JP2008270456A - トンネル磁気抵抗効果素子の製造装置及び製造方法 - Google Patents
トンネル磁気抵抗効果素子の製造装置及び製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】ラジカル発生器8により発生したラジカルがウエハ3表面へ供給され金属膜が酸化されることにより、ウエハ3上へ、酸化膜からなる絶縁体膜が形成される。ネットワークアナライザ14で計測された高周波伝送特性は、酸化状態モニタ手段15でモニタされる。そして、所望の酸化状態に達したと判断された場合には、RF電源7が停止され、酸化処理工程が終了する。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の実施の形態1に係るトンネル磁気抵抗効果素子(TMRデバイス)の製造装置の一部である金属膜の酸化処理装置の概略構成を示す断面図である。また、図2〜3は、図1の金属膜の酸化処理装置の詳細な構成を示す断面図である。また、図4〜5は、それぞれ、図1の金属膜の酸化処理装置のシミュレーションに用いたモデルの構成を示す斜視図および断面図であり、図6〜7は、上記のシミュレーション結果を示すグラフである。
Claims (7)
- 表面に第1の強磁性体膜および金属膜が順に形成された基板を用意する工程と、
前記金属膜へ酸化処理または窒化処理を施すことにより所定の厚みを有する絶縁体膜を形成する絶縁体膜形成工程と、
前記絶縁体膜上に第2の強磁性体膜を形成する工程と
を備え、
前記絶縁体膜形成工程は、前記所定の厚みを前記金属膜における高周波信号の伝送特性を求めることにより検知する厚み検知工程を有する
トンネル磁気抵抗効果素子の製造方法。 - 請求項1に記載のトンネル磁気抵抗効果素子の製造方法であって、
前記厚み検知工程は、前記高周波信号として、周波数が20〜100MHzの信号を用いる
トンネル磁気抵抗効果素子の製造方法。 - 表面に第1の強磁性体膜および金属膜が順に形成された基板を載置するステージと、
前記ステージが室内に配設され、前記金属膜へ酸化処理または窒化処理を施すことにより所定の厚みを有する絶縁体膜を形成する絶縁体膜形成室と、
前記所定の厚みを前記ステージ上に載置された前記基板の前記金属膜における高周波信号の伝送特性を求めることにより検知する厚み検知手段と
を備えるトンネル磁気抵抗効果素子の製造装置。 - 請求項3に記載のトンネル磁気抵抗効果素子の製造装置であって、
前記厚み検知手段は、前記高周波信号として、周波数が20〜100MHzの信号を用いる
トンネル磁気抵抗効果素子の製造装置。 - 請求項3又は請求項4に記載のトンネル磁気抵抗効果素子の製造装置であって、
前記厚み検知手段は、前記基板表面の所定の箇所と電気的に接触する導電体を有する
トンネル磁気抵抗効果素子の製造装置。 - 請求項5に記載のトンネル磁気抵抗効果素子の製造装置であって、
前記厚み検知手段は、前記導電体で前記基板を押さえる基板押さえ手段をさらに有する
トンネル磁気抵抗効果素子の製造装置。 - 請求項5又は請求項6に記載のトンネル磁気抵抗効果素子の製造装置であって、
前記所定の箇所は、前記基板表面において複数設けられる
トンネル磁気抵抗効果素子の製造装置。
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