JP2008226897A - ウェーハ面取り装置、及びウェーハ面取り方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】ウェーハの洗浄時間を短縮し、効率的で高品質な面取り加工を可能にするウェーハ面取り装置及びウェーハ面取り方法を提供すること。
【解決手段】ウェーハWの一端を入れることが可能な開口部2Aが形成されているケース2により砥石の周囲を囲い、開口部2Aの前にノズル6により液体3を平面状に噴射して砥石の設けられているケース2の内部と、ウェーハWがウェーハテーブルに保持されているケース2の外部とを隔離しながらウェーハWの外周面を切削する。
【選択図】図2
【解決手段】ウェーハWの一端を入れることが可能な開口部2Aが形成されているケース2により砥石の周囲を囲い、開口部2Aの前にノズル6により液体3を平面状に噴射して砥石の設けられているケース2の内部と、ウェーハWがウェーハテーブルに保持されているケース2の外部とを隔離しながらウェーハWの外周面を切削する。
【選択図】図2
Description
本発明は、半導体装置や電子部品等の素材となるウェーハの外周部に面取り加工を行なうウェーハ面取り装置とウェーハ面取り方法に関する。
半導体装置や電子部品等の素材となるシリコン等のウェーハは、インゴットの状態から内周刃やワイヤーソー等のスライシング装置でスライスされた後、その周縁の割れや欠け等を防止するために外周部に面取り加工が施される。面取り加工に使用される面取り装置は、ウェーハ外周部を研削する外周部用砥石や、方位の基準位置となるV字状のノッチ部を研削するノッチ部用砥石等の各種砥石が複数取り付けられ、これらの砥石をスピンドルにより高速に回転させて加工を行なう。加工の際には、ウェーハを回転するウェーハテーブル上に吸着載置し、Xガイド、Yガイド、及びZガイドの各ガイド軸によりウェーハと砥石とを相対的に移動させ、砥石に形成された面取り用の溝へウェーハ外周部を当てることにより面取り加工を行う。
図3に面取り装置の従来例を示す。図3は従来の面取り装置の側面図である。面取り装置10は、ウェーハ送りユニット20、砥石回転ユニット50、図示しないウェーハ供給/収納部、ウェーハ洗浄/乾燥部、ウェーハ搬送手段、及び面取り装置各部の動作を制御するコントローラ等から構成されている。
ウェーハ送りユニット20は、本体ベース11上に載置されたX軸ベース21、2本のX軸ガイドレール22、22、4個のX軸リニアガイド23、23、…、ボールスクリュー及びサーボモータから成るX軸駆動手段25によって図のX方向に移動されるXテーブル24を有している。
Xテーブル24には、2本のY軸ガイドレール26、26、4個のY軸リニアガイド27、27、…、図示しないボールスクリュー及びサーボモータから成るY軸駆動手段によって図のY方向に移動されるYテーブル28が組込まれている。
Yテーブル28には、2本のZ軸ガイドレール29、29と図示しない4個のZ軸リニアガイドによって案内され、ボールスクリュー及びステッピングモータから成るZ軸駆動手段30によって図のZ方向に移動されるZテーブル31が組込まれている。
Zテーブル31には、θ軸モータ32、θスピンドル33が組込まれ、θスピンドル33にはウェーハWを吸着載置するウェーハテーブル34が取り付けられており、ウェーハテーブル34はウェーハテーブル回転軸心CWを中心として図のθ方向に回転される。ウェーハテーブル34の上面は、図示しない真空源と連通する吸着面になっており、面取り加工されるウェーハW、または面取り加工を行う砥石をツルーイングするツルーイング砥石T(以下、ツルアーと称する)が載置されて吸着固定される。
このウェーハ送りユニット20によって、ウェーハW及びツルアーは図のθ方向に回転されるとともに、X、Y、及びZ方向に移動される。
砥石回転ユニット50は、複数の外周粗研削用溝が形成された外周加工砥石52が取り付けられ、図示しない外周砥石モータによって軸心CHを中心に回転駆動される外周砥石スピンドル51、外周加工砥石52の上方に取付けられた外周精研スピンドル54及び外周精研モータ56、ノッチ粗研スピンドル60及びノッチ粗研モータ62、ノッチ精研スピンドル57及びノッチ精研モータ59を有している。
外周精研スピンドル54にはウェーハWの外周を仕上げ研削する面取り用砥石である外周精研削砥石55が取付けられている。ノッチ粗研スピンドル60にはノッチ粗研削砥石61が、またノッチ精研スピンドル57には、ノッチ部を仕上げ研削する面取り砥石であるノッチ精研削砥石58が取付けられている。
外周精研削砥石55、ノッチ粗研削砥石61、及びノッチ精研削砥石58は、ロータリー63が回転することにより、それぞれ加工位置へ移動する。
