JP2008221761A - 溶液製膜設備及び方法 - Google Patents

Abstract

【課題】フイルムの溶液製膜に用いられるオーステナイト系ステンレス製の流延バンドのマルテンサイト化を防止する。
【解決手段】流延バンド９５は、各回転ドラム９３、９４に巻き掛けられ、各回転ドラム９３、９４の回転に従動して走行する。各回転ドラム９３、９３の間には、複数のガイドローラ１０２が設けられている。各ガイドローラ１０２は、流延バンド９５の上部の内面９５ｂと接触し、内側から流延バンド９５を支持する。各ガイドローラ１０２は、各回転ドラム９３、９４と略平行な金属ローラ部と、この金属ローラに巻き付けられたゴム部とからなる。ゴム部は、流延バンド９５と各ガイドローラ１０２とが接触する際に、流延バンド９５に加えられる垂直抗力を低減する。これにより、オーステナイト系ステンレス製の流延バンド９５のマルテンサイト化が防止される。
【選択図】図４

Description

本発明は、ポリマーフイルムを製膜する溶液製膜設備及び方法に関するものである。

ポリマーフイルム（以下、フイルムと称する）は、優れた光透過性や柔軟性および軽量薄膜化が可能であるなどの特長から光学機能性フイルムとして多岐に利用されている。中でも、セルロースアシレートなどを用いたセルロースエステル系フイルムは、高い強靭性、低い光学的異方性、そして、低いレターデーションを有し、更に安価であることから、液晶表示装置（ＬＣＤ）の構成部材である偏光板の保護フイルム、光学補償フイルム、反射防止フイルムや視野角拡大フイルムなどに広く用いられている。

これらの光学機能性フイルムの製造方法として、溶液製膜方法が用いられる。溶液製膜方法は、メルトキャスト法などの他の製造方法と比較して、光学的性質などの物性が優れたフイルムを製造することができる。溶液製膜方法は、ポリマーを溶媒（主に有機溶媒）に溶解してドープを調製した後に、複数の回転ドラムに掛け渡されて連続走行するバンド上にドープを流延し、そのドープを剥ぎ取って乾燥することによりフイルムを製造する。溶液製膜方法において、ドープと接触し、走行時に回転ドラムと擦り合わされるバンドの形成材料としては、ステンレス鋼が用いられ、中でも加工性に富み、耐食性や耐摩耗性が優れたオーステナイト系のステンレス鋼が用いられることが一般的である。

しかしながら、溶液製膜を長時間行うと、流延ダイの吐出口（リップ）にドープが滞留したり、吐出口からその周辺にドープがぬれ広がったりする。これらのドープがそのまま乾燥するとカワバリとなり、流延ダイの吐出口付近に固着する。このカワバリが、流延ダイの吐出口から支持体上に至って形成される流延ビードにスジをつけてしまい、流延膜にもスジが残ってしまう。この状態のままフイルムの製造を続けると、フイルムには長手方向に延びるスジ状欠陥が確認され、幅方向におけるフイルムの厚みムラとなる。フイルムの厚みムラは、光学特性をばらつかせて光学機能性フイルムとしての製品価値を低下させてしまう。

こうしたスジ状の厚みムラを無くすため、流延ダイ自体のキズを無くすことの他に、流延ダイのリップにおけるドープの滞留を抑制する方法、流延ダイの先端におけるカワバリの発生を抑制する方法などが、従来より種々提案されている。例えば、特許文献１は、ドープの粘度、流延直後に送る熱風の温度、支持体の移動速度、流延ダイのリップ先端の形状を規定することにより、流延ダイのリップにドープが滞留することを防止する方法を提案している。特許文献２は、流延ビードについて、その伸張応力を所定の範囲とすることにより流延ダイの先端におけるカワバリの発生を抑制する方法を提案している。また、特許文献３は、流延ダイの先端の硬さＨｖを４００以上とすることにより、保守などの作業時の流延ダイの先端の傷つきを防止して、スジをなくす溶液製膜方法、特許文献４は、ドープと流延ダイのリップ先端部との剥離に必要な力を４０ｇ／ｃｍ以下にすることにより、流延ダイのリップ先端でのカワバリ発生を抑制する溶液製膜方法を提案している。
特開平８−２５３８１号公報 特開２００１−７１３３８号公報 特開２００２−２５４４５３号公報 特開２００４−６６６１３号公報

