JP2008251622A - Manufacturing method of wiring board - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a wiring board capable of reducing mounting failure of electronic components due to a gas generated while being heated. <P>SOLUTION: The manufacturing method of a wiring board comprises a coating process for coating a connection pad of a substrate having the connection pad with solder paste; a loading process for loading electronic components on the coated solder paste; an arrangement process for arranging a lid body on the substrate so that the electronic components are covered; and a heating process for heating the substrate where the lid body is arranged. The lid body has a communication section for allowing space, formed between the lid body and the electronic component to communicate with the external space of the lid body. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、配線基板の製造方法に係り、特に電子部品の実装された配線基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a wiring board, and more particularly to a method for manufacturing a wiring board on which electronic components are mounted.

配線基板の接続パッドにはんだペーストを印刷し、このはんだペースト上にチップコンデンサ等の電子部品を載置してリフローすることによって、電子部品を配線基板に実装する配線基板の製造方法が開示されている(例えば、特許文献1、特許文献2参照)。
特開2001−203445号公報 特開2004−335507号公報
A method of manufacturing a wiring board for mounting an electronic component on a wiring board by printing a solder paste on a connection pad of the wiring board, placing an electronic component such as a chip capacitor on the solder paste, and reflowing is disclosed. (For example, refer to Patent Document 1 and Patent Document 2).
JP 2001-203445 A JP 2004-335507 A

しかしながら、上記の手法では、図10に示すように、チップ状の電子部品1の一方の電極1aが配線基板2の接続用パッド3から高さ方向に離間するいわゆるチップ立ち現象(マンハッタン現象ともいう)を起こすことがあった。リフロー炉で加熱することにより、はんだペーストは溶融する。一方の接続パッド3上のはんだペーストが、他方の接続パッド3上のはんだペーストよりも早く溶けると、溶融したはんだペーストの表面張力によって、電子部品1の端部を支点として高さ方向に回転力を生じる。この回転力によって、電子部品1が、早く溶融したはんだペーストの方の接続パッド3側に引き寄せられて、チップ立ちを生じてしまう。チップ立ち現象が生じるとこの状態ではんだ付けが終了してしまうので、溶融が遅い側の電子部品1の電極1aが、接続されるべき接続パッド3から離間するオープン不良により、配線基板2全体が不良品として扱われ、製造歩留まりが低下してしまうという問題を有していた。
特に、最近、配線基板の実装密度を向上させるために、チップ状の電子部品の小型化、軽量化が進んでおり、電子部品が小型化、軽量化するほど、チップ立ち現象は発生しやすいため、チップ立ち現象を有効に防止する技術が求められている。
そこで、本発明者は、このような問題点を解消するために、電子部品を覆うように蓋体を基板上に配置することによって、リフロー時における電子部品の起き上がりを制限し、チップ立ちを防止できることを見出した。
しかしながら、この方法では、蓋体によって電子部品を覆っているので、電子部品を実装する空間(言い換えれば、蓋体と電子部品との間に形成される空間)が密閉されている。そのため、リフローの際にはんだペースト中のフラックスが気化して生じたガスが、電子部品を実装する空間に溜まり、このガスが熱により膨張しようとして高圧化し、電子部品が接続パッドから浮いたり、ずれたりして、電子部品の実装不良を生じる可能性があることが判った。また、蓋体や電子部品に蒸発したフラックスが付着する可能性がある。
However, in the above method, as shown in FIG. 10, a so-called chip standing phenomenon (also referred to as a Manhattan phenomenon) in which one electrode 1 a of the chip-shaped electronic component 1 is separated from the connection pad 3 of the wiring substrate 2 in the height direction. ). The solder paste is melted by heating in a reflow furnace. When the solder paste on one connection pad 3 melts earlier than the solder paste on the other connection pad 3, the surface tension of the molten solder paste causes a rotational force in the height direction with the end of the electronic component 1 as a fulcrum. Produce. Due to this rotational force, the electronic component 1 is attracted to the connection pad 3 side of the solder paste that has been melted earlier, and the chip stands. When the chip standing phenomenon occurs, the soldering is finished in this state. Therefore, the entire wiring board 2 is caused by an open defect in which the electrode 1a of the electronic component 1 on the slow melting side is separated from the connection pad 3 to be connected. It was handled as a defective product and had a problem that the manufacturing yield was reduced.
Recently, in order to improve the mounting density of wiring boards, chip-shaped electronic components have been reduced in size and weight, and as electronic components become smaller and lighter, chip standing phenomenon is more likely to occur. Therefore, there is a need for a technique that effectively prevents the chip standing phenomenon.
Therefore, in order to solve such problems, the present inventor limits the rising of the electronic component during reflow and prevents the chip from standing by arranging a lid on the substrate so as to cover the electronic component. I found out that I can do it.
However, in this method, since the electronic component is covered by the lid, the space for mounting the electronic component (in other words, the space formed between the lid and the electronic component) is sealed. For this reason, the gas generated by the vaporization of the flux in the solder paste during reflow accumulates in the space where the electronic components are mounted, and this gas expands due to heat, increasing the pressure, causing the electronic components to float or slip off the connection pads. As a result, it has been found that there is a possibility that mounting defects of electronic components may occur. Moreover, the evaporated flux may adhere to the lid or the electronic component.

上記に鑑み、本発明は、加熱時に発生したガスによる電子部品の実装不良を低減することが可能な配線基板の製造方法を提供することを目的とする。   In view of the above, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a wiring board that can reduce mounting defects of electronic components due to gas generated during heating.

本発明の一態様に係る配線基板の製造方法は、接続パッドを備える基板の前記接続パッド上に、はんだペーストを塗布する塗布工程と、塗布された前記はんだペースト上に電子部品を搭載する搭載工程と、前記電子部品を覆うように蓋体を前記基板上に配置する配置工程と、前記蓋体が配置された前記基板を加熱する加熱工程と、を具備し、前記蓋体が、前記蓋体と前記電子部品との間に形成される空間と、前記蓋体の外部空間とを連通する連通部を有することを特徴とする。   A method for manufacturing a wiring board according to an aspect of the present invention includes a coating step of applying a solder paste on the connection pad of a substrate including a connection pad, and a mounting step of mounting an electronic component on the applied solder paste. And an arranging step of arranging a lid on the substrate so as to cover the electronic component, and a heating step of heating the substrate on which the lid is arranged, wherein the lid is the lid And a communication part that communicates the space formed between the electronic component and the external space of the lid.

本発明の一態様に係る配線基板の製造方法によれば、蓋体に形成された連通部によって、加熱の際にはんだペースト中のフラックスが気化して生じたガスを、電子部品を実装する空間からガス抜きできるので、加熱時に発生したガスによる電子部品の実装不良を低減することが可能である。   According to the method for manufacturing a wiring board according to an aspect of the present invention, the space in which the electronic component is mounted by using the communication portion formed in the lid body to generate the gas generated by the evaporation of the flux in the solder paste during heating. Therefore, it is possible to reduce mounting defects of electronic components due to gas generated during heating.

以下、本発明を具体化した一実施形態の配線基板11の製造方法を、図面を用いて詳細に説明する。   Hereinafter, a method for manufacturing a wiring board 11 according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1は、本実施形態の配線基板11の構成を概略的に表す断面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of the wiring board 11 of the present embodiment.

本発明が適用された配線基板11は、その外形が、例えば約35mm×約35mmの平面視略矩形形状である。
図1に示されるように、この配線基板11は、基板12をコア材として備えている。基板12としては、例えば、樹脂基板、セラミック基板、金属基板などが挙げられ、コスト性、孔加工の容易性、導電性などを考慮して適宜選択される。樹脂基板の具体例としては、EP樹脂(エポキシ樹脂)、PI樹脂(ポリイミド樹脂)、BT樹脂(ビスマレイミド−トリアジン樹脂)、PPE樹脂(ポリフェニレンエーテル樹脂)からなる板材などがある。セラミック基板の具体例としては、アルミナ、ベリリア、窒化アルミニウム、窒化ほう素、炭化珪素、ガラスセラミック、結晶化ガラス等の低温焼成材料等からなる板材などがある。金属基板の具体例としては、銅板や銅合金板、銅以外の金属単体や、合金(例えばFe−Ni系合金など)からなる板材などが挙げられる。本実施の形態では、基板12として、ガラスクロス布にエポキシ樹脂を含浸したものを用いている。
The wiring board 11 to which the present invention is applied has a substantially rectangular shape in plan view of, for example, about 35 mm × about 35 mm.
As shown in FIG. 1, the wiring board 11 includes a board 12 as a core material. Examples of the substrate 12 include a resin substrate, a ceramic substrate, and a metal substrate, and are appropriately selected in consideration of cost, ease of hole processing, conductivity, and the like. Specific examples of the resin substrate include a plate material made of EP resin (epoxy resin), PI resin (polyimide resin), BT resin (bismaleimide-triazine resin), and PPE resin (polyphenylene ether resin). Specific examples of the ceramic substrate include a plate made of low-temperature firing material such as alumina, beryllia, aluminum nitride, boron nitride, silicon carbide, glass ceramic, crystallized glass, and the like. Specific examples of the metal substrate include a copper plate, a copper alloy plate, a single metal other than copper, and a plate material made of an alloy (for example, an Fe—Ni alloy). In the present embodiment, as the substrate 12, a glass cloth cloth impregnated with an epoxy resin is used.

