JP2008241469A - 欠陥検査装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】光学異方性をもつ薄膜を成膜したシートを走行させながら、薄膜中の欠陥部によって幅方向に偏りをもって放射される変調光を高精度に検出する。
【解決手段】光源3からの拡散光を偏光子4で直線偏光に変換して位相差フイルム2の検査光に用いる。凸レンズ6と光学系9及び絞り28により、物体側でテレセントリックとなる結像光学系を構成する。位相差補償膜2に欠陥部Xが存在すると、その部分からの変調光Sが検光子7を通ってラインセンサ10に結像される。変調光Sが位相差フイルム2の幅方向に偏った分布をもつことに対応して絞り28の開口を光軸Pに関して非対称にし、変調光Sの検出感度を高める。
【選択図】図3
【解決手段】光源3からの拡散光を偏光子4で直線偏光に変換して位相差フイルム2の検査光に用いる。凸レンズ6と光学系9及び絞り28により、物体側でテレセントリックとなる結像光学系を構成する。位相差補償膜2に欠陥部Xが存在すると、その部分からの変調光Sが検光子7を通ってラインセンサ10に結像される。変調光Sが位相差フイルム2の幅方向に偏った分布をもつことに対応して絞り28の開口を光軸Pに関して非対称にし、変調光Sの検出感度を高める。
【選択図】図3
Description
本発明は、ベースシートに塗布された薄膜中に存在する欠陥を光学的に検査する装置に関するもので、詳しくは光学異方性をもつ薄膜中の欠陥を検出する上で効果的な欠陥検査装置に関するものである。
液晶ディスプレイはテレビジョン受像機や携帯電話機の表示パネルなどに広く利用されているが、TN液晶やSTN液晶のように液晶分子のねじれ配向を利用した液晶ディスプレイは適正に観察できる視野角が狭く、斜め方向から見たときに表示画像が見にくくなるという欠点がある。この欠点を解決するために位相差フイルムが商品化され、これを液晶ディスプレイの表示画面に積層することによって視野角が大幅に改善されることが知られている。
上述した位相差フイルムは、TAC(トリアセチルセルロース)フイルムなどの透明な支持体上に液状の光学異方性材料を塗布し乾燥させることによって製造される。光学異方性材料には例えばディスコティック液晶が用いられ、使用対象となる液晶パネルの種類に応じた配向をもつように製膜される。こうして製造された位相差フイルムは、特許文献1で知られるような検査装置により光学的に検査され、製膜された位相差補償膜に欠陥が生じていないか否かが検査される。
特開平11−281587号公報
特許文献1記載の光学検査装置の概略を図6に示す。位相差フイルム2は透明な支持体2aの表面に位相差補償膜2bを製膜したもので、この位相差フイルム2は紙面と垂直な方向に一定の速さで送られる。位相差フイルム2の裏面側に光源3と偏光子4とからなる照明系が設置され、位相差フイルム2の裏面側から検査光を照射する。光源3は白色の拡散光を放射し、この拡散光は偏光子4を通過するときに直線偏光光となって位相差フイルム2を裏面から照明する。
位相差フイルム2の表面側には、凸レンズ6、検光子7、ラインセンサカメラ8からなる測定光学系が設置され、凸レンズ6はラインセンサカメラ8の光学系9と協同して物体側でテレセントリック系となるように構成されている。偏光子4に対して検光子7はクロスニコル配置され、位相差補償膜2bに欠陥がなければ位相差フイルム2を通過した直線偏光光(検査光)は凸レンズ6を通った後に検光子7でそのほとんどが遮断され、ラインセンサカメラ8から有意の光電信号が得られることはない。なお、位相差フイルム2が広幅で一対の照明系と測定光学系だけではカバーしきれない場合には、例えば照明系は位相差フイルム2の全幅に対応できるように大きくし、測定光学系については位相差フイルム2の幅方向に複数対並列させて各々の測定光学系で位相差フイルム2を幅方向に分けて測定すればよい。