流延膜を支持するバンドは、上下方向の撓みや振動などを防止するため、各回転ドラムの間をガイドローラによって内側から支持される。これに伴い、バンドには、各ガイドローラと接触する際に、ガイドローラからの垂直抗力が加えられる。ところが、前述のように、バンドにオーステナイト系のステンレス鋼を用いると、この垂直抗力によってバンドの一部がマルテンサイト化してしまうという問題があった。

ガイドローラとの接触に起因するバンドのマルテンサイト化は、バンドの走行方向と略平行に発生する。また、オーステナイト系のステンレス鋼がマルテンサイト化すると、体積が膨張する。このため、バンドのマルテンサイト化は、走行方向と略平行なスジ状の変形となってバンドの表面に表れる。こうしたバンド表面の変形は、フイルムに転写され、フイルムの厚みムラの要因になってしまう。

本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであって、流延膜を支持するバンドにオーステナイト系のステンレス鋼を用いた際に、バンドのマルテンサイト化を防止することを目的とする。

上記課題を達成するため、本発明の溶液製膜設備は、複数の回転ドラムに巻き掛けられ、前記各回転ドラムの回転に応じて走行するオーステナイト系ステンレス製の流延バンドと、ポリマーと溶媒とを含むドープを走行中の前記流延バンド上に流出して流延膜を形成する流延ダイと、前記流延バンド上の流延膜を剥ぎ取ってフイルムとする剥ぎ取り手段と、前記各回転ドラムと略平行に配置されるローラ本体部と、このローラ本体部に巻き付けられたゴム部とで構成され、前記各回転ドラムの間の前記流延バンドの内面と接触して内側から前記流延バンドを支持するガイドローラとを備えたことを特徴とする。

なお、前記ガイドローラは、前記各回転ドラムの間に複数並べて設けられることが好ましい。また、前記ゴム部の厚みは、１ｍｍ〜１０ｍｍであることが好ましい。さらに、前記ゴム部の硬度は、ＪＩＳ−Ａ硬度で６０°〜１００°であることが好ましい。なお、前記ゴム部の表面粗さの最大高さＲｙは、０．１μｍ〜１０μｍであることが好ましい。また、前記流延バンドの走行速度は、３０ｍ／分以上であることが好ましい。さらに、前記ローラ本体部は、ステンレス製の金属ローラであることが好ましい。

なお、オーステナイト系ステンレス製の流延バンドを複数の回転ドラムに巻き掛けてエンドレスに走行する支持体を構成し、この支持体の表面に流延ダイから、ポリマーと溶媒とを含むドープを流出させて流延膜を形成し、前記流延膜を前記支持体から剥ぎ取ってフイルムとする本発明の溶液製膜方法は、前記支持体をゴムライニングされたガイドローラで支持することを特徴とする。

本発明では、回転ドラムと略平行に配置されるローラ本体部と、このローラ本体部に巻き付けられたゴム部とで構成されたガイドローラで流延バンドを支持するようにした。ゴム部は、流延バンドと接触した際の接触面圧を低減させ、流延バンドに過大な垂直抗力が加わることを防ぐ。これにより、流延バンドにオーステナイト系ステンレスを用いた際の、流延バンドのマルテンサイト化が防止される。また、流延バンドのマルテンサイト化を防止することで、厚みムラのないフイルムを製造することができる。

以下に、本発明の実施態様について詳細に説明する。ただし、本発明はここに挙げる実施形態に限定されるものではない。

［原料］
セルロースアシレートは、セルロースの水酸基への置換度が下記式（Ｉ）〜（III)の全てを満足するセルロースアシレートを用いることが好ましい。以下、下記式を満たすセルロースアシレートをＴＡＣと称する。
（Ｉ） ２．５≦Ａ＋Ｂ≦３．０
（II） ０≦Ａ≦３．０
（III) ０≦Ｂ≦２．９
但し、式中Ａ及びＢは、セルロースの水酸基の水素原子に対するアシル基の置換度を表わし、Ａはセルロースの水酸基の水素原子に対するアセチル基の置換度、またＢはセルロースの水酸基の水素原子に対する炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度である。なお、ＴＡＣの９０重量％以上が０．１ｍｍ〜４ｍｍの粒子を用いることが好ましい。なお、本発明に用いられるポリマーはＴＡＣに限定されるものではない。

セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位，３位及び６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部を炭素数２以上のアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位，３位及び６位それぞれについて、セルロースの水酸基がエステル化している割合（１００％のエステル化は置換度１）を意味する。