図1において基板12の第1主面13(上面)側には、樹脂絶縁層31,51と導体層21,41とを交互に積層してなるビルドアップ層が形成されている。基板12の第2主面14(下面)側には、樹脂絶縁層32,52と導体層22,42とを交互に積層してなるビルドアップ層が形成されている。   In FIG. 1, a buildup layer formed by alternately laminating resin insulating layers 31 and 51 and conductor layers 21 and 41 is formed on the first main surface 13 (upper surface) side of the substrate 12. On the second main surface 14 (lower surface) side of the substrate 12, a buildup layer formed by alternately laminating the resin insulating layers 32 and 52 and the conductor layers 22 and 42 is formed.

樹脂絶縁層31,32,51,52は熱硬化性樹脂を用いて形成されることが好適である。好適な熱硬化性樹脂の具体例を挙げると、EP樹脂(エポキシ樹脂)、PI樹脂(ポリイミド樹脂)、BT樹脂(ビスマレイミド−トリアジン樹脂)、フェノール樹脂、キシレン樹脂、ポリエステル樹脂、けい素樹脂等がある。これらの中でも、EP樹脂(エポキシ樹脂)、PI樹脂(ポリイミド樹脂)、BT樹脂(ビスマレイミド−トリアジン樹脂)などが特に好ましい。
導体層21,22,41,42は銅等の導電性金属からなり、サブトラクティブ法、セミアディティブ法、フルアディティブ法などといった公知の手法によって形成される。具体的にいうと、例えば、銅箔のエッチング、無電解銅めっきあるいは電解銅めっきなどの手法が適用される。なお、スパッタやCVD等の手法により薄膜を形成した後にエッチングを行うことで導体層21,22,41,42を形成したり、導電性ペースト等の印刷により導体層21,22,41,42を形成したりすることも可能である。
The resin insulating layers 31, 32, 51, and 52 are preferably formed using a thermosetting resin. Specific examples of suitable thermosetting resins include EP resin (epoxy resin), PI resin (polyimide resin), BT resin (bismaleimide-triazine resin), phenol resin, xylene resin, polyester resin, silicon resin, etc. There is. Among these, EP resin (epoxy resin), PI resin (polyimide resin), BT resin (bismaleimide-triazine resin) and the like are particularly preferable.
The conductor layers 21, 22, 41, 42 are made of a conductive metal such as copper, and are formed by a known method such as a subtractive method, a semi-additive method, or a full additive method. Specifically, for example, techniques such as etching of copper foil, electroless copper plating, or electrolytic copper plating are applied. The conductor layers 21, 22, 41, 42 are formed by etching after forming a thin film by a technique such as sputtering or CVD, or the conductor layers 21, 22, 41, 42 are printed by printing a conductive paste or the like. It can also be formed.

本実施の形態では、樹脂絶縁層31,32,51,52、導体層21,22,41,42を以下のように構成している。第1層めの導体層21,22は銅からなり、基板12の第1主面13(上面)及び第2主面14(下面)の表面上にそれぞれ形成されている。第1層めの樹脂絶縁層31,32は感光性エポキシ樹脂からなり、第1層めの導体層21,22を覆うような状態で形成されている。第2層めの導体層41,42は銅からなり、第1層めの樹脂絶縁層31,32の表面上にそれぞれ形成されている。第2層めの樹脂絶縁層51,52は感光性エポキシ樹脂からなり、第2層めの導体層41,42を覆うような状態で形成されている。なお、第2層めの樹脂絶縁層51,52は、導体層41,42におけるダイパッド43や接続パッド44,45以外の部分を保護する、いわゆるソルダーレジストとしての役割を果たす。   In the present embodiment, the resin insulating layers 31, 32, 51, 52 and the conductor layers 21, 22, 41, 42 are configured as follows. The first conductor layers 21 and 22 are made of copper, and are formed on the surfaces of the first main surface 13 (upper surface) and the second main surface 14 (lower surface) of the substrate 12, respectively. The first resin insulation layers 31 and 32 are made of a photosensitive epoxy resin and are formed so as to cover the first conductor layers 21 and 22. The second conductor layers 41 and 42 are made of copper, and are formed on the surfaces of the first resin insulation layers 31 and 32, respectively. The second resin insulation layers 51 and 52 are made of a photosensitive epoxy resin and are formed so as to cover the second conductor layers 41 and 42. The second resin insulation layers 51 and 52 serve as so-called solder resists for protecting portions of the conductor layers 41 and 42 other than the die pad 43 and the connection pads 44 and 45.

また、基板12における複数の箇所には、第1主面13側のビルドアップ層と第2主面14側のビルドアップ層とを接続導通するためのスルーホール導体15が形成されている。スルーホール導体15内の空洞部は、無機フィラー入りのエポキシ樹脂からなる樹脂充填体23によって埋められている。   In addition, through-hole conductors 15 for connecting and conducting the buildup layer on the first main surface 13 side and the buildup layer on the second main surface 14 side are formed at a plurality of locations on the substrate 12. The cavity in the through-hole conductor 15 is filled with a resin filler 23 made of an epoxy resin containing an inorganic filler.

第1層めの樹脂絶縁層31,32には、無電解銅めっきによってブラインドビアホール導体33,34がそれぞれ設けられている。そして、第1主面13側のブラインドビアホール導体33は導体層21,41間を接続導通し、第2主面14側のブラインドビアホール導体34は導体層22,42間を接続導通している。   Blind via-hole conductors 33 and 34 are provided on the first resin insulation layers 31 and 32 by electroless copper plating, respectively. The blind via-hole conductor 33 on the first main surface 13 side is connected between the conductor layers 21 and 41, and the blind via-hole conductor 34 on the second main surface 14 side is connected and connected between the conductor layers 22 and 42.

図1に示されるように、第1主面13(上面)側においてその略中央部に設定されたダイエリアには、電子部品の一種である矩形状の半導体集積回路チップ16が搭載されている。半導体集積回路チップ16の下面側にできる隙間は、アンダーフィル材62によって埋められている。ダイエリア内には、半導体集積回路チップ16側との電気的な接続を図るためのダイパッド43が多数形成されている。ダイパッド43は、ソルダーレジストである第2層めの絶縁樹脂層51に設けられた開口部分に配置されている。   As shown in FIG. 1, a rectangular semiconductor integrated circuit chip 16, which is a kind of electronic component, is mounted on a die area set at a substantially central portion on the first main surface 13 (upper surface) side. . A gap formed on the lower surface side of the semiconductor integrated circuit chip 16 is filled with an underfill material 62. A large number of die pads 43 for electrical connection with the semiconductor integrated circuit chip 16 are formed in the die area. The die pad 43 is disposed in an opening provided in the second insulating resin layer 51 which is a solder resist.

一方、第2主面14(下面)側には、その略中央部に、互いに高さの異なるチップキャパシタである電子部品17a,17bが、接続パッド45上に実装されている。電子部品17a、電子部品17bはいずれも複数個が、図1の断面(紙面)に垂直な方向に沿ってそれぞれ配置されている。接続パッド45は、第2層めの絶縁樹脂層52の開口部分に配置されている。電子部品17a,17bの搭載エリアの外側の領域には、マザーボード側の端子と接続する接続端子として、接続パッド44が多数形成され、図示しないマザーボードが接続可能となっている。なお、接続パッド44とマザーボード側の端子との接続は、電子部品17a,17bを収容する例えば直方体形状の電子部品逃がし凹部をマザーボードに設けることにより、容易に行うことができる。
なお、ダイパッド43及び接続パッド44,45の表面上には、ニッケル−金めっき層46が形成されている。
On the other hand, on the second main surface 14 (lower surface) side, electronic components 17a and 17b, which are chip capacitors having different heights, are mounted on the connection pads 45 at the substantially central portion thereof. A plurality of electronic components 17a and electronic components 17b are arranged along the direction perpendicular to the cross section (paper surface) of FIG. The connection pad 45 is disposed in the opening of the second insulating resin layer 52. A large number of connection pads 44 are formed as connection terminals to be connected to the terminals on the mother board side in a region outside the mounting area of the electronic components 17a and 17b, and a mother board (not shown) can be connected. The connection pads 44 and the terminals on the motherboard side can be easily connected by providing, for example, a rectangular parallelepiped-shaped electronic component relief recess for housing the electronic components 17a and 17b in the motherboard.
A nickel-gold plating layer 46 is formed on the surfaces of the die pad 43 and the connection pads 44 and 45.

本明細書中において電子部品とは、チップ状の電子部品をいい、能動部品であっても受動部品であってもよく、本実施形態で用いたチップキャパシタのほか、例えばチップインダクター、チップ抵抗などであってもよい。また、本実施の形態では、電子部品17a,17bは、第2主面14側に配置されているが、第1主面13側のみに配置されていてもよく、あるいは第1主面13及び第2主面14の両方に配置されていてもよい。   In this specification, an electronic component refers to a chip-shaped electronic component, which may be an active component or a passive component. In addition to the chip capacitor used in the present embodiment, for example, a chip inductor, a chip resistor It may be. In the present embodiment, the electronic components 17a and 17b are arranged on the second main surface 14 side, but may be arranged only on the first main surface 13 side, or the first main surface 13 and It may be arranged on both of the second main surfaces 14.

