JP2008224411A - プローブ担体製造装置及び液体吐出装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】プローブ溶液を吐出するノズルにゴミが詰まるのを防ぐ。
【解決手段】液体供給口8から流路7へ供給されるプローブ溶液中のゴミを、液体供給口8とノズル6との間に配設された障壁14及び障壁柱15の間で捕捉する。液体供給口8と流路7の連通部には、フォトリソグラフィー技術によって形成された開口16aを有する層間膜16が設けられる。液体供給口8をシリコン基板1のエッチングによって形成する際の、意図せぬエッチングの広がりによって液体供給口8が拡大した場合でも、層間膜16の開口16aの大きさや位置は変わらず、プローブ溶液は障壁14や障壁柱15の間を流動する。この間に、ゴミ等の異物を除去することができる。
【選択図】図2
【解決手段】液体供給口8から流路7へ供給されるプローブ溶液中のゴミを、液体供給口8とノズル6との間に配設された障壁14及び障壁柱15の間で捕捉する。液体供給口8と流路7の連通部には、フォトリソグラフィー技術によって形成された開口16aを有する層間膜16が設けられる。液体供給口8をシリコン基板1のエッチングによって形成する際の、意図せぬエッチングの広がりによって液体供給口8が拡大した場合でも、層間膜16の開口16aの大きさや位置は変わらず、プローブ溶液は障壁14や障壁柱15の間を流動する。この間に、ゴミ等の異物を除去することができる。
【選択図】図2
Description
本発明は、液体吐出装置を用いて基板上にプローブ担体を製造するプローブ担体製造装置及び液体吐出装置に関するものである。
遺伝子DNAの塩基配列の解析を行う場合、あるいは多項目に関する高信頼性の遺伝子診断を同時に行う場合などにおいて、目的とする塩基配列を有するDNAを複数種のプローブを用いて選別することが必要となる。この選別作業に利用される複数種のプローブを提供する手段として、DNAマイクロチップが注目を浴びている。薬剤等のハイスループット・スクリーニングあるいはコンビナトリアル・ケミストリーによる薬剤等の開発においても、対象となる多数(例えば96種、384種または1536種)のタンパク質あるいは薬物の溶液の秩序立ったスクリーニングを行うことが必要となる。その目的で多数種の薬剤を配列するための手法、その状態での自動化されたスクリーニング技術、専用の装置、一連のスクリーニング操作を制御し、また、結果を統計的に処理するためのソフトウェア等も開発されてきている。
これらの並列的なスクリーニング作業は、評価すべき物質に対する選別手段となる既知のプローブを多数並べたプローブ担体(プローブ・アレイ)を利用して行われ、同一条件下でのプローブ材料に対する作用あるいは反応などの有無を検出するものである。一般的に、どのようなプローブ材料に対する作用あるいは反応を利用するかは予め決定されており、従って、一つのプローブ担体に搭載されるプローブ材料は、例えば、塩基配列の異なる一群のDNAプローブ材料など、大きく区分すると一種類の物質である。すなわち、一群のプローブ材料として利用される物質は、例えば、DNA、タンパク質、合成された化学物質(薬剤)などである。多くの場合、一群をなす複数種のプローブからなるプローブ担体を用いることが多い。スクリーニング作業の性質によっては、プローブとして、同一の塩基配列を有するDNA、同一のアミノ酸配列を有するタンパク質、同一の化学物質を多数点並べ、アレイ状とした形態を利用することもあり得る。これらは主として薬剤スクリーニング等に用いられる。
複数種のプローブからなるプローブ担体では、異なる塩基配列を有する一群のDNA、異なるアミノ酸配列を有する一群のタンパク質、あるいは異なる化学物質の一群について、その一群を構成する複数種を、所定の配列順序に従って、アレイ状に基板上に配置する。なかでも、DNAプローブ担体は、遺伝子DNAの塩基配列の解析を行う際、あるいは信頼性の高い遺伝子診断を同時に多項目に関して行う際などに用いられる。