位相差補償膜2bの製膜工程中の異常により欠陥部が生じ、光学異方性材料の配向方向に部分的な乱れが現れると、位相差補償膜2bを検査光が通過するときに直線偏光光が変調を受け、例えば楕円偏光のように直線偏光以外の偏光成分をもつ変調光が検査光に含まれるようになる。こうした変調光は検光子7で遮断することができないため、変調光はさらにラインセンサカメラ8の光学系9を通ってラインセンサ10に入射する。凸レンズ6と光学系9とはテレセントリックな結像光学系を構成しているから、欠陥部からの変調光はラインセンサ10の光電面上に輝点として結像され、その結像位置は位相差フイルム2の幅方向での位置に精確に対応する。したがってこの検査装置を用いることによって、位相差フイルム2を連続的に走行させながらリアルタイムで欠陥部の有無を識別し、さらに欠陥部の幅方向での位置を測定することも可能となる。
ところで位相差フイルムに生じる欠陥部、殊に位相差補償膜がもつ光学異方性に起因する特有のものとして、変調光を空間的な偏りをもって放射させる欠陥部が生じることがある。図7はその様子を表すもので、同図(A)に示すように、位相差フイルム2の走行方向を紙面に対して垂直にとったとき、位相差フイルム2の幅方向の一方の側に変調光Sが偏って放射される欠陥部Xがある。また、位相差フイルム2の走行方向を紙面と平行に図示した同図(B)に示すように、この欠陥部Xからの変調光Sは位相差フイルム2の走行方向に関しては偏りなく放射される。
このような欠陥部Xの有無は図6に示す従来装置でも検査可能であるが、SN比を高くとれないという難点がある。というのは、偏光子4による直線偏光光への変換効率や、偏光子4に対してクロスニコル配置された検光子7による直線偏光光の遮断効率は必ずしも100%ではない。このため、仮に位相差フイルム2に上述のような欠陥部Xが存在しない場合であっても、位相差フイルム2から出射する検査光の一部がラインセンサ10に入射してしまい、ラインセンサ10からの光電信号出力は定常的なノイズ成分を含むものとなる。したがって、欠陥部Xによる変調光がラインセンサ10に入射したときには、変調光の入射に伴う欠陥信号がノイズ成分に重畳されることになるため、欠陥信号のレベルがノイズ成分の信号レベルよりも十分に大きければ欠陥部Xの検出は可能になるが、位相差フイルム2の品質をより向上させるために、より低レベルの欠陥信号でもノイズ成分から弁別して検出したいという要請に対しては対応が難しい。
本発明は上記背景を考慮してなされたもので、従来装置の測定光学系を大きく変更することなく、またラインセンサカメラを含む電気的構成や信号処理系を何ら複雑化させることなく、位相差フイルムの位相差補償膜に含まれる欠陥部の存在を精度よく検出することができるようにした検査装置を提供することを目的とする。
本発明は上記目的を達成するために、光学異方性をもつ薄膜を透明な支持体上に製膜した帯状のシートを走行させ、偏光子を通した拡散光で前記シートの一方の面を照明し、前記シートの他方の面から出射した検査光を前記偏光子に対してクロスニコル配置された検光子及び結像光学系を介して前記シートの幅方向に画素の配列方向を合わせたラインセンサ上に結像させ、このラインセンサから得られる光電信号に基づいて前記薄膜に欠陥部が存在するか否かを検査するにあたり、前記結像光学系を物体側でテレセントリックな光学系で構成するとともに、この物体側テレセントリック光学系の絞りの開口を前記シートの幅方向に関して非対称にしたことを特徴とする。
また、前記検光子、物体側テレセントリック光学系及びラインセンサからなる測定光学系を前記シートの幅方向に複数個並べて配置し、各々の測定光学系が前記シートの幅方向の異なる領域を検査する構成を採ることによって、測定光学系を大型化させることなく広幅のシートをその全幅にわたって検査することができる。物体側テレセントリック光学系の絞り開口を前記シートの幅方向に関して光軸の片側だけに設けることも可能である。
本発明によれば、光学異方性をもつ薄膜に存在する欠陥部の影響により、検査光が変調を受けてシートの幅方向の片側に偏って放射されるときに、特に検査用の測定光学系に大幅な変更を加えることなく、欠陥部からの変調光をノイズ光と弁別して高感度に検出することができるようになり、検査精度を高めることが可能となる。
本発明を適用した検査装置20は、図1に示すように、透明な支持体2aに位相差補償膜2bを製膜する製膜装置21の下流側に設けられ、製膜工程で異常が発生していないかをリアルタイムで監視する目的で用いられている。製膜装置21は、一定の速さで矢印Y方向に走行する透明な支持体2aの表面に液状のディスコティック液晶を一定の配向に揃えながら塗布して乾燥処理する。こうして製膜された位相差補償膜2bに欠陥部、特に製膜装置21の内部処理工程に起因する特有の欠陥部が生じると、図7(A),(B)に示すような独特の変調光Sが現れるようになるが、この種の欠陥部の有無が検査装置20によって検査される。検査装置20は、白色の拡散光を放射する光源3と偏光子4とからなる照明系24と、位相差フイルム2の表面に対面させた凸レンズ6、検光子7、ラインセンサカメラ8とからなる測定光学系25で構成されている。