ニッケル−金めっきが施されたダイパッド43上には、共晶はんだ(37Pb:63Sn、融点183℃)を用いて、第1のはんだバンプ47が形成されている。第1のはんだバンプ47は、第2層めの絶縁樹脂層51の表面から突出している。ニッケル−金めっきが施された接続パッド45上には、第1のはんだバンプ47形成用のはんだよりも高融点のPb−Sn−Bi−Sb(Pbが70重量%)合金はんだを用いて、第2のはんだバンプ48が形成されている。第2のはんだバンプ48の上面は、第2層めの絶縁樹脂層52の表面から突出している。   On the die pad 43 on which nickel-gold plating has been applied, a first solder bump 47 is formed using eutectic solder (37Pb: 63Sn, melting point 183 ° C.). The first solder bump 47 protrudes from the surface of the second insulating resin layer 51. On the connection pad 45 on which the nickel-gold plating is applied, a Pb—Sn—Bi—Sb (Pb is 70 wt%) alloy solder having a melting point higher than that of the solder for forming the first solder bump 47 is used. A second solder bump 48 is formed. The upper surface of the second solder bump 48 protrudes from the surface of the second insulating resin layer 52.

次に、上記の配線基板11を製造する手順を説明する。
図2A〜図2Dは、配線基板11の製造工程を表す断面図である。図2A〜図2Dは、図1の配線基板11を上下逆に配置したものに対応する。
Next, a procedure for manufacturing the wiring board 11 will be described.
2A to 2D are cross-sectional views illustrating the manufacturing process of the wiring board 11. 2A to 2D correspond to the wiring substrate 11 of FIG. 1 arranged upside down.

まず、基板12の両面に銅箔を貼着した両面銅張積層板を出発材料とし、それにYAGレーザーまたは炭酸ガスレーザーを用いてレーザー加工を行い、両面銅張積層板を貫通する貫通孔を形成する。次に、前記貫通孔内面に対する無電銅めっきによりスルーホール導体15を形成した後、銅箔のエッチングにより第1層めの導体層21,22をパターニングする。ここでスルーホール導体15を樹脂充填体23で埋めた後、基板12の第1主面13及び第2主面14に第1層めの樹脂絶縁層31,32を形成する。次に、レーザー加工によって樹脂絶縁層31,32を孔開けし、ブラインドビアホール導体33,34を形成するための盲孔を形成する。さらに、マスクを形成しないで無電解銅めっきを施すことにより、前記盲孔の内部に銅めっきを析出させてブラインドビアホール導体33,34を形成する。このとき樹脂絶縁層31,32の外表面全体にも無電解銅めっきが析出する。この後、露光及び現像を行って所定パターンのめっきレジストを形成する。この状態で無電解銅めっき層を共通電極として電解銅めっきを施した後、まずレジストを溶解除去して、さらに不要な無電解銅めっき層をエッチングで除去する。これにより、上側の樹脂絶縁層31の表面上にダイパッド43を含む導体層41を形成し、下側の樹脂絶縁層32の表面上に接続パッド44,45を含む導体層42を形成する。   First, a double-sided copper clad laminate with copper foil attached to both sides of the substrate 12 is used as a starting material, and laser processing is performed using a YAG laser or a carbon dioxide gas laser to form a through-hole penetrating the double-sided copper clad laminate. To do. Next, after the through-hole conductor 15 is formed by electroless copper plating on the inner surface of the through hole, the first conductor layers 21 and 22 are patterned by etching the copper foil. Here, after the through-hole conductor 15 is filled with the resin filler 23, first resin insulation layers 31 and 32 are formed on the first main surface 13 and the second main surface 14 of the substrate 12. Next, the resin insulating layers 31 and 32 are drilled by laser processing to form blind holes for forming the blind via-hole conductors 33 and 34. Furthermore, by performing electroless copper plating without forming a mask, copper plating is deposited inside the blind hole to form blind via-hole conductors 33 and 34. At this time, electroless copper plating is deposited on the entire outer surface of the resin insulation layers 31 and 32. Thereafter, exposure and development are performed to form a predetermined pattern of plating resist. In this state, after electrolytic copper plating is performed using the electroless copper plating layer as a common electrode, first, the resist is dissolved and removed, and further unnecessary electroless copper plating layer is removed by etching. Thereby, the conductor layer 41 including the die pad 43 is formed on the surface of the upper resin insulating layer 31, and the conductor layer 42 including the connection pads 44 and 45 is formed on the surface of the lower resin insulating layer 32.

そして、基板12の第1主面13及び第2主面14の表面上に、感光性エポキシ樹脂を塗布して硬化させることにより、第2層めの樹脂絶縁層51,52(ソルダーレジスト)を形成する。次に、所定のマスクを配置した状態で露光及び現像を行い、第2層めの樹脂絶縁層51,52に開口部分を形成する。次に、過マンガン酸カリウムを含む粗化液を用いて表面粗化処理を行い、第2層めの樹脂絶縁層51,52の表面を粗面に変える。   Then, by applying and curing a photosensitive epoxy resin on the surfaces of the first main surface 13 and the second main surface 14 of the substrate 12, the second resin insulating layers 51 and 52 (solder resist) are formed. Form. Next, exposure and development are performed in a state where a predetermined mask is disposed, and openings are formed in the second resin insulating layers 51 and 52. Next, a surface roughening treatment is performed using a roughening solution containing potassium permanganate, and the surfaces of the second resin insulating layers 51 and 52 are changed to rough surfaces.

次に、ダイパッド43及び接続パッド44,45の表面に対し、無電解ニッケルめっき、無電解金めっきを順次施すことにより、ニッケル−金めっき層46を形成する。   Next, the surface of the die pad 43 and the connection pads 44 and 45 are subjected to electroless nickel plating and electroless gold plating in order, thereby forming a nickel-gold plating layer 46.

続いて、第1主面13側のダイパッド43上のニッケル−金めっき層46上に、はんだバンプ47を形成する。具体的には、第2層めの樹脂絶縁層51上に所定パターンのマスクを載置したうえで、ダイパッド43上にはんだペーストを印刷する。本実施形態では、合金はんだ(37Pb:63Sn、融点183℃)を含むはんだペーストを使用した。   Subsequently, solder bumps 47 are formed on the nickel-gold plating layer 46 on the die pad 43 on the first main surface 13 side. Specifically, a mask having a predetermined pattern is placed on the second resin insulating layer 51 and then a solder paste is printed on the die pad 43. In this embodiment, a solder paste containing alloy solder (37Pb: 63Sn, melting point 183 ° C.) is used.

続いて、第2主面14側の接続パッド45上のニッケル−金めっき層46上にはんだバンプ48を形成する(図2A参照)。具体的には、第2層めの樹脂絶縁層52上に所定パターンのマスクを載置したうえで、接続パッド45上にはんだペーストを印刷する。本実施形態では、はんだバンプ47における合金はんだよりも高融点の、共晶組成を有していないPb−Sn−Bi−Sbという組成(Pbが70重量%)の4元系合金はんだを含むはんだペーストを選択した。そして、互いに高さの異なるチップキャパシタである電子部品17a,17bをそれぞれのはんだバンプ48上の所定の位置に配置し、複数の電子部品17aと複数の電子部品17bを配線基板11に搭載した(図2B参照)。   Subsequently, solder bumps 48 are formed on the nickel-gold plating layer 46 on the connection pads 45 on the second main surface 14 side (see FIG. 2A). Specifically, a mask having a predetermined pattern is placed on the second resin insulation layer 52, and then a solder paste is printed on the connection pads 45. In the present embodiment, a solder containing a quaternary alloy solder having a composition (Pb—Sn—Bi—Sb) having a higher melting point than the alloy solder in the solder bump 47 and having no eutectic composition (Pb is 70 wt%). Selected paste. Then, the electronic components 17a and 17b, which are chip capacitors having different heights, are arranged at predetermined positions on the respective solder bumps 48, and the plurality of electronic components 17a and the plurality of electronic components 17b are mounted on the wiring board 11 ( (See FIG. 2B).

リフロー炉ではんだ付けする際に配線基板11を収容する、リフローはんだ付け用治具70を用意する。図3は、リフローはんだ付け用治具70を分解した状態を表す分解斜視図である。リフローはんだ付け用治具70は、下治具80と蓋体90を有する。図4は、下治具80の上面図である。図5は、蓋体90の下面図である。   A reflow soldering jig 70 that accommodates the wiring board 11 when soldering in a reflow furnace is prepared. FIG. 3 is an exploded perspective view showing a state where the reflow soldering jig 70 is disassembled. The reflow soldering jig 70 includes a lower jig 80 and a lid 90. FIG. 4 is a top view of the lower jig 80. FIG. 5 is a bottom view of the lid 90.

