JP2008241992A - アライメントマークを有する構造体、それを含む組立体、デバイス、構造体の位置合わせ方法、組立体およびデバイスの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 位置合せ時に鏡面加工を施した載置台のようなアライメントマークを備えた基板以外の反射面を必要とせず、位置合わせが簡便となるアライメントマークを有する構造体、それを含む組立体、デバイス、構造体の位置合わせ方法、組立体およびデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の組立体は、透光性で屈折率が１．４１以上の素材により形成されたシート基板11と、他の基板21とを備え、シート基板11は光透過部13a内に入射光をその入射方向へ戻す十字形状に形成された光帰還部13bを備えたアライメントマーク13を有し、他の基板21は光透過部13aの形状に対応するターゲットマーク23を有し、アライメントマーク13の光帰還部13b及びターゲットマーク23の光帰還部基準突起23aの輪郭を一致させてシート基板11と他の基板21とを積層して形成されたものである。
【選択図】 図４

Description

本発明は、アライメントマークを有する構造体、それを含む組立体、デバイス、構造体の位置合わせ方法、組立体およびデバイスの製造方法に関する。

近年、高精細化が求められているデバイスとして、プロジェクターや液晶表示装置の表示部、又、印刷装置の露光部等があり、具体的には、例えば、マイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）やマイクロレンズ、有機ＥＬ素子を利用した露光ヘッド等がある。そして、これらのデバイスを製造する際には、複数の基板等の構造体や素子同士を高精度に位置合わせすることが要求される。そして、このような微細加工技術において、複数の基板、素子等を高精度に位置合わせする際に、位置合せ時の基準としてアライメントマークが利用されており、アライメントマークの形状等に関して様々な発明が提案されている。

例えば特開平１１−３５２４６８号公報（特許文献１）においては、液晶表示装置において用いられるマイクロレンズアレイの製造過程においてアライメントマークを形成し、このアライメントマークをマイクロレンズアレイの製造過程で利用する方法に関しての提案がなされている。

具体的には、精密金型で複数のマイクロレンズを形成するためのレンズ形成部材を製造する時に断面を略台形形状とするアライメントマークを同時に形成し、このレンズ形成部材を分割するため鏡面加工された台上に載置して上方から平行光を照射し、アライメントマークの傾斜面により屈折して台上に照射した後に台上において反射した光を受光装置を用いて認識することにより位置合せを行なうものである。

この特許文献１に記載の発明では、断面を略台形形状とするアライメントマークにより、台形の上面を透過して鏡面加工された台上において反射した光は受光装置に入射するため認識可能であるが、傾斜面を透過して台上において反射した光は受光装置に向かって反射されないため、この台形の上面周縁が暗くなる。この受光量の差によって位置合せを行なうことができるものである。
特開平１１−３５２４６８号公報

従来のアライメントマークでは、上述の通り、位置合わせする基板等へ照射した平行光を台上において反射する必要があるため、例えば、鏡面加工を施した載置台のようなアライメントマークを備えた基板以外に反射面が必要となり、位置合せが煩雑となる。

本発明は、上述したような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、位置合せ時にアライメントマークを備えた基板以外の反射面を必要とせず、位置合せが簡便となるアライメントマークを有する構造体、それを含む組立体、デバイス、構造体の位置合わせ方法、組立体およびデバイスの製造方法を提供することを目的としている。

本発明のアライメントマークを有する構造体は、アライメントマークが、構造体の表面に形成された凹凸によって入射光をその入射方向へ戻す光帰還部を含むことを特徴とするものである。

又、請求項１に記載のアライメントマークを有する構造体であって、光帰還部は、入射光に対して全体が４５度の傾斜角とされた傾斜面を２つ有し、入射光を一方の傾斜面において反射してこの反射された光を他方の傾斜面において反射することによって、入射光をその入射方向へ戻すことを特徴とするものである。

又、請求項１又は２に記載のアライメントマークを有する構造体であって、アライメントマークは、光帰還部が透光性を有することを特徴とするものである。

又、請求項３に記載のアライメントマークを有する構造体であって、アライメントマークは、光帰還部が屈折率が１．４１以上であることを特徴とするものである。

又、請求項１〜４のいずれか一項に記載のアライメントマークを有する構造体であって、構造体は、アライメントマークと同時に形成される凹凸形状のパターンをその表面に備えることを特徴とするものである。

