1に示したように、C群の装置群を配設することができる。C群の装置群は、B群の装置群と同様であるが、リアクター装置7から処理済の被処理水を排出する液体排出通路11が処理済の被処理水を図示しない処理済の被処理水を貯留する貯留槽等に接続されると共に、前記リアクター装置7の処理空間8の上方空間10を大気と連通する大気連通路15が設けられている。なお、この大気連通路15には比較的小容量の活性炭等の吸着手段を介装することができる。
かかる構成を備えた本実施の形態によれば、A群の装置群により所定に処理された被処理水に対して、A群の処理下流側に設けられるB群、C群の装置群によって、被処理水中に含まれるVOC等の有機物を繰り返し酸化分解して浄化し、被処理水中に含まれる細菌等を繰り返し殺菌、消毒等することができる。また、本実施の形態は、特に、貯水槽1にVOC等が混入された被処理水が順次流入するような場合(シーケンシャル式処理)に効果的で、このような処理においても、効果的に被処理水中に含まれるVOC等の有機物を繰り返し酸化分解して浄化し、被処理水中に含まれる細菌等を繰り返し殺菌、消毒等することができる。
更に、本実施の形態によれば、各リアクター装置7の処理空間8の上方空間10に貯留される気体を繰り返しラジカル反応による酸化分解に供して浄化することができるため、比較的高価な活性炭等の吸着手段を省略することが可能であり、以って製品コスト及び維持コストの低減、更には煩雑なメンテナンス作業を不要としてメンテナンスフリーを実現しながら、環境維持を図ることができる。
なお、各液体濃度測定器12、各気体濃度測定器14の測定結果を観察し、何れかの液体濃度測定器12、気体濃度測定器14の測定結果が所定のレベル以下となった場合には、該当する液体排出通路11を開放して被処理水を下流側の装置群に供給することなく外部へ排出したり、該当する気体還流通路13を開放して還流気体を下流側の装置群に供給することなく大気中へ排出することも可能である。
次に、本発明の第二の実施の形態について説明する。
第一の実施の形態では、貯水槽1にVOC等が混入された被処理水が順次流入するような場合(連続式、シーケンシャル式の処理)に有効な装置について例示したが、第二の実施の形態では、例えば貯水槽1にVOC等が混入された被処理水は処理中は新たに流入させず、処理完了後に貯水槽1内の被処理水を入れ替えるような場合(循環式、バッチ式の処理)に特に有効な装置について説明する。なお、第二の実施の形態の説明においては、第一の実施の形態と同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は省略することとする。
第二の実施の形態では、図2に示すように、貯水槽1から被処理水を供給通路2を介してマイクロバブラー3に供給すると共に、オゾン発生装置6からマイクロバブラー3にオゾンを供給する。マイクロバブラー3ではオゾンを含む微細気泡を被処理水に溶解させた後、バブル発生ノズル5により微細気泡を発生させつつリアクター装置7内の処理空間8に被処理水を供給する。
処理空間8において、微細気泡、オゾン、紫外線、光酸化触媒等の作用によるラジカル反応などによって所定に処理された被処理水は、処理空間8の上部に接続された液体排出通路11を介して処理空間8から排出される。この液体排出通路11には、三方弁等からなる切替バルブ16が介装されており、当該切替バルブ16は、液体排出通路11を流れる被処理水中に含まれるVOC等の有機物等の濃度を測定するための液体濃度測定器12の測定結果が所定レベルを越えている間は、被処理水を貯水槽1へ還流させるための液体還流通路17側へ導くように操作される。なお、液体濃度測定器12の測定結果が所定レベル以下となった場合には、切替バルブ16を操作して、被処理水を外部へ排出して処理を終了する。
このように、第二の実施の形態では、液体濃度測定器12の測定結果が所定レベル以下となるまで、リアクター装置7を通過してラジカル反応に供された被処理水を、液体還流通路17を介して、再びマイクロバブラー3の入力側へ戻してリアクター装置7に供給するようにしたので、簡単かつ安価な構成で、且つ、装置の小型化を促進しながら、効率良く被処理水中に含まれるVOC等の有機物を繰り返し酸化分解して浄化し、被処理水中に含まれる細菌等を繰り返し殺菌、消毒等することができる。
また、第二の実施の形態においても、第一の実施の形態と同様に、処理空間8に収容される被処理水の上方空間10に貯留された気体を、気体還流通路13を介して、前記オゾン発生装置6延いてはマイクロバブラー3の入力側へ還流させるようになっている。
