JP2008268179A - マイクロアレイ作製用基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】マイクロアレイ作製用基板の製造方法であって、少なくとも、下記一般式(1)Y3Si−(CH2)m−X(1)(式中、mは3以上20以下の整数を、Xは酸によって水酸基に変換される水酸基前駆体官能基を、Yは独立してハロゲン原子又は炭素数1から4のアルコキシ基を示す)で示されるシラン化合物を用いて、基板上に単分子膜を形成する工程と、前記Xで示される水酸基前駆体官能基を水酸基に変換する工程を有し、該前記Xで示される水酸基前駆体官能基を水酸基に変換する工程は、光酸発生剤として請求項中に示した特定の式を含むポリマー層を前記単分子膜上に形成した後、高エネルギー線を用いてパターン形状を前記基板上に照射するものであることを特徴とするマイクロアレイ作製用基板の製造方法。
【選択図】なし
Description
さらには、電界効果型トランジスタによるセンサーの応用として、DNAセンサーを作成するため、DNAやペプチド等の認識用の材料を基板上に固定化する際、上記酸化ケイ素鎖を持つ単分子膜による方法は、基板とプローブとの距離を短く、かつ安定して得られる固定方法である。
Y3Si−(CH2)m−X (1)
(式中、mは3以上20以下の整数を表し、Xは水酸基前駆体官能基であり、酸によって水酸基に変換される基を示す。Yは独立してハロゲン原子又は炭素数1から4のアルコキシ基を示す。)
で示されるシラン化合物を用いて、基板上に単分子膜を形成する工程と、
前記Xで示される水酸基前駆体官能基を水酸基に変換する工程を有し、
該前記Xで示される水酸基前駆体官能基を水酸基に変換する工程は、
光酸発生剤として下記一般式(2)もしくは(3)
を含むポリマー層を前記単分子膜上に形成した後、高エネルギー線を用いてパターン形状を前記基板上に照射するものであることを特徴とするマイクロアレイ作製用基板の製造方法を提供する(請求項1)。
Y’3Si−(CH2)n−CH3 (4)
Y’3Si−(CH2)n−OCH3 (5)
(式中、nは0以上(m−2)以下の整数を表す。mは前記一般式(1)中の値である。Y’はハロゲン原子又は炭素数1から4のアルコキシ基を示す。)
で示されるシラン化合物の内、少なくとも一種類以上混合し、該混合物を用いて前記単分子膜を形成することが好ましい(請求項3)。
また、一般式(5)で表されるシラン化合物を一般式(4)で表されるシラン化合物と合わせて用いることで、接触角の上昇を伴うことなく、一般式(1)で表されるシラン化合物との混合を行うことが可能となり好適である。
また、前記5’−末端を保護する酸脱離基が、ジメトキシトリチル基であることが好ましい(請求項8)。
本発明者らは、より確実に、基板上に位置選択的な水酸基を発生させるためには、発生酸と効率的に反応するよう、単分子膜を形成するシラン化合物の官能基として水酸基前駆体官能基が選択されるべきであり、また、位置選択的な光に対して効率的に酸を発生する光酸発生剤が選択されるべきであると考えた。
Y3Si−(CH2)m−X (1)
(式中、mは3以上20以下の整数を表し、Xは水酸基前駆体官能基であり、酸によって水酸基に変換される基を示す。Yは独立してハロゲン原子又は炭素数1から4のアルコキシ基を示す。)
