JP2006049457A - Wiring board with built-in parts and manufacturing method thereof - Google Patents

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JP2006049457A JP2004226323A JP2004226323A JP2006049457A JP 2006049457 A JP2006049457 A JP 2006049457A JP 2004226323 A JP2004226323 A JP 2004226323A JP 2004226323 A JP2004226323 A JP 2004226323A JP 2006049457 A JP2006049457 A JP 2006049457A
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Kenji Sasaoka
賢司 笹岡
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To secure reliability at higher levels in a wiring board with built-in parts and to provide its manufacturing method. <P>SOLUTION: The wiring board with built-in parts comprises: conductive embedded layers formed in a board thickness direction without revealing in the upper and lower sides of the board; electric/electronic parts with terminals embedded in the board so that the terminals might counter the embedded conductive layer; a connection material for connecting the terminals and conductive layers electrically and mechanically having an upper and lower directional size incorporated in an upper and lower directional dimension of the conductive layer, in the gap provided between the terminals of embedded electric/electronic parts and the conductive layers; and two upper and lower insulating layers provided so that they might cover the surface except the part connected to the connection material among the surfaces outside the embedded electric/electronic parts and might stick to the board thickness direction of the upper and lower sides of electric/electronic parts. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、部品内蔵配線板およびその製造方法に係り、特に、より高い信頼性確保に好適な部品内蔵配線板およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a component built-in wiring board and a manufacturing method thereof, and more particularly, to a component built-in wiring board suitable for ensuring higher reliability and a manufacturing method thereof.

部品内蔵配線板の例として、例えば下記特許文献1に開示されたものある。この開示内容では、内蔵される部品は、基板上に実装される場合と同様に、部品の端子それぞれに対応して設けられたランド上に接続されている。配線板内に内蔵される部品は、その周辺を絶縁樹脂で完全に覆い密着する構造が信頼性上好ましい。この点、下記文献のものは部品とその実装された基板との間に非常に狭い隙間がありしかもこの隙間を樹脂で充填することが非常に困難である。このような隙間は、アプリケーションによっては、絶縁不良や、半田リフロー時の熱による隙間の空気の膨張で層間剥離を引き起こす原因になりやすく、信頼性上の不安がある。
実開平5−53269号公報
An example of the component built-in wiring board is disclosed in Patent Document 1 below, for example. In this disclosure, the built-in component is connected to a land provided corresponding to each terminal of the component, as in the case of being mounted on the substrate. The component built in the wiring board preferably has a structure in which its periphery is completely covered with an insulating resin and closely adhered. In this respect, in the following document, there is a very narrow gap between the component and the board on which the component is mounted, and it is very difficult to fill the gap with resin. Depending on the application, such a gap tends to cause delamination due to poor insulation or expansion of the air in the gap due to heat during solder reflow, and there is a concern about reliability.
Japanese Utility Model Publication No. 5-53269

本発明は、上記の事情を考慮してなされたもので、部品内蔵配線板およびその製造方法において、より高いレベルの信頼性確保が可能な部品内蔵配線板およびその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a component built-in wiring board capable of ensuring a higher level of reliability and a method for manufacturing the same in a component built-in wiring board and a method for manufacturing the same. And

上記の課題を解決するため、本発明に係る部品内蔵配線板は、板厚み方向に形成されかつ板上下面には表出せずに埋設されている導電層と、端子を有し、前記埋設された導電層に前記端子が対向するように板内埋設された電気/電子部品と、前記埋設された電気/電子部品の前記端子と前記導電層との間隙に設けられ、前記導電層の上下方向寸法に内包される上下方向の位置および大きさを有し、かつ、前記端子と前記導電層とを電気的・機械的に接続する接続部材と、前記埋設された電気/電子部品の外表面のうち前記接続部材に接続される部位以外を覆いかつ前記電気/電子部品の板厚み方向上下に密着するように設けられた上下2つの絶縁層とを具備することを特徴とする。   In order to solve the above problems, a component built-in wiring board according to the present invention has a conductive layer formed in the thickness direction of the board and embedded without being exposed on the upper and lower surfaces of the board, and a terminal. An electrical / electronic component embedded in a plate so that the terminal faces the conductive layer, and a gap between the terminal of the embedded electrical / electronic component and the conductive layer, and the vertical direction of the conductive layer A connecting member having a vertical position and size contained in the dimensions, and electrically and mechanically connecting the terminal and the conductive layer; and an outer surface of the embedded electric / electronic component Of these, the upper and lower insulating layers are provided so as to cover portions other than the portion connected to the connecting member and to be in close contact with the electric / electronic component in the plate thickness direction.

すなわち、この部品内蔵配線板では、内蔵される部品の配線板への接続(実装)は、板厚み方向に形成されかつ板上下面には表出せずに埋設されている導電層に対して接続部材を介して行われる。この導電層はすなわち縦方向の導電層である。そして内蔵される部品は、その外表面のうち接続部材に接続される部位以外が上下2つの絶縁層によって覆われかつ密着される。よって、部品の周りに隙間が生じない。さらに、接続部材の上下方向の位置および大きさは埋設された導電層の上下方向の大きさに内包されている。これにより、上記の上下2つの絶縁層には縦方向に接続部材の導体片が突入せず絶縁層としての絶縁機能を健全に保つことができる。よって、上下2つの絶縁層を貫通する方向のショート不良発生が大きく改善される。したがって、より高いレベルの信頼性確保が可能になる。   That is, in this component built-in wiring board, the connection (mounting) of the built-in component to the wiring board is connected to the conductive layer that is formed in the thickness direction of the board and is not exposed on the upper and lower surfaces of the board. This is done via a member. That is, this conductive layer is a longitudinal conductive layer. The parts to be incorporated are covered and adhered to the upper and lower insulating layers except for the part connected to the connecting member on the outer surface. Therefore, there is no gap around the part. Furthermore, the vertical position and size of the connecting member are included in the vertical size of the embedded conductive layer. Thereby, the conductor piece of a connection member does not enter into the above-mentioned two upper and lower insulating layers in the vertical direction, and the insulating function as the insulating layer can be kept sound. Therefore, the occurrence of short-circuit failure in the direction penetrating the upper and lower two insulating layers is greatly improved. Therefore, a higher level of reliability can be ensured.

また、本発明に係る部品内蔵配線板の製造方法は、少なくとも上下両面に配線パターンを有し、かつ内蔵すべき電気/電子部品用の空間として開口部を有し、該開口部の内壁の一部に前記電気/電子部品との接続のため板厚み方向の導電層が形成されているコア配線板を製造する第1の工程と、前記コア配線板の前記空間に前記内蔵すべき電気/電子部品を位置させ、かつ前記コア配線板の上下面それぞれに接触するように2枚の平板を配置して、前記電気/電子部品の前記端子と前記板厚み方向の導電層とを導電部材で接続する第2の工程と、前記導電部材により前記電気/電子部品が接続された前記コア配線板の上下両面それぞれに重ねてかつ前記電気/電子部品の周りを充填するように絶縁層を積層形成する第3の工程とを具備することを特徴とする。この製造方法は、上記の部品内蔵配線板を製造するひとつの例である。   In addition, the method of manufacturing a component built-in wiring board according to the present invention has a wiring pattern on at least the upper and lower surfaces, an opening as a space for an electric / electronic component to be embedded, and an inner wall of the opening. A first step of manufacturing a core wiring board in which a conductive layer in the thickness direction of the plate is formed for connection to the electric / electronic component, and the electric / electronics to be built in the space of the core wiring board Position the component and place two flat plates to contact the upper and lower surfaces of the core wiring board, and connect the terminal of the electrical / electronic component and the conductive layer in the plate thickness direction with a conductive member An insulating layer is formed so as to overlap the upper and lower surfaces of the core wiring board to which the electrical / electronic component is connected by the conductive member and to fill the periphery of the electrical / electronic component. A third step. The features. This manufacturing method is one example of manufacturing the component built-in wiring board.

また、本発明に係る別の部品内蔵配線板の製造方法は、少なくとも上下両面に配線パターンを有し、かつ内蔵すべき電気/電子部品用の空間として開口部を有し、該開口部の内壁の一部に前記電気/電子部品との接続のため板厚み方向の導電層が形成されているコア配線板を製造する第1の工程と、第1の面と第2の面とを有する支持基材の前記第1の面上に前記電気/電子部品を配置する第2の工程と、前記電気/電子部品が配置された支持基材の前記第1の面上に、前記電気/電子部品が前記コア配線板の前記開口部に位置するように前記コア配線板を積層配置する第3の工程と、前記支持基材の前記第2の面および前記コア配線板の前記支持基材が位置する側とは反対側の面それぞれに接触して2枚の平板を配置して、前記電気/電子部品の端子と前記板厚み方向の導電層とを導電部材で接続する第4の工程と、前記導電部材により前記電気/電子部品が接続された前記コア配線板の上下両面それぞれに重ねてかつ前記電気/電子部品の周りを充填するように絶縁層を積層形成する第5の工程とを具備することを特徴とする。この製造方法は、上記の部品内蔵配線板を製造する別のひとつの例である。   In addition, another method of manufacturing a component built-in wiring board according to the present invention includes a wiring pattern on at least upper and lower surfaces, an opening as a space for electric / electronic components to be embedded, and an inner wall of the opening. A first step of manufacturing a core wiring board in which a conductive layer in the thickness direction of the board is formed for connection to the electric / electronic component at a part thereof, and a support having a first surface and a second surface A second step of disposing the electrical / electronic component on the first surface of the substrate; and the electrical / electronic component on the first surface of the support substrate on which the electrical / electronic component is disposed. A third step of stacking and arranging the core wiring boards such that the core wiring board is positioned at the opening of the core wiring board, and the second surface of the supporting base material and the supporting base material of the core wiring board are positioned. The two electric plates are arranged in contact with the surface opposite to the side to be A fourth step of connecting the terminal of the product and the conductive layer in the plate thickness direction with a conductive member, and overlapping the upper and lower surfaces of the core wiring board to which the electrical / electronic component is connected by the conductive member, and And a fifth step of forming an insulating layer so as to fill around the electric / electronic component. This manufacturing method is another example of manufacturing the above-described component built-in wiring board.