従って、第二の実施の形態においても、第一の実施の形態と同様に、被処理水の浄化等が進むに連れて、前記上方空間10に貯留される気体も繰り返し前記ラジカル反応による酸化分解に供されて徐々に浄化されることになるため、従来のような活性炭等を用いなくても、前記上方空間10に貯留される気体から大気中へ有害成分が放出されることを防止でき、以って比較的高価な活性炭等の吸着手段を省略することが可能となり、製品コスト及び維持コストの低減、更には煩雑なメンテナンス作業を不要としてメンテナンスフリーを実現しながら、環境維持を図ることができる。
なお、例えば、気体還流通路13に三方弁等の切替バルブ等を設けると共に、前記上方空間10と大気とを連通させる通路を設け、これに活性炭等の吸着手段を配設したとしても、前記上方空間10に貯留される気体に含まれる有害成分の濃度は従来に比べて大幅に低減されるから、吸着手段の容量を従来に比べて小さくできるため、製品コスト及び維持コストの低減を図ることができるものである。
ところで、上記各実施の形態において、処理空間8において被処理水中を微細気泡が浮上する際に、既述した微細気泡の帯電特性等により周囲の油分や懸濁物質を吸着して浮上するため、例えば、処理空間8に収容されている被処理水の上表面近傍(例えば上澄み液)をフィルタ等を通過させることで被処理水から油分や懸濁物質を除去して浄化することもできるものである。
続けて、第三の実施の形態について説明する。
第一の実施の形態、第二の実施の形態では、被処理流体が揮発性有機化合物(VOC)などが混入された地下水や排水などの液体である処理装置について説明したが、第三の実施の形態では、被処理流体が気体である処理装置の一例について説明する。なお、第一、第二の実施の形態と同様の要素には同一の符号を付して、詳細な説明は省略することとする。
図3に示すように、第三の実施の形態では、VOC等が混入したガス(被処理気体)がリアクター装置70の下方から供給される一方、マイクロバブラー30から配管部材等により構成される供給通路2を介して処理水(被処理気体に作用して所定の処理を行なう液体)が、リアクター装置70の処理空間80の上方からシャワー状に供給されるようになっている。なお、被処理気体としては、例えば、VOC等が混入した土壌等を浄化する際に当該土壌から揮発したVOC等を含む空気等が想定される。
マイクロバブラー30は、外部より供給される補給水(必要に応じて当該補給水は供給停止することもできる)と、液体還流通路130から還流される処理水と、を混合して加圧作用により空気を溶解させた溶解水を製造する溶解水製造手段4と、当該溶解水を加圧状態から解放して微細気泡を発生させつつリアクター装置70へ吐出するバブル発生ノズル5と、を備えて構成されると共に、前記溶解水製造手段4の上流側にオゾン発生装置6を接続して、当該溶解水製造手段4において空気を前記溶解水に溶解させる際に同時にオゾンを溶解させ、前記バブル発生ノズル5により発生される処理水中の微細気泡中にオゾンを含ませることができるように構成されている。
前記リアクター装置70の処理空間80では、前記バブル発生ノズル5から供給される微細気泡を含む処理水の当該微細気泡の消滅時におけるラジカル反応や、前記微細気泡中に含まれるオゾン或いは処理水から蒸発したオゾンのラジカル反応などによって、処理空間80の下方から供給される被処理気体中に含まれるVOC等の有機物や、液体還流通路130から還流された処理水に含まれるVOC等の有機物を酸化分解して浄化等することができるようになっている。
なお、処理空間80内には、前記バブル発生ノズル5から供給される微細気泡を含む処理水と、処理空間80の下方から供給される被処理気体と、を良好に混合して接触機会を増やすことができるように、シャワー状態で供給される処理水の落下速度を調整するためのバッファプレート(図示せず)等を配設することもできる。
また、本実施の形態では、より一層効果的に、被処理気体や処理水に含まれるVOC等の有機物を酸化分解して浄化等することができるように、リアクター装置70の処理空間80内の被処理気体及び処理水に対して、紫外線を照射することができるようになっている。例えば、処理空間80内に紫外線照射ランプを配設する構成や、処理空間80を画成する隔壁を石英ガラス等で形成してその外部に紫外線照射ランプを配設するように構成することができる。