外周精研削砥石55とノッチ精研削砥石58とは、ウェーハテーブル34上面に載置されたツルアーT、またはウェーハテーブル下部に取り付けられたツルアーTによりツルーイングされ外周精研削用溝が形成される。
このような面取り装置としては例えば、特許文献1に記載されるウェーハ面取り装置が提案されている。
特開2005−153085号公報
説明した通り、半導体装置や電子部品等の素材となるウェーハは、インゴットの状態から内周刃やワイヤーソー等のスライシング装置でスライスされ、各種砥石により外周部に面取り加工されて製造される。
そのため、面取り加工を行っている最中のウェーハ表面全体には研削時に発生する削りカス、砥石の破片、または微細な削りカスを含んだ霧状の水などが大量に付着することとなる。このような汚れがウェーハ表面に残留したままでは、後の製造工程において多大な問題が発生するため、面取り加工後のウェーハは汚れが残留しないように入念な洗浄が行われている。しかし、近年大型化するウェーハの洗浄ではより長い時間を要することとなり、ウェーハ面取り加工の効率化を図る上での大きな問題となってきている。
本発明は、このような問題に対して成されたものであり、面取り加工を行う際にウェーハ表面に付着する汚れを減少させ、ウェーハの洗浄時間を短縮し、効率的で高品質な面取り加工を可能にするウェーハ面取り装置及びウェーハ面取り方法を提供することを目的としている。
本発明は前記目的を達成するために、ウェーハを保持して回転するウェーハテーブルと、前記ウェーハの外周部の研削を行なう回転する砥石と、前記ウェーハテーブルに保持された前記ウェーハの一端を内部に位置させるための開口部が設けられた前記砥石の周囲を囲うケースと、前記開口部を閉塞するように流体を噴射するノズルと、前記ウェーハテーブルを前記砥石に対して相対的に移動させ、前記流体を介して前記ウェーハの一端を前記ケースの内部に位置させるとともに前記砥石に接触させる移動手段と、を備えたことを特徴としている。また、本発明では、前記流体は水であることも特徴としている。
本発明によれば、面取り装置に備えられた砥石は、砥石と接触させるウェーハの一端を入れることが可能である開口部が設けられたケースで囲われている。砥石が設けられているケースの内部と、ウェーハテーブルにウェーハが保持されているケースの外部とは、開口部の前にノズルより噴射される平面状の水等の流体により隔離される。面取り加工を行うウェーハは、液体により塞がれた開口部より砥石に接近して加工位置まで移動し、ウェーハの一部のみケース内に入って面取り加工が行われる。
これにより、ウェーハと砥石が接触して研削が行われている加工部は、ケースで囲われるとともに、開口部が液体で塞がれるので、研削時に発生する削りカスや砥石の破片はケース内に留まる。よって、研削時に発生した削りカスや砥石の破片等の汚れは、ケース内に入ったウェーハの一端にしか付着せず、大幅にウェーハ表面に付着する汚れを減少させ、ウェーハの洗浄時間を短縮し、効率的で高品質な面取り加工を可能にする。
以上説明したように、本発明のウェーハ面取り装置、及びウェーハ面取り方法によれば、加工部が隔離された状態で面取り加工が行われ、面取り加工を行う際にウェーハ表面に付着する汚れを減少させることにより、ウェーハの洗浄時間を短縮し、効率的で高品質な面取り加工を可能にする。
以下、添付図面に従って本発明に係るウェーハ面取り装置及びウェーハ面取り方法の好ましい実施の形態について詳説する。
まず初めに、本発明に係わる面取り装置の構成について説明する。図1は面取り装置の全体上面図である。
面取り装置1は、移動手段としてのウェーハ送りユニット4、砥石回転ユニット5、図示しないウェーハ供給/収納部、ウェーハ洗浄/乾燥部、ウェーハ搬送手段、及び面取り装置各部の動作を制御するコントローラ等から構成されている。
ウェーハ送りユニット4は、本体ベース11上に載置されたZ軸ベース71、2本のZ軸ガイドレール72、72、4個のZ軸リニアガイド73、73、…、ボールスクリュー及びサーボモータから成るZ軸駆動手段75によって図のZ方向に移動されるZテーブル74を有している。
Zテーブル74には、2本のY軸ガイドレール76、76、4個のY軸リニアガイド77、77、…、図示しないボールスクリュー及びサーボモータから成るY軸駆動手段によって図のY方向に移動されるYテーブル78が組込まれている。
Yテーブル78には、2本のX軸ガイドレール79、79と図示しない4個のX軸リニアガイドによって案内され、ボールスクリュー及びサーボモータから成るX軸駆動手段40によって図のX方向に移動されるXテーブル41が組込まれている。
Xテーブル41には、θ軸モータ32、θスピンドル33が組込まれ、θスピンドル33にはウェーハWを吸着載置するウェーハテーブル(載置台)34が取り付けられており、ウェーハテーブル34は回転軸心CWを中心として図のθ方向に回転される。