本発明によれば、部品内蔵配線板およびその製造方法においてより高いレベルの信頼性確保が可能になる。   According to the present invention, a higher level of reliability can be ensured in the component built-in wiring board and the manufacturing method thereof.

本発明の実施態様として、前記接続部材は半田である、とすることができる。また、前記接続部材は導電性接着剤である、とすることもできる。いずれも電気的・機械的に接続する接続部材として向いている。   As an embodiment of the present invention, the connection member may be solder. The connecting member may be a conductive adhesive. Both are suitable as connection members for electrical and mechanical connection.

また、実施態様として、前記上下2つの絶縁層それぞれの上下面付近それぞれに設けられた4つの配線層と、前記上下2つの絶縁層それぞれを貫通して、かつ前記配線層による導体パターンの面同士の間にそれぞれ挟設された第1および第2の層間接続体とをさらに具備する、としてもよい。このような層間接続体は配線層による導体パターンの下側(基板側)に隠れるように配置でき、表面実装部品の実装スペースが増大し部品の配置効率が向上する。   Further, as an embodiment, four wiring layers provided near the upper and lower surfaces of each of the upper and lower two insulating layers, and the surfaces of the conductor patterns formed by the wiring layers penetrating the upper and lower two insulating layers, respectively. And a first interlayer connection body sandwiched between the first and second interlayer connection bodies. Such an interlayer connection body can be arranged so as to be hidden under the conductor pattern by the wiring layer (board side), and the mounting space for the surface-mounted component is increased, and the component arrangement efficiency is improved.

ここで、前記第1および第2の層間接続体は、それぞれ、導電性組成物からなり、かつ、層方向に一致する軸を有し前記軸の方向に径が変化している形状である、とすることができる。また、前記第1および第2の層間接続体は、それぞれ、導電性組成物からなり、かつ、層方向に一致する軸を有し前記軸の方向に径が変化していない形状である、とすることもできる。前者は、例えば、層間接続体を導電性組成物のスクリーン印刷で形成しこれを絶縁層に貫挿させて層間接続体とした場合であり、後者は、例えば、絶縁層に貫通形成されたビアホールに導電性組成物を充填して層間接続体とした場合である。   Here, each of the first and second interlayer connection bodies is made of a conductive composition and has a shape that has an axis that coincides with the layer direction and the diameter changes in the direction of the axis. It can be. Further, each of the first and second interlayer connection bodies is made of a conductive composition, and has a shape that has an axis that coincides with the layer direction and the diameter does not change in the direction of the axis. You can also The former is, for example, a case where an interlayer connection is formed by screen printing of a conductive composition and this is penetrated into an insulating layer to form an interlayer connection, and the latter is, for example, a via hole formed through the insulating layer. This is a case where an electrically conductive composition is filled into an interlayer connection body.

さらに、前記第1および第2の層間接続体は、それぞれ、金属からなり、かつ、層方向に一致する軸を有し前記軸の方向に径が変化している形状である、とすることもできる。またさらに、前記第1および第2の層間接続体は、それぞれ、金属からなり、かつ、層方向に一致する軸を有し前記軸の方向に径が変化していない形状である、とすることもできる。前者は、例えば、金属板をエッチングしてバンプ(いわゆるエッチングバンプ)を形成しこれを絶縁層に貫挿させて層間接続体とした場合であり、後者は、例えば、金属箔上にめっきでバンプ(いわゆるめっきバンプ)を形成しこれを絶縁層に貫挿させて層間接続体とした場合である。   Furthermore, each of the first and second interlayer connectors may be made of metal and have a shape that has an axis that coincides with the layer direction and has a diameter that changes in the direction of the axis. it can. Still further, each of the first and second interlayer connection bodies is made of metal and has a shape that has an axis that coincides with the layer direction and has a diameter that does not change in the direction of the axis. You can also. The former is, for example, a case where a metal plate is etched to form a bump (so-called etching bump) and this is inserted into an insulating layer to form an interlayer connection body. The latter is, for example, a bump formed by plating on a metal foil. This is a case where (so-called plating bumps) are formed and inserted into an insulating layer to form an interlayer connection body.

また、製造方法の実施態様として、前記第2の工程は、前記2枚の平板の一方の面上に前記電気/電子部品をあらかじめ配置するステップを含む、とすることができる。コア配線板ではなく平板の側に電気/電子部品を配置するのはその平面性ゆえ比較的容易である。   As an embodiment of the manufacturing method, the second step may include a step of arranging the electric / electronic component in advance on one surface of the two flat plates. It is relatively easy to arrange the electric / electronic components on the flat plate side instead of the core wiring board because of its flatness.

また、別の製造方法の実施態様として、前記支持基材は、前記コア配線板と同種の絶縁素材からなる、とすることができる。さらに、前記支持基材は、金属板の部分を有し、かつ前記導電部材に対して剥離性を有する表面を有する、とすることもできる。前者は、コア配線板と同種の絶縁素材が導電部材との剥離性を有するのでこれを利用するものである。後者は、導電部材との剥離性を有する表面の金属板を利用するものである。   As another embodiment of the manufacturing method, the support base material can be made of the same type of insulating material as the core wiring board. Furthermore, the support substrate may have a metal plate portion and a surface that is peelable from the conductive member. The former uses an insulating material of the same type as the core wiring board because it has peelability from the conductive member. The latter uses a surface metal plate having peelability from the conductive member.

以上を踏まえ、以下では本発明の実施形態を図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る部品内蔵配線板の構造を模式的に示す断面図(図1(a))および一部平面図(図1(b))である。   Based on the above, embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view (FIG. 1A) and a partial plan view (FIG. 1B) schematically showing the structure of a component built-in wiring board according to an embodiment of the present invention.

この実施形態は、図1(a)に示すように、絶縁層11〜15を有し、これらの境界付近および上下面に配線層21〜26をそれぞれ有する6層配線板である。各隣り合う配線層間の電気的接続(層間接続)は導電性バンプ41〜45によりなされ、これらの導電性バンプ41〜45は、重畳的に配置され得るようになっている。このような導電性バンプ41〜45により、配線板主面の利用効率が向上し高密度実装に適する。なお、上下面の符号31、32は、半田レジストである。   As shown in FIG. 1A, this embodiment is a six-layer wiring board having insulating layers 11 to 15 and having wiring layers 21 to 26 in the vicinity of the boundary and on the upper and lower surfaces, respectively. Electrical connections (interlayer connections) between adjacent wiring layers are made by conductive bumps 41 to 45, and these conductive bumps 41 to 45 can be arranged in a superimposed manner. Such conductive bumps 41 to 45 improve the utilization efficiency of the main surface of the wiring board and are suitable for high-density mounting. Reference numerals 31 and 32 on the upper and lower surfaces are solder resists.

また、内側の配線層22、23、24、25の水平レベル内に含まれるように電気/電子部品33(例えばここではチップ抵抗)が内蔵される。部品33は、その両端子が接続部材としての半田36、37を介して、板厚み方向に形成された導電層34、35に向かい合いかつ電気的、機械的に接続されている。導電層34、35は、図示するように、内側の配線層22から配線層25までの縦方向広がりを有し、かつ内側の配線層22、23、24、25との直接的な電気的接続が可能となっている。また、半田36、37は、その上下方向の位置および大きさが導電層34、35の縦方向寸法に内包されている。   In addition, an electric / electronic component 33 (for example, a chip resistor here) is incorporated so as to be included in the horizontal level of the inner wiring layers 22, 23, 24, 25. Both terminals of the component 33 face the conductive layers 34 and 35 formed in the plate thickness direction and are electrically and mechanically connected via solders 36 and 37 as connecting members. As shown in the drawing, the conductive layers 34 and 35 have a longitudinal extension from the inner wiring layer 22 to the wiring layer 25 and are directly connected to the inner wiring layers 22, 23, 24, and 25. Is possible. The solders 36 and 37 are included in the vertical dimension of the conductive layers 34 and 35 in the vertical position and size.