複数種のプローブを基板上にアレイ状に配置する1つの方法として、液体吐出ユニット(液体吐出装置)を用いて複数種のプローブ溶液を所望のタイミングで順次吐出し、基板上に配置させる方法がある。液体吐出ユニットには、プリンタに一般的に用いられているインクジェット法の技術を、プローブ担体の製造に適するように変更して用いられている。
プローブ担体製造用の液体吐出ユニットでは、できるだけ多くの種類の液体を吐出させることが望まれる。プローブ溶液の種類は、通常数10〜数1000種類であり、場合によっては数1000以上になる。
また、プローブ担体の製造では、一般的なプリンタ用のインクジェットヘッドにより紙面に印字する場合ほど液体を消費するわけではないので、液体吐出ユニットのリザーバーの容積も比較的小さなもので十分である。また、使用するプローブ溶液の交換も必要であるため、リザーバーは液体交換の行いやすい簡便な構造が望まれる。
従って、プローブ担体の製造に用いられる液体吐出ユニットは、これらの要求を満たす構造が求められる。
特許文献1には、プローブ溶液を収納する液体供給口(リザーバー)と、それに一対一で対応して接続される液体吐出用のノズルを、塗布する複数種のプローブに対応する個数備えてなる液体吐出ユニットを用いるプローブ担体の製造方法が開示されている。
図7ないし図13は、特許文献1に開示された液体吐出ユニットを示すもので、図7の(a)は、液体吐出ユニットを構成する半導体チップを示す平面図、(b)は(a)の円C1 で囲んだ部分を拡大して示す部分拡大図である。
図7において、201はシリコン基板、202はTaN、TaSiN、TaAl等からなるヒータ、203はアルミニウム等からなる第1の配線、204はアルミニウム等からなる第2の配線、205は液体吐出ユニットと外部との電気的接触をとるためのパッドである。また、206はノズル、207は流路、208は基板裏面から基板表面に液体を供給する液体供給口である。液体供給口208はシリコンの異方性エッチングにより作成するが、その際シリコン基板201の裏面では、破線C2 で示す大きさに広がっている。
ヒータ202は、その両端を第1及び第2の配線203、204と接続されている。
図8は、図7の(b)のA−A線に沿ってとった断面を示し、図9は、図7の半導体チップの裏面を示す平面図である。
図8において、210は絶縁膜、211は保護膜、212はノズル材、213はTa等からなる耐キャビテーション膜である。
液体供給口208は、TMAH溶液を用いたシリコンの異方性エッチングにより作製され、図8に示すように、基板表面に対して、例えば54.7°の角度で開口する。
液体供給口208は、液体のリザーバーとして用いられる。チップを裏面から見た場合、各液体供給口208は図9に示す形状になる。
液体は、基板裏面側から液体供給口208を経て基板表面に導かれ、流路207を通ってノズル206まで導かれる。ヒータ202の両端に電圧が印加されると、図10に示すようにヒータ近傍の液体が加熱されて膜沸騰を起こし、液滴として吐出される。
多数の液体供給口208は大気に開放されており、この開放された状態で液体が供給され、吐出される。この構造は液体の入れ替えには適した構造ではあるが、液体供給口208から流路202内にゴミ等の異物が浸入しやすい構造であるという問題点があった。すなわち、ゴミ等の異物がノズルに詰まり、液体の不吐出や、吐出が不安定になったり、着弾位置がずれるなどの不良現象を引き起こす可能性が高かった。
この問題点を解決するため、特許文献2には以下のような液体吐出ユニットが提案されている。
図11及び図12に示すように、液体供給口208の一辺側に障壁214を配設し、さらに、障壁214と吐出口206の間の流路207に複数の障壁柱215を配設する。
この障壁214と障壁柱215は共に流路207を形成している材料と同一材料で流路207を形成するのと同時にフォトリソ工程で形成されるため、コストアップが生じないばかりか液体吐出に関わる信頼性でも全く問題がない。
障壁214と障壁柱215の間隔や、隣接する障壁柱215同士の間隔は、ノズル206の直径より狭くなるように設定されている。
プローブ溶液の吐出や、回復動作や溶液の入れ替えのため溶液の吸引を行う際、プローブ溶液は図12に矢印Rで示したように、液体供給口208からノズル206に向かって流れる。