ウェーハテーブル34の上面は、図示しない真空源と連通する吸着面になっており、面取り加工されるウェーハW、または面取り加工を行う砥石をツルーイングするツルーイング砥石T(以下、ツルアーと称する)が載置されて吸着固定される。
このウェーハ送りユニット4によって、ウェーハW及びツルアーTは図のθ方向に回転されるとともに、X、Y、及びZ方向に移動される。
砥石回転ユニット5は、複数の外周粗研削用溝が形成された外周加工砥石52が取り付けられ、図示しない外周砥石モータによって軸心CHを中心に回転駆動される外周砥石スピンドル51、外周加工砥石52の上方に取付けられた外周精研スピンドル54及び外周精研モータ56、ノッチ粗研スピンドル60及びノッチ粗研モータ62、ノッチ精研スピンドル57及びノッチ精研モータ59を有し、外周精研スピンドル54にはウェーハWの外周を仕上げ研削する面取り用砥石である外周精研削砥石55が取付けられている。
ノッチ粗研スピンドル60にはノッチ粗研削砥石61が、またノッチ精研スピンドル57には、ノッチ部を仕上げ研削する面取り砥石であるノッチ精研削砥石58が取付けられている。
外周精研削砥石55、ノッチ粗研削砥石61、及びノッチ精研削砥石58は、ロータリー63が回転することにより、それぞれ加工位置へ移動する。
外周精研削砥石55、ノッチ粗研削砥石61、ノッチ精研削砥石58、及び外周加工砥石52の周囲は開口部2Aが設けられたケース2により囲われている。開口部2Aの前には、不図示のノズルより、上部から水等の流体3が平面状に所定の圧力をかけて噴射されてケース2内部とウェーハ送りユニット4が備えられたケース2外部とを隔離している。
外周加工砥石52は、ダイヤモンド砥粒のメタルボンド砥石で、粒度#800である。外周精研削砥石55は、直径50mmのダイヤモンド砥粒のレジンボンド砥石で、粒度#3000が用いられている。また、ノッチ粗研削砥石61は直径1.8mm〜2.4mmの小径で、ダイヤモンド砥粒のメタルボンド砥石、粒度#800が用いられ、ノッチ精研削砥石58は、直径1.8mm〜2.4mmの小径で、ダイヤモンド砥粒のレジンボンド砥石、粒度#4000が用いられている。
外周砥石スピンドル51は、ボールベアリングを用いたビルトインモータ駆動のスピンドルで、回転速度8,000rpmで回転される。また、外周精研スピンドル54はエアーベアリングを用いたビルトインモータ駆動のスピンドルで、回転速度36,000rpmで回転される。
ノッチ粗研スピンドル60は、エアーベアリングを用いたエアータービン駆動のスピンドルで、回転速度80,000rpmで回転され、ノッチ精研スピンドル57はエアーベアリングを用いたビルトインモータ駆動のスピンドルで、回転速度150,000rpmで回転される。
面取り装置1のその他の構成部分については、一般的によく知られた機構であるため、詳細な説明は省力する。
次に、本発明に係るウェーハ面取り方法について説明する。図2は外周加工砥石52によりウェーハWの面取り加工を行っている状態を示した側面図である。
図1に示すように、面取り装置1は、移動手段としてのウェーハ送りユニット4、砥石回転ユニット5、図示しないウェーハ供給/収納部、ウェーハ洗浄/乾燥部、ウェーハ搬送手段、及び面取り装置各部の動作を制御するコントローラ等から構成されている。
面取り装置1では、最初に外周精研削砥石55やノッチ精研削砥石58に対して、ウェーハWの加工を行なう為の溝を形成するツルーイングが行なわれる。ツルーイングではまず、ウェーハテーブル34へ外周部に所望の面取り形状が形成されたツルアーTを吸着載置する。
吸着載置されたツルアーTは、ウェーハ送りユニット4により外周精研削砥石55、ノッチ精研削砥石58のいずれかの砥石の加工用溝形成位置へ合わせられる。加工用溝形成位置に合わせられたツルアーTは、回転するとともにケース2内で回転する外周精研削砥石55、ノッチ精研削砥石58のいずれかに、開口部2AよりツルアーTの一端を入れて接近しツルーイングを行う。
このとき、図2に示されるように、ケース2の開口部2Aの前にはノズル6より水等の流体3が平面状に噴射され、ケース2の内部と外部とが隔離される。ツルアーTは、流体3を越えて外周精研削砥石55、ノッチ精研削砥石58のいずれかに接近しツルーイングを行う。ツルーイングにより生じた砥石の破片や屑などは流体3によりケース2の外部へ浮遊することがない。
ツルーイングが終了した後、ウェーハテーブル34へウェーハWを載置して面取り加工が開始される。
面取り加工では、ウェーハ送りユニット4によりウェーハWのX方向位置が外周加工砥石52、外周精研削砥石55、ノッチ精研削砥石58、及びノッチ粗研削砥石61のいずれかの砥石に形成された加工用の溝形状の位置に合わせられる。加工用溝形状の位置に合わせられたウェーハWは、回転するとともにY方向に移動してケース2内で回転する各砥石に開口部2AよりウェーハWの一端を入れて接近する。