部品33は、平面的に見ると図1(b)に示すように配設されている。すなわち、部品33を内蔵するため内側の絶縁層12、13、14には貫通空間が形成され、この貫通空間は、部品33および接続するための半田36、37ならびに上下両側の絶縁層11、15の内側へのはみ出し部により占められている。なお、部品33は、通常、図1(a)に示す厚さの方が図1(b)に示す幅より寸法が小さいが、図1では配線板の厚み方向を強調拡大して示すため部品33についても厚さの方が大きく表示されている。   The component 33 is arranged as shown in FIG. That is, a through space is formed in the inner insulating layers 12, 13, 14 in order to incorporate the component 33, and this through space is formed by the solder 36, 37 for connecting the component 33 and the insulating layers 11, 15 on both the upper and lower sides. It is occupied by the protruding part to the inside. The component 33 is usually smaller in the thickness shown in FIG. 1 (a) than the width shown in FIG. 1 (b). However, since the thickness direction of the wiring board is shown in FIG. For 33, the thickness is displayed larger.

具体的な寸法は、部品33として0603のチップ抵抗を使用したとき、絶縁層12、13、14の合計厚が例えば0.2mm〜0.3mm程度となるように、これらの絶縁層12、13、14それぞれが0.06mmないし0.1mm程度の厚さである。   Specifically, when a chip resistor of 0603 is used as the component 33, these insulating layers 12, 13 are set so that the total thickness of the insulating layers 12, 13, 14 is, for example, about 0.2 mm to 0.3 mm. 14 each have a thickness of about 0.06 mm to 0.1 mm.

各部材料は、絶縁層11〜15には例えばエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂など、配線層21〜26や導電層34、35には例えば銅など、導電性バンプ41〜45には、例えば微細な金属粒(銀、銅、金、半田など)を樹脂中に分散させた導電性組成物などを用いることができる。また、半田36、37については、これに代えて導電性接着剤を用いることもできる。   The material of each part is, for example, epoxy resin, polyimide resin, bismaleimide triazine resin, etc. for the insulating layers 11-15, copper, etc. for the wiring layers 21-26 and the conductive layers 34, 35, and the conductive bumps 41-45, For example, a conductive composition in which fine metal particles (silver, copper, gold, solder, etc.) are dispersed in a resin can be used. For the solders 36 and 37, a conductive adhesive can be used instead.

この実施形態の構造の配線板では、内蔵された部品33の周りを絶縁層11、15が覆うように密着し、空隙の発生を防止するので信頼性向上に極めて好ましい。また、半田36、37の配置位置が縦方向の導電層34、35の縦方向寸法に内包されているので、絶縁層11、15が有すべき縦方向の絶縁機能が損なわれる可能性を確実に排除している。これにより配線板としての信頼性が向上される。   The wiring board having the structure of this embodiment is extremely preferable for improving the reliability because the insulating layers 11 and 15 are in close contact with each other so as to cover the built-in component 33 and prevent the generation of voids. In addition, since the placement positions of the solders 36 and 37 are included in the longitudinal dimensions of the conductive layers 34 and 35 in the vertical direction, it is ensured that the vertical insulating function that the insulating layers 11 and 15 should be impaired may be impaired. Is excluded. Thereby, the reliability as a wiring board is improved.

以上の記述では、電気/電子部品33としてチップ抵抗を例にして説明したが、チップコンデンサ、チップインダクタ、チップダイオードなど端子の配置構造がチップ抵抗とほぼ同じものでは同様な適用が可能である。チップ型ディスクリートトランジスタやパッケージに収められた半導体デバイスなどでも、例えばパッケージたるモールド樹脂の厚さ方向中間からリードピンを水平方向に突起させたものであれば、リードピンの数だけ配線板側に板厚み方向の導電層を分離して形成することで対応が可能である。ベアの半導体チップの場合では、その周縁のなるべく近くのパッド上に突起電極を形設することで、この突起電極を配線板側の導電層との電気的、機械的接続に使用することができる。   In the above description, the chip resistor has been described as an example of the electric / electronic component 33, but the same application is possible when the terminal arrangement structure such as a chip capacitor, a chip inductor, and a chip diode is substantially the same as the chip resistor. Even in the case of chip-type discrete transistors and semiconductor devices housed in packages, for example, if the lead pins are projected horizontally from the middle of the thickness direction of the mold resin that is the package, the number of the lead pins in the board thickness direction It is possible to cope with this by separately forming the conductive layer. In the case of a bare semiconductor chip, by forming a protruding electrode on a pad as close as possible to the periphery, this protruding electrode can be used for electrical and mechanical connection with a conductive layer on the wiring board side. .

図1に示す部品内蔵配線板を製造するには、例えば以下のような工程の適用が考えられる。第1段階として、配線板のうちのコア配線板(部品が内蔵されるべき層を含む配線板素材)を製造する。それにはまず、配線層22の前段階の銅箔(厚さは例えば18μm)を用意し、この銅箔上の必要な位置(特定の配線板のレイアウトに従う位置)に高さ160μm、底面径0.2mm程度のほぼ円錐形の導電性バンプ(導電性バンプ42の前段階のもの)を形成する。これには、例えばスクリーン印刷を用いて導電性ペーストを銅箔上に印刷してなすことができる。   To manufacture the component built-in wiring board shown in FIG. As a first stage, a core wiring board (wiring board material including a layer in which components are to be incorporated) of the wiring boards is manufactured. First, a copper foil (thickness is, for example, 18 μm) at the previous stage of the wiring layer 22 is prepared. A substantially conical conductive bump of about 2 mm (the previous stage of the conductive bump 42) is formed. This can be done, for example, by printing a conductive paste on the copper foil using screen printing.

導電性ペーストとしては、例えばエポキシ樹脂のようなペースト状樹脂の中に金属粒(銀、金、銅、半田など)を分散させ、加えて揮発性の溶剤を混合させたもの用いることができる。印刷されたあと、例えばオーブンで乾燥し導電性ペーストを硬化させる。   As the conductive paste, for example, a paste in which metal particles (silver, gold, copper, solder, etc.) are dispersed in a paste-like resin such as an epoxy resin, and a volatile solvent is mixed can be used. After printing, the conductive paste is cured by drying in an oven, for example.

次に、専用機を用い、銅箔に絶縁層12とすべきFR−4プリプレグ(厚さは例えば公称60μm)に対向させて、導電性バンプ42の前段階のバンプをこの半硬化状態のプリプレグに貫通させる。FR−4プリプレグは、例えば、エポキシ樹脂のような硬化性樹脂をガラス繊維のような補強材に含浸させたものである。また、硬化する前には半硬化状態にあり、熱による流動性および熱硬化性を有する。この段階と同じ構成の配線板素材を便宜的にA素材と呼ぶ。   Next, using a dedicated machine, the front bump of the conductive bump 42 is made to face the FR-4 prepreg (thickness is, for example, 60 μm) to be the insulating layer 12 on the copper foil. To penetrate. The FR-4 prepreg is obtained by, for example, impregnating a reinforcing material such as glass fiber with a curable resin such as an epoxy resin. Moreover, it is in a semi-cured state before being cured, and has fluidity and heat curability due to heat. A wiring board material having the same configuration as this stage is referred to as an A material for convenience.

次に、配線層23の前段階の銅箔(厚さは例えば18μm)を上記のプリプレグ上に積層・一体化し同時にこのプリプレグを硬化させる。このためには、真空積層熱プレス機を用いこれを所定の温度および圧力プロファイルに設定する。積層・一体化により、導電性バンプ42が図1に示すような形状で銅箔同士の間に挟設される。   Next, a copper foil (thickness is, for example, 18 μm) at the previous stage of the wiring layer 23 is laminated and integrated on the prepreg, and the prepreg is cured at the same time. For this purpose, a vacuum laminating hot press is used to set it to a predetermined temperature and pressure profile. By lamination and integration, the conductive bumps 42 are sandwiched between the copper foils in a shape as shown in FIG.

次に、片側の銅箔を回路パターニングし配線層23を形成する。このためには、例えば、まず、その銅箔の表面を化学研磨してレジスト用のドライフィルムとの密着性を向上したうえで、レジスト用ドライフィルムを銅箔に積層する。そして、フォトマスクを介して例えば超高圧水銀灯を有するアライメント露光機でドライフィルムを露光し、さらに炭酸ナトリウムによってスプレー現像する。この現像パターンのドライフィルムを銅箔上に残すことにより、パターニングされたレジストが銅箔上に形成される。   Next, the wiring layer 23 is formed by circuit patterning of the copper foil on one side. For this purpose, for example, first, the surface of the copper foil is chemically polished to improve the adhesion with the resist dry film, and then the resist dry film is laminated on the copper foil. Then, the dry film is exposed with an alignment exposure machine having, for example, an ultrahigh pressure mercury lamp through a photomask, and further spray-developed with sodium carbonate. By leaving the dry film of this development pattern on the copper foil, a patterned resist is formed on the copper foil.