従って溶液中にゴミ等の異物が含まれていたとしても、ノズル206を詰まらせてしまう大きさの異物は障壁214と障壁柱215の間、あるいは隣接する障壁柱215同士の間でトラップされてしまうため、ノズル206に異物が詰まることがない。
上記構成によれば、非常に簡単な構成でノズルからの液体の吐出が不吐になったり、吐出方向が乱れたり、吐出量が変化したりといった不安定な吐出の発生を防止できる。従って、安定的に連続した液体吐出を行うことができるため、多数のプロ−ブ担体を効率的に製造することができる。
特開2002−318232号公報
特開2005−125525号公報
しかしながら、上記の構成においても、完全にゴミ等の異物の詰まりを防止することはできなかった。詳しく説明すると、一般的に液体供給口はシリコンを異方性エッチングすることによって形成する。<100>面を表面に持つシリコン基板の異方性エッチングにおいては、原理的にはエッチングは<111>面で停止し、基板表面に対して54.7°の角度で開口し、液体供給口の大きさ及び位置も一義的に決定されるはずである。しかし、現実的にはシリコン基板内の結晶欠陥や、製造プロセス中に発生した基板裏面の傷により、エッチングが局部的に進む現象があるため、液体供給口の大きさ及び位置のばらつきが発生する場合がある。
図13は、ノズル206に最も近い辺の液体供給口208のエッジ208aが設計値と比較して大きくずれた場合を示す。この場合、矢印R1 で示したように、プローブ溶液が障壁214と障壁柱215の間や、隣接する障壁柱215同士の間を通ることなくノズル206に流れてしまうため、充分なフィルタ効果が得られず、ノズル詰まりを生じてしまう。
液体吐出ユニットでは、吐出できるプローブ溶液の種類は多いほど望ましい。従って、一つの液体吐出ユニットが数多くのリザーバーを備える。
この多数のリザーバーの内、ある頻度で前述のような開口寸法及び位置が設計値から大きくずれるものが発生するため、多数のリザーバーを備える液体吐出ユニットほど、問題が生じる可能性は高い。
本発明は、液体供給口の大きさや位置が設計値から外れた場合でも、ゴミ等の異物による不吐出や不良吐出を発生させることなく、安定してプローブ溶液の吐出を行うことができるプローブ担体製造装置及び液体吐出装置を提供することを目的とするものである。
本発明のプローブ担体製造装置は、複数のノズルからプローブ溶液を基板上に吐出することにより、複数種のプローブが配置されたプローブ担体を製造するプローブ担体製造装置において、前記複数のノズルと、前記複数のノズルからそれぞれ吐出するためのプローブ溶液を供給する複数の流路と、前記複数のノズルからプローブ溶液を吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生手段と、前記流路にプローブ溶液を供給するための液体供給口と、前記流路内のプローブ溶液の流れを制御する障壁及び障壁柱と、前記液体供給口と前記流路との連通部の周囲に沿って前記流路の壁面に積層され、前記液体供給口を前記流路に連通させる開口をフォトリソグラフィー技術によって形成された樹脂膜と、を備えたことを特徴とする。
シリコンの異方性エッチングによって形成される液体供給口の流路への連通部に、フォトリソグラフィー技術によって開口された樹脂膜を配置し、液体供給口から流路に連通する開口の開口寸法を樹脂膜の開口寸法によって決定する。
液体供給口の開口寸法が、フォトリソグラフィー技術によって決定されるため、精度良く開口寸法を制御でき、また、障壁等に対する液体供給口と流路との連通部の開口位置も正確に制御することができる。
シリコンの異方性エッチングのばらつきが生じても、液体供給口からノズルに移動する際のプローブ溶液の流れ方には変化がないため、ノズルに到達するまでに必ず障壁や障壁柱の間を通る。従って、異物がノズルに到達することはない。
その結果、プローブ担体を高い歩留まりで製造することができる。
本発明を実施するための最良の形態を図面に基づいて説明する。
