JP2008241194A - 加熱炉 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】セラミック粒子の粒子径及びそれぞれの並べ方を制御して、面内周期性及び積層周期性を持つように積層した微細構造1を表面に形成して、特定波長の反射率を向上させた熱反射板を備える加熱炉。
【選択図】図1
Description
(1)炉壁周りに断熱材を追設するスペースが必要となる。
(2)炉壁外面に断熱材を取り付けた場合、その保温効果により炉壁外面が高温になり、材料劣化、強度低下を引き起こす場合がある。
そこで、この改善策として、断熱材に代わって内面に熱反射板を取り付けることが提案されている。
セラミック粒子の粒子径及びそれぞれの並べ方を制御して積層することにより、特定波長の反射率を向上させた熱反射板を備えることを特徴とする。
また、前記セラミック粒子を均一な粒子径とし、面内周期性及び積層周期性を持つように積層することにより、前記特定波長の反射率を向上させた熱反射板を備えることを特徴とする。
また、前記特定波長をヒータの放射スペクトルピークに合わせた熱反射板を備えることを特徴とする。
また、前記セラミック粒子として、誘電率の異なる何種類かの粒子を用いて形成することにより、前記特定波長の反射率を向上させた熱反射板を備えることを特徴とする。
また、前記セラミック粒子として、中実粒子の層と中空粒子の層で形成することにより、前記特定波長の反射率を向上させ、かつ熱伝導率も低減させた熱反射板を備えることを特徴とする。
さらに、前記中実粒子は直径1〜10μm程度、前記中空粒子は直径300nm以下程度の中空を持つ直径1μm程度以下の粒子であることを特徴とする。
2・・・表面を鏡面仕上げした基板
3・・・直径2μmのシリカ粒子による周期構造の厚さが3層の反射スペクトル
4・・・直径2μmのシリカ粒子による周期構造の厚さが5層の反射スペクトル
5・・・直径2μmのシリカ粒子による周期構造の厚さが8層の反射スペクトル
6・・・直径2μmのシリカ粒子による周期構造の厚さが10層の反射スペクトル
7・・・直径3μmのシリカ粒子による周期構造の厚さが3層の反射スペクトル
8・・・直径3μmのシリカ粒子による周期構造の厚さが5層の反射スペクトル
9・・・直径3μmのシリカ粒子による周期構造の厚さが8層の反射スペクトル
10・・・直径3μmのシリカ粒子による周期構造の厚さが10層の反射スペクトル
11・・・周期構造をもつ基板
12・・・セラミックヒーター
13・・・サーモパイル
14・・・スライダック
15・・・プリアンプ
16・・・オシロスコープ
17・・・熱電対
18・・・データーロガー
19・・・計算されたセラミックヒーターの放射強度スペクトル
20・・・直径2μmのシリカ粒子による周期構造の厚さが10層の反射スペクトル
21・・・直径3μmのシリカ粒子による周期構造の厚さが10層の反射スペクトル
22・・・セラミックヒーターからサーモパイルまで直接輸送される熱流束
23・・・直径3μmのシリカ粒子による周期構造(厚さ10層)
24・・・直径2μmのシリカ粒子による周期構造(厚さ10層)
25・・・炉壁
26・・・ヒータ
27・・・炉心管
28・・・被加熱物
29・・・微粒子の微細構造を作製した熱反射板
30・・・熱反射板固定用ボルト
31・・・熱反射板固定用ナット1
32・・・熱反射板固定用ナット2
33・・・炉心管閉止用フランジ
34・・・中実粒子の積層構造
35・・・中空粒子の積層構造
Claims (6)
- セラミック粒子の粒子径及びそれぞれの並べ方を制御して積層することにより、特定波長の反射率を向上させた熱反射板を備えることを特徴とする加熱炉。
- 前記セラミック粒子を均一な粒子径とし、面内周期性及び積層周期性を持つように積層することにより、前記特定波長の反射率を向上させた熱反射板を備えることを特徴とする請求項1に記載の加熱炉。
- 前記特定波長をヒータの放射スペクトルピークに合わせた熱反射板を備えることを特徴とする請求項1に記載の加熱炉。
- 前記セラミック粒子として、誘電率の異なる何種類かの粒子を用いて形成することにより、前記特定波長の反射率を向上させた熱反射板を備えることを特徴とする請求項1に記載の加熱炉。
- 前記セラミック粒子として、中実粒子の層と中空粒子の層で形成することにより、前記特定波長の反射率を向上させ、かつ熱伝導率も低減させた熱反射板を備えることを特徴とする請求項1に記載の加熱炉。
- 前記中実粒子は直径1〜10μm程度、前記中空粒子は直径300nm以下程度の中空を持つ直径1μm程度以下の粒子であることを特徴とする請求項5に記載の加熱炉。
Priority Applications (1)
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JP2007084825A JP2008241194A (ja) | 2007-03-28 | 2007-03-28 | 加熱炉 |
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2007
- 2007-03-28 JP JP2007084825A patent/JP2008241194A/ja active Pending
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