又、請求項１〜５のいずれか一項に記載のアライメントマークを有する構造体であって、アライメントマークは、さらに、入射光を透過する光透過部を含むことを特徴とするものである。

本発明の組立体は、請求項１〜６のいずれか一項に記載のアライメントマークを有する構造体と、アライメントマークと対応する他のアライメントマークを備える他の構造体とが接合されたことを特徴とするものである。

又、請求項７に記載の組立体であって、他のアライメントマークは、アライメントマークの光帰還部の輪郭に沿った形状とされた部分を有することを特徴とするものである。

本発明のデバイスは、請求項７又は８に記載の組立体を含むことを特徴とするものである。

本発明の構造体の位置合わせ方法は、表面に形成された凹凸によって入射光をその入射方向へ戻す光帰還部を含むアライメントマークを有する一の構造体と、アライメントマークの光帰還部の輪郭に沿った形状とされた部分を有する他のアライメントマークを備える他の構造体と、を準備する工程と、アライメントマークと他のアライメントマークとを対応させて一の構造体と他の構造体とを重ね合わせる工程と、光帰還部と光帰還部の輪郭に沿った形状とされた部分とを位置合わせする工程と、を含むことを特徴とするものである。

本発明の組立体の製造方法は、構造体の位置合わせ方法表面に形成された凹凸によって入射光をその入射方向へ戻す光帰還部を含むアライメントマークを有する一の構造体と、アライメントマークの光帰還部の輪郭に沿った形状とされた部分を有する他のアライメントマークを備える他の構造体と、を準備する工程と、アライメントマークと他のアライメントマークとを対応させて一の構造体と他の構造体とを重ね合わせる工程と、光帰還部と光帰還部の輪郭に沿った形状とされた部分とを位置合わせした状態で一の構造体と他の構造体とを接合する工程と、を含むことを特徴とするものである。

本発明のデバイスの製造方法は、表面に形成された凹凸によって入射光をその入射方向へ戻す光帰還部を含むアライメントマークを有する一の構造体と、アライメントマークの光帰還部の輪郭に沿った形状とされた部分を有する他のアライメントマークを備える他の構造体と、を準備する工程と、アライメントマークと他のアライメントマークとを対応させて一の構造体と他の構造体とを重ね合わせる工程と、光帰還部と光帰還部の輪郭に沿った形状とされた部分とを位置合わせした状態で一の構造体と他の構造体とを接合する工程と、を含むことを特徴とするものである。

本発明によれば、アライメントマークが、構造体の表面に形成された凹凸によって入射光をその入射方向へ戻す光帰還部を含むので、位置合せ時にアライメントマークを備えた基板以外の反射面等を必要とせず、位置合せが簡便となるアライメントマークを有する構造体、それを含む組立体、デバイス、構造体の位置合わせ方法、組立体およびデバイスの製造方法を提供することができる。

本発明を実施するための最良の形態のデバイスは、透光性で屈折率が１．４１以上の素材により形成されたシート基板（構造体）11と他の基板（構造体）21とを備え、シート基板11は光透過部13a内に頂角を直角として両側面がデバイス上方から照射される光に対して全体が４５度の傾斜角とされた光帰還部13bを備えたアライメントマーク13を有し、他の基板21はアライメントマーク13の形状に対応するターゲットマーク23を有し、アライメントマーク13とターゲットマーク23を一致させてシート基板11と他の基板21とを位置合わせするとともに積層して形成されたものである。

又、アライメントマーク13の光帰還部13bは十字形状に形成され、ターゲットマーク23は、アライメントマーク13に形成された光帰還部13bの十字形状に合わせた十字形とされる十字凹部23bを形成する方形状の４つの突起が格子状に配置された光帰還部基準突起23aを備えるものである。

更に、アライメントマーク13は、光透過部13aの周縁に傾斜面14bとする光反射部13cを備え、ターゲットマーク23は、各突起が光透過部13aに対応するように格子状に配置され各突起間で十字凹部23bを形成する光帰還部基準突起23a及び全体として矩形状をなす光反射部13cの各辺部にそれぞれ対応する光反射部基準突起23cを備えるものである。

