JP2008251302A - ゲッターの評価システム、その評価方法及びその評価プログラム、並びにゲッターの評価用装置 - Google Patents
ゲッターの評価システム、その評価方法及びその評価プログラム、並びにゲッターの評価用装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】
1つの密閉空間と、その密閉空間内に配置されたゲッターと、隔壁を備えた流路を介してその密閉空間と連結され、かつ、そのゲッターによって吸収可能なガスが封入されている他の1つ又は複数の密閉空間と、前述の其々の密閉空間内に形成された振動体とを備え、レーザーを用いて前記隔壁の少なくとも一部を除去して貫通させることにより、そのゲッターが配置された密閉空間内に前述のガスが流入可能となるようなゲッターの評価用装置を用いる。
【選択図】図1
Description
図1は、本実施形態におけるゲッターの評価用装置100の平面図である、また、図2は、図1に示すゲッターの評価用装置100のA−A断面図であり、図3は、図1に示すゲッターの評価用装置100のM部分の詳細図である。
本実施形態においても、第1の実施形態と同じゲッターの評価用装置100、及びゲッター評価システム200が用いられる。
12a,12b,46,47,48 振動体
13,44,45 隔壁
14 流路
15a,15b 孔
16a 下側のガラス基板
16b 上側のガラス基板
17 貫通口
18 チタン膜
21 中心部
22 梁部
23 リング部
24 駆動用電極
25 検出用電極
26 直流電源
27 交流電源
31 ステージ
32 テーブル
33 ネットワーク分析器
34 探針
35 レーザー制御部
36 レーザー発振器
37 計測制御部
38 記憶部
39 コンピューター
40 判定部
100,300 ゲッターの評価用装置
200 ゲッター評価システム
Claims (14)
- 1つの密閉空間と、
前記密閉空間内に配置されたゲッターと、
隔壁を備えた流路を介して前記密閉空間と連結され、かつ前記ゲッターによって吸収可能なガスが封入されている他の1つ又は複数の密閉空間と、
前記の其々の密閉空間内に形成された振動体とを備え、
レーザーを用いて前記隔壁の少なくとも一部を除去して貫通させることにより、前記ゲッターが配置された密閉空間内に前記ガスが流入可能となる
ゲッターの評価用装置。 - 前記流路の少なくとも1つに複数の前記隔壁を備えた
請求項1に記載のゲッターの評価用装置。 - 前記流路のうち、前記隔壁から前記ゲッターが配置された密閉空間に至る部分の少なくとも一部がジグザグ形状又は蛇行形状である
請求項1に記載のゲッターの評価用装置。 - 前記ガスは、水蒸気、水素、酸素、窒素、二酸化炭素、一酸化炭素、炭化水素ガスの群から選ばれる少なくとも1種類のガスを含む
請求項1に記載のゲッターの評価用装置。 - 前記ガスが封入されている少なくとも1つの密閉空間と、前記ゲッターが配置された密閉空間と連結せずかつ前記ガスが封入されている他の1つ又は複数の密閉空間とを連結するための隔壁を備えた流路がさらに形成されている
請求項1に記載のゲッターの評価用装置。 - 前記振動体及び前記隔壁が一体のシリコン基板により形成されている
請求項1に記載のゲッターの評価用装置。 - 空洞部を有する2つのガラス材が、振動体を用いたMEMS装置が形成されたシリコン基板を挟むことにより形成される密閉空間を複数備えた前記MEMS装置の生産用基板であって、
前記基板の少なくとも一部に請求項1に記載のゲッターの評価用装置を備えた
MEMSデバイス生産用基板。 - 1つの密閉空間と、前記密閉空間内に配置されたゲッターと、隔壁を備えた流路を介して前記密閉空間と連結され、かつ前記ゲッターによって吸収可能なガスが封入されている他の1つ又は複数の密閉空間と、前記の其々の密閉空間内に形成された振動体とを備えたゲッターの評価用装置を載置するステージと、
前記隔壁の少なくとも一部を除去して貫通させるための出力を有するレーザー発振器と、
前記レーザー発振器によって照射されるレーザーの照射条件を制御するレーザー制御部と、
前記ゲッターが配置された密閉空間内に形成された第1振動体のQ値(以下、Q1値とする)、前記ガスが封入されている少なくとも1つの密閉空間内に形成された振動体(以下、総称して第2振動体とする)のQ値(以下、総称してQ2値とする)、及び前記隔壁の少なくとも一部の除去による貫通後の前記第1振動体又は前記第2振動体のQ値(以下、総称してQ3値とする)を計測する計測器と、
前記計測器を制御する計測制御部と、
前記Q1値、前記Q2値、及び前記Q3値を記憶する記憶部と、
前記Q1値、前記Q2値、及び前記Q3値からゲッターによるガス吸収量を算出する計算装置を備える
ゲッターの評価システム。 - 前記計測器は、前記隔壁の少なくとも一部の除去による貫通後の前記第1振動体及び前記第2振動体のQ値を計測する