これにより、処理空間80の上方から供給される処理水に含まれるオゾン或いは蒸発して処理空間80を漂うオゾンに紫外線が照射されるため、オゾンが活性化されてラジカルが発生し、一層強力かつ安定した酸化作用を生じさせることができ、以って被処理気体や処理水に含まれるVOC等の有機物を効果的に酸化分解して浄化等することができることになる。
更に、紫外線照射ランプを処理空間80の内部に配設する場合には処理空間80の内壁に、或いは紫外線照射ランプを処理空間80の外部に配設する場合には紫外線照射の妨げとならない処理空間8の内壁領域に、或いはバッファプレートを配設する場合にはその表面に、二酸化チタン等の光酸化触媒Pを例えばコーティング等の方法で配設することができる。これにより、当該光酸化触媒Pに接触する被処理気体や処理水に含まれるVOC等の有機物を効果的に酸化分解して浄化等することができることになる。
このように、微細気泡、オゾン、紫外線、光酸化触媒等を利用して所定に処理された被処理気体は、処理空間80の上部に接続された気体排出通路110を介して処理空間80から排出される。この気体排出通路110には、公知のミストセパレータ90が介装され、ここで気液分離されて、被処理気体は気体排出通路110の下流方向へ導かれる一方、分離された液体は液体還流通路130に導かれることになる。なお、気体排出通路110のミストセパレータ90の下流側には、ここを通過する被処理気体中に含まれるVOC等の有機物等の濃度を測定するための気体濃度測定器14が配設されている。
ところで、本実施の形態においては、処理空間80の下部に、シャワー状態で供給され処理空間80の下方に集まる処理水をマイクロバブラー30へ還流させるための液体還流通路130が接続されている。
かかる構成を有する本実施の形態に係る処理装置では、液体還流通路130を介して処理水や、ミストセパレータ90を介して気液分離された液体を還流させることで、マイクロバブラー30の溶解水製造手段4においてオゾンを含む空気を処理水中に溶解させる際に、処理水に当該還流された処理水等を混合させることができるため、前記処理空間80における接触等により処理水側に吸着された被処理気体中のVOC等の有機物等を、処理水中の微細気泡の消滅時におけるラジカル反応、或いはオゾン、紫外線、光酸化触媒によるラジカル反応に繰り返し供することができるため、効果的に酸化分解して浄化することができることになる。
なお、気体排出通路110に介装される気体濃度測定器14は、臭センサ等のリアルタイムで所定の成分濃度を測定できるものに限らず、サンプリングした気体をガスクロメータなどの分析器等で分析する測定器とすることができる。そして、気体濃度測定器14の測定結果に基づいて、被処理気体に含まれるVOC等の有機物が酸化分解されて浄化されたことが確認された場合には、本処理装置による処理を終了する。
以上説明したように、本実施の形態によれば、処理空間80において、処理水中の微細気泡の消滅時におけるラジカル反応、或いはオゾン、紫外線、光酸化触媒によるラジカル反応を利用して被処理気体に含まれるVOC等の有機物を効果的に酸化分解して浄化することができると共に、処理水を還流させることで処理水に吸着されたVOC等の有機物も効果的に浄化することができる。
ところで、リアクター装置70を一回通過させただけでは、十分に被処理気体に含まれるVOC等の有機物を酸化分解して浄化することができない場合も想定されるため、図3 に示したように、貯水層1、供給通路2、マイクロバブラー30、オゾン発生装置6、リアクター装置70、気体排出通路110、液体還流通路130、気体濃度測定装置14を含んで構成されるA群の処理工程下流側に、B群の装置群を配設することができる。
すなわち、本実施の形態では、図3に示したように、A群の処理工程下流側に、マイクロバブラー30と、当該マイクロバブラー30にオゾンを供給するオゾン発生装置6と、マイクロバブラー30と接続されると共にA群の気体排出通路110に接続されるリアクター装置70と、当該リアクター装置70から処理済の被処理気体を排出する液体排出通路110と、気体排出通路110に配設される気体濃度測定器14と、前記リアクター装置70の処理空間80の下方に貯留される処理水をマイクロバブラー30の入力側に還流させる液体還流通路130と、を含んで構成されるB群の装置群を配設することができる。なお、B群は複数(2〜N個)配設することもできる。