以下、本発明の実施例を図に基づいて詳説する。本発明は、有機ＥＬ素子からの発光光を送る導光管として機能する凹凸の形状パターンが形成された図１に示すようなシート基板11である構造体と有機ＥＬを含む発光素子等の複数の微細突起22が形成された図２に示すような他の基板21である構造体とを積層した組立体とこの組立体を含むデバイス及びこれらの組立体や、デバイスを製造する場合におけるシート基板11と他の基板21の位置合わせ方法に関するものである。

このシート基板11は、上述の有機ＥＬ素子におけるガラス等の透光性材料で形成された素子基板のように非常に薄い薄板であり、他の基板21は、有機ＥＬ素子における素子基板と対向して配置されるガラス又はシリコン等で形成された対向基板のように非常に薄い薄板である。これらの基板11,21には、電極や発光層及び電子輸送層等の薄膜がフォトリソプロセス等によって形成されており、これらシート基板11や他の基板21に関して精密な位置合せを行う。

本実施例のシート基板11は、図１（ａ）及び（ｂ）に示したように、精密金型或いはナノインプリントによって同時に転写された精密な位置合せを必要とする複数の微細孔12と、アライメントマーク13とを備えるものである。これら複数の微細孔12は、露光ヘッドデバイスにおいて有機ＥＬ素子からの発光光を送る導光管として機能する。又、このアライメントマーク13は、底面を平坦とした方形状の光透過部13aと、この光透過部13a内に形成された十字形状で断面をＶ字形状とする光帰還部13bと、光透過部13aの周縁に傾斜面14bとする光反射部13cとを備えるものである。

又、このアライメントマーク13は、シート基板１１表面における凹凸形状のみから形成されたものであり、光帰還部13bは、構造体11上において所定の像を得るために形成されたものであって、シート基板11に照射する光に対して傾斜した傾斜面14aを２つ有することにより断面がＶ字形状の凸部とされ、光反射部13cは、光透過部13aの周縁に形成された傾斜面14bにより凸部とされ、光透過部13aは、光帰還部13bの下端と光反射部13cの下端との間に形成された平面である。

この光帰還部13bの頂角は直角であって傾斜面14aはシート基板11への照射光に対して４５度に形成されるとともにシート基板11の平面に対して４５度に形成されており、光反射部13cを形成する傾斜面14bはシート基板11の平面との角度は４５度以上に形成されているものである。なお、傾斜面14bとシート基板11の平面との角度は４５度未満の角度であってもよい。これらのアライメントマーク13は、精密金型等或いはナノインプリントによって転写することにより微細孔12と同時に形成するものであるので、微細孔12に対する相対的な位置関係を精密に形成することができ、アライメントマーク13の形状も精密にすることができる。又、アライメントマーク13は、シート基板11と同一部材であるため、透光性を当然有しているものである。

他の基板21は、図２（ａ）及び(ｂ)に示すように、フォトリソプロセスによって同時に形成された、シート基板11の微細孔12と精密な位置合せを必要とする有機ＥＬを含む発光素子等の複数の微細突起22と、アライメントマーク13の形状に対応する他のアライメントマークとなるターゲットマーク23とを有するものである。

ここで、フォトリソプロセスとは、ガラス等の基板上に真空蒸着等によって金属等の薄膜を形成し、この薄膜上にフォトレジストをコーティングし、このフォトレジストに所望のパターンを露光によって転写し、所望のパターン以外のフォトレジストを除去した後に焼き付けを行い、このフォトレジストをマスクとして金属等の薄膜をエッチングすることにより基板上に所望のパターンを形成する方法である。

このフォトリソプロセスによって形成された他のアライメントマークとなるターゲットマーク23は、方形状の４つの突起がそれぞれ４つの光透過部13aに対応するように格子状に配置され各突起間で十字凹部23bを形成する光帰還部基準突起23aと、光帰還部基準突起23aの外方の上下左右に光帰還部基準突起23aと同時に形成されるとともに、全体として矩形状をなす光反射部13cの４つの辺部にそれぞれ対応する光反射部基準突起23cとを備えるものである。これらのターゲットマーク23は、フォトリソプロセスによって同時に形成するものであり、微細突起22とターゲットマーク23との相対的な位置関係を精密に形成することができ、ターゲットマーク23の形状も精密にすることができる。又、他の基板21上にフォトリソプロセスによって形成された微細突起22及びターゲットマーク23における光の反射率は、この他の基板21の他の領域における光の反射率と異なっているので、光の反射によって微細突起22及びターゲットマーク23のパターンに対応する像が形成される。