図2に示すように、凸レンズ6は平面形状が位相差フイルム2の幅方向に細長い矩形状をしており、共通の支持プレート6a上に5個保持されている。各々の凸レンズ6に対応して検光子7が設けられ、さらに検光子7を通った検査光を撮影するラインセンサカメラ8がそれぞれ設けられる。これらの測定光学系25は、位相差フイルム2を幅方向に5つの領域に分割して個別に欠陥部の有無を検査する。また、図示のように測定光学系25をひとつおきに位相差フイルム2の走行方向にずらしておくことによって、全体の設置スペースを節約することができる。なお、位相差フイルム2の幅方向に関してその監視範囲が欠けることがないように、隣接し合う測定光学系25の検査範囲を幅方向で一部オーバーラップさせておくのがよい。
位相差フイルム2の走行方向を紙面と垂直な方向にしたときの上記測定光学系25の構成を図3に示す。測定光学系25は、凸レンズ6と検光子7とラインセンサカメラ8とからなり、凸レンズ6はラインセンサカメラ8の光学系9と協同して主光線が集束する面に絞り28を有する物体側テレセントリック系を構成している。このため、位相差フイルム2の表面の各点からの主光線はすべて光軸Pと平行に凸レンズ6に入射し、絞り28の位置で光軸Pと交差してラインセンサ10に達する。ラインセンサ10の画素の配列方向は位相差フイルム2の幅方向に一致しており、したがって位相差フイルム2の幅方向の各点から出射した検査光はそれぞれラインセンサ10の異なる画素位置に結像される。
上記測定光学系25で特徴的な点のひとつは、物体側テレセントリック系の絞り28が、図4(A)に示すように位相差フイルム2の幅方向で光軸Pに関して非対称な開口28aをもつことにある。同様の意味で、図4(B)の開口28bを用いたり、さらには同図(C)に示すように絞り28に代えて光軸Pの片側だけを遮蔽するマスク29を用いたりすることも可能である。また、光軸Pに関して位相差フイルム2の幅方向のいずれの側で絞り28の開口を大きくするかは、図7(A)に示すように変調光Sの偏り方向に応じて決められる。
ラインセンサ10はCCDによる電荷転送機能を備え、駆動回路29からの駆動パルスを受けることによって、画素ごとに得た光電信号を信号処理回路30に順次に出力する。信号処理回路30は、測定に悪影響を及ぼす周波数帯域の信号を遮断するバンドパスフィルタ31と、バンドパスフィルタ31から出力された測定に有意な光電信号を予め設定した閾値に基づいて二値化する二値化回路32を備え、この二値化回路32で抽出された信号が欠陥信号として出力される。
以下、本発明装置の作用について説明する。図3に示すように、位相差フイルム2が紙面と垂直方向に走行するとき、位相差補償膜2bに図7(A),(B)に示すような欠陥部Xが全く存在しなかった場合には、位相差フイルム2の裏面を照射する検査光に変調が加わることがない。したがって、偏光子4で直線偏光に変換された検査光はそのまま測定光学系25の凸レンズ6を通って検光子7に達する。検光子7は偏光子4に対してクロスニコル配置となっているから、検査光はラインセンサカメラ8に入射する前に検光子7で遮断され、ラインセンサ10から有意の光電信号が出力されることはない。
一方、位相差補償膜2bに図7に示す欠陥部Xが存在する場合には、図3にも示すように、偏光子4で直線偏光となった検査光が欠陥部Xで変調され、本来の直線偏光とは異なった偏光面をもった変調光Sが出射する。しかもこの変調光Sは、図示のように位相差フイルム2の幅方向右側に偏りをもって出射する。この変調光Sは、位相差補償膜2bの非欠陥部分を通過した正常な検査光とともに凸レンズ6に入射して検光子7に至る。
そして、変調を受けていない非欠陥部分からの検査光は前述のように検光子7で遮断されるが、変調光Sは検光子7で遮断できない偏光面となっているため、検光子7を通過してラインセンサカメラ8の光学系9、絞り28を通ってラインセンサ10上に結像される。変調光Sの結像位置は位相差フイルム2の幅方向における欠陥部Xの位置に一対一に対応するから、ラインセンサ10からの光電信号に基づき、位相差フイルム2の幅方向のどの位置に欠陥部Xが存在しているかを識別することができる。