レジストが銅箔上に形成されたら、これをマスクにエッチャントとして塩化第2鉄をベースとする薬液を用いレジストの除去された位置する(レジストパターンとして抜けた位置の)銅箔をスプレーエッチングする。これにより、銅箔から配線層23が形成される。形成された配線層23は、このあと積層される絶縁層との密着性を向上するために黒化還元処理を行なっておく。この段階と同じ構成の配線板素材を便宜的にB素材と呼ぶ。   When the resist is formed on the copper foil, the copper foil located at the position where the resist has been removed (position removed as a resist pattern) is spray-etched using a chemical solution based on ferric chloride as an etchant using the resist as a mask. Thereby, the wiring layer 23 is formed from copper foil. The formed wiring layer 23 is subjected to a blackening reduction process in order to improve adhesion with an insulating layer to be laminated thereafter. A wiring board material having the same configuration as this stage is referred to as a B material for convenience.

次に、パターンニング形成された配線層23上の必要な位置(特定の配線板のレイアウトに従う位置)にほぼ円錐形の導電性バンプ(導電性バンプ43の前段階のもの)を形成する。導電性バンプ43の形成は、導電性バンプ42の前段階のバンプ形成における場合と同様に行なうことができる。スクリーン印刷により形成された導電性ペーストは、オーブンで乾燥し硬化させておく。なお、導電性バンプ43の前段階のバンプは、導電性バンプ42と配線層23をはさんで重畳的に位置することが可能である。   Next, a substantially conical conductive bump (the previous stage of the conductive bump 43) is formed at a necessary position on the patterned wiring layer 23 (a position according to a specific wiring board layout). The formation of the conductive bump 43 can be performed in the same manner as in the bump formation in the previous stage of the conductive bump 42. The conductive paste formed by screen printing is dried and cured in an oven. It should be noted that the previous bump of the conductive bump 43 can be positioned so as to overlap the conductive bump 42 and the wiring layer 23.

次に、専用機を用い、絶縁層12に、絶縁層13とすべきプリプレグ(厚さは例えば公称60μm)を対向させて、導電性バンプ43の前段階のバンプをこの半硬化状態のプリプレグに貫通させる。このプリプレグは、絶縁層12の場合と同様のものを用いることができる。この段階と同じ構成の配線板素材を便宜的にC素材と呼ぶ。   Next, using a dedicated machine, the prepreg (thickness is nominally 60 μm, for example) to be the insulating layer 13 is made to face the insulating layer 12, and the bump in the previous stage of the conductive bump 43 is made into this semi-cured prepreg. To penetrate. As this prepreg, the same prepreg as in the case of the insulating layer 12 can be used. A wiring board material having the same configuration as this stage is called a C material for convenience.

次に、C素材の絶縁層13とすべきプリプレグ側と上記のB素材のパターニングされた銅箔を有する側とを対向させて積層・一体化し、かつ絶縁層13とすべきプリプレグを硬化させる。ここでB素材は、図1における絶縁層14、配線層25とすべき銅箔、導電性バンプ44、配線層24の部分に相当することになる。   Next, the prepreg side to be the insulating layer 13 of the C material and the side having the patterned copper foil of the B material are opposed and laminated, and the prepreg to be the insulating layer 13 is cured. Here, the B material corresponds to the insulating layer 14, the copper foil to be the wiring layer 25, the conductive bumps 44, and the wiring layer 24 in FIG. 1.

積層・一体化には、例えばレイアップ装置で位置合わせを行いC素材とB素材とを重ねて配置し、かつ真空積層熱プレス機を用いこれを所定の温度および圧力プロファイルに設定する。この積層・一体化により導電性バンプ43が図1に示すような形状で配線層23、24の間に挟設される。また、配線層24は、絶縁層13となるべきプリプレグの熱による流動性により絶縁層13側へ沈み込んで位置するようになる。   For the lamination / integration, for example, alignment is performed by a lay-up device, the C material and the B material are arranged in an overlapping manner, and this is set to a predetermined temperature and pressure profile using a vacuum lamination heat press. By this lamination and integration, the conductive bumps 43 are sandwiched between the wiring layers 23 and 24 in the shape shown in FIG. Also, the wiring layer 24 sinks to the insulating layer 13 side due to the fluidity of the prepreg to be the insulating layer 13 due to heat.

以上により、両面が銅箔の層になっているコア配線板が形成されたことになる。この実施形態では、このように4つの配線層(または銅箔)を有するコア配線板を形成したが、配線層数は4に限られることはない。例えば2、6、8、…のような偶数の配線層を有する場合や、3、5、7、…のような奇数の配線層を有する場合であってもよい。これらの配線層数の場合も、以上説明した工程を応用することにより形成することができる。さらに、この実施形態ではコア配線板の層間接続が導電性バンプ42、43、44で行なわれる構成としているが、これに限らず、配線板として高密度の実装性は劣るが例えば周知のスルーホールによるものであってもよい。   As described above, a core wiring board having both sides made of copper foil is formed. In this embodiment, the core wiring board having four wiring layers (or copper foils) is formed as described above, but the number of wiring layers is not limited to four. For example, an even number of wiring layers such as 2, 6, 8,... Or an odd number of wiring layers such as 3, 5, 7,. In the case of the number of these wiring layers, it can be formed by applying the above-described process. Further, in this embodiment, the interlayer connection of the core wiring board is made by the conductive bumps 42, 43, 44. However, the present invention is not limited to this, but the high-density mounting property is inferior as the wiring board, but for example, a well-known through hole It may be due to.

工程の説明を続けるに、両面銅箔のコア配線板が形成されたら、次に、コア配線板の必要な位置に部品33用の貫通孔を形成する。貫通孔は、内蔵部品との接続に用いる、板厚み方向の導電層を形成するためのものであり、かつ内蔵部品を位置させる空間の一部となるものである。   Continuing the description of the process, after the core wiring board of double-sided copper foil is formed, next, a through hole for the component 33 is formed at a required position of the core wiring board. The through-hole is used to form a conductive layer in the plate thickness direction used for connection with the built-in component, and is a part of a space where the built-in component is located.

次に、貫通孔の内壁面を含むように例えば銅のめっき層を例えば20μm厚で形成する。めっき層の形成には、例えば、まず、化学銅めっきのような無電解めっきにより連続面のシード層を形成し、そのあと、形成されたシード層を種に例えば硫酸銅めっき浴にて電解めっき処理することよりなすことができる。このような2段階のめっきにより効率的にめっき層を形成することができる。なお、貫通孔に形成されためっき層は、コア配線板の中間にある配線層23、24とも電気的接続され得る。   Next, for example, a copper plating layer is formed with a thickness of, for example, 20 μm so as to include the inner wall surface of the through hole. For the formation of the plating layer, for example, a continuous surface seed layer is first formed by electroless plating such as chemical copper plating, and then electroplating is performed using, for example, a copper sulfate plating bath using the formed seed layer as a seed. It can be done by processing. A plating layer can be efficiently formed by such two-stage plating. In addition, the plating layer formed in the through hole can be electrically connected to the wiring layers 23 and 24 in the middle of the core wiring board.

次に、両面の銅箔および両面に位置するめっき層にパターニング形成を施し配線層22、25を形成する。このパターニングは、それぞれ、配線層23の形成工程と同様に行なうことができる。すなわち、化学研磨、レジスト用ドライフィルム積層、フォトマスクを介する露光、現像、エッチングという手順である。形成された配線層22、25は、貫通孔の内壁面に形成されためっき層に対してのランド部分(その径は例えば0.8mm)を含む。   Next, patterning is performed on the copper foils on both sides and the plating layers located on both sides to form the wiring layers 22 and 25. This patterning can be performed in the same manner as the step of forming the wiring layer 23, respectively. That is, the procedures are chemical polishing, resist dry film lamination, exposure through a photomask, development, and etching. The formed wiring layers 22 and 25 include land portions (having a diameter of, for example, 0.8 mm) with respect to the plating layer formed on the inner wall surface of the through hole.

次に、貫通孔内壁面のめっき層を分断し、かつ内蔵部品との接続部である導電層34、35を独立形成するようにコア配線板を加工する。ここでの加工方法は、NCドリルを用いた穴明けよる。例えば、貫通孔が並ぶ方向と垂直に交わるコア配線板上位置に、0.8mm径のめっき層分断貫通孔を2つほぼ隣接して明ける。このようなドリルによるめっき層の分断によれば、既存の装置を用いて容易に導電層34、35を分断形成することができる。   Next, the core wiring board is processed so as to divide the plated layer on the inner wall surface of the through hole and to independently form the conductive layers 34 and 35 which are connection portions with the built-in components. The processing method here depends on drilling using an NC drill. For example, two plating layer dividing through holes having a diameter of 0.8 mm are formed almost adjacent to each other at a position on the core wiring board perpendicular to the direction in which the through holes are arranged. According to the division of the plating layer by such a drill, the conductive layers 34 and 35 can be easily divided and formed using an existing apparatus.