で示されるシラン化合物を用いて、基板上に単分子膜を形成する工程と、
前記Xで示される水酸基前駆体官能基を水酸基に変換する工程を有し、
該前記Xで示される水酸基前駆体官能基を水酸基に変換する工程は、
光酸発生剤として下記一般式(2)もしくは(3)
を含むポリマー層を前記単分子膜上に形成した後、高エネルギー線を用いてパターン形状を前記基板上に照射するものであることを特徴とするマイクロアレイ作製用基板の製造方法を提供する。
Y3Si−(CH2)m−X (1)
(式中、mは3以上20以下の整数を表し、Xは水酸基前駆体官能基であり、酸によって水酸基に変換される基を示す。Yは独立してハロゲン原子又は炭素数1から4のアルコキシ基を示す。)
で示されるシラン化合物を含む処理液で処理することで基板上に単分子膜を形成する。
Y’3Si−(CH2)n−CH3 (4)
Y’3Si−(CH2)n−OCH3 (5)
(式中、nは0以上(m−2)以下の整数を表す。mは前記一般式(1)中の値である。Y’はハロゲン原子又は炭素数1から4のアルコキシ基を示す。)
で表されるシラン化合物の内、少なくとも一種類以上と混合して使用することが好ましい。また、一般式(1)で表されるシラン化合物に対して化合物(4)および(5)で表される化合物は1倍モル以上使用されることが好ましく、より好ましくは4倍モル以上である。また、固定化量を確保するためには、200倍モル以下であることが好ましく、より好ましくは100倍モル以下である。
もしくは(3)が挙げられる。
また、ポリマー層形成材料は、有機溶剤、塩基性化合物、界面活性剤のいずれか1つ以上を含有することができる。
N(X11)a(Y11)3−a (B)−1
(式中、a=1、2又は3である。側鎖X11は同一でも異なっていてもよく、下記一般式(X1)〜(X3)で表すことができる。側鎖Y11は同一又は異種の、水素原子もしくは直鎖状、分岐状又は環状の炭素数1〜20のアルキル基を示し、エーテル基もしくはヒドロキシル基を含んでもよい。また、X11同士が結合して環を形成してもよい。)
−R4−O−R5−CO−R6(X2)
−R7−COO−R8 (X3)
また、前記高エネルギー線を、波長250nm〜400nmの範囲のものとすれば、単分子膜を形成するシラン化合物と基板との結合を切断して、シラン化合物の基板からの脱落をもたらしたりする恐れが小さいため、好ましい。
窒素雰囲気下、80℃で、10−(メトキシメトキシ)−1−デセン100gと触媒量の塩化白金酸テトラヒドロフラン溶液の混合物にトリメトキシシラン64gと酢酸0.57gの混合物を滴下した。80℃で3時間かき混ぜた後、反応混合物を減圧蒸留して目的物131gを得た。
沸点 142度/66Pa
IR(液膜)νmax:2927、2854、2840、1465、1191、1143、1089、1049cm−1.
13C−NMR(150MHz、CDCl3)δ:9.10、22.55、26.18、29.19、29.39、29.56、29.71、33.09、50.44、55.03、67.84、96.34ppm
1H−NMR(600MHz、CDCl3)δ:0.59−0.62(2H、m)、1.21−1.39(14H、m)、1.52−1.57(2H、quintet様)、3.32(3H、s)、3.48(2H、t、J=7Hz)、3.53(9H、s)、4.58(2H、s)ppm.