下治具80は、配線基板11を収容載置するための治具である。下治具80は、その外形が略直方体形状であり、下治具80の上面には、配線基板11を載置するための略直方体形状の凹部81がY方向に並んで複数(図4では凹部81が3つの場合を示している)形成されている。これらの凹部81内に配線基板11をそれぞれ1つずつ収容して、1つの下治具80に凹部81と同数の配線基板11を載置することができる。凹部81の内周は、配線基板11の外形と寸法が略一致する。
それぞれの凹部81の略中央部には、はんだバンプ47が下治具80に当接することを避けるための略直方体形状の逃がし凹部82がさらに設けられている。逃がし凹部82は、はんだバンプ47を当接しないで収容できるように、はんだバンプ47の形成エリアや、はんだバンプ47が絶縁樹脂層51の表面から突出する高さよりも大きい寸法に形成されている。
The lower jig 80 is a jig for receiving and mounting the wiring board 11. The outer shape of the lower jig 80 is a substantially rectangular parallelepiped shape. On the upper surface of the lower jig 80, a plurality of concave parts 81 having a substantially rectangular parallelepiped shape for placing the wiring board 11 are arranged in the Y direction (in FIG. 4). The number of the concave portions 81 is three). One wiring board 11 can be accommodated in each of the recesses 81, and the same number of wiring boards 11 as the recesses 81 can be placed on one lower jig 80. The inner circumference of the recess 81 is substantially the same as the dimension of the wiring board 11.
A substantially rectangular parallelepiped escape recess 82 is further provided in the approximate center of each recess 81 to avoid the solder bump 47 from coming into contact with the lower jig 80. The relief recess 82 is formed in a size larger than the formation area of the solder bump 47 and the height at which the solder bump 47 protrudes from the surface of the insulating resin layer 51 so that the solder bump 47 can be accommodated without contacting.

また、下治具80には、凹部81の開口端側であって、X負方向のコーナー部寄りの位置に、一対のU字形の突起部83が対向するように形成されている。突起部83は、蓋体90に形成されたノッチ部(窪み部)95(後述する)内に収めることによって、向きを間違えずに蓋体90と下治具80を組み合わせるためのものである。突起部83は、ノッチ部(窪み部)95内に収めることができるように、ノッチ部95と対応した形状に形成されている。   The lower jig 80 is formed with a pair of U-shaped projections 83 facing each other at a position near the corner in the negative X direction on the opening end side of the recess 81. The protrusion 83 is used to combine the lid 90 and the lower jig 80 without making a mistake in orientation by being housed in a notch (depression) 95 (described later) formed in the lid 90. The protruding portion 83 is formed in a shape corresponding to the notched portion 95 so that the protruding portion 83 can be accommodated in the notched portion (recessed portion) 95.

下治具80は、はんだが付着しにくく熱伝導性がよく加工性がよいため、カーボンで構成されている。なお、下治具80は、アルミニウムによって構成してもよい。   The lower jig 80 is made of carbon because it is difficult for solder to adhere and has good thermal conductivity and good workability. The lower jig 80 may be made of aluminum.

蓋体90は、リフロー時に、電子部品17a、17bが起き上がることを制限することにより、リフローの際に電子部品の一方の電極が配線基板の接続パッド45から高さ方向に離間するいわゆるチップ立ち現象(マンハッタン現象ともいう)を防止するためのものである。蓋体90はその外形が基板(略直方体)形状であり、蓋体90の外周は、配線基板11の外形と寸法が略一致し、下治具80の凹部81の内周よりも一辺が約0.5mm小さい。   The lid 90 restricts the rise of the electronic components 17a and 17b during reflow, so that one electrode of the electronic component is separated from the connection pad 45 of the wiring board in the height direction during reflow. This is to prevent (also called the Manhattan phenomenon). The outer shape of the lid 90 is a substrate (substantially rectangular parallelepiped) shape, and the outer circumference of the lid 90 is substantially the same as the outer dimension of the wiring board 11, and one side is approximately longer than the inner circumference of the recess 81 of the lower jig 80. 0.5 mm smaller.

蓋体90の下面には、略中央部に電子部品17a,17bを収容するための凹部91が形成されている。本実施形態では、凹部91は、複数の電子部品17a、17bに対応して1つ設けられている。凹部91には、X方向に沿い、かつ凹部91の底面を略2分する位置に段差92が形成されている。凹部91は、複数の電子部品17aの上面と対向して配置される底面93aと、複数の電子部品17bの上面と対向して配置される底面93bとを有している。凹部91の底面93aの深さは約1.45mm、底面93bの深さは約0.55mmである。凹部91の底面93a,93bの深さは、複数の電子部品17a、17bの高さより、それぞれいずれも0.05mm以上0.20mm以下の範囲内で大きくなるように形成されている。
また、凹部91は、電子部品17a,17bの側面が当接しないで収容できるように、電子部品17a,17bの搭載エリアよりも大きい寸法に形成されている。
On the lower surface of the lid 90, a recess 91 for accommodating the electronic components 17a and 17b is formed in a substantially central portion. In the present embodiment, one recess 91 is provided corresponding to the plurality of electronic components 17a and 17b. A step 92 is formed in the recess 91 at a position along the X direction and substantially halving the bottom surface of the recess 91. The recess 91 has a bottom surface 93a disposed to face the top surfaces of the plurality of electronic components 17a and a bottom surface 93b disposed to face the top surfaces of the plurality of electronic components 17b. The depth of the bottom surface 93a of the recess 91 is about 1.45 mm, and the depth of the bottom surface 93b is about 0.55 mm. The depths of the bottom surfaces 93a and 93b of the recess 91 are each formed to be larger than the height of the plurality of electronic components 17a and 17b within a range of 0.05 mm or more and 0.20 mm or less.
Moreover, the recessed part 91 is formed in the dimension larger than the mounting area of electronic components 17a and 17b so that the side surface of electronic components 17a and 17b can be accommodated without contacting.

また、蓋体90の下面には、蓋体90のY方向に配置される一辺の約半分の幅で、蓋体90のY方向に配置される一辺の約1/120の高さの連通部94が形成されている。
本明細書中において、連通部は、蓋体と電子部品との間に形成される空間(本実施形態では、凹部91内の空間)と、蓋体の外部空間とを連通するものである。連通部は、ガス抜き部や、対流伝熱路として機能しうる。
Further, on the lower surface of the lid 90, a communication portion having a width that is approximately half of one side arranged in the Y direction of the lid 90 and a height of about 1/120 of one side arranged in the Y direction of the lid 90. 94 is formed.
In the present specification, the communication portion communicates a space formed between the lid and the electronic component (in this embodiment, a space in the recess 91) and an external space of the lid. The communication part can function as a degassing part or a convection heat transfer path.

連通部94は、リフローの際にはんだペースト中のフラックスが蒸発したガスを、蓋体90の凹部91からリフローはんだ付け用治具70(蓋体90)の外部にガス抜きするためのガスの通路(ガス抜き部)として機能する。連通部94は、凹部91の開口端の4つのそれぞれの辺部及びそれぞれの辺部の両端外側の近傍から、蓋体90の4つのそれぞれの外側面の下側略中央部に向かって、それぞれ4方向(X正負方向、Y正負方向)に貫通するように形成されている。このように、凹部91は、連通部94、及び蓋体90と下治具80との隙間を介して、リフローはんだ付け用治具70の外部と通じているので、凹部91内のガスをリフローはんだ付け用治具70の外部にガス抜きすることができる。
また、連通部94は、対流伝熱路としても機能する。
The communicating portion 94 is a gas passage for degassing the gas in which the flux in the solder paste is evaporated during reflow from the recess 91 of the lid 90 to the outside of the reflow soldering jig 70 (lid 90). Functions as a (gas vent). The communication portions 94 are respectively arranged from the four sides of the opening end of the recess 91 and the vicinity of both ends of the sides to the lower and substantially central portions of the four outer surfaces of the lid 90. It is formed so as to penetrate in four directions (X positive / negative direction, Y positive / negative direction). As described above, the recess 91 communicates with the outside of the reflow soldering jig 70 through the communication portion 94 and the gap between the lid 90 and the lower jig 80, so that the gas in the recess 91 is reflowed. Gas can be vented to the outside of the soldering jig 70.
Moreover, the communication part 94 also functions as a convection heat transfer path.

蓋体90の連通部の数は、1以上であれば特に制限されないが、はんだリフロー時の対流伝熱効率や、ガス抜け性を良好にするために、複数設けることが好ましい。複数設けられた連通部は、本実施形態のように、凹部91の開口端の周囲でつながっていてもよい。
連通部94の形状は、凹部91と蓋体94の外部空間を連通していれば特に制限されない。連通部94は、本実施形態で示した連通部94のような溝状に限定されず、孔状であってもよい。
The number of communicating portions of the lid 90 is not particularly limited as long as it is 1 or more, but it is preferable to provide a plurality of communicating portions in order to improve convective heat transfer efficiency during solder reflow and gas escape properties. A plurality of communicating portions may be connected around the open end of the recess 91 as in the present embodiment.
The shape of the communication part 94 is not particularly limited as long as the recess 91 and the outer space of the lid 94 communicate with each other. The communication portion 94 is not limited to the groove shape like the communication portion 94 shown in the present embodiment, and may be a hole shape.

