JP2008251273A - 透明導電膜および透明導電膜の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】単層カーボンナノチューブを有する導電層を持つ透明導電膜であって、前記単層カーボンナノチューブは、導電層において、バンドル状態で存在し、前記バンドルの長さが単一長のものでは無い所定の分布を有するものであり、前記所定の分布はバンドルの長さ0.5μm毎の度数分布における最頻値が1.5μmを越えたものであると共に、1.5μmを越えた長さのバンドルの数が1.5μm以下の長さのバンドルの数よりも多い。
【選択図】図2
Description
すなわち、前記の課題は、
単層カーボンナノチューブを有する導電層を持つ透明導電膜であって、
前記単層カーボンナノチューブは、導電層において、バンドル状態で存在し、
そして、1.5μmを越えた長さのバンドルの数が1.5μm以下の長さのバンドルの数よりも多い
ことを特徴とする透明導電膜によって解決される。
前記単層カーボンナノチューブは、導電層において、バンドル状態で存在し、
前記バンドルの長さが単一長のものでは無い所定の分布を有するものであり、
前記所定の分布はバンドルの長さ0.5μm毎の度数分布における最頻値が1.5μmを越えたものである
ことを特徴とする透明導電膜によって解決される。
前記単層カーボンナノチューブは、導電層において、バンドル状態で存在し、
前記バンドルの長さが単一長のものでは無い所定の分布を有するものであり、
前記所定の分布はバンドルの長さ0.5μm毎の度数分布における最頻値が1.5μmを越えたものであると共に、1.5μmを越えた長さのバンドルの数が1.5μm以下の長さのバンドルの数よりも多い
ことを特徴とする透明導電膜によって解決される。
単層カーボンナノチューブを溶媒中にバンドル状態で分散させる分散工程と、
前記分散工程で得られた単層カーボンナノチューブ分散液から長さ1.5μm以下のバンドルを形成している単層カーボンナノチューブを取り除く除去工程と、
前記除去工程で得られた単層カーボンナノチューブ分散液を基材上に設けて透明導電膜を形成する形成工程
とを有することを特徴とする透明導電膜の製造方法によって解決される。
単層カーボンナノチューブを湿式酸化する湿式酸化工程と、
前記湿式酸化工程で得られた単層カーボンナノチューブを溶媒中にバンドル状態で分散させる分散工程と、
前記分散工程で得られた単層カーボンナノチューブ分散液から長さ1.5μm以下のバンドルを形成している単層カーボンナノチューブを取り除く除去工程と、
前記除去工程で得られた単層カーボンナノチューブ分散液を基材上に設けて透明導電膜を形成する形成工程
とを有することを特徴とする透明導電膜の製造方法によって解決される。
単層カーボンナノチューブを50%以上の硝酸または硝酸と硫酸との混酸によって24時間以上還流させる湿式酸化工程と、
前記湿式酸化工程で得られた単層カーボンナノチューブを溶媒中にバンドル状態で分散させる分散工程と、
前記分散工程で得られた単層カーボンナノチューブ分散液から長さ1.5μm以下のバンドルを形成している単層カーボンナノチューブを取り除く除去工程と、
前記除去工程で得られた単層カーボンナノチューブ分散液を基材上に設けて透明導電膜を形成する形成工程
とを有することを特徴とする透明導電膜の製造方法によって解決される。
透明導電膜を構成する為に用いられる基材(フィルム或いはシート若しくは厚みが前記フィルム・シートより厚い板など)は、透明導電膜に用いられるものであれば良い。例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−アクリル酸共重合体、塩化ビニル系樹脂、ポリオレフィン、ABS(アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体)、ビニルアルコール樹脂、シクロオレフィン系樹脂、セルロース樹脂などを用いることが出来る。その他にも、無機ガラスなどを用いることも出来る。但し、フレキシブルな特性に優れている有機樹脂製が好ましい。前記基材の表面(導電層が設けられる側の表面および/または導電層が設けられる側とは反対側の裏面)には、必要に応じて、ハードコート層、防汚層、防眩層、反射防止層、粘着層、着色層などが設けられる(積層される)。基材の厚さは、目的によって決まる。但し、一般的には、10μm〜10mm程度の厚さである。