これらのターゲットマーク23はアライメントマーク13の光透過部13aと対応する形状のため、シート基板11と他の基板21との位置合せにおいて、これらのマーク13,23を重ね合わせることにより微細孔12と微細突起22とを精密に位置合せすることができるものである。なお、後述するように、より具体的には、光帰還部13b及び光帰還部基準突起23aの輪郭を一致させることによって、シート基板11と他の基板21とを位置合わせする。

次に、シート基板11と他の基板21の位置合せにおける、アライメントマーク13及びターゲットマーク23の認識方法に関して述べる。本実施例における位置合せにおいては、図３に示すように、シート基板11及び他の基板21の上方に配置され各基板に対して垂直な平行光を射出すると共に反射光を認識する受光装置30と、図示しないが、シート基板11の位置を調整する位置調整装置とを用いるものである。

図３に示したように、シート基板11と他の基板21をアライメントマーク13とターゲットマーク23とが対向するように配置し、シート基板11の上方、つまりアライメントマーク13が形成された面と対向する面の上方から平行光をアライメントマーク13に向けてシート基板11に対して垂直に照射した場合、図において実線で示す光透過部13aに照射された光は、光透過部13aを透過して他の基板21上に照射され、他の基板21上に形成されたターゲットマーク23及び他の基板21によって反射され、再び光透過部13aを透過し受光装置30に入射する。このとき、ターゲットマーク23と他の基板21とでは反射率が異なるため、図４に示すように、受光装置30に形成される反射像はターゲットマーク23に対応するものとして認識される。

又、図３において破線で示すアライメントマーク13の光帰還部13bに照射される光は、光帰還部13bの一方の傾斜面14aにおいて反射して対向する傾斜面14aに照射され、この対向する傾斜面14aにおいて再び反射して受光装置30に戻る。また、光帰還部13bの他方の傾斜面14aに照射された光も、同様に、受光装置30に戻る。このように、光帰還部13bに入射した光は、傾斜面14aにおいて反射されて受光装置30に戻るので、光帰還部13bは明るい反射像として認識される。

更に、図３において一点鎖線で示す光反射部13cの傾斜面14bに照射される光は、傾斜面14bにおいて反射して外部に射出され、乱反射によりその一部のみが受光装置30に戻るので、光透過部13aよりも明るく、光帰還部13cよりも暗い反射像として認識される。

そして、このように認識したアライメントマーク13の光帰還部13b及びターゲットマーク23の光帰還部基準突起23aの輪郭が互いに一致するように位置調整装置で調整することにより、シート基板11の微細孔12と他の基板21の微細突起22の位置合せを行なうことができるものである。

尚、シート基板11の屈折率を１．４１以上にすることにより臨界角が４５度以下となる。本実施例において、アライメントマーク13の光帰還部13bに照射される光の照射角度は４５度であるため、光帰還部13bの一方の傾斜面14aに照射された光は、その傾斜面14aにおいて全反射されて他方の傾斜面14bに入射され、その傾斜面14bにおいて再び全反射されて照射光の入射方向、即ち、受光装置30の方へ戻される。同様に、光帰還部13bの他方の傾斜面14bに照射された光も照射光の入射方向へ戻される。従って、本実施例においては、光帰還部13bに照射された全ての光を受光装置30に入射させることができる。これにより光帰還部13bが最も明度がより高く認識されるため、ターゲットマーク23とは明確に区別することができる。

本発明によれば、アライメントマーク13に入射光をその入射方向へ戻す光帰還部13bを形成することにより、鏡面加工を施した載置台のようなアライメントマークを備えた基板以外の反射面等が無くてもアライメントマーク13を視認することができるため位置合せが簡便となる。又、アライメントマーク13をシート基板１１の凹凸形状のパターンだけで形成しているため製造が容易である。又、光帰還部13bはその頂角を直角とし、両側面14a,14aを入射光に対して４５度の傾斜角となるようにし、光帰還部13bへの照射光がその照射方向へ戻すようにしたので、光帰還部13bの輪郭形状を明確に認識することができる。更に、光帰還部13bを十字形状とすることにより、一つのアライメントマークで、縦及び横両方の位置合せを行なうことができる。