このとき、図2に示すように、外周加工砥石52、外周精研削砥石55、ノッチ精研削砥石58、及びノッチ粗研削砥石61の周囲を囲うケース2の開口部2Aの前にはノズル6より水等の流体3が平面状に噴射され、ケース2の内部と外部とが隔離される。ウェーハWは、流体3を越えて外周加工砥石52、外周精研削砥石55、ノッチ精研削砥石58、及びノッチ粗研削砥石61のいずれかの砥石に接近し、この状態のままウェーハWの外周部、ノッチ部、オリフラ部等が各砥石により加工されていく。
これにより、ウェーハWと各種砥石が接触して面取り加工が行われているケース2内部の加工部で生じた削りカス、砥石の破片、または微細な削りカスを含んだ霧状の水などの汚れ物質Dは、流体3に防がれてケース2の外部へ浮遊することがなく、ケース2の外部に位置するウェーハWの表面には汚れ物質Dが付着しない。
以上、説明したように、本発明に係わるウェーハ面取り装置、及びウェーハ面取り方法によれば、ウェーハと砥石が接触して研削が行われている加工部は、ケースで囲われるとともに、開口部が液体で塞がれるので、研削時に発生する削りカスや砥石の破片はケース内に留まる。よって、研削時に発生した削りカスや砥石の破片等の汚れは、ケース内に入ったウェーハの一端にしか付着せず、大幅にウェーハ表面に付着する汚れを減少させ、ウェーハの洗浄時間を短縮し、効率的で高品質な面取り加工を可能にする。
なお、本実施の形態では各砥石の材質、寸法、粒度、及び回転数などを特定した形で説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、種々の材質、寸法、粒度、及び回転数等で加工を行う面取り装置に適応させることが可能である。
また、本実施の形態では、ウェーハは垂直方向に直立する形態で保持されているが、平面方向に水平に向けて保持される形態でも、面取り加工中に開口部が流体で閉塞されれば同様に実施可能である。
1、10…面取り装置,2…ケース,2A…開口部,3…流体,4、20…ウェーハ送りユニット,5、50…砥石回転ユニット,6…ノズル,24、74…Xテーブル,28、78…Yテーブル,33…θスピンドル,34…ウェーハテーブル,52…外周加工砥石,55…外周精研削砥石,58…ノッチ精研削砥石,61…ノッチ粗研削砥石,W…ウェーハ
Claims (3)
- ウェーハを保持して回転するウェーハテーブルと、
前記ウェーハの外周部の研削を行なう回転する砥石と、
前記ウェーハテーブルに保持された前記ウェーハの一端を内部に位置させるための開口部が設けられた前記砥石の周囲を囲うケースと、
前記開口部を閉塞するように流体を噴射するノズルと、
前記ウェーハテーブルを前記砥石に対して相対的に移動させ、前記流体を介して前記ウェーハの一端を前記ケースの内部に位置させるとともに前記砥石に接触させる移動手段と、を備えたことを特徴とするウェーハ面取り装置。 - 前記流体は水であることを特徴とする請求項1に記載のウェーハ面取り装置。
- ウェーハテーブル上に保持されて回転するウェーハの外周部に回転する砥石を接触させて前記ウェーハの外周面を切削するウェーハ面取り装置におけるウェーハ面取り方法において、
前記砥石の周囲を囲うケースに形成された開口部をノズルより噴射された液体で閉塞し、前記液体を介して前記ウェーハテーブルに保持されたウェーハの一端を前記ケース内部に位置させながら前記ウェーハの外周面を前記砥石により切削するウェーハ面取り方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007058732A JP2008226897A (ja) | 2007-03-08 | 2007-03-08 | ウェーハ面取り装置、及びウェーハ面取り方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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JP2007058732A Pending JP2008226897A (ja) | 2007-03-08 | 2007-03-08 | ウェーハ面取り装置、及びウェーハ面取り方法 |
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2007
- 2007-03-08 JP JP2007058732A patent/JP2008226897A/ja active Pending
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