以上により、部品を内蔵するための空間(貫通孔とめっき層分断貫通孔とによる空間)が形成されたコア配線板を得ることができる。なお、上記でめっき層の分断は、ドリリングによらなくてもなすことは可能である。例えば金型による打ち抜き(パンチング)や切削機を用いる方法が挙げられる。   As described above, it is possible to obtain a core wiring board in which a space for incorporating a component (a space by a through hole and a plating layer dividing through hole) is formed. It should be noted that the plating layer can be divided without using drilling. For example, there are a method of punching with a mold and a method using a cutting machine.

次に、このコア配線板に部品33を装着する工程について図2を参照して説明する。図2は、図1に示した部品内蔵配線板の製造過程の一例を模式的な断面で示す工程図であり、特に、半田36、37の上下方向の位置および大きさが導電層34、35の縦方向寸法に確実に内包されるようにするための工程例を示す図である。   Next, the process of mounting the component 33 on the core wiring board will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a process diagram schematically showing an example of a manufacturing process of the component built-in wiring board shown in FIG. 1. In particular, the positions and sizes of the solders 36 and 37 in the vertical direction are the conductive layers 34 and 35. It is a figure which shows the example of a process for ensuring that it is included in the vertical direction dimension.

まず、図2(a)に示すように、平板51を用意し、その上の所定位置に例えばスクリーン印刷によりクリーム半田36A、37A(フラックス中に例えばスズ、銀、銅からなる合金の微粉末を分散させたもの)を印刷する。平板51は、例えば厚さ1mmのアルミニウム製であり、表面には溶融半田との剥離性を有するフッ素樹脂の皮膜がコーティングされている。次に、図2(b)に示すように、0603サイズの部品33を例えばマウンタを用いて平板51上の所定位置に(すなわちここでは部品33の両端子がクリーム半田36A、37A付近に位置するように)載置する。   First, as shown in FIG. 2 (a), a flat plate 51 is prepared, and cream solder 36A, 37A (for example, a fine powder of an alloy made of tin, silver, or copper in the flux is formed by screen printing at a predetermined position on the flat plate 51, for example. Print the dispersed one). The flat plate 51 is made of, for example, aluminum having a thickness of 1 mm, and the surface thereof is coated with a fluororesin film having a peelability from the molten solder. Next, as shown in FIG. 2B, the 0603 size component 33 is placed at a predetermined position on the flat plate 51 using, for example, a mounter (that is, both terminals of the component 33 are located near the cream solders 36A and 37A). Like).

次に、図2(c)に示すように、上記説明したコア配線板を例えばマウンタを用いて平板51の所定位置に(すなわちここでは部品33がコア配線板の部品内蔵用の空間内に位置するように)載置する。次に、図2(d)に示すように、コア配線板の上側にも別の平板52を接触させて積層配置する。この平板52は平板51と同様の構成のものを用いることができる。そしてこの状態でリフロー炉に適用してピーク温度250℃のリフローを行う。   Next, as shown in FIG. 2C, the above-described core wiring board is placed at a predetermined position of the flat plate 51 using, for example, a mounter (that is, here, the component 33 is located in the space for incorporating the components of the core wiring board). To place). Next, as shown in FIG. 2D, another flat plate 52 is brought into contact with the upper side of the core wiring board and laminated. The flat plate 52 may have the same configuration as the flat plate 51. And in this state, it applies to a reflow furnace and performs reflow with a peak temperature of 250 degreeC.

これにより、クリーム半田36A、37Aは、溶融して部品33の端子と導電層36、37との間に位置する接続部材(導電部材)としての半田36、37になる。このリフロー過程では、溶融した半田に対して濡れ性を呈するものが部品33の端子と導電層36、37であり、平板51、52に対しては剥離性を呈するので、確実に半田36、37の上下方向の位置および大きさが導電層34、35の縦方向寸法に内包されるようになる。リフロー後にコア配線板からその上下の平板51、52を取り除くことで、図2(e)に示すような部品装着されたコア配線板を得ることができる。   Thus, the cream solders 36A and 37A are melted to become solders 36 and 37 as connecting members (conductive members) located between the terminals of the component 33 and the conductive layers 36 and 37. In this reflow process, the terminals of the component 33 and the conductive layers 36 and 37 exhibit wettability with respect to the melted solder, and exhibit releasability with respect to the flat plates 51 and 52. The vertical position and size of the conductive layers 34 and 35 are included in the vertical dimension. By removing the upper and lower flat plates 51 and 52 from the core wiring board after reflow, a core wiring board with components mounted as shown in FIG. 2E can be obtained.

なお、変形例としては、平板51、52としてフッ素樹脂コーティングのアルミ板に代えてFR−4相当のガラスエポキシ板を用いることができる。この場合も溶融半田に対して剥離性が発揮される。また、リフロー炉に適用する以外に、オーブン加熱を適用してもよい。さらに、クリーム半田36A、37Aを用いる代わりに、導電性接着剤を例えばスクリーン印刷により平板51上に印刷するようにしてもよい。以上により得られた部品装着のコア配線板は、その両面の配線層22、25についてこのあと積層される絶縁層との密着性を向上するため黒化還元処理を行なっておく。   As a modification, a glass epoxy plate equivalent to FR-4 can be used as the flat plates 51 and 52 in place of the fluororesin-coated aluminum plate. Also in this case, releasability is exhibited with respect to the molten solder. Moreover, you may apply oven heating besides applying to a reflow furnace. Further, instead of using the cream solders 36A and 37A, a conductive adhesive may be printed on the flat plate 51 by, for example, screen printing. The component-mounted core wiring board obtained as described above is subjected to blackening reduction treatment in order to improve the adhesion between the wiring layers 22 and 25 on both sides thereof and the insulating layer to be laminated thereafter.

次に、部品33が装着されたコア配線板に、上下2つの絶縁層11、15を含む部分を積層する。それには、部品装着のコア配線板の両側それぞれに上記説明のA素材のプリプレグ側を対向させて積層し、これらを一体化する。このとき絶縁層11、15とすべきそのプリプレグを硬化させる。ここで、A素材は、図1における絶縁層11、配線層21とすべき銅箔、導電性バンプ41の部分、および絶縁層15、配線層26とすべき銅箔、導電性バンプ45の部分にそれぞれ相当することになる。   Next, a portion including the upper and lower insulating layers 11 and 15 is laminated on the core wiring board on which the component 33 is mounted. For this purpose, the prepreg side of the A material described above is opposed to each other on both sides of the component-mounted core wiring board, and these are integrated. At this time, the prepregs to be the insulating layers 11 and 15 are cured. Here, the A material is the insulating layer 11, the copper foil to be the wiring layer 21, the conductive bump 41 portion, and the insulating layer 15, the copper foil to be the wiring layer 26, the conductive bump 45 portion in FIG. 1. Respectively.

この積層・一体化には、例えばレイアップ装置で位置合わせを行いコア配線板とA素材とを重ねて配置し、かつ真空積層熱プレス機を用いこれを所定の温度および圧力プロファイルに設定する。この積層・一体化により導電性バンプ41、45が図1に示すような形状で銅箔または配線層間に挟設される。   For this lamination / integration, for example, alignment is performed with a lay-up device, the core wiring board and the A material are arranged in an overlapping manner, and this is set to a predetermined temperature and pressure profile using a vacuum lamination heat press. By this lamination and integration, the conductive bumps 41 and 45 are sandwiched between copper foils or wiring layers in a shape as shown in FIG.

また、配線層22は、絶縁層11となるべきプリプレグの熱による流動性により絶縁層11側へ沈み込んで位置し、配線層25は、絶縁層15となるべきプリプレグの熱による流動性により絶縁層15側へ沈み込んで位置するようになる。さらに、絶縁層11、15となるべきプリプレグの熱による流動性により、内蔵された部品33を覆いかつ密着するようにその周辺にも絶縁層が絶縁層11、15と一体的に形成される。これにより部品33周りの穴埋め工程は不要であり工程の簡素化が実現するともに、間隙(ボイド)の発生を防止して信頼性を向上できる。   Further, the wiring layer 22 is positioned by sinking to the insulating layer 11 side due to the fluidity of the prepreg to be the insulating layer 11, and the wiring layer 25 is insulated by the fluidity of the prepreg to be the insulating layer 15. It sinks to the layer 15 side and comes to be positioned. Further, due to the fluidity of the prepreg that should become the insulating layers 11 and 15, the insulating layer is integrally formed with the insulating layers 11 and 15 in the periphery so as to cover and closely adhere to the built-in component 33. This eliminates the need for a hole filling process around the part 33, which simplifies the process and prevents the generation of voids, thereby improving the reliability.

外側に積層するA素材は、これに代えてさらに配線層数が多いものでもよい。また、外側に積層するA素材は、必ずしも、図1に示すように導電性バンプ41(または45)を伴っていなくてもよい。この場合、導電性バンプ41がないので、配線層21(26)とすべき銅箔と配線層22(25)との層間接続は、導電性バンプによって行なうことはできないが、積層後の配線板にスルーホールを設けてこのスルーホールによりこれらの層間接続を行なうことができる。   Instead of this, the A material laminated on the outside may have a larger number of wiring layers. Further, the A material laminated on the outside does not necessarily need to be accompanied by the conductive bump 41 (or 45) as shown in FIG. In this case, since there is no conductive bump 41, the interlayer connection between the copper foil to be the wiring layer 21 (26) and the wiring layer 22 (25) cannot be made by the conductive bump. Through-holes can be provided in these layers, and these interlayer connections can be made through these through-holes.