請求項8に記載のゲッターの評価システム。 - 1つの密閉空間と、前記密閉空間内に配置されたゲッターと、隔壁を備えた流路を介して前記密閉空間と連結され、かつ前記ゲッターによって吸収可能なガスが封入されている他の1つ又は複数の密閉空間と、前記の其々の密閉空間内に形成された振動体とを備えたゲッターの評価用装置における、前記ゲッターが配置された密閉空間に形成された第1振動体のQ値(以下、Q1値とする)、及び前記ガスが封入されている少なくとも1つの密閉空間内に形成された振動体(以下、総称して第2振動体とする)のQ値(以下、総称してQ2値とする)を計測する工程と、
前記Q1値及び前記Q2値を記憶する第1記憶工程と、
前記第1記憶工程の後に、レーザーにより、前記隔壁の少なくとも一部を除去して貫通させるレーザー除去工程と、
前記レーザー除去工程の後に、前記第1振動体又は前記第2振動体のQ値(以下、総称してQ3値とする)を計測する工程と、
前記Q3値を記憶する第2記憶工程と、
前記Q1値、前記Q2値、及び前記Q3値からゲッターによるガス吸収量を算出する工程を含む
ゲッターの評価方法。 - 前記Q3値を記憶する第2記憶工程の後に、
前記Q1値と前記Q3値との関係が、前者が1に対して後者が0.95以上であった場合に、前記レーザーにより、前記隔壁と異なる隔壁の少なくとも一部を除去して貫通させる追加レーザー除去工程と、
前記追加レーザー除去工程の後に、前記第1振動体又は前記第2振動体のQ値(以下、総称してQ4値とする)を計測する工程と、
前記Q4値を記憶する第3記憶工程をさらに含み、
前記Q1値、前記Q2値、及び前記Q3値からゲッターによるガス吸収量を算出する工程の替わりに前記Q1値、前記Q2値、及び前記Q4値からゲッターによるガス吸収量を算出する工程を含む
請求項10に記載のゲッターの評価方法。 - 1つの密閉空間と、前記密閉空間内に配置されたゲッターと、隔壁を備えた流路を介して前記密閉空間と連結され、かつ前記ゲッターによって吸収可能なガスが封入されている他の1つ又は複数の密閉空間と、前記の其々の密閉空間内に形成された振動体とを備えたゲッターの評価用装置における、前記ゲッターが配置された密閉空間に形成された第1振動体のQ値(以下、Q1値とする)、及び前記ガスが封入されている少なくとも1つの密閉空間内に形成された振動体(以下、総称して第2振動体とする)のQ値(以下、総称してQ2値とする)を計測するステップと、
前記Q1値及び前記Q2値を記憶する第1記憶ステップと、
前記第1記憶ステップの後に、レーザーにより、前記隔壁の少なくとも一部を除去して貫通させるレーザー除去ステップと、
前記レーザー除去工程の後に、前記第1振動体又は前記第2振動体のQ値(以下、総称してQ3値とする)を計測するステップと、
前記Q3値を記憶する第2記憶ステップと、
前記Q1値、前記Q2値、及び前記Q3値からゲッターによるガス吸収量を算出するステップを含む
ゲッターの評価プログラム。 - 前記Q3値を記憶する第2記憶ステップの後に、
前記Q1値と前記Q3値との関係が、前者が1に対して後者が0.95以上であった場合に、前記レーザーにより、前記隔壁と異なる隔壁の少なくとも一部を除去して貫通させる追加レーザー除去ステップと、
前記追加レーザー除去ステップの後に、前記第1振動体又は前記第2振動体のQ値(以下、総称してQ4値とする)を計測するステップと、
前記Q4値を記憶する第3記憶ステップをさらに含み、
前記Q1値、前記Q2値、及び前記Q3値からゲッターによるガス吸収量を算出するステップの替わりに前記Q1値、前記Q2値、及び前記Q4値からゲッターによるガス吸収量を算出するステップを含む
請求項12に記載のゲッターの評価プログラム。 - 請求項12に記載の評価プログラムを記録した記録媒体。
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JP2011242371A (ja) * | 2010-05-21 | 2011-12-01 | Hitachi Automotive Systems Ltd | 複合センサおよびその製造方法 |
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JPH0947652A (ja) * | 1995-08-07 | 1997-02-18 | Saes Getters Spa | ゲッター物質の組み合わせ及びそれを収容する装置 |
JP2002515582A (ja) * | 1998-05-21 | 2002-05-28 | サエス ゲッターズ ソチエタ ペル アツィオニ | 非蒸発ゲッター材を含む冷却回路の製造方法 |
JP2004139816A (ja) * | 2002-10-17 | 2004-05-13 | Canon Inc | 密封容器とその製造方法、並びにガス測定方法及びガス測定装置 |
JP2005016965A (ja) * | 2003-06-23 | 2005-01-20 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | パッケージおよびその製造方法、ならびに振動ジャイロおよびその製造方法 |
-
2007
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