図1の(a)は、プローブ担体を製造するプローブ担体製造装置を示すもので、液体吐出ユニット(液体吐出装置)101、液体吐出ユニット101の移動を略平行に案内するシャフト102、プローブ担体の基板が固定・保持されるステージ103等を備える。プローブ担体の基板はガラス基板104である。
液体吐出ユニット101は、図中のX方向に移動することができ、ステージ103はY方向に移動することができる。従って、液体吐出ユニット101は、ステージ103に対して相対的に2次元的に移動できることになる。
液体吐出ユニット101がステージ103上のガラス基板104の上を通過する際、所望のタイミングで液体吐出ユニット101からプローブ溶液(液体)の吐出を行い、図1の(b)に示すように、プローブ105をガラス基板104上に配置する。
図1の(b)はプローブ担体を示す模式図であり、プローブ105は、このように規則的にガラス基板104に配置される。
各プローブ105の直径は、10μmないし150μmであり、隣接したプローブ105間の距離は、50μmないし1000μmである。
予め合成および精製されたプローブ材料(たとえばDNA)を基板上に配置する場合、液体吐出ユニット101は、ガラス基板104上に配置するプローブ105と同数のノズルを備えた構成が好ましい。
図1の(a)では、複数のガラス基板104を固定して、プローブ105を配置する場合を示したが、1枚の大きなガラス基板上にプローブを配置し、その後、ガラス基板を切断して複数のプローブ担体を得てもよい。
次に、液体吐出ユニット101の構成を図2ないし図4に基づいて説明する。
図2は、ノズル近傍における液体吐出ユニット101の構成を示す模式断面図である。液体(プローブ溶液)を吐出させる方式としては、エネルギー発生手段であるヒータから発生する熱エネルギーにより液体の吐出を行うサーマルジェット方式と、ピエゾ素子に電圧を印加して生じる素子の変形により液体の吐出を行うピエゾジェット方式がある。図2にはサーマルジェット方式の液体吐出ユニットの構造を示した。
図2の液体吐出ユニット101は、シリコン基板1、ヒータ2、ノズル6、流路7、液体供給口8を備える。ヒータ2はTaN、TaSiN、TaAl等からなるヒータであり、液体供給口8は基板裏面から基板表面の複数のノズル6にそれぞれ液体を供給する。シリコン基板1は、絶縁膜10、保護膜11を有し、その上にノズル材12、Ta等からなる耐キャビテーション膜13、障壁14及び障壁柱15、樹脂膜である層間膜16が配設される。
ヒータ2の両端にはアルミニウム等からなる配線(不図示)が接続され、該配線を介してヒータ2に所望の電圧パルスが印加される。
絶縁膜10は、シリコン基板1を熱酸化して作成される熱酸化膜、あるいはCVDにより形成される酸化膜もしくは窒化膜等のいずれの膜でもよい。
保護膜11は、CVDにより形成される酸化膜または窒化膜等いずれの膜でもよい。
ノズル6及び流路7を構成しているノズル材12は、あらかじめノズル及び流路を形成したノズル材をシリコン基板に貼り付けてもよいし、フォトリソグラフィー技術による半導体プロセスを用いて形成してもよい。
液体供給口8は、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)溶液を用いたシリコンの異方性エッチングにより作製され、理想的には基板表面に対して約54.7°の角度で傾斜して開口する。液体供給口8は、基板裏面から基板表面に液体を供給すると共に、液体(プローブ溶液)を保持するリザーバーとしても機能する。
図3に示すように、障壁14と障壁柱15の間隔や、隣接する障壁柱15同士の間隔は、ノズル6の直径より狭くなるように設定されている。
プローブ溶液の吐出、回復動作や、溶液の入れ替えのため液体の吸引を行う際、液体は供給口8からノズル6に向かって液体が流れる。この時液体中にゴミ等の異物が含まれていたとしても、ノズル6を詰まらせてしまう大きさの異物は、障壁14と障壁柱15の間若しくは、隣接する障壁柱15同士の間でトラップされてしまうため、ノズル6に異物が詰まることがない。
層間膜16は、液体供給口8と流路7との連通部の周囲に沿って、流路7の壁面を構成する保護膜11上に積層され、液体供給口8と流路7とを連通させるために、その中心部に開口16aを有する。層間膜16の開口16aは、開口寸法Dが基板表面の液体供給口8の開口端の大きさとほぼ等しくなるように、フォトリソグラフィー技術を用いたパターニングによって形成されている。