また、蓋体90の下面には、4つのコーナー部のそれぞれに、平面視で矩形形状の凸部100(100a〜100d)が配置されている。
また、蓋体90には、X負方向寄りの外周部に、一対のU字形のノッチ部(窪み部)95が対向するように形成されている。ノッチ部95は、下治具80に形成された突起部83を収めることによって、向きを間違えずに蓋体90と下治具80を組み合わせるためのものである。ノッチ部95は、突起部83を収めることができるように、突起部83と対応した形状に形成されている。
In addition, on the lower surface of the lid 90, convex portions 100 (100a to 100d) having a rectangular shape in a plan view are arranged at each of the four corner portions.
The lid 90 is formed with a pair of U-shaped notch portions (recessed portions) 95 facing the outer peripheral portion near the X negative direction. The notch portion 95 is for combining the lid 90 and the lower jig 80 without wrong orientation by accommodating the projection 83 formed on the lower jig 80. The notch 95 is formed in a shape corresponding to the protrusion 83 so that the protrusion 83 can be accommodated.

蓋体90は、はんだが付着しにくく熱伝導性がよく加工性がよいため、カーボンで構成されている。なお、蓋体90は、アルミニウムによって構成してもよい。   The lid 90 is made of carbon because it is difficult for solder to adhere and has good thermal conductivity and good workability. The lid 90 may be made of aluminum.

次に、配線基板11を、リフローはんだ付け用治具70内に収容する。   Next, the wiring board 11 is accommodated in the reflow soldering jig 70.

まず、配線基板11の第1主面13側を下にして、はんだバンプ47が逃がし凹部82内に収容されるように、複数の配線基板11を、下治具80の複数の凹部81内にそれぞれ1つずつ収容載置する。このとき、配線基板11のチップ非搭載領域は、凹部81の底面に直接当接するが、はんだバンプ47は、逃がし凹部82内に当接しないように収容されている。   First, the plurality of wiring boards 11 are placed in the plurality of recesses 81 of the lower jig 80 so that the solder bumps 47 escape and are accommodated in the recesses 82 with the first main surface 13 side of the wiring board 11 facing down. Each one is accommodated and placed. At this time, the chip non-mounting area of the wiring substrate 11 directly contacts the bottom surface of the recess 81, but the solder bump 47 is accommodated so as not to contact the escape recess 82.

続いて、ノッチ部95内に蓋体90の突起部83が収まるように複数の蓋体90をそれぞれの配線基板上に1つずつ配置して、蓋体90と下治具80を組み合わせる(図2C参照、図2Cは、配線基板11を収容したリフローはんだ付け用治具70を、図3のA−Aに沿って切断した断面を表示している。)。このとき、蓋体90は、凹部91内に電子部品17a、17bを収容した状態で、配線基板12上に載置されている。配線基板11の第2主面14側(図5では配線基板11の上側)のチップ非搭載面は、蓋体90の下面のコーナー部にそれぞれ形成された4つの凸部100(100a〜100d)に直接当接する。その一方、電子部品17a、17bはいずれも、凹部91と当接せず、電子部品17a、17bの上面と凹部91の底面93a,93bは、所定の間隔以下でそれぞれ対向して配置されている。   Subsequently, a plurality of lids 90 are arranged on the respective wiring boards so that the protrusions 83 of the lid 90 fit within the notches 95, and the lid 90 and the lower jig 80 are combined (see FIG. 2C, FIG. 2C shows a cross section of the reflow soldering jig 70 containing the wiring board 11 taken along the line AA in FIG. At this time, the lid 90 is placed on the wiring board 12 in a state where the electronic components 17 a and 17 b are accommodated in the recess 91. The chip non-mounting surface on the second main surface 14 side (the upper side of the wiring substrate 11 in FIG. 5) of the wiring substrate 11 is four convex portions 100 (100a to 100d) formed at the corner portions on the lower surface of the lid 90, respectively. Abut directly. On the other hand, none of the electronic components 17a and 17b are in contact with the recess 91, and the upper surfaces of the electronic components 17a and 17b and the bottom surfaces 93a and 93b of the recess 91 are arranged to face each other at a predetermined distance or less. .

ここで、電子部品17aの上面と底面93aとの離間距離(所定の間隔)、電子部品17bの上面と底面93bとの離間距離(所定の間隔)は、いずれも0.05mm以上0.20mm以下であることが好ましい。
離間距離が0.05mm未満であると、リフローの際に電子部品17a、17bの上面と底面93a,93bが接触することによって、押し付けられた接続パッド45上のはんだペーストが周囲に広がり、隣り合うはんだペースト同士が接触したり、隣の接続パッド45まで到達して、はんだ付け不良を生じるおそれがある。また、リフローの際に電子部品17a、17bの上面と底面93a,93bが接触することによって、電子部品17a、17bが損傷するおそれもある。
離間距離が0.20mmを超えると、チップ立ち現象が生じた場合に、電子部品17a、17bは直立には至らなくても斜めに実装されてしまい、電子部品17a、17bの一方の電極が、接続されるべき接続パッド45から高さ方向に離間してしまい、オープン不良を生じるおそれがある。
本実施の形態では、電子部品17aの上面と底面93aとの離間距離を0.20mm、電子部品17bの上面と底面93bとの離間距離を0.05mmとしている。
Here, the separation distance (predetermined interval) between the upper surface and the bottom surface 93a of the electronic component 17a and the separation distance (predetermined interval) between the upper surface and the bottom surface 93b of the electronic component 17b are both 0.05 mm or more and 0.20 mm or less. It is preferable that
When the separation distance is less than 0.05 mm, the upper surface and the bottom surface 93a, 93b of the electronic components 17a, 17b come into contact with each other during reflow, so that the solder paste on the pressed connection pad 45 spreads around and adjoins. Solder paste may come into contact with each other or may reach the adjacent connection pad 45 to cause poor soldering. In addition, the electronic components 17a and 17b may be damaged by the contact between the top surfaces and the bottom surfaces 93a and 93b of the electronic components 17a and 17b during reflow.
When the separation distance exceeds 0.20 mm, when the chip standing phenomenon occurs, the electronic components 17a and 17b are mounted obliquely even if they are not upright, and one of the electrodes of the electronic components 17a and 17b is There is a possibility that an open defect may occur due to separation from the connection pad 45 to be connected in the height direction.
In the present embodiment, the distance between the upper surface and the bottom surface 93a of the electronic component 17a is 0.20 mm, and the distance between the upper surface and the bottom surface 93b of the electronic component 17b is 0.05 mm.

リフローはんだ付け用治具70に収容された配線基板11を、蓋体90を上にした状態で、リフロー炉で加熱することによりリフローを行い(図2D参照、図2Dは、図2Cと同様に、配線基板11を収容したリフローはんだ付け用治具70を、図3のA−Aに沿って切断した断面を表示している。)、リフロー後、常温まで冷却した。その結果、電子部品17a、17bの電極とはんだバンプ48とが接合され、配線基板11と電子部品17a、17bとは電気的に接続する。   The wiring board 11 accommodated in the reflow soldering jig 70 is reflowed by heating in a reflow furnace with the lid 90 facing up (see FIG. 2D, FIG. 2D is the same as FIG. 2C). The cross section of the reflow soldering jig 70 containing the wiring board 11 taken along the line AA in FIG. 3 is displayed.) After reflowing, the reflow soldering jig 70 was cooled to room temperature. As a result, the electrodes of the electronic components 17a and 17b and the solder bumps 48 are joined, and the wiring board 11 and the electronic components 17a and 17b are electrically connected.

次に、この配線基板11のダイエリアに半導体集積回路チップ16を搭載する。このとき、配線基板11側のはんだバンプ47と、半導体集積回路チップ16側のバンプ61とを位置合わせする。この状態でリフロー炉を用いて所定温度に加熱してリフローを行った後、配線基板11を冷却する。これにより、はんだバンプ47とチップ側バンプ61とを互いに接合し、配線基板11側と半導体集積回路チップ16側とを電気的に接続する。   Next, the semiconductor integrated circuit chip 16 is mounted on the die area of the wiring board 11. At this time, the solder bumps 47 on the wiring board 11 side and the bumps 61 on the semiconductor integrated circuit chip 16 side are aligned. In this state, after reflowing by heating to a predetermined temperature using a reflow furnace, the wiring board 11 is cooled. As a result, the solder bumps 47 and the chip-side bumps 61 are joined to each other, and the wiring board 11 side and the semiconductor integrated circuit chip 16 side are electrically connected.

そして、配線基板11と半導体集積回路チップ16との隙間にアンダーフィル材62を充填して硬化処理(165℃×30秒)を行い、前記隙間を樹脂封止する。以上の結果、所望の半導体パッケージ(いわゆるオーガニックパッケージ)が完成する。   Then, the gap between the wiring substrate 11 and the semiconductor integrated circuit chip 16 is filled with an underfill material 62 and subjected to a curing process (165 ° C. × 30 seconds), and the gap is sealed with resin. As a result, a desired semiconductor package (so-called organic package) is completed.