製造例1で得た10−(メトキシメトキシ)デシルトリメトキシシラン2.1gとヘキシルトリメトキシシラン5.9gの4%ジクロロメタン−ヘキサン1リットル溶液を調製して単分子膜形成材料溶液を得た。
ポリマー層を形成する材料に添加されるポリマー成分として、各々のモノマーを組み合わせてイソプロピルアルコール溶媒下で共重合反応を行い、ヘキサンに晶出し、更にヘキサンで洗浄を繰り返した後に単離、乾燥して以下に示す組成のポリマー1を得た。得られたポリマーの組成は1H−NMR、分子量および分散度はゲルパーミエーションクロマトグラフにより確認した。
分子量(Mw)=7,300
分散度(Mw/Mn)=1.67
polymer1 80質量部、光酸発生剤(CGI−1397、チバスペシャリティケミカルズ社製:上記一般式(3)において、R2がn−プロピル基のもの) 6質量部を酢酸1−メトキシイソプロピル 720部に溶解し、フィルターろ過してポリマー層形成材料とした。
t−ブトキシスチレン:1−エチルシクロペンチルメタクリレート:β−メタクリロイロキシ−γ−ブチロラクトン=30:10:60
(t−ブトキシスチレン:1−エチルシクロペンチルメタクリレート:β−メタクリロイロキシ−γ−ブチロラクトン=30:10:60)80質量部、トリフェニルスルホニウムp−トルエンスルホネート6質量部、トリブチルアミン0.5質量部をPGMEA 720部に溶解し、フィルターろ過してレジスト組成物とした。
被加工基板1a上に上記製造例6で調製したレジスト組成物の溶液をスピンコートし、100℃90秒間プリベークを行なって膜厚0.3μmのレジスト膜1bを得た(図1(1))。
さらに上記処理基板9aをプロピレングリコールモノメチルエーテルに浸漬してレジスト膜9bを除去した(図1(10))。
その結果、認識材料を固定化する位置10kに水酸基を固定用の官能基として持つ酸化ケイ素鎖を持つ単分子膜10fが形成されたマイクロアレイ作製用基板10aが得られた。
ポリマー層形成用材料を、製造例4にならって調製するが、光酸発生剤として、上記一般式(3)において、R2がn−プロピル基のもの(光酸発生剤1)、R2がp−メチルフェニル基のもの(光酸発生剤2)、また、ジ(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム4−メチルフェニルスルホン酸塩(光酸発生剤3)をそれぞれ表1に示すような濃度となるように調整した(実施例2〜7、比較例1〜3)。ここで、溶剤としてプロピレングリコールアセテートを用いた。表2に混合後24時間後の溶解性を示す。
さらにポリマー層にi線を2000mJ/cm2の露光量で照射し、80℃20分間ポストベークを行った。続けてTHFを掛け流してポリマー層を除去し、スピンドライを行い、水による表面接触角を測定した(塩酸メタノール混合液中、60℃で30分間加熱した前後の表面接触角変化を測定)。結果を表4に示す。尚、表面接触角は、反応前は73度、反応後は62度であった。
2d…エキシマレーザー光、 4e…単分子膜形成材料溶液、
5f…単分子膜、 6a…マイクロアレイ作製用基板、
6g…ポリマー層、 7h…マスクパターン、 7i…i線、
7j…ポリマー層の照射部位、
8k…単分子膜の水酸基変換部位、 8g…ポリマー層、 9a…基板、
9b…レジスト膜、 10a…マイクロアレイ作製用基板、
10k…認識材料を固定化する位置、 10f…単分子膜。
Claims (8)
- マイクロアレイ作製用基板の製造方法であって、少なくとも、下記一般式(1)
Y3Si−(CH2)m−X (1)
(式中、mは3以上20以下の整数を表し、Xは水酸基前駆体官能基であり、酸によって水酸基に変換される基を示す。Yは独立してハロゲン原子又は炭素数1から4のアルコキシ基を示す。)
で示されるシラン化合物を用いて、基板上に単分子膜を形成する工程と、
前記Xで示される水酸基前駆体官能基を水酸基に変換する工程を有し、
該前記Xで示される水酸基前駆体官能基を水酸基に変換する工程は、
光酸発生剤として下記一般式(2)もしくは(3)
を含むポリマー層を前記単分子膜上に形成した後、高エネルギー線を用いてパターン形状を前記基板上に照射するものであることを特徴とするマイクロアレイ作製用基板の製造方法。 - 前記一般式(1)中、Xで示される水酸基前駆体官能基が、アルコキシ基部分の炭素数が1〜6のアルコキシメトキシ基および/またはオキシラニル基である請求項1に記載のマイクロアレイ作製用基板の製造方法。
- 前記一般式(1)で表されるシラン化合物を用いて単分子膜を形成する工程において、該シラン化合物に下記一般式(4)および(5)
Y’3Si−(CH2)n−CH3 (4)
Y’3Si−(CH2)n−OCH3 (5)
(式中、nは0以上(m−2)以下の整数を表す。mは前記一般式(1)中の値である。Y’はハロゲン原子又は炭素数1から4のアルコキシ基を示す。)
で示されるシラン化合物の内、少なくとも一種類以上混合し、該混合物を用いて前記単分子膜を形成することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のマイクロアレイ作製用基板の製造方法。 - 前記水酸基前駆体官能基を水酸基に変換する工程において、光酸発生剤を含むポリマー層を形成した後、加熱処理を行い、さらに、高エネルギー線を用いてパターン形状を基板上に照射した後、加熱処理を行い、その後に前記ポリマー層を除去することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のマイクロアレイ作製用基板の製造方法。
- 前記高エネルギー線を、波長250nm〜400nmの範囲のものとすることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のマイクロアレイ作製用基板の製造方法。
- 前記マイクロアレイが、生体分子の検査に用いられることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載のマイクロアレイ作製用基板の製造方法。