ところで、図4(A)に示すように、位相差フイルム2の幅方向で絞り28の開口28aは変調光Sが多く放射される側で大きく、逆側で小さくなるように光軸Pに関して非対称にしてあるため、変調光Sが少ない側では変調光Sは絞り28によって制限されラインセンサ10に入射しない。したがって、光軸Pに関して位相差フイルム2の幅方向で対称となる通常の絞りを用いた場合と較べ、ラインセンサ10に入射する変調光Sの光量はわずかながら小さくなる。しかしながら、非対称な開口28aをもつ絞り28を用いることにより、位相差フイルム2から方向性なく放射されるノイズ光は絞り開口を小さくした分だけ光量が低下するため、図5に示すように相対的に欠陥部Xから出射する変調光Sの検出精度を高めることが可能となる。
図5は、二値化回路32に入力される出力信号レベルの変化を位相差フイルム2の幅方向位置に対応させて表したもので、光軸Pに関して対称な通常の絞りを用いたときの出力信号K1と、上記絞り28を用いたときの出力信号K2とを対比して示してある。位相差フイルム2の幅方向の「W0〜W1」と「W2〜W3」の範囲は欠陥部Xのない非欠陥範囲で、「W1〜W2」と「W3〜W4」の範囲には欠陥部Xが存在している。そして二値化回路32は、これらの出力信号K1,K2の信号レベルが閾値L1,L2を越えたときに欠陥信号を出力する。
光軸Pに関して対称な開口形状をもつ通常の絞りを用いた場合には、出力信号K1に表されるように非欠陥範囲「W0〜W1」と「W2〜W3」での信号レベルが高くなり、範囲「W1〜W2」の欠陥部Xの存在は閾値L1で検出できるものの、範囲「W3〜W4」の欠陥部Xは検出しにくくなっている。閾値L1のレベルを図示位置よりも低く設定すれば、範囲「W3〜W4」の欠陥部Xも検出できそうであるが、そうすると非欠陥範囲「W0〜W1」,「W2〜W3」からの出力信号レベルが外乱などによりわずかに変動しただけでこの範囲からも欠陥信号が出力され、動作が著しく不安定になる。したがって、閾値L1を図示のように高めに設定しなければならず検査精度の低下が避けられない。
これに対し、光軸Pに関して非対称な開口形状をもつ絞り28を用いた場合には、非欠陥範囲からの出力信号レベルがほぼ半減し、しかも欠陥部Xの存在により位相差フイルム2から幅方向に偏って出射される変調光Sについては、そのほとんどを図3に破線ハッチングを施した光路内に捕捉してラインセンサ10に入射させることができる。したがって出力信号K2に表されるように、欠陥部Xからの信号レベルをほとんど低下させることなく非欠陥範囲からの信号レベルを低く抑えることができ、閾値L2の設定により「W1〜W2」と「W3〜W4」の範囲に存在する陥部Xを的確に識別することができる。また、欠陥部Xによる出力信号のピーク位置は変動することがないから、欠陥部Xの幅方向置も正確に把握することができる。
上記の測定光学系25を図2に示すように5台配置し、位相差フイルム2を連続的に矢印Y方向に走行させながら欠陥信号の有無を監視することによって、製膜装置21が正常な工程処理を行っているかをリアルタイムで確認することができる。いずれかの測定光学系25により欠陥部Xの存在が検出されたときには、その時点で製膜装置21への支持体2aの供給を停止し、欠陥部Xの幅方向における位置に基づいて製膜装置21の点検・修理を行えばよい。
なお、物体側でテレセントリックな結像光学系により位相差フイルム2の表面をラインセンサ10で撮影するため、位相差フイルム2の走行時に凸レンズ6との間隔が多少変動したとしても検査精度にはほとんど影響を及ぼすことがない。さらに欠陥部Xの幅方向位置の測定精度を向上させるには、図3に示すように、光学系9に色消しレンズ9aを用いることによって、色収差による結像性能の劣化を防ぐことも効果的である。
本発明装置は必ずしも位相差フイルムの検査だけでなく、一方の面に直線偏光となった検査光を照射したとき、光学異方性をもつ薄膜内の欠陥部によって検査対象物の走行方向に対して垂直な面内(幅方向)で変調光が片側に偏って放射されるようなシートあるいはパネルであれば同様に適用可能である。さらに、光学異方性をもつ薄膜としては有機系のものだけでなく、例えば蒸着やスパッタリングで成膜した無機系の薄膜でもよい。
