JP2008258432A - マスク、ビーム照射装置、及び、ビーム照射方法 - Google Patents
マスク、ビーム照射装置、及び、ビーム照射方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】入射する光を透過する透光領域と、入射する光を遮蔽する遮光領域とを有し、透光領域は、スリット状の第1の開口部と、第1の開口部の長さ方向の少なくとも一方側に隣接して形成され、第1の開口部の長さ方向に長く、第1の開口部の幅より狭い幅を備えるスリット状の第2の開口部とを含むマスク。
【選択図】図2
Description
11 ホモジナイザ
12 折り返しミラー
13 マスク
13a、13b 開口形成領域
14 マスク移動機構
15 イメージング光学系
16 XYステージ
17 吸着板
18 制御装置
19 基板
19a、19b アニール領域
20 レーザビーム
30、35a、35b 開口
31、36 ビーム照射領域
40〜43 リッジ
Claims (8)
- 入射する光を透過する透光領域と、
入射する光を遮蔽する遮光領域と
を有し、
前記透光領域は、
スリット状の第1の開口部と、
前記第1の開口部の長さ方向の少なくとも一方側に隣接して形成され、前記第1の開口部の長さ方向に長く、前記第1の開口部の幅より狭い幅を備えるスリット状の第2の開口部と
を含むマスク。 - 前記透光領域には、前記第1の開口部と前記第2の開口部の組が、前記第1及び第2の開口部の幅方向に繰り返し形成されている請求項1に記載のマスク。
- 前記透光領域は、
前記第2の開口部が、前記第1の開口部の長さ方向の一方側に隣接して形成された第1の透光領域と、
前記第2の開口部が、前記第1の開口部の長さ方向の他方側に隣接して形成された第2の透光領域と
を含む請求項1または2に記載のマスク。 - レーザビームを出射するレーザ光源と、
前記レーザ光源から出射したレーザビームの光路上に配置されたマスクであって、入射するレーザビームを透過する透光領域と、入射するレーザビームを遮蔽する遮光領域とを有し、前記透光領域は、スリット状の第1の開口部と、前記第1の開口部の長さ方向の少なくとも一方側に隣接して形成され、前記第1の開口部の長さ方向に長く、前記第1の開口部の幅より狭い幅を備えるスリット状の第2の開口部とを含むマスクと、
加工対象物を保持するステージと、
前記マスクの位置を、前記ステージに保持された加工対象物上に結像させる結像光学系と
を有するビーム照射装置。 - 前記マスクの透光領域には、前記第1の開口部と前記第2の開口部の組が、前記第1及び第2の開口部の幅方向に繰り返し形成されている請求項4に記載のビーム照射装置。
- 前記マスクの透光領域は、前記第2の開口部が、前記第1の開口部の長さ方向の一方側に隣接して形成された第1の透光領域と、前記第2の開口部が、前記第1の開口部の長さ方向の他方側に隣接して形成された第2の透光領域とを含む請求項4または5に記載のビーム照射装置。
- 更に、前記マスクを、前記マスクに入射するレーザビームの光軸に垂直な方向に移動させるマスク移動機構を有する請求項4〜6のいずれか1項に記載のビーム照射装置。
- (a)第1のレーザビームを、シリコン膜上に画定されたスリット状の第1の領域に照射し、前記第1の領域のシリコン膜を厚さ方向の全域に渡って溶融して結晶化する工程と、
(b)第2のレーザビームを、前記第1の領域内に画定されたスリット状の第2の領域であって、前記第1の領域の長さ方向に長く、前記第1の領域の幅より狭い幅を備える第2の領域に照射し、前記第2の領域のシリコン膜を厚さ方向の全域に渡って溶融して結晶化する工程と
を有するビーム照射方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06308714A (ja) * | 1993-04-22 | 1994-11-04 | Hitachi Ltd | 位相シフタ自動配置方法及びそれを用いた位相シフタ自動配置装置 |
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