式(1) 0.20≦{a/(a+b+c)}≦0.40
式(2) 0.20≦{b/(b+c)}≦0.30
湿式酸化の反応条件についても格別な制限はないものの、有効な酸処理を施す為には、反応時間が24時間以上であることが好ましい。更に好ましくは48時間以上である。そして、反応温度は85℃以上であることが好ましい。
式(3) 0<ID/IG≦0.03
式(4) 0<ID/IG≦0.02
工程1 単層カーボンナノチューブを溶媒中にバンドル状態で分散させる工程;
工程2 工程1によって得られた単層カーボンナノチューブ分散液から長さ1.5μm以下のバンドルを形成している単層カーボンナノチューブを取り除く工程;
工程3 工程2で得られた単層カーボンナノチューブ分散液を用いて基材上に透明導電膜を形成する工程;
ここで、工程1は、単層カーボンナノチューブを溶媒中にバンドル状態で分散させる工程である。
工程0 単層カーボンナノチューブを湿式酸化する工程;
工程−1 アーク放電法によって粗単層カーボンナノチューブを得る工程;
単層カーボンナノチューブの製造方法には格別な制限は無く、公知の方法を用いることが出来る。例えば、アーク放電法、レーザ蒸発法、化学気相蒸着法が挙げられる。しかしながら、結晶性や収率の観点から、アーク放電法で得られた単層カーボンナノチューブを用いることが好ましい。
[工程(1)]
アーク放電法によって作成された単層カーボンナノチューブを63%硝酸にて85℃で2日間反応(湿式酸化)させた後、濾過によって単層カーボンナノチューブを精製、回収した。
次に、上記特徴の単層カーボンナノチューブ20mg、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム(東京化成工業社製)500mg、0.05Mの水酸化ナトリウム水溶液100gを混合し、1分間超音波照射し(装置名ULTRASONIC HOMOGENIZER MODEL UH−600SR、エスエムテー社製)、単層カーボンナノチューブ分散液を得た。
そして、この単層カーボンナノチューブ分散液を中空糸膜(孔径200nm、膜面積105cm2(SPECTRUM社製))にて循環濾過に供した。
この後、分散液を0.5wt%のドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを添加した0.05Mの水酸化ナトリウム水溶液500mlで洗浄し、短いバンドルの単層カーボンナノチューブを除去した。
実施例1において、中空糸膜による循環濾過の工程(3)を行わなかった以外は同様に行い、透明導電膜を得た。
上記実施例1及び比較例1で得た透明導電膜の全光線透過率(装置名 直読ヘーズコンピュータ、スガ試験機社製)、表面抵抗率(装置名 ロレスタ−FP、ダイアインスツルメンツ社製)を測定したので、その結果を表−1に示す。
表−1
全光線透過率(%) 表面抵抗率(Ω/□)
実施例1 80.3 197
比較例1 76.1 440
これによれば、本発明になる透明導電膜は、透明性および電気伝導性が共に優れたものであることが判る。
実施例1において、中空糸膜を孔径500nmで膜面積80cm2(SPECTRUM社製)の中空糸膜に代えた以外は実施例1と同様に行った。
アーク放電法によって作製された単層カーボンナノチューブの代わりに化学気相蒸着法によって作製された単層カーボンナノチューブを用いた以外は実施例1と同様に行い、透明導電膜を得た。
実施例1において、湿式酸化で用いた63%硝酸の代わりに、水(20体積%)、69%硝酸(20体積%)と97%硫酸(60体積%)の混酸を用いて湿式酸化した以外は同様に行い、透明導電膜を得た。
Claims (13)
- 単層カーボンナノチューブを有する導電層を持つ透明導電膜であって、
前記単層カーボンナノチューブは、導電層において、バンドル状態で存在し、
そして、1.5μmを越えた長さのバンドルの数が1.5μm以下の長さのバンドルの数よりも多い
ことを特徴とする透明導電膜。 - 単層カーボンナノチューブを有する導電層を持つ透明導電膜であって、
前記単層カーボンナノチューブは、導電層において、バンドル状態で存在し、
前記バンドルの長さが単一長のものでは無い所定の分布を有するものであり、