更に、B群の処理工程下流側には、図3に示したように、C群の装置群を配設することができる。C群の装置群は、B群の装置群と同様であるが、リアクター装置70から処理済の被処理気体を排出する気体排出通路110を大気に解放する大気連通路15が設けられている。なお、この大気連通路15には比較的小容量の活性炭等の吸着手段を介装することができる。
かかる構成を備えた本実施の形態によれば、A群の装置群により所定に処理された被処理気体に対して、A群の処理下流側に設けられるB群、C群の装置群によって、被処理気体に含まれるVOC等の有機物を繰り返し酸化分解して浄化することができる。また、本実施の形態は、特に、リアクター装置70にVOC等が混入された被処理気体が順次流入するような場合(シーケンシャル式処理)に効果的で、このような処理においても、効果的に被処理気体に含まれるVOC等の有機物を繰り返し酸化分解して浄化することができる。
加えて、本実施の形態によれば、各リアクター装置70の処理空間80で被処理気体と接触される処理水を繰り返しラジカル反応による酸化分解に供して浄化することができるため、処理水の無害化が図られ、処理水の扱いが簡単で、例えばそのまま廃棄することなどが可能となる。
なお、第三の実施の形態においては、図3において二点鎖線で示すように、気体排出通路110からオゾン発生装置6の入力側に被処理気体を還流させる構成とすることも可能である。
次に、本発明の第四の実施の形態について説明する。
第三の実施の形態では、VOC等が混入された被処理気体が順次リアクター装置70へ流入するような場合(連続式、シーケンシャル式の処理)に有効な装置について例示したが、第四の実施の形態では、リアクター装置70にVOC等が混入された被処理気体を処理中は新たに流入させず、処理完了後にリアクター装置70内の被処理気体を入れ替えるような場合(循環式、バッチ式の処理)に有効な装置について説明する。なお、第四の実施の形態の説明においては、第三の実施の形態と同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は省略することとする。
すなわち、第四の実施の形態では、図4に示すように、開閉弁V1を開弁して所定量の被処理気体をリアクター装置70の下方に供給した後、開閉弁V1を閉じて先に供給した被処理気体の浄化処理が終了するまでは、被処理気体をロアクター装置70へは供給しないように構成されている。
そして、第三の実施の形態と同様に、オゾン発生装置6やマイクロバブラー30を介してオゾンを含む微細気泡を発生可能な処理水が供給通路2を介してリアクター装置70の上方からシャワー状態で供給されるようになっている。
なお、処理空間8において、第三の実施の形態と同様に、被処理気体は、微細気泡、オゾン、紫外線、光酸化触媒P等の作用によるラジカル反応などによって所定に処理された後、気体排出通路110を介して処理空間80から排出されるが、この気体排出通路110には、公知のミストセパレータ90が介装されると共に、その下流側に、開閉弁V2が介装されている。この開閉弁V2は、気体濃度測定器14の測定結果が所定レベルを越えている間は閉弁され、この間、気体排出通路110を流れる被処理気体は、気体還流通路140を介して、開閉弁V1の下流側であってリアクター装置70の上流側に還流されるようになっている。
ところで、気体濃度測定器14の測定結果が所定レベル以下となった場合には、開閉弁V2を開弁して、活性炭等からる吸着手段を介して、処理済の被処理気体を大気へ放出して処理を終了する。また、必要に応じて、再び開閉弁V2を閉じると共に、前記開閉弁V1を開弁することで、上記処理を繰り返すことが可能で、これにより、バッチ式処理を繰り返し実行可能とすることができるものである。
このように、第四の実施の形態では、気体濃度測定器14の測定結果が所定レベル以下となるまで、リアクター装置70を通過してラジカル反応に供された被処理気体を、気体還流通路140を介して、再びリアクター装置70の上流側へ戻してリアクター装置70に供給するようにしたので、簡単かつ安価な構成で、且つ、装置の小型化を促進しながら、効率良く被処理気体中に含まれるVOC等の有機物を繰り返し酸化分解して浄化することができる。
加えて、本実施の形態によれば、リアクター装置70の処理空間80で被処理気体と接触される処理水を繰り返しラジカル反応による酸化分解に供して浄化することができるため、処理水の無害化が図られ、処理水の扱いが簡単で、例えばそのまま廃棄することなどが可能となる。