本実施形態の配線基板11の製造方法によれば以下の利点(効果)を得ることができる。   According to the method for manufacturing the wiring substrate 11 of the present embodiment, the following advantages (effects) can be obtained.

本実施形態の製造方法では、リフローによる電子部品17a,17bのはんだ付けの際に、配線基板11を収容しているリフローはんだ付け用治具70を構成する蓋体90に、連通部94を設けている。そのため、リフローの際に、はんだペースト中のフラックスが気化したガスは、連通部94によって、蓋体90の凹部91からリフローはんだ付け用治具70の外にガス抜きされる。
これにより、フラックスが気化して発生したガスが凹部91内に溜まり、このガスが熱により膨張しようとして高圧化することを、連通部94によって防止できる。このため、ガス圧の高まりによって電子部品17a,17bの電極が接続パッド45からずれたり、浮いたりして離間する実装不良を防止できる。
In the manufacturing method according to the present embodiment, when the electronic components 17a and 17b are soldered by reflow, the communication portion 94 is provided on the lid 90 that constitutes the reflow soldering jig 70 that houses the wiring board 11. ing. Therefore, the gas in which the flux in the solder paste is vaporized during reflow is degassed from the recess 91 of the lid 90 to the outside of the reflow soldering jig 70 by the communication portion 94.
As a result, the communication portion 94 can prevent the gas generated by vaporization of the flux from being accumulated in the recess 91 and the gas from expanding due to heat to increase the pressure. For this reason, it is possible to prevent mounting defects in which the electrodes of the electronic components 17a and 17b are displaced from the connection pad 45 or floated away due to an increase in gas pressure.

また、連通部94によるガス抜きによって、凹部91内のガス圧の高まりによる蓋体90の浮きを防止することができる。これにより、蓋体90の浮きによって起こりうる電子部品17a,17bのチップ立ちや、浮いた蓋体90が電子部品17a,17bに接触することにより電子部品17a、17bが接続パッド45からずれたりする実装不良を防止できる。   Further, the degassing by the communication portion 94 can prevent the lid 90 from being lifted due to an increase in the gas pressure in the recess 91. As a result, the electronic components 17a and 17b may rise due to the floating of the lid 90, and the electronic components 17a and 17b are displaced from the connection pad 45 when the lid 90 is in contact with the electronic components 17a and 17b. Mounting failure can be prevented.

また、連通部94によって、フラックスが気化して発生したガスを、凹部91の外にガス抜きできるので、このガスが電子部品17a,17bのはんだ接合部にボイドとして残ることを抑制することができる。これにより、ボイドの発生による機械的強度の低下や、電気の通りが悪くなること、ボイドに起因したクラックの発生による接合強度の低下や、接合不良を抑制することができる。   Further, since the gas generated by vaporization of the flux can be vented out of the recess 91 by the communication portion 94, it is possible to suppress the gas from remaining as a void in the solder joint portion of the electronic components 17a and 17b. . As a result, it is possible to suppress a decrease in mechanical strength due to the generation of voids, a deterioration in the passage of electricity, a decrease in bonding strength due to the generation of cracks due to voids, and poor bonding.

また、連通部94によって凹部91内のガスをガス抜きすることにより、蓋体90の凹部91の底面93a,93bに、フラックスによる汚れが付着することを抑制できる。これにより、凹部91の底面93a,93bに付着した汚れを洗浄する負担を低減できる。また、リフローはんだ付けが行われてから相当の期間放置して初期の付着物が変質したような汚染物の除去は、必ずしも容易でない場合があるので、連通部94によるガス抜きよってフラックスによる汚れの付着を抑制することにより、リフローはんだ付け用治具70の耐久性を向上させることができる。
さらに、汚れの洗浄が困難なため、凹部91の底面93a,93bと、電子部品17a,17bの上面との距離が当初の設計よりも狭くなることを、連通部94によるガス抜きによって抑制できる。これにより、リフローの際に電子部品17a、17bの上面と底面93a,93bが接触して、はんだペーストが押し広げられて、後述するはんだ付け不良が生じることを低減できる。また、リフローの際に電子部品17a、17bの上面と底面93a,93bとが接触して、電子部品17a、17bが損傷することも低減できる。
Further, by degassing the gas in the concave portion 91 by the communication portion 94, it is possible to suppress adhesion of dirt due to the flux to the bottom surfaces 93a and 93b of the concave portion 91 of the lid 90. Thereby, the burden which wash | cleans the dirt which adhered to the bottom face 93a, 93b of the recessed part 91 can be reduced. In addition, it may not always be easy to remove contaminants that have been left for a considerable period of time after reflow soldering and the initial deposits have deteriorated. By suppressing the adhesion, the durability of the reflow soldering jig 70 can be improved.
Further, since it is difficult to clean the dirt, it is possible to suppress the distance between the bottom surfaces 93a and 93b of the recess 91 and the top surfaces of the electronic components 17a and 17b from being narrower than the original design by degassing by the communication portion 94. As a result, it is possible to reduce the occurrence of poor soldering, which will be described later, due to the contact between the top and bottom surfaces 93a, 93b of the electronic components 17a, 17b during reflow and the spread of the solder paste. Further, it is possible to reduce the damage of the electronic components 17a and 17b due to the contact between the top surfaces and the bottom surfaces 93a and 93b of the electronic components 17a and 17b during reflow.

また、連通部94は対流伝熱路としても機能し、リフローはんだ付け用治具70内に局所的に熱がこもることを抑制できる。これにより、はんだ付け不良を防止できるリフロー条件の設定等のはんだ材料の溶融管理が容易となり、電子部品17a、17bのはんだ付け状態を良好にすることができる。   Moreover, the communication part 94 functions also as a convection heat transfer path, and can suppress that heat is locally stored in the reflow soldering jig 70. Thereby, the melting management of the solder material such as setting of reflow conditions that can prevent soldering failure is facilitated, and the soldered state of the electronic components 17a and 17b can be improved.

また、本実施形態の製造方法では、凹部91から、蓋体90の4つの外側面にそれぞれ通じる連通部94を形成し、複数の連通部を設けているので、前述したはんだリフロー時の対流伝熱効率や、ガス抜け性を良好にすることができる。
また、本実施形態の製造方法では、蓋体90の下面に、連通部94が形成されている。そのため、配線基板11をリフローはんだ付け用治具70に収納して電子部品17a、17bのリフローはんだ付けを行う際に、連通部94が第2主面14側の配線基板11上に配置される。連通部94が第2主面14側の配線基板11上に配置され、また、連通部94は対流伝熱路としても機能するので、電子部品17a、17bがはんだ付けされる配線基板11の第2主面14側に局所的に熱がこもることを抑制できる。このように、連通部94が蓋体90の下面に形成されているため、電子部品17a、17bのはんだ付け不良を防止可能なリフロー条件の設定等の、はんだ材料の溶融管理がさらに容易となり、電子部品17a、17bのはんだ付け状態をさらに良好にすることができる。
Further, in the manufacturing method of the present embodiment, since the communication portions 94 that respectively communicate with the four outer surfaces of the lid body 90 are formed from the recess 91 and a plurality of communication portions are provided, the convection transfer during the above-described solder reflow is performed. Thermal efficiency and outgassing properties can be improved.
In the manufacturing method of the present embodiment, the communication portion 94 is formed on the lower surface of the lid 90. Therefore, when the wiring board 11 is accommodated in the reflow soldering jig 70 and the electronic components 17a and 17b are reflow soldered, the communication portion 94 is disposed on the wiring board 11 on the second main surface 14 side. . Since the communication portion 94 is disposed on the wiring substrate 11 on the second main surface 14 side, and the communication portion 94 also functions as a convection heat transfer path, the first portion of the wiring substrate 11 to which the electronic components 17a and 17b are soldered. 2 It is possible to suppress heat from being locally accumulated on the main surface 14 side. As described above, since the communication portion 94 is formed on the lower surface of the lid 90, the melting management of the solder material such as setting of reflow conditions capable of preventing the soldering failure of the electronic components 17a and 17b is further facilitated. The soldering state of the electronic components 17a and 17b can be further improved.