外側に位置すべき絶縁層11、15をコア配線板と積層・一体化したら、次に、両外側の銅箔に対してパターニング形成を施し配線層21、26を形成する。このパターニングは、それぞれ、先に説明した配線層23の形成工程と同様に行なうことができる。すなわち、化学研磨、レジスト用ドライフィルム積層、フォトマスクを介する露光、現像、エッチングという手順である。なお、以上の外側絶縁層11、15の形成のあと、さらにこの外側に同様の要領により絶縁層を積層・一体化(ビルドアップ)してもよい。   After the insulating layers 11 and 15 to be located outside are laminated and integrated with the core wiring board, the copper layers on both outsides are patterned to form wiring layers 21 and 26. This patterning can be performed in the same manner as the wiring layer 23 forming step described above. That is, the procedures are chemical polishing, resist dry film lamination, exposure through a photomask, development, and etching. In addition, after the formation of the outer insulating layers 11 and 15 described above, an insulating layer may be further laminated and integrated (build-up) in the same manner on the outer side.

次に、最外側面の所定の位置に半田レジスト31、32を形成する。さらに、配線層21または26の半田レジストの形成されない部位には腐蝕防止のため無電解めっき法によりニッケル/金(ニッケルが下地)の層(図示せず)を形成する。そして、配線板をルータ加工機により所定の外形となるように切り出す。以上により本実施形態に係る部品内蔵配線板を得ることができる。   Next, solder resists 31 and 32 are formed at predetermined positions on the outermost surface. Further, a nickel / gold (nickel base) layer (not shown) is formed by electroless plating at a portion of the wiring layer 21 or 26 where the solder resist is not formed to prevent corrosion. And a wiring board is cut out so that it may become a predetermined | prescribed external shape with a router processing machine. Thus, the component built-in wiring board according to the present embodiment can be obtained.

次に、本発明の別の実施形態に係る部品内蔵配線板について図3を参照して説明する。図3は、本発明の別の実施形態に係る部品内蔵配線板の構造を示す模式的な断面図であり、図1中に示した構成要素と同一または同一相当のものには同一符号を付してある。その部分ついては加えることがない限り説明を省略する。   Next, a component built-in wiring board according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the structure of a component built-in wiring board according to another embodiment of the present invention. Components identical or equivalent to those shown in FIG. It is. The description is omitted unless it is added.

この部品内蔵配線板は、導電性バンプ41〜45に代えてそれぞれ導電性組成物充填による層間接続体61〜65を用いる点が異なっている。このような配線板は例えば次のようにして製造することができる。まず、例えば、絶縁層12、14とすべき樹脂シートを用意し、その所定位置に例えばレーザ加工でビアホール(貫通穴)を形成しそのビアホール内に導電性組成物を充填して層間接続体62、64をそれぞれ形成する。そして、この絶縁層の両面それぞれに対向して銅箔を配置し積層プレスで一体化する。一体化後、片面の銅箔をパターニングして配線層23、24に加工し、片面のみパターニングされた2枚の両面配線板を得る。   This component built-in wiring board is different in that instead of the conductive bumps 41 to 45, interlayer connection members 61 to 65 filled with a conductive composition are used. Such a wiring board can be manufactured as follows, for example. First, for example, resin sheets to be used as the insulating layers 12 and 14 are prepared, via holes (through holes) are formed at predetermined positions by, for example, laser processing, and the conductive composition is filled in the via holes, and the interlayer connector 62 is formed. , 64 are formed respectively. And copper foil is arrange | positioned facing each of both surfaces of this insulating layer, and it integrates with a lamination press. After the integration, the copper foil on one side is patterned and processed into the wiring layers 23 and 24 to obtain two double-sided wiring boards patterned only on one side.

次に、別に絶縁膜13とすべき樹脂シートを用意し、その所定位置にビアホール形成後、同様に導電性組成物を充填して層間接続体63を形成する。さらに、絶縁層13とすべきこの樹脂シートの両面それぞれに上記の両面配線板のパターニングされた銅箔側(配線層23または24側)を対向配置し積層プレスで一体化する。この段階で部品33を内蔵するための貫通穴をあける前の状態のコア配線板になる。以下は、すでに述べたように部品33を内蔵するための穴あけなどの工程を適用することにより、部品装着のコア配線板を得ることができる。   Next, a resin sheet to be used as the insulating film 13 is separately prepared, and via holes are formed at predetermined positions, and then the conductive composition is similarly filled to form an interlayer connection 63. Further, the patterned copper foil side (wiring layer 23 or 24 side) of the double-sided wiring board is disposed opposite to both surfaces of the resin sheet to be the insulating layer 13 and integrated by a laminating press. At this stage, the core wiring board is in a state before a through hole for incorporating the component 33 is formed. In the following, by applying a process such as drilling for incorporating the component 33 as already described, a component-mounted core wiring board can be obtained.

部品装着がされたら次に、上下2つの絶縁層11、15を含む部分の積層を行う。これには、絶縁層11(15)とすべき樹脂シートを用意し、その所定位置にビアホール形成後、同様に導電性組成物を充填して層間接続体61(65)を形成する。さらに、絶縁層11(15)とすべきこの樹脂シートの両面それぞれに部品装着のコア配線板または銅箔を対向配置し積層プレスで一体化する。以下は、両外側の銅箔のパターニングなどすでに説明した通りの工程を行う。以上により図3に示すような構成になる。   Next, when the components are mounted, the portions including the upper and lower insulating layers 11 and 15 are stacked. For this purpose, a resin sheet to be used as the insulating layer 11 (15) is prepared, a via hole is formed at a predetermined position thereof, and similarly, the conductive composition is filled to form the interlayer connector 61 (65). Further, a core wiring board or a copper foil with components mounted on each side of the resin sheet to be the insulating layer 11 (15) is disposed opposite to each other and integrated by a laminating press. In the following, the steps as already described, such as patterning of the copper foils on both outer sides, are performed. Thus, the configuration shown in FIG. 3 is obtained.

この実施形態の層間接続体61〜65は、軸の方向が積層方向に一致する円柱状(すなわち軸の方向に径が変化していない形状)になる。この実施形態では、絶縁層11〜15に穴をあける工程が効率的とは言えないが、内蔵する部品33を接続する部材である半田36、37の形状に関しては先の実施形態と同様に絶縁層11または15が有すべき縦方向の絶縁機能を損なうものではない。   The interlayer connectors 61 to 65 of this embodiment have a cylindrical shape whose axis direction coincides with the stacking direction (that is, a shape whose diameter does not change in the axis direction). In this embodiment, the process of drilling holes in the insulating layers 11 to 15 cannot be said to be efficient, but the shape of the solders 36 and 37 that are members for connecting the built-in components 33 is insulated as in the previous embodiment. It does not impair the longitudinal insulation function that the layer 11 or 15 should have.

次に、本発明のさらに別の実施形態に係る部品内蔵配線板について図4を参照して説明する。図4は、本発明のさらに別の実施形態に係る部品内蔵配線板の構造を示す模式的な断面図であり、図1または図3中に示した構成要素と同一または同一相当のものには同一符号を付してある。その部分については加えることがない限り説明を省略する。   Next, a component built-in wiring board according to still another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing the structure of a component built-in wiring board according to still another embodiment of the present invention. The same or equivalent components as those shown in FIG. 1 or FIG. The same reference numerals are given. The description is omitted unless it is added.

この部品内蔵配線板は、導電性バンプ61、62、64、65に代えてそれぞれめっきにより形成された金属の層間接続体71、72、74、75(導電性バンプ)を用いる点が異なっている。層間接続体63については図3の実施形態と同じである。このような配線板は例えば次のようにして製造することができる。すなわち、図1に示した実施形態におけるスクリーン印刷による導電性バンプの各形成に代えて、めっきのためのパターン化されたレジストを銅箔上に形成して、そのレジストの抜けた部分へのめっき成長でバンプを形成する。このように形成されたバンプを図1に示した実施形態における導電性バンプの代わりとして扱うことにより、それ以外ほぼ同様な工程で図4に示すような構成の部品内蔵配線板を得ることができる。   This component built-in wiring board is different in that instead of the conductive bumps 61, 62, 64, 65, metal interlayer connectors 71, 72, 74, 75 (conductive bumps) formed by plating are used. . The interlayer connection 63 is the same as that of the embodiment of FIG. Such a wiring board can be manufactured as follows, for example. That is, instead of forming each conductive bump by screen printing in the embodiment shown in FIG. 1, a patterned resist for plating is formed on a copper foil, and plating is performed on a portion where the resist is removed. Form bumps by growth. By treating the bumps thus formed as a substitute for the conductive bumps in the embodiment shown in FIG. 1, it is possible to obtain a component built-in wiring board configured as shown in FIG. .