2 位相差フイルム
3 光源
4 偏光子
6 凸レンズ
7 検光子
8 ラインセンサカメラ
10 ラインセンサ
24 照明系
25 測定光学系
28 絞り
3 光源
4 偏光子
6 凸レンズ
7 検光子
8 ラインセンサカメラ
10 ラインセンサ
24 照明系
25 測定光学系
28 絞り
Claims (3)
- 透明な支持体上に光学異方性をもつ薄膜を形成した帯状のシートを走行させ、その一方の面に検査光を照射し、その他方の面から出射した検査光を監視して前記薄膜に欠陥部が存在するか否かを検査する欠陥検査装置において、
拡散光を放射する光源及び、前記拡散光を直線偏光に変換する偏光子を備え、前記偏光子を通った光を前記検査光として前記シートの一方の面に照射する照明系と、
前記シートの他方の面から出射した検査光を前記シートの幅方向に画素の配列方向を合わせたラインセンサ上に結像させる物体側でテレセントリックな結像光学系及び、前記シートの他方の面と前記ラインセンサとの間に設けられ前記偏光子に対してクロスニコル配置された検光子を備えた測定光学系とを有し、
前記結像光学系の絞りの開口を前記シートの幅方向で光軸に関して非対称にしたことを特徴とする欠陥検査装置。 - 前記絞りの開口が、前記シートの幅方向に関して光軸の片側だけに設けられていることを特徴とする請求項1記載の欠陥検査装置。
- 前記測定光学系が前記シートの幅方向に複数個並べて配置され、これらの測定光学系が前記シートの幅方向の異なる領域をそれぞれ検査することを特徴とする請求項1または2記載の欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007082682A JP2008241469A (ja) | 2007-03-27 | 2007-03-27 | 欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2007082682A JP2008241469A (ja) | 2007-03-27 | 2007-03-27 | 欠陥検査装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2008241469A true JP2008241469A (ja) | 2008-10-09 |
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Family Applications (1)
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JP (1) | JP2008241469A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102680472A (zh) * | 2012-05-02 | 2012-09-19 | 明基材料有限公司 | 薄膜检测方法及检测装置 |
US8462328B2 (en) | 2008-07-22 | 2013-06-11 | Orbotech Ltd. | Efficient telecentric optical system (ETOS) |
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2007
- 2007-03-27 JP JP2007082682A patent/JP2008241469A/ja active Pending
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US8462328B2 (en) | 2008-07-22 | 2013-06-11 | Orbotech Ltd. | Efficient telecentric optical system (ETOS) |
CN102680472A (zh) * | 2012-05-02 | 2012-09-19 | 明基材料有限公司 | 薄膜检测方法及检测装置 |
CN102680472B (zh) * | 2012-05-02 | 2014-04-02 | 明基材料有限公司 | 薄膜检测方法及检测装置 |
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