また、本実施形態の製造方法では、高さの異なる複数の電子部品17a,17bを配線基板11にリフローはんだ付けする際に、複数の底面93a,93bを有する凹部91を備えた蓋体90を、電子部品17a,17bを覆うように配線基板11上に配置している。このとき、複数の底面93a,93bは、複数の電子部品17a,17bの高さにそれぞれ対応する深さを有しており、底面93aと電子部品17aの上面との間隔、及び底面93bと電子部品17bの上面との間隔は、いずれも所定の間隔以下となっている。そのため、底面93a,93bが、リフロー時における電子部品17a、17bの起き上がりを制限する。これにより、複数の電子部品17a及び複数の電子部品17bのように、少なくともいずれかの高さが異なる複数の電子部品を実装する場合であっても、リフロー時のいわゆるチップ立ち現象を、全ての電子部品17a,17bについて、有効に防止することができる。チップ立ち現象を防止することにより、配線基板11の製造歩留まりや信頼性を向上させることができる。   Further, in the manufacturing method of the present embodiment, when the plurality of electronic components 17a and 17b having different heights are reflow-soldered to the wiring board 11, the lid 90 including the recesses 91 having the plurality of bottom surfaces 93a and 93b is provided. The electronic parts 17a and 17b are arranged on the wiring board 11 so as to cover them. At this time, the plurality of bottom surfaces 93a and 93b have a depth corresponding to the height of each of the plurality of electronic components 17a and 17b, the distance between the bottom surface 93a and the top surface of the electronic component 17a, and the bottom surface 93b and the electronic components. The distance from the upper surface of the component 17b is less than or equal to a predetermined distance. For this reason, the bottom surfaces 93a and 93b limit the rising of the electronic components 17a and 17b during reflow. As a result, even when a plurality of electronic components having different heights, such as a plurality of electronic components 17a and a plurality of electronic components 17b, are mounted, the so-called chip standing phenomenon at the time of reflow is reduced. The electronic components 17a and 17b can be effectively prevented. By preventing the chip standing phenomenon, the manufacturing yield and reliability of the wiring substrate 11 can be improved.

また、本実施形態では、リフローはんだ付け用治具70に配線基板11を収容する際に、凹部91の底面93a,93bと、底面93a,93bにそれぞれ対向する電子部品17a,17bの上面との間に、所定の間隔を設けている。そのため、リフローの際に電子部品17a、17bの上面と底面93a,93bが接触することによって、押し付けられたはんだペーストが周囲に広がり、隣り合うはんだペースト同士が接触したり、隣の接続パッド45まで到達して、はんだ付け不良が生じることを防止できる。その結果、実装不良による配線基板11の製造歩留まりや信頼性の低下、製造コストの増大や生産性の低下を回避することができる。また、リフローの際に電子部品17a、17bの上面と底面93a,93bが接触することによって、電子部品17a、17bが損傷することも防止できる。   In this embodiment, when the wiring board 11 is accommodated in the reflow soldering jig 70, the bottom surfaces 93a and 93b of the recess 91 and the top surfaces of the electronic components 17a and 17b facing the bottom surfaces 93a and 93b, respectively. A predetermined interval is provided between them. Therefore, when the top surfaces and bottom surfaces 93a and 93b of the electronic components 17a and 17b come into contact with each other during reflow, the pressed solder paste spreads around and the adjacent solder pastes come into contact with each other or up to the adjacent connection pad 45. It is possible to prevent soldering defects from occurring. As a result, it is possible to avoid a decrease in manufacturing yield and reliability of the wiring substrate 11 due to mounting defects, an increase in manufacturing cost, and a decrease in productivity. In addition, the electronic components 17a and 17b can be prevented from being damaged by the contact between the top surfaces and the bottom surfaces 93a and 93b of the electronic components 17a and 17b during reflow.

また、本実施形態では、電子部品17a,17bのリフローはんだ付けの際に、配線基板11を、リフローはんだ付け用治具70内に収容して、配線基板11を蓋体90と下治具80で挟持している。そのため、はんだ付けの際の熱による配線基板11の反りを防止することができる。   In this embodiment, when the electronic components 17a and 17b are reflow soldered, the wiring board 11 is accommodated in the reflow soldering jig 70, and the wiring board 11 is placed in the lid 90 and the lower jig 80. It is pinched with. Therefore, it is possible to prevent the wiring substrate 11 from warping due to heat during soldering.

また、本実施形態では、リフローによる電子部品17a,17bのはんだ付けの際に、配線基板11を、リフローはんだ付け用治具70内に収容して、配線基板11を蓋体90と下治具80で挟持して覆っている。そのため、はんだ付け後に有機フラッックス中の松脂や活性剤等の固形成分が析出したフラックス残渣等が、配線基板に付着して汚染することを抑制できる。これにより、配線基板11に対して腐食性を有するフラックス残渣が、配線基板11に形成された回路間の絶縁性を低下させることを抑制でき、また、フラックス残渣が、配線基板11の仕上がり外観を悪化させることも抑制できる。   In the present embodiment, when the electronic components 17a and 17b are soldered by reflow, the wiring board 11 is accommodated in the reflow soldering jig 70, and the wiring board 11 is placed in the lid 90 and the lower jig. It is sandwiched and covered by 80. Therefore, it can suppress that the flux residue etc. which solid components, such as a pine resin and an activator in organic flux deposited after soldering, adhere to a wiring board and are contaminated. Thereby, it is possible to suppress the flux residue having corrosiveness with respect to the wiring board 11 from deteriorating the insulation between the circuits formed on the wiring board 11, and the flux residue has a finished appearance of the wiring board 11. It can also be suppressed.

(第1の変形例)
以上の本実施形態の製造方法は、電子部品17a,17bを配線基板11に実装するためのリフロー工程において用いられる蓋体90に、蓋体90のそれぞれの側面を貫通する連通部94を設けている。
これに対して、連通部94に代えて、蓋体が、凹部91の底面93a,93bと蓋体の上面との間を貫通する連通部を備えてもよい。図6は、配線基板11を収容した第1の変形例に係るリフローはんだ付け用治具の主要な部分を表す縦断面図である。図7は、第1の変形例に係る蓋体110を表す下面図である。蓋体110には、凹部91の底面93a、93bの4つのコーナー部と蓋体110の上面との間をそれぞれ貫通する、孔形状の4つの連通部111が形成されている。チップ立ち防止の観点から、連通部111は、この変形例のように、リフロー時に電子部品17a、17bの起き上がりが生じても、起き上がった電子部品17a,17bが接触する可能性が低い底面93a,93bの領域に形成することが好ましい。
(First modification)
In the manufacturing method of the present embodiment described above, the communication part 94 penetrating each side surface of the cover 90 is provided in the cover 90 used in the reflow process for mounting the electronic components 17a and 17b on the wiring board 11. Yes.
On the other hand, it replaces with the communication part 94 and a cover body may be provided with the communication part which penetrates between the bottom surfaces 93a and 93b of the recessed part 91, and the upper surface of a cover body. FIG. 6 is a longitudinal sectional view showing a main part of a reflow soldering jig according to a first modification accommodating the wiring board 11. FIG. 7 is a bottom view showing the lid 110 according to the first modification. The lid body 110 is formed with four communicating portions 111 each having a hole shape penetrating between the four corner portions of the bottom surfaces 93 a and 93 b of the recess 91 and the upper surface of the lid body 110. From the standpoint of preventing the chip from standing up, the communication part 111 is provided with a bottom surface 93a, which is unlikely to come into contact with the raised electronic components 17a, 17b even when the electronic components 17a, 17b rise during reflow, as in this modification. It is preferable to form the region 93b.

蓋体110に形成する連通部111の数は、1以上であれば特に制限されないが、はんだフロー時の対流伝熱効率や、ガス抜け性を良好にするために、複数設けることが好ましい。
また、連通部111のように蓋体の上部を貫通する連通部とともに、連通部94のように蓋体の側面を貫通する連通部を形成してもよい。
連通部111の形状は、凹部91の底面93a,93bと蓋体110の上面を貫通していれば特に制限されない。
The number of communicating portions 111 formed on the lid 110 is not particularly limited as long as it is 1 or more, but it is preferable to provide a plurality of communicating portions 111 in order to improve the convective heat transfer efficiency during solder flow and gas escape properties.
Further, a communication portion that penetrates the side surface of the lid, such as the communication portion 94, may be formed together with a communication portion that penetrates the upper portion of the lid, like the communication portion 111.
The shape of the communication portion 111 is not particularly limited as long as it penetrates the bottom surfaces 93 a and 93 b of the recess 91 and the top surface of the lid 110.

(第2の変形例)
以上の本実施形態の製造方法では、蓋体90に、複数の電子部品17a,17bのそれぞれの高さに対応する深さの複数の底面93a,93bを有する凹部91が1つ形成されている。
これに対して、蓋体が、複数の電子部品17a,17bのそれぞれの高さに対応する深さの底面を有する、複数の凹部を備えていてもよい。図8は、配線基板11を収容した第2の変形例に係るリフローはんだ付け用治具の主要な部分を表す縦断面図である。図9は、第2の変形例に係る蓋体96を表す下面図である。蓋体96には、複数の電子部品17aの高さに対応する深さの底面98aを有する凹部97aと、複数の電子部品17bの高さに対応する深さの底面98bを有する凹部97bとが形成されている。
なお、図8、図9では、凹部97aと凹部97bを連結する凹部連結空間99を設けているが、凹部97a、凹部97bは、それぞれ連通部94によって蓋体96の外部空間と通じているので、凹部連結空間99を設けなくてもよい。
(Second modification)
In the manufacturing method of the present embodiment described above, one recess 91 having a plurality of bottom surfaces 93a, 93b having a depth corresponding to the height of each of the plurality of electronic components 17a, 17b is formed in the lid 90. .
On the other hand, the lid body may include a plurality of recesses having bottom surfaces with depths corresponding to the respective heights of the plurality of electronic components 17a and 17b. FIG. 8 is a longitudinal sectional view showing main parts of a reflow soldering jig according to a second modified example in which the wiring board 11 is accommodated. FIG. 9 is a bottom view showing a lid body 96 according to a second modification. The lid 96 has a recess 97a having a bottom surface 98a having a depth corresponding to the height of the plurality of electronic components 17a, and a recess 97b having a bottom surface 98b having a depth corresponding to the height of the plurality of electronic components 17b. Is formed.
8 and 9, a recess connection space 99 for connecting the recess 97a and the recess 97b is provided. However, the recess 97a and the recess 97b communicate with the external space of the lid 96 through the communication portion 94, respectively. The recess connection space 99 may not be provided.