なお、図4において二点鎖線で示すように、気体排出通路110からオゾン発生装置6の入力側に被処理気体を還流させる構成とすることも可能である。
ところで、上記各実施の形態では、マイクロバブラー3、30として、溶解水製造手段4の上流側にオゾン発生装置6を接続して、当該溶解水製造手段4において加圧作用により空気等の気体を溶解水に溶解させる際に同時にオゾンを溶解させ、前記バブル発生ノズル5により圧力を解放することで発生される液体中の微細気泡中にオゾンを含ませるようにした構成のものを用いて説明したが、他の原理或いはメカニズムを用いて液体中にオゾンを含む微細気泡を発生させることができる装置を採用することも可能である。
以上で説明した各実施の形態は、本発明を説明するための例示に過ぎず、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において、種々変更を加え得ることは可能である。
本発明の第一の実施の形態に係る連続式(シーケンシャル式)の処理装置(被処理流体が液体の場合の例)の全体構成を示す図である。 本発明の第二の実施の形態に係る循環式(バッチ式)の処理装置(被処理流体が液体の場合の例)の全体構成を示す図である。 本発明の第三の実施の形態に係る連続式(シーケンシャル式)の処理装置(被処理流体が気体の場合の例)の全体構成を示す図である。 本発明の第四の実施の形態に係る循環式(バッチ式)の処理装置(被処理流体が気体の場合の例)の全体構成を示す図である。 本発明において用いるマイクロバブラーの構成例を示す図である。
符号の説明
1 貯水槽
3 マイクロバブラー(微細気泡発生装置)
6 オゾン発生装置
7 リアクター装置
8 処理空間
9 バッファプレート
10 上方空間
11 液体排出通路
13 気体還流通路
30 マイクロバブラー(微細気泡発生装置)
70 リアクター装置
80 処理空間
110 気体排出通路
130 液体還流通路
140 気体還流通路
P 光酸化触媒

Claims (8)

  1. 水を主成分とする液体にオゾンを含む気体からなる微細気泡を発生させつつ吐出する微細気泡発生装置と、
    当該微細気泡発生装置から供給される微細気泡が発生された液体を介して被処理流体に対して所定の処理を施す処理空間を有するリアクター装置と、
    を備えた処理装置であって、
    リアクター装置に供給された液体を、微細気泡発生装置において用いられる液体として利用することを特徴とする処理装置。
  2. リアクター装置の処理空間内の気体を、微細気泡発生装置において用いられる気体として利用することを特徴とする請求項1に記載の処理装置。
  3. 複数のリアクター装置及び微細気泡発生装置が備えられることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の処理装置。
  4. 単一のリアクター装置及び微細気泡発生装置が備えられることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の処理装置。
  5. 前記被処理流体が液体であり、微細気泡発生装置において用いられる液体として供給されることを特徴とする請求項1〜請求項4の何れか一つに記載の処理装置。
  6. 前記被処理流体が気体であることを特徴とする請求項1〜請求項4の何れか一つに記載の処理装置。
  7. 前記処理空間内に対して紫外線を照射することを特徴とする請求項1〜請求項6の何れか一つに記載の処理装置。
  8. 前記処理空間内に光酸化触媒を配設することを特徴とする請求項1〜請求項7の何れか一つに記載の処理装置。
JP2007117513A 2007-04-26 2007-04-26 処理装置 Withdrawn JP2008272638A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007117513A JP2008272638A (ja) 2007-04-26 2007-04-26 処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007117513A JP2008272638A (ja) 2007-04-26 2007-04-26 処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008272638A true JP2008272638A (ja) 2008-11-13

Family

ID=40051305