又、光透過部13aを方形状とし、周縁に光反射部13cとする傾斜面14bを形成することにより、光帰還部13bを認識する場合に光帰還部13bとの明暗を明確にすることができる。更に、シート基板11を屈折率が１．４１以上の部材を用いて形成することにより、光帰還部13bに照射した光を全反射させることができるため、シート基板11上に受光装置30が存在するかのように非常に明るい光を射出することができ、アライメントマーク13の視認が容易となる。

そして、アライメントマーク13の位置合せの基準となるターゲットマーク23を他の基板21に形成することにより、シート基板11を正確に位置合せすることができる。又、光帰還部13bのターゲットとなるターゲットマーク23を光帰還部基準突起23aによって形成することで、他の基板21上に形成する有機ＥＬを含む発光素子等の微細突起22を形成するときに同時に光帰還部基準突起23aを形成できるため製造が容易となり、微細突起22との位置関係も精密に形成することができる。

又、アライメントマーク13の光反射部13cのターゲットとなる比較的大きい長方形の光反射部基準突起23cを、光帰還部基準突起23aの外方の上下左右に光反射部13cの幅と等しい幅の間隔を隔てて比較的小さい光帰還部基準突起23aと同時に形成することにより、最初に比較的大きい光反射部13cを利用して大まかな位置合せを行ない、その後比較的小さい光帰還部13bによって精密な位置合せをすることができるため、位置合せが容易となる。

そして、本実施例のアライメントマーク13及びターゲットマーク23による位置合せは、プロジェクタで利用される透過型ＬＣＤの開口率に起因した光透過率を改善するためにＬＣＤシャッターの各ピクセルに対してマイクロレンズ基板を配置したデバイスの接合、光通信機器等における発光部及び受光センサ部の基板にインプリント等で形成されたレンズ基板や導波路基板との接合、バイオ関連等でバイオセンサ基板とインプリントにて形成されたマイクロ流路基板等の接合、半導体レーザー等の回折光学素子等の接合、又集積型半導体とレンズ基板等の精密接合、表示デバイスにおける３Ｄ効果レンズ配置や各種表示視認性向上反射基板レンズ基板等の接合等様々な分野で利用できるものである。

尚、本実施例において、光帰還部13bの頂角を直角とし、両側面14a,14aを入射光に対して４５度の傾斜角となるようにし、傾斜面14aとシート基板11の平面との間でなす角度を４５度とすることにより、受光装置30に垂直に入射する光を射出することができると述べたが、傾斜面14aにおいて反射した光線束が受光装置30に入射する角度であれば光帰還部13bを認識することは可能であるため、この光帰還部13bの頂角は直角に限るものではなく、又、両側面14a,14aは入射光に対して４５度の傾斜角に限るものではない。

又、アライメントマーク13に光反射部13cを形成し、ターゲットマーク23にも比較的大きい光反射部基準突起23cを形成することにより、最初に光反射部13cを利用して大まかな位置合せを行ない、その後比較的小さい光帰還部13bによって精密な位置合せをすることができるため、位置合せが容易となるとしているが、光反射部13c等を形成せずに光帰還部13bを形成するのみでも精密な位置合せができることは言うまでもない。

また、上述した技術は、ナノインプリント技術を利用した他のデバイス及びそれらの製造方法にも適用できる。例えば、プロジェクタで利用される透過型の液晶表示装置の開口率に起因した光透過率を改善するためにシャッターとして機能する各画素に対してマイクロレンズ基板を配置したデバイスや、光通信機器等に利用されるデバイスで発光部又は受光センサ部の基板にインプリント等で形成されたレンズ基板や導波路基板との接合や、バイオセンサ基板とインプリントにて形成されたマイクロ流路基板等を接合したバイオチップや、半導体レーザー等の回折光学素子等の接合や、集積型半導体とレンズ基板等の精密接合等の、高精度な位置合わせが要求される様々な技術に適用することができる。

尚、本発明は、以上の実施例に限定されるものでなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で自由に変更、改良が可能である。

本発明の実施例に係るシート基板の上面図及び断面図。 本発明の実施例に係る他の基板の上面図及び断面図。 本発明の実施例に係るシート基板及び他の基板の位置合せ時の部分拡大断面図。 本発明の実施例に係るシート基板及び他の基板の位置合せ時の上面図。