層間接続体61、62、64、65は、めっきのためのレジストのパターン形状に倣って、軸の方向が積層方向に一致する柱状または錐台状の形状(すなわち軸の方向に径が変化するかまたは変化していない形状)になる。この実施形態は、絶縁層13に穴をあける工程が残る点でが生産効率性がやや劣るが、内蔵する部品33を接続する部材である半田36、37の形状に関しては先の実施形態と同様に絶縁層11または15が有すべき縦方向の絶縁機能を損なうものではない。   The interlayer connectors 61, 62, 64, 65 follow a resist pattern shape for plating and have a columnar or frustum shape whose axis direction coincides with the stacking direction (that is, the diameter changes in the axis direction). Or a shape that has not changed). Although this embodiment is slightly inferior in production efficiency in that a step of making a hole in the insulating layer 13 remains, the shape of the solders 36 and 37 that are members for connecting the built-in component 33 is the same as in the previous embodiment. This does not impair the longitudinal insulating function that the insulating layer 11 or 15 should have.

次に、本発明のさらに別の実施形態に係る部品内蔵配線板について図5を参照して説明する。図5は、本発明のさらに別の実施形態に係る部品内蔵配線板の構造を示す模式的な断面図であり、図1中に示した構成要素と同一または同一相当のものには同一符号を付してある。その部分については加えることがない限り説明を省略する。   Next, a component built-in wiring board according to still another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing the structure of a component built-in wiring board according to still another embodiment of the present invention. Components identical or equivalent to those shown in FIG. It is attached. The description is omitted unless it is added.

この実施形態では、導電性バンプ41〜45に代えて金属板エッチングによる層間接続体81〜85(導電性バンプ)を用いる点が異なっている。このような配線板は例えば次のようにして製造することができる。すなわち、図1に示した実施形態におけるスクリーン印刷による導電性バンプの各形成に代えて、ある程度の厚みを有する金属板(銅板)を用意してこの金属板の面上をバンプ形成部位を除いてエッチングしバンプを形成する。このように形成されたバンプを図1に示した実施形態における導電性バンプの代わりとして扱うことにより、それ以外ほぼ同様な工程で図5に示すような構成の部品内蔵配線板を得ることができる。   This embodiment is different in that instead of the conductive bumps 41 to 45, interlayer connectors 81 to 85 (conductive bumps) by metal plate etching are used. Such a wiring board can be manufactured as follows, for example. That is, instead of forming each conductive bump by screen printing in the embodiment shown in FIG. 1, a metal plate (copper plate) having a certain thickness is prepared, and the bump formation portion is removed on the surface of this metal plate. Etch to form bumps. By treating the bumps formed in this way as a substitute for the conductive bumps in the embodiment shown in FIG. 1, a component built-in wiring board having the configuration shown in FIG. 5 can be obtained in substantially the same process. .

層間接続体81〜85は、バンプ形成における金属板へのサイドエッチングの程度により、軸の方向が積層方向に一致する錐体状または錐台状の形状(すなわち軸の方向に径が変化する形状)になる。この実施形態は、バンプ形成がスクリーン印刷ほどには効率的ではないが、内蔵する部品33を接続する部材である半田36、37の形状に関しては先の実施形態と同様に絶縁層11または15が有すべき縦方向の絶縁機能を損なうものではない。   The interlayer connectors 81 to 85 have a cone shape or a frustum shape whose axis direction coincides with the stacking direction (that is, a shape whose diameter changes in the axis direction) depending on the degree of side etching to the metal plate in bump formation. )become. In this embodiment, bump formation is not as efficient as screen printing, but the shape of the solders 36 and 37 which are members for connecting the built-in component 33 is the same as that of the previous embodiment in that the insulating layer 11 or 15 is formed. It does not impair the vertical insulation function that should be present.

次に、図2に示した工程に代えて採用することができる工程について図6を参照して説明する。図6は、図1に示した部品内蔵配線板の製造過程の別の例を模式的な断面で示す工程図であり、特に、半田36、37の上下方向の位置および大きさが導電層34、35の縦方向寸法に確実に内包されるようにするための工程例を示す図である。図6において、すでに説明したものと同一または同一相当の部位には同一符号を付してある。   Next, steps that can be employed instead of the steps shown in FIG. 2 will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a process diagram schematically showing another example of the manufacturing process of the component built-in wiring board shown in FIG. 1, and in particular, the positions and sizes of the solders 36 and 37 in the vertical direction are the conductive layer 34. , 35 is a diagram showing an example of a process for ensuring inclusion in the vertical dimension of 35. In FIG. 6, the same or equivalent parts as those already described are denoted by the same reference numerals.

まず、支持基材として平板51を用意する。この平板51は図2におけるものと同様の構成のものでよい。図6(a)、同(b)、同(c)と図2に示した場合と同様である。次に、図6(d)に示すように、コア配線板の上側と平板51の下側にそれぞれそれらに接触させて加熱器内蔵平板92、93を配置する。そしてこの状態で加熱器内蔵平板92、93の加熱機能を動作させピーク温度250℃で加熱する。   First, the flat plate 51 is prepared as a support base material. The flat plate 51 may have the same configuration as that in FIG. 6 (a), 6 (b), 6 (c) and the case shown in FIG. Next, as shown in FIG. 6D, the heater built-in flat plates 92 and 93 are arranged on the upper side of the core wiring board and the lower side of the flat plate 51 so as to be in contact therewith, respectively. In this state, the heating function of the heater built-in flat plates 92 and 93 is operated to heat at a peak temperature of 250 ° C.

これにより、クリーム半田36A、37Aは、溶融して部品33の端子と導電層36、37との間に位置する接続部材(導電部材)としての半田36、37になる。この加熱過程では、溶融した半田に対して濡れ性を呈するものが部品33の端子と導電層36、37であり、平板51に対しては剥離性を呈するので、確実に半田36、37の上下方向の位置および大きさが導電層34、35の縦方向寸法に内包されるようになる。加熱後にコア配線板からその上下の加熱器内蔵平板92、93、平板51を取り除くことで、図6(e)に示すような部品装着されたコア配線板を得ることができる。   Thus, the cream solders 36A and 37A are melted to become solders 36 and 37 as connecting members (conductive members) located between the terminals of the component 33 and the conductive layers 36 and 37. In this heating process, what exhibits wettability to the molten solder is the terminal of the component 33 and the conductive layers 36 and 37, and exhibits peelability to the flat plate 51. The position and size in the direction are included in the longitudinal dimension of the conductive layers 34 and 35. By removing the upper and lower heater built-in flat plates 92 and 93 and the flat plate 51 from the core wiring board after heating, a core wiring board with components mounted as shown in FIG. 6E can be obtained.

この実施形態でも変形例として、平板51としてフッ素樹脂コーティングのアルミ板に代えてFR−4相当のガラスエポキシ板を用いることができる。さらに、図2に示したようにコア配線板の上下に平板51、52を配置させ、さらにその外側に加熱器内蔵平板92、93を配置させて加熱するようにしてももちろんよい。   Also in this embodiment, as a modification, a glass epoxy plate equivalent to FR-4 can be used as the flat plate 51 in place of the fluororesin-coated aluminum plate. Furthermore, as shown in FIG. 2, the flat plates 51 and 52 may be disposed above and below the core wiring board, and the heater built-in flat plates 92 and 93 may be disposed outside the core wiring boards and heated.

本発明の一実施形態に係る部品内蔵配線板の構造を模式的に示す断面図および一部平面図。1 is a cross-sectional view and a partial plan view schematically showing the structure of a component built-in wiring board according to an embodiment of the present invention. 図1に示した部品内蔵配線板の製造過程の一例を模式的な断面で示す工程図。Process drawing which shows an example of the manufacture process of the component built-in wiring board shown in FIG. 1 with a typical cross section. 本発明の別の実施形態に係る部品内蔵配線板の構造を模式的に示す断面図。Sectional drawing which shows typically the structure of the wiring board with a built-in component which concerns on another embodiment of this invention. 本発明のさらに別の実施形態に係る部品内蔵配線板の構造を模式的に示す断面図。Sectional drawing which shows typically the structure of the component built-in wiring board which concerns on another embodiment of this invention. 本発明のさらに別の実施形態に係る部品内蔵配線板の構造を模式的に示す断面図。Sectional drawing which shows typically the structure of the component built-in wiring board which concerns on another embodiment of this invention. 図1に示した部品内蔵配線板の製造過程の別の例を模式的な断面で示す工程図。Process drawing which shows a typical cross section in another example of the manufacturing process of the component built-in wiring board shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

11,12,13,14,15…絶縁層、21,22,23,24,25,26…配線層、31,32…半田レジスト、33…電気/電子部品、34,35…導電層、36,37…半田(接続部材、導電部材)、36A,37A…クリーム半田、41,42,43,44,45…導電性バンプ(層間接続体)、51,52…平板、61,62,63,64,65…導電性組成物充填による層間接続体、71,72,74,75…めっきにより形成された層間接続体、81,82,83,84,85…金属板エッチングにより形成された層間接続体、92,93…加熱器内蔵平板。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 11, 12, 13, 14, 15 ... Insulating layer 21, 22, 23, 24, 25, 26 ... Wiring layer, 31, 32 ... Solder resist, 33 ... Electric / electronic component, 34, 35 ... Conductive layer, 36 , 37 ... solder (connection member, conductive member), 36A, 37A ... cream solder, 41, 42, 43, 44, 45 ... conductive bump (interlayer connection body), 51, 52 ... flat plate, 61, 62, 63, 64, 65 ... interlayer connection by filling with conductive composition, 71, 72, 74, 75 ... interlayer connection formed by plating, 81, 82, 83, 84, 85 ... interlayer connection formed by metal plate etching Body, 92, 93 ... Flat plate with built-in heater.