- 前記水酸基前駆体官能基を水酸基に変換する工程を経て生じた水酸基に、5’−末端を酸脱離基で保護し、かつ3’−末端をホスホアミダイト化したモノヌクレオチドを脱水環境下にて付加させた基板を、前記光酸発生剤を含むポリマー層を用いて5’−末端の酸脱離基を水酸基に変換する工程を含む、請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のマイクロアレイ作製用基板の製造方法。
- 前記5’−末端を保護する酸脱離基が、ジメトキシトリチル基であることを特徴とする請求項7に記載のマイクロアレイ作製用基板の製造方法。
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010233490A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Yamatake Corp | 固相合成用基板の製造方法、及び固相合成用基板 |
JP2010237191A (ja) * | 2009-03-11 | 2010-10-21 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 分子固定用基板の製造方法及び分子固定用基板 |
JP2010256033A (ja) * | 2009-04-21 | 2010-11-11 | Jsr Corp | 樹脂組成物及びバイオチップの製造方法 |
JP2010256168A (ja) * | 2009-04-24 | 2010-11-11 | Jsr Corp | バイオチップ製造用樹脂組成物及びバイオチップの製造方法 |
JP2010256032A (ja) * | 2009-04-21 | 2010-11-11 | Jsr Corp | バイオチップ製造用樹脂組成物及びバイオチップの製造方法 |
JP2011006556A (ja) * | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Jsr Corp | 樹脂組成物、バイオチップの製造方法及びバイオチップ |
JP2011017798A (ja) * | 2009-07-07 | 2011-01-27 | Jsr Corp | 酸転写性樹脂組成物、バイオチップの製造方法及びバイオチップ |
WO2013146732A1 (ja) | 2012-03-27 | 2013-10-03 | 住友精密工業株式会社 | 物理量センサ |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000508542A (ja) * | 1996-04-17 | 2000-07-11 | アフィメトリックス,インコーポレイテッド | 感光性ポリマーアレイ合成法 |
JP2003501640A (ja) * | 1999-06-07 | 2003-01-14 | サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド | 高分子光酸発生剤を用いたペプチド核酸プローブの製造方法 |
JP2004205505A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-22 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 生体分子マイクロアレイを構築するための基板結合リンカー分子 |
JP2005099005A (ja) * | 2003-08-25 | 2005-04-14 | Samsung Electronics Co Ltd | 光酸発生剤単量体の組成物、該組成物でコーティングされた基板、該組成物を利用して基板上に化合物を合成する方法及び該方法によって製造されたマイクロアレイ |
JP2005172709A (ja) * | 2003-12-12 | 2005-06-30 | Dainippon Printing Co Ltd | マイクロアレイチップの製造方法 |
JP2008026316A (ja) * | 2006-07-17 | 2008-02-07 | Samsung Electronics Co Ltd | マイクロアレイの製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6250657A (ja) | 1985-08-29 | 1987-03-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | バイオセンサ−およびその製造方法 |
JP2506234B2 (ja) | 1990-12-25 | 1996-06-12 | 松下電器産業株式会社 | 透光性基体の製造方法 |
US20040110277A1 (en) | 2002-04-12 | 2004-06-10 | Seiko Epson Corporation | Sensor cell, bio-sensor, capacitance element manufacturing method, biological reaction detection method and genetic analytical method |
JP2005077210A (ja) | 2003-08-29 | 2005-03-24 | National Institute For Materials Science | 生体分子検出素子及びそれを用いた核酸解析方法 |
US7285674B2 (en) * | 2004-05-06 | 2007-10-23 | Interuniversitair Microelektronica Centrum (Imec) | Silane molecules with pre-activated and protein-resistant functionalities and silane films comprising such molecules |