符号の説明

11 シート基板（構造体） 12 微細孔
13 アライメントマーク 13a 光透過部
13b 光帰還部 13c 光反射部
14a 傾斜面 14b 傾斜面
21 他の基板（構造体） 22 微細突起
23 ターゲットマーク 23a 光帰還部基準突起
23b 十字凹部 23c 光反射部基準突起
30 受光装置

Claims (12)

1. アライメントマークを有する構造体であって、
   前記アライメントマークは、前記構造体の表面に形成された凹凸によって入射光をその入射方向へ戻す光帰還部を含むことを特徴とするアライメントマークを有する構造体。
2. 請求項１に記載のアライメントマークを有する構造体であって、
   前記光帰還部は、前記入射光に対して全体が４５度の傾斜角とされた傾斜面を２つ有し、前記入射光を一方の傾斜面において反射してこの反射された光を他方の傾斜面において反射することによって、前記入射光をその入射方向へ戻すことを特徴とするアライメントマークを有する構造体。
3. 請求項１又は２に記載のアライメントマークを有する構造体であって、
   前記アライメントマークは、前記光帰還部が透光性を有することを特徴とするアライメントマークを有する構造体。
4. 請求項３に記載のアライメントマークを有する構造体であって、
   前記アライメントマークは、前記光帰還部が屈折率が１．４１以上であることを特徴とするアライメントマークを有する構造体。
5. 請求項１〜４のいずれか一項に記載のアライメントマークを有する構造体であって、
   前記構造体は、前記アライメントマークと同時に形成される凹凸形状のパターンをその表面に備えることを特徴とするアライメントマークを有する構造体。
6. 請求項１〜５のいずれか一項に記載のアライメントマークを有する構造体であって、
   前記アライメントマークは、さらに、入射光を透過する光透過部を含むことを特徴とするアライメントマークを有する構造体。
7. 請求項１〜６のいずれか一項に記載のアライメントマークを有する構造体と、
   前記アライメントマークと対応する他のアライメントマークを備える他の構造体とが接合された組立体。
8. 請求項７に記載の組立体であって、
   前記他のアライメントマークは、前記アライメントマークの前記光帰還部の輪郭に沿った形状とされた部分を有することを特徴とする組立体。
9. 請求項７又は８に記載の組立体を含むデバイス。
10. 表面に形成された凹凸によって入射光をその入射方向へ戻す光帰還部を含むアライメントマークを有する一の構造体と、前記アライメントマークの前記光帰還部の輪郭に沿った形状とされた部分を有する他のアライメントマークを備える他の構造体と、を準備する工程と、
    前記アライメントマークと前記他のアライメントマークとを対応させて前記一の構造体と前記他の構造体とを重ね合わせる工程と、
    前記光帰還部と前記光帰還部の輪郭に沿った形状とされた部分とを位置合わせする工程と、を含むことを特徴とする構造体の位置合わせ方法。
11. 表面に形成された凹凸によって入射光をその入射方向へ戻す光帰還部を含むアライメントマークを有する一の構造体と、前記アライメントマークの前記光帰還部の輪郭に沿った形状とされた部分を有する他のアライメントマークを備える他の構造体と、を準備する工程と、
    前記アライメントマークと前記他のアライメントマークとを対応させて前記一の構造体と前記他の構造体とを重ね合わせる工程と、
    前記光帰還部と前記光帰還部の輪郭に沿った形状とされた部分とを位置合わせした状態で前記一の構造体と前記他の構造体とを接合する工程と、を含むことを特徴とする組立体の製造方法。
12. 表面に形成された凹凸によって入射光をその入射方向へ戻す光帰還部を含むアライメントマークを有する一の構造体と、前記アライメントマークの前記光帰還部の輪郭に沿った形状とされた部分を有する他のアライメントマークを備える他の構造体と、を準備する工程と、
    前記アライメントマークと前記他のアライメントマークとを対応させて前記一の構造体と前記他の構造体とを重ね合わせる工程と、
    前記光帰還部と前記光帰還部の輪郭に沿った形状とされた部分とを位置合わせした状態で前記一の構造体と前記他の構造体とを接合する工程と、を含むことを特徴とするデバイスの製造方法。

Images