Claims (13)

板厚み方向に形成されかつ板上下面には表出せずに埋設されている導電層と、
端子を有し、前記埋設された導電層に前記端子が対向するように板内埋設された電気/電子部品と、
前記埋設された電気/電子部品の前記端子と前記導電層との間隙に設けられ、前記導電層の上下方向寸法に内包される上下方向の位置および大きさを有し、かつ、前記端子と前記導電層とを電気的・機械的に接続する接続部材と、
前記埋設された電気/電子部品の外表面のうち前記接続部材に接続される部位以外を覆いかつ前記電気/電子部品の板厚み方向上下に密着するように設けられた上下2つの絶縁層と
を具備することを特徴とする部品内蔵配線板。
A conductive layer formed in the thickness direction of the plate and embedded in the upper and lower surfaces of the plate without being exposed; and
An electrical / electronic component having a terminal and embedded in a plate so that the terminal faces the embedded conductive layer;
Provided in the gap between the terminal of the embedded electrical / electronic component and the conductive layer, has a vertical position and size contained in the vertical dimension of the conductive layer, and the terminal and the A connection member for electrically and mechanically connecting the conductive layer;
Two upper and lower insulating layers provided so as to cover a portion of the outer surface of the embedded electric / electronic component other than the portion connected to the connecting member and to be in close contact with the electric / electronic component in the plate thickness direction. A component built-in wiring board comprising:
前記接続部材が、半田であることを特徴とする請求項1記載の部品内蔵配線板。   The component built-in wiring board according to claim 1, wherein the connecting member is solder. 前記接続部材が、導電性接着剤であることを特徴とする請求項1記載の部品内蔵配線板。   The component built-in wiring board according to claim 1, wherein the connection member is a conductive adhesive. 前記上下2つの絶縁層それぞれの上下面付近それぞれに設けられた4つの配線層と、
前記上下2つの絶縁層それぞれを貫通して、かつ前記配線層による導体パターンの面同士の間にそれぞれ挟設された第1および第2の層間接続体と
をさらに具備することを特徴とする請求項1記載の部品内蔵配線板。
Four wiring layers provided near the upper and lower surfaces of each of the two upper and lower insulating layers;
And further comprising first and second interlayer connectors that pass through each of the two upper and lower insulating layers and are respectively sandwiched between the surfaces of the conductor pattern formed by the wiring layer. Item 1. The component built-in wiring board according to Item 1.
前記第1および第2の層間接続体が、それぞれ、導電性組成物からなり、かつ、層方向に一致する軸を有し前記軸の方向に径が変化している形状であることを特徴とする請求項4記載の部品内蔵配線板。   The first and second interlayer connectors are each made of a conductive composition and have a shape that has an axis that coincides with the layer direction and has a diameter that changes in the direction of the axis. The component built-in wiring board according to claim 4. 前記第1および第2の層間接続体が、それぞれ、導電性組成物からなり、かつ、層方向に一致する軸を有し前記軸の方向に径が変化していない形状であることを特徴とする請求項4記載の部品内蔵配線板。   Each of the first and second interlayer connectors is made of a conductive composition and has a shape that has an axis that coincides with the layer direction and has a diameter that does not change in the direction of the axis. The component built-in wiring board according to claim 4. 前記第1および第2の層間接続体が、それぞれ、金属からなり、かつ、層方向に一致する軸を有し前記軸の方向に径が変化している形状であることを特徴とする請求項4記載の部品内蔵配線板。   The first and second interlayer connectors are each made of metal and have a shape that has an axis that coincides with the layer direction and has a diameter that changes in the direction of the axis. 4. The component built-in wiring board according to 4. 前記第1および第2の層間接続体が、それぞれ、金属からなり、かつ、層方向に一致する軸を有し前記軸の方向に径が変化していない形状であることを特徴とする請求項4記載の部品内蔵配線板。   The first and second interlayer connectors are each made of metal and have a shape that has an axis that coincides with the layer direction and has a diameter that does not change in the direction of the axis. 4. The component built-in wiring board according to 4. 少なくとも上下両面に配線パターンを有し、かつ内蔵すべき電気/電子部品用の空間として開口部を有し、該開口部の内壁の一部に前記電気/電子部品との接続のため板厚み方向の導電層が形成されているコア配線板を製造する第1の工程と、
前記コア配線板の前記空間に前記内蔵すべき電気/電子部品を位置させ、かつ前記コア配線板の上下面それぞれに接触するように2枚の平板を配置して、前記電気/電子部品の前記端子と前記板厚み方向の導電層とを導電部材で接続する第2の工程と、
前記導電部材により前記電気/電子部品が接続された前記コア配線板の上下両面それぞれに重ねてかつ前記電気/電子部品の周りを充填するように絶縁層を積層形成する第3の工程と
を具備することを特徴とする部品内蔵配線板の製造方法。
At least a wiring pattern on both upper and lower surfaces and an opening as a space for an electric / electronic component to be incorporated, and a thickness direction for connecting the electric / electronic component to a part of the inner wall of the opening A first step of manufacturing the core wiring board on which the conductive layer is formed;
The electric / electronic component to be incorporated is positioned in the space of the core wiring board, and two flat plates are arranged so as to be in contact with the upper and lower surfaces of the core wiring board, respectively. A second step of connecting the terminal and the conductive layer in the plate thickness direction with a conductive member;
A third step of laminating and forming an insulating layer so as to overlap each of the upper and lower surfaces of the core wiring board to which the electric / electronic component is connected by the conductive member and to fill the periphery of the electric / electronic component. A method for manufacturing a component built-in wiring board.
前記第2の工程が、前記2枚の平板の一方の面上に前記電気/電子部品をあらかじめ配置するステップを含むことを特徴とする請求項9記載の部品内蔵配線板の製造方法。   10. The method of manufacturing a component built-in wiring board according to claim 9, wherein the second step includes a step of arranging the electrical / electronic component in advance on one surface of the two flat plates. 少なくとも上下両面に配線パターンを有し、かつ内蔵すべき電気/電子部品用の空間として開口部を有し、該開口部の内壁の一部に前記電気/電子部品との接続のため板厚み方向の導電層が形成されているコア配線板を製造する第1の工程と、
第1の面と第2の面とを有する支持基材の前記第1の面上に前記電気/電子部品を配置する第2の工程と、
前記電気/電子部品が配置された支持基材の前記第1の面上に、前記電気/電子部品が前記コア配線板の前記開口部に位置するように前記コア配線板を積層配置する第3の工程と、
前記支持基材の前記第2の面および前記コア配線板の前記支持基材が位置する側とは反対側の面それぞれに接触して2枚の平板を配置して、前記電気/電子部品の端子と前記板厚み方向の導電層とを導電部材で接続する第4の工程と、
前記導電部材により前記電気/電子部品が接続された前記コア配線板の上下両面それぞれに重ねてかつ前記電気/電子部品の周りを充填するように絶縁層を積層形成する第5の工程と
を具備することを特徴とする部品内蔵配線板の製造方法。
At least a wiring pattern on both upper and lower surfaces and an opening as a space for an electric / electronic component to be incorporated, and a thickness direction for connecting the electric / electronic component to a part of the inner wall of the opening A first step of manufacturing the core wiring board on which the conductive layer is formed;
A second step of disposing the electrical / electronic component on the first surface of a support substrate having a first surface and a second surface;
Thirdly arranging the core wiring board on the first surface of the support substrate on which the electric / electronic component is arranged, so that the electric / electronic component is positioned at the opening of the core wiring board. And the process of
Two flat plates are disposed in contact with the second surface of the support substrate and the surface of the core wiring board opposite to the side where the support substrate is located, and the electric / electronic component A fourth step of connecting the terminal and the conductive layer in the plate thickness direction with a conductive member;
And a fifth step of stacking and forming an insulating layer so as to overlap the upper and lower surfaces of the core wiring board to which the electric / electronic component is connected by the conductive member and to fill the periphery of the electric / electronic component. A method for manufacturing a component built-in wiring board.
前記支持基材が、前記コア配線板と同種の絶縁素材からなることを特徴とする請求項11記載の部品内蔵配線板の製造方法。   The method of manufacturing a component built-in wiring board according to claim 11, wherein the support base is made of an insulating material of the same type as the core wiring board. 前記支持基材が、金属板の部分を有し、かつ前記導電部材に対して剥離性を有する表面を有することを特徴とする請求項11記載の部品内蔵配線板の製造方法。   The method of manufacturing a component built-in wiring board according to claim 11, wherein the support base member has a metal plate portion and a surface that is peelable from the conductive member.
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