前記所定の分布はバンドルの長さ0.5μm毎の度数分布における最頻値が1.5μmを越えたものである
ことを特徴とする透明導電膜。 - 湿式酸化することによって得られた単層カーボンナノチューブが用いられてなる
ことを特徴とする請求項1又は請求項2の透明導電膜。 - 50%以上の硝酸、又は硝酸と硫酸との混酸によって24時間以上還流させる湿式酸化によって得られた単層カーボンナノチューブが用いられてなる
ことを特徴とする請求項1〜請求項3いずれかの透明導電膜。 - アーク放電法によって得られた単層カーボンナノチューブが用いられてなる
ことを特徴とする請求項1〜請求項4いずれかの透明導電膜。 - 波長532nmのレーザ照射で検出されるラマン強度分布特性において、ラマンシフトが1340±40カイザーである範囲にラマン散乱光の強度に第1の吸収を有すると共に、ラマンシフトが1590±20カイザーである範囲にラマン散乱光の強度に第2の吸収を有し、かつ、0<(前記第1の吸収の強度)/(前記第2の吸収の強度)≦0.03の条件を満たす単層カーボンナノチューブが用いられてなる
ことを特徴とする請求項1〜請求項5いずれかの透明導電膜。 - 全光線透過率が60%以上で、かつ、表面抵抗値が1000Ω/□以下である
ことを特徴とする請求項1〜請求項6いずれかの透明導電膜。 - 透明導電膜の製造方法であって、
単層カーボンナノチューブを溶媒中にバンドル状態で分散させる分散工程と、
前記分散工程で得られた単層カーボンナノチューブ分散液から長さ1.5μm以下のバンドルを形成している単層カーボンナノチューブを取り除く除去工程と、
前記除去工程で得られた単層カーボンナノチューブ分散液を基材上に設けて透明導電膜を形成する形成工程
とを有することを特徴とする透明導電膜の製造方法。 - 分散工程に先立って単層カーボンナノチューブを湿式酸化する湿式酸化工程を有する
ことを特徴とする請求項8の透明導電膜の製造方法。 - 分散工程に先立って単層カーボンナノチューブを50%以上の硝酸または硝酸と硫酸との混酸によって24時間以上還流させる湿式酸化工程を有する
ことを特徴とする請求項8の透明導電膜の製造方法。 - 湿式酸化工程に先立ってアーク放電法によって粗単層カーボンナノチューブを得る工程を有する
ことを特徴とする請求項8〜請求項10いずれかの透明導電膜の製造方法。 - 分散工程は、
波長532nmのレーザ照射で検出されるラマン強度分布特性において、ラマンシフトが1340±40カイザーである範囲にラマン散乱光の強度に第1の吸収を有すると共に、ラマンシフトが1590±20カイザーである範囲にラマン散乱光の強度に第2の吸収を有し、かつ、0<(前記第1の吸収の強度)/(前記第2の吸収の強度)≦0.03の条件を満たす単層カーボンナノチューブを、溶媒中にバンドル状態で分散させる工程である
ことを特徴とする請求項8〜請求項10いずれかの透明導電膜の製造方法。 - 除去工程は、
孔径0.1μm以上で1μm以下の中空糸を用いた内圧型循環濾過である
ことを特徴とする請求項8の透明導電膜の製造方法。
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---|---|---|---|---|
JP5150630B2 (ja) * | 2007-07-10 | 2013-02-20 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 透明導電性薄膜の製造方法 |
JP2013053241A (ja) * | 2011-09-05 | 2013-03-21 | Kuraray Co Ltd | 積層体 |
US9922745B2 (en) | 2013-02-28 | 2018-03-20 | Toray Industries, Inc. | Aggregate of carbon nanotubes, and production method therefor |
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JP2007217684A (ja) * | 2006-01-20 | 2007-08-30 | Ezaki Glico Co Ltd | 導電性コーティング用水性組成物 |
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