このような構成にすることにより、液体供給口8の大きさ及び位置のばらつきが発生した場合においても、層間膜16の開口16aが所望の位置に開口しているため、図13に示したような意図せぬ経路での液体の移動は生じない。図4の矢印Rで示すように、液体は設計通り、流路7内の液体の流れを制御する障壁14及び障壁柱15の存在する領域を通ってノズル6に移動するため、この間にゴミ等の異物を障壁柱15によってトラップすることができる。
従って、ゴミ等の異物がノズル6に詰まり、吐出不良を起こすことはない。
層間膜16は、ポリエーテルアミド樹脂等の樹脂で作成され、障壁14及び障壁柱15に密着している。パターニングはフォトリソグラフィー技術によって行われるため、開口16aの配置される位置や、開口寸法Dはきわめて正確に制御することができる。障壁14及び障壁柱15に対する層間膜16の開口16aの位置を、数μm以内のきわめて正確な距離で決定することができ、これらの位置合わせのマージンをもたせるための無駄な領域を流路内に作る必要はない。その結果、泡溜り等の起き難い微細な流路構造が可能となる。
図2ないし図4では、層間膜16の開口16aと、液体供給口8のシリコン基板1の表面での開口端がほぼ一致する構成を示したが、これらは必ずしも一致させる必要はない。例えば、図5に示すように、層間膜16の開口寸法が、液体供給口8のシリコン基板1の表面での開口端の幅より小さくてもよい。
また、層間膜16は液体供給口8と流路7との連通部の周囲だけではなく、図6に示すように、シリコン基板1のほぼ全面に及ぶように配置(積層)してもよい。図6では、液体供給口8の開口端及びヒータ2の上方の部分のみ層間膜16が配置されていない場合を示した。
プローブ担体の製造枚数が少なく、かつ1つのプローブに対するプローブ溶液の吐出量が少ない場合は、液体供給口内に存在するプローブ溶液量で、一連のプローブ担体製造に充分な場合がある。より多くのプローブ溶液の吐出が必要とされる場合は、液体供給口8に接続される第2のリザーバーを設けるとよい。
プローブ溶液は基板裏面から、液体供給口8を経て基板表面に導かれ、流路7を通ってノズル6まで導かれる。ヒータ2の両端に所望の電圧パルスが印加されると、ヒータ近傍のプローブ溶液が加熱されて膜沸騰を起こし、液滴を吐出する。
プローブ溶液を安定して吐出させるためには、安定的に膜沸騰を起こすことが必須である。安定な膜沸騰を起こすためには、ヒータ2に対して0.1ないし5μsの電圧パルスを印加することが望ましい。
1個のノズルから吐出されるプローブ溶液の量は、プローブ溶液の粘度、プローブ溶液とガラス基板の親和性、プローブ材料とガラス基板との反応性などの様々の要素を考慮の上で、形成されるプローブ(アレイ)のドットサイズや形状に応じて、適宜選択される。プローブ溶液は水性溶媒を用いることが一般的であり、液体吐出ユニットの各ノズルから吐出されるプローブ溶液の液滴は、一般的に、その液量を0.5plから100plの範囲内で選択される。このため、その液量に合わせてノズル径などを設計することが好ましい。
プローブ材料はガラス基板等の固相基板に結合可能な構造を有するものとし、プローブ溶液を吐出し、塗布した後、かかる結合可能な構造を利用して固相基板に結合させることが望ましい。この固相基板へ結合可能な構造は、例えば、アミノ基、メルカプト基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、酸ハロゲン化物(−COX)、ハロゲン化物、アジリジン、マレイミド、スクシイミド、イソチオシアネート、スルホニルクロリド(−SO2 Cl)、アルデヒド(−CHO)、ヒドラジン、ヨウ化アセトアミドなどの有機官能基をプローブ材料分子に予め導入する処理を施すことで形成することができる。その場合、基板表面には、前記の各種有機官能基と反応して共有結合を形成する構造、有機官能基を導入する処理を予め行っておくことが必要となる。