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007117513A Withdrawn JP2008272638A (ja) 2007-04-26 2007-04-26 処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008272638A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010089055A (ja) * 2008-10-10 2010-04-22 Sharp Corp ナノバブル含有液体製造装置及びナノバブル含有液体製造方法
CN104437077A (zh) * 2014-11-10 2015-03-25 中国科学院生态环境研究中心 一种研究光催化处理挥发性有机物的装置
CN111587477A (zh) * 2017-11-22 2020-08-25 Csk股份有限公司 气体处理设备

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010089055A (ja) * 2008-10-10 2010-04-22 Sharp Corp ナノバブル含有液体製造装置及びナノバブル含有液体製造方法
US8317165B2 (en) 2008-10-10 2012-11-27 Sharp Kabushiki Kaisha Nanobubble-containing liquid producing apparatus and nanobubble-containing liquid producing method
CN104437077A (zh) * 2014-11-10 2015-03-25 中国科学院生态环境研究中心 一种研究光催化处理挥发性有机物的装置
CN111587477A (zh) * 2017-11-22 2020-08-25 Csk股份有限公司 气体处理设备
CN111587477B (zh) * 2017-11-22 2024-02-02 Csk股份有限公司 气体处理设备

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008055291A (ja) 水処理装置
JP2009254967A (ja) 水処理システム
KR101585143B1 (ko) 폐수 중의 1,4-디옥산의 처리 방법 및 그 장치
KR20040041533A (ko) 내분비 물질의 분해를 위한 오존/자외선 조합
JP2008036513A (ja) ガス処理ユニットおよびガス処理システム
KR101890361B1 (ko) 배오존 재순환 형식의 uv 소독 시스템
JP2008272638A (ja) 処理装置
JP2007083171A (ja) 水処理方法および装置
JP4897255B2 (ja) 水処理装置及び方法
CN110759460A (zh) 一种用于污水处理的三段式uv/o3/h2o2高级氧化系统
KR200407311Y1 (ko) 오염수 순환 여과 장치
KR101071709B1 (ko) 광-펜턴 산화에 의한 1,4-다이옥산 제거 장치 및1,4-다이옥산 제거 방법
KR20190084720A (ko) 폐수처리장치
CN211497075U (zh) 一种用于污水处理的三段式uv/o3/h2o2高级氧化系统
JP4150975B2 (ja) 排水処理装置
CN202865059U (zh) 一体式污水处理装置
JP3803590B2 (ja) 過酸化水素の残留濃度制御装置
US20020144941A1 (en) Photooxidation water treatment device
JP2009112953A (ja) 水処理方法及び水処理装置
JP2003320383A (ja) グリーストラップの浄化方法及びその装置
KR102588294B1 (ko) Oh 라디칼 산소수를 이용하는 악취가스 탈취장치
JP4575270B2 (ja) 余剰汚泥減量化設備
KR102138176B1 (ko) 수산기(oh)반응 용해교반조를 갖는 폐수 고도 전처리 시스템
JP2004329988A (ja) 液体の浄化処理方法
JP2008194558A (ja) 水処理システム及び水処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20100706