この変形例は、リフロー工程(加熱工程)において用いる蓋体96が複数の凹部97a、97bを有することを除けば、本実施形態の配線基板11の製造方法と本質的に相違するところがない。そのため、この変形例に係る配線基板11の製造方法においても、本実施形態の配線基板11の製造方法と同様な効果を得ることができる。   This modification is essentially not different from the method for manufacturing the wiring substrate 11 of the present embodiment except that the lid 96 used in the reflow process (heating process) has a plurality of recesses 97a and 97b. Therefore, also in the manufacturing method of the wiring board 11 which concerns on this modification, the effect similar to the manufacturing method of the wiring board 11 of this embodiment can be acquired.

(その他の実施形態)
本発明の実施形態は、上記の実施形態に限られず拡張、変更可能であり、拡張、変更した実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
例えば、配線基板11の製造方法では、リフロー工程において用いる蓋体に、蓋体90,96の側面を貫通する連通部94や、凹部91の底面93a,93bと蓋体110の上面との間を貫通する連通部111を設けた場合を例に説明した。連通部94,111に代えて(連通部94、又は連通部111とともにでもよい)、凹部91の底面93a,93bと蓋体の側面との間を貫通する連通部を設けてもよいし、凹部91の内側面と蓋体の上面を貫通する連通部を設けてもよい。
また、配線基板11の製造方法では、複数の電子部品17a及び複数の電子部品17bのように、少なくともいずれかの高さが異なる複数の電子部品を実装する場合を例に説明したが、同じ高さの複数の電子部品を実装してもよいし、1つの電子部品のみを実装してもよい。これらの場合においても、複数の電子部品17a,17bを実装する場合と同様に、蓋体に連通部を設け、また、同じ高さの複数の電子部品の上面又は1つの電子部品の上面と、蓋体の底面とが所定の間隔以下で対向するように、蓋体を基板上に配置することが好ましい。
(Other embodiments)
Embodiments of the present invention are not limited to the above-described embodiments, and can be expanded and modified. The expanded and modified embodiments are also included in the technical scope of the present invention.
For example, in the method of manufacturing the wiring substrate 11, the lid used in the reflow process is connected to the communication portion 94 that penetrates the side surfaces of the lids 90 and 96, or between the bottom surfaces 93 a and 93 b of the recess 91 and the top surface of the lid 110. The case where the communicating part 111 that penetrates is provided has been described as an example. Instead of the communication portions 94 and 111 (may be together with the communication portion 94 or the communication portion 111), a communication portion penetrating between the bottom surface 93a, 93b of the recess 91 and the side surface of the lid body may be provided. You may provide the communication part which penetrates the inner surface of 91, and the upper surface of a cover body.
Further, in the method of manufacturing the wiring board 11, the case where a plurality of electronic components having different heights, such as the plurality of electronic components 17 a and the plurality of electronic components 17 b, is mounted as an example is described. A plurality of electronic components may be mounted, or only one electronic component may be mounted. Also in these cases, as in the case of mounting a plurality of electronic components 17a and 17b, the lid is provided with a communication portion, and the top surface of the plurality of electronic components or the top surface of one electronic component having the same height; It is preferable to arrange the lid on the substrate so that the bottom surface of the lid is opposed to a predetermined distance or less.

本発明の一実施形態に係る配線基板の構成を概略的に表す断面図である。1 is a cross-sectional view schematically illustrating a configuration of a wiring board according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る配線基板の製造工程を表す断面図である。It is sectional drawing showing the manufacturing process of the wiring board which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る配線基板の製造工程を表す断面図である。It is sectional drawing showing the manufacturing process of the wiring board which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る配線基板の製造工程を表す断面図である。It is sectional drawing showing the manufacturing process of the wiring board which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る配線基板の製造工程を表す断面図である。It is sectional drawing showing the manufacturing process of the wiring board which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態で用いられるリフローはんだ付け用治具を分解した状態を表す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view showing the state which decomposed | disassembled the reflow soldering jig | tool used by one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態で用いられる下治具の上面図である。It is a top view of the lower jig | tool used by one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態で用いられる蓋体の下面図である。It is a bottom view of the lid used in one embodiment of the present invention. 配線基板を収容した第1の変形例に係るリフローはんだ付け用治具の主要な部分を表す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view showing the principal part of the jig | tool for the reflow soldering which concerns on the 1st modification which accommodated the wiring board. 第1の変形例に係る蓋体を表す下面図である。It is a bottom view showing the lid concerning a 1st modification. 配線基板を収容した第2の変形例に係るリフローはんだ付け用治具の主要な部分を表す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view showing the principal part of the jig | tool for the reflow soldering which concerns on the 2nd modification which accommodated the wiring board. 第2の変形例に係る蓋体を表す下面図である。It is a bottom view showing the cover concerning a 2nd modification. チップ立ち現象を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows a chip | tip standing phenomenon.

符号の説明Explanation of symbols

11…配線基板、12…基板、16…半導体集積回路チップ、17a,17b…電子部品、70…リフローはんだ付け用治具、80…下治具、81…凹部、82…逃がし凹部、83…突起部、90…蓋体、91…凹部、92…段差、93a,93b…底面、94…連通部、95…ノッチ部、96…蓋体、97a、97b…凹部、98a、98b…底面、99…凹部連結空間、100…凸部、110…蓋体、111…連通部。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Wiring board, 12 ... Board | substrate, 16 ... Semiconductor integrated circuit chip, 17a, 17b ... Electronic component, 70 ... Reflow soldering jig, 80 ... Lower jig, 81 ... Recessed part, 82 ... Escape recessed part, 83 ... Projection , 90 ... lid, 91 ... recess, 92 ... step, 93a, 93b ... bottom, 94 ... communication part, 95 ... notch, 96 ... lid, 97a, 97b ... recess, 98a, 98b ... bottom, 99 ... Concave connecting space, 100 ... convex part, 110 ... lid, 111 ... communicating part.

Claims (5)

接続パッドを備える基板の前記接続パッド上に、はんだペーストを塗布する塗布工程と、
塗布された前記はんだペースト上に電子部品を搭載する搭載工程と、
前記電子部品を覆うように蓋体を前記基板上に配置する配置工程と、
前記蓋体が配置された前記基板を加熱する加熱工程と、
を具備し、
前記蓋体が、前記蓋体と前記電子部品との間に形成される空間と、前記蓋体の外部空間とを連通する連通部を有することを特徴とする配線基板の製造方法。
An application step of applying a solder paste on the connection pads of the substrate including the connection pads;
A mounting step of mounting electronic components on the applied solder paste;
An arrangement step of arranging a lid on the substrate so as to cover the electronic component;
A heating step of heating the substrate on which the lid is disposed;
Comprising
The method for manufacturing a wiring board, wherein the lid includes a communication portion that communicates a space formed between the lid and the electronic component and an external space of the lid.
前記連通部が、前記蓋体に複数形成されていることを特徴とする請求項1に記載の配線基板の製造方法。   The method for manufacturing a wiring board according to claim 1, wherein a plurality of the communication portions are formed on the lid. 前記配置工程において、前記電子部品の高さに対応する深さの底面を有する前記蓋体を、前記底面と前記電子部品の上面とが所定の間隔以下で対向するように配置することを特徴とする請求項1又は2に記載の配線基板の製造方法。   In the arranging step, the lid body having a bottom surface having a depth corresponding to the height of the electronic component is arranged so that the bottom surface and the upper surface of the electronic component face each other at a predetermined interval or less. The manufacturing method of the wiring board of Claim 1 or 2. 前記搭載工程において、複数の前記電子部品を搭載し、
前記配置工程において、前記複数の電子部品の高さにそれぞれ対応する深さの複数の底面を有する前記蓋体を、前記複数の底面と前記複数の電子部品の上面とがいずれも所定の間隔以下でそれぞれ対向するように配置することを特徴とする請求項1又は2に記載の配線基板の製造方法。
In the mounting step, mounting a plurality of the electronic components,
In the arranging step, the lid having a plurality of bottom surfaces each having a depth corresponding to the height of each of the plurality of electronic components, wherein the plurality of bottom surfaces and the top surfaces of the plurality of electronic components are all equal to or less than a predetermined interval. The method of manufacturing a wiring board according to claim 1, wherein the wiring boards are arranged so as to face each other.
前記所定の間隔が、0.2mmであることを特徴とする請求項3又は4に記載の配線基板の製造方法。   5. The method for manufacturing a wiring board according to claim 3, wherein the predetermined interval is 0.2 mm.
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