JP2006225476A (ja) | 2005-02-16 | 2006-08-31 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 |
JP4687878B2 (ja) | 2005-05-27 | 2011-05-25 | 信越化学工業株式会社 | 高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 |
FR2896802B1 (fr) * | 2006-02-01 | 2010-12-10 | Commissariat Energie Atomique | Nouveaux composes silanes et leur utilisation pour fonctionnaliser des supports solides et immobiliser sur ces supports de molecules biologiques |
-
2008
- 2008-01-18 JP JP2008009434A patent/JP4850854B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-03-12 US US12/073,953 patent/US8148053B2/en active Active
- 2008-03-21 KR KR1020080026306A patent/KR101300973B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000508542A (ja) * | 1996-04-17 | 2000-07-11 | アフィメトリックス,インコーポレイテッド | 感光性ポリマーアレイ合成法 |
JP2003501640A (ja) * | 1999-06-07 | 2003-01-14 | サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド | 高分子光酸発生剤を用いたペプチド核酸プローブの製造方法 |
JP2004205505A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-22 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 生体分子マイクロアレイを構築するための基板結合リンカー分子 |
JP2005099005A (ja) * | 2003-08-25 | 2005-04-14 | Samsung Electronics Co Ltd | 光酸発生剤単量体の組成物、該組成物でコーティングされた基板、該組成物を利用して基板上に化合物を合成する方法及び該方法によって製造されたマイクロアレイ |
JP2005172709A (ja) * | 2003-12-12 | 2005-06-30 | Dainippon Printing Co Ltd | マイクロアレイチップの製造方法 |
JP2008026316A (ja) * | 2006-07-17 | 2008-02-07 | Samsung Electronics Co Ltd | マイクロアレイの製造方法 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010237191A (ja) * | 2009-03-11 | 2010-10-21 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 分子固定用基板の製造方法及び分子固定用基板 |
JP2010233490A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Yamatake Corp | 固相合成用基板の製造方法、及び固相合成用基板 |
JP2010256033A (ja) * | 2009-04-21 | 2010-11-11 | Jsr Corp | 樹脂組成物及びバイオチップの製造方法 |
JP2010256032A (ja) * | 2009-04-21 | 2010-11-11 | Jsr Corp | バイオチップ製造用樹脂組成物及びバイオチップの製造方法 |
JP2010256168A (ja) * | 2009-04-24 | 2010-11-11 | Jsr Corp | バイオチップ製造用樹脂組成物及びバイオチップの製造方法 |
JP2011006556A (ja) * | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Jsr Corp | 樹脂組成物、バイオチップの製造方法及びバイオチップ |
JP2011017798A (ja) * | 2009-07-07 | 2011-01-27 | Jsr Corp | 酸転写性樹脂組成物、バイオチップの製造方法及びバイオチップ |
WO2013146732A1 (ja) | 2012-03-27 | 2013-10-03 | 住友精密工業株式会社 | 物理量センサ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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JP4850854B2 (ja) | 2012-01-11 |
US8148053B2 (en) | 2012-04-03 |
KR20080086395A (ko) | 2008-09-25 |
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