本実施例によれば、異方性エッチングによって形成された液体供給口の大きさ及び位置が設計値から外れた場合においても、ノズルにゴミ等の異物が詰まるのを防止し、不吐出や不良吐出を発生させることなく、安定的にプローブ溶液の吐出を行うことができる。
そして、プローブ担体を高い歩留まりで製造することができる。
1 シリコン基板
2 ヒータ
6 ノズル
7 流路
8 液体供給口
10 絶縁膜
11 保護膜
12 ノズル材
13 耐キャビテーション膜
14 障壁
15 障壁柱
16 層間膜
16a 開口
101 液体吐出ユニット
102 シャフト
2 ヒータ
6 ノズル
7 流路
8 液体供給口
10 絶縁膜
11 保護膜
12 ノズル材
13 耐キャビテーション膜
14 障壁
15 障壁柱
16 層間膜
16a 開口
101 液体吐出ユニット
102 シャフト
Claims (7)
- 複数のノズルからプローブ溶液を基板上に吐出することにより、複数種のプローブが配置されたプローブ担体を製造するプローブ担体製造装置において、
前記複数のノズルと、前記複数のノズルからそれぞれ吐出するためのプローブ溶液を供給する複数の流路と、前記複数のノズルからプローブ溶液を吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生手段と、前記流路にプローブ溶液を供給するための液体供給口と、前記流路内のプローブ溶液の流れを制御する障壁及び障壁柱と、前記液体供給口と前記流路との連通部の周囲に沿って前記流路の壁面に積層され、前記液体供給口を前記流路に連通させる開口をフォトリソグラフィー技術によって形成された樹脂膜と、を備えたことを特徴とするプローブ担体製造装置。 - 前記液体供給口はシリコンの異方性エッチングによって形成されていることを特徴する請求項1記載のプローブ担体製造装置。
- 前記障壁及び前記障壁柱が、前記樹脂膜に密着していることを特徴する請求項1又は2記載のプローブ担体製造装置。
- 請求項1ないし3いずれか1項記載のプローブ担体製造装置を用いてプローブ担体を製造することを特徴とするプローブ担体の製造方法。
- 液体を吐出する複数のノズルと、前記複数のノズルからそれぞれ吐出するための液体を供給する複数の流路と、前記複数のノズルから液体を吐出するためのエネルギーを発生するエネルギー発生手段と、前記流路に液体を供給するための液体供給口と、前記流路内の液体の流れを制御する障壁及び障壁柱と、前記液体供給口と前記流路との連通部の周囲に沿って前記流路の壁面に積層され、前記液体供給口を前記流路に連通させる開口をフォトリソグラフィー技術によって形成された樹脂膜と、を備えたことを特徴とする液体吐出装置。
- 前記液体供給口はシリコンの異方性エッチングによって形成されていることを特徴する、請求項5記載の液体吐出装置。
- 前記障壁及び前記障壁柱とが、前記樹脂膜に密着していることを特徴する請求項5又は6記載の液体吐出装置。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160037930A (ko) * | 2013-07-30 | 2016-04-06 | 멤젯 테크놀로지 엘티디 | 높은 대칭도를 갖는 잉크젯 노즐 장치 |
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2007
- 2007-03-13 JP JP2007063008A patent/JP2008224411A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR20160037930A (ko) * | 2013-07-30 | 2016-04-06 | 멤젯 테크놀로지 엘티디 | 높은 대칭도를 갖는 잉크젯 노즐 장치 |
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KR102196775B1 (ko) * | 2013-07-30 | 2020-12-31 | 멤젯 테크놀로지 엘티디 | 높은 대칭도를 갖는 잉크젯 노즐 장치 |
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