全アシル置換度、即ち、ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６は２．００上〜３．００が好ましく、より好ましくは２．２２〜２．９０であり、特に好ましくは２．４０〜２．８８である。また、ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）は０．２８以上が好ましく、より好ましくは０．３０以上、特に好ましくは０．３１〜０．３４である。ここで、ＤＳ２はグルコース単位の２位の水酸基のアシル基による置換度（以下、「２位のアシル置換度」とも言う）であり、ＤＳ３は３位の水酸基のアシル基による置換度（以下、「３位のアシル置換度」とも言う）であり、ＤＳ６は６位の水酸基のアシル基による置換度（以下、「６位のアシル置換度」とも言う）である。

本発明のセルロースアシレートに用いられるアシル基は１種類だけでも良いし、あるいは２種類以上のアシル基が使用されていても良い。２種類以上のアシル基を用いるときは、その１つがアセチル基であることが好ましい。２位，３位及び６位の水酸基のアセチル基による置換度の総和をＤＳＡとし、２位，３位及び６位の水酸基のアセチル基以外のアシル基による置換度の総和をＤＳＢとすると、ＤＳＡ＋ＤＳＢの値は、より好ましくは２．２〜２．９０であり、特に好ましくは２．４０〜２．８８である。また、ＤＳＢは０．３０以上であることが好ましく、特に好ましくは０．７以上である。さらにＤＳＢはその２０％以上が６位水酸基の置換基であるが、より好ましくは２５％以上が６位水酸基の置換基であり、特には３３％以上が６位水酸基の置換基であることが好ましい。また更に、セルロースアシレートの６位の置換度が０．７５以上であることが好ましく、さらに好ましくは０．８０以上であり特に好ましくは０．８５以上であるセルロースアシレートを用いることである。これらのセルロースアシレートにより溶解性の好ましい溶液（ドープ）が作製できる。特に非塩素系有機溶媒において、良好な溶液の作製が可能となる。更に粘度が低く濾過性の良い溶液の作製が可能となる。

セルロースアシレートは、リンター，パルプのどちらから得られたものでも良いが、リンターから得られたものが好ましい。

本発明のセルロースアシレートの炭素数２以上のアシル基としては、脂肪族基でもアリール基でも良く特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していても良い。これらの好ましい例としては、プロピオニル基、ブタノイル基、ケプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ｉｓｏ−ブタノイル基、ｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などがより好ましく、特に好ましくはプロピオニル基、ブタノイル基である。

ドープを調製する溶媒としては、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン，トルエンなど）、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン，クロロベンゼンなど）、アルコール（例えば、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，ｎ−ブタノール，ジエチレングリコールなど）、ケトン（例えば、アセトン，メチルエチルケトンなど）、エステル（例えば、酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸プロピルなど）及びエーテル（例えば、テトラヒドロフラン，メチルセロソルブなど）などが挙げられる。なお、本発明において、ドープとはポリマーを溶媒に溶解または分散して得られるポリマー溶液または分散液を意味している。

炭素原子数１〜７のハロゲン化炭化水素が好ましく用いられ、ジクロロメタンが最も好ましく用いられる。ＴＡＣの溶解性、流延膜の支持体からの剥ぎ取り性、フイルムの機械的強度など及びフイルムの光学特性などの物性の観点から、ジクロロメタンの他に炭素原子数１〜５のアルコールを一種ないし数種類混合することが好ましい。アルコールの含有量は、溶媒全体に対し２重量％〜２５重量％が好ましく、５重量％〜２０重量％がより好ましい。アルコールの具体例としては、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，イソプロパノール，ｎ−ブタノールなどが挙げられるが、メタノール，エタノール，ｎ−ブタノールあるいはこれらの混合物が好ましく用いられる。

最近、環境に対する影響を最小限に抑えるため、ジクロロメタンを用いない溶媒組成も提案されている。この目的に対しては、炭素原子数が４〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステルが好ましく、特に酢酸メチルが好ましく用いられる。また、これらを適宜混合して用いる。これらのエーテル、ケトン及びエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトン及びエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−，−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、溶媒として用いることができる。溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であれば良い。

（添加剤）
本発明のセルロースアシレート溶液には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、剥離促進剤、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）を加えることができる。またその添加する時期はドープ作製工程において何れでも添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。

（可塑剤）
可塑剤としては、沸点が２００℃以上であり、２５℃で液体であるか、または融点が２５〜２５０℃である固体であることが好ましく、沸点が２５０℃以上であり、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体であることがより好ましい。可塑剤が液体の場合は、その精製は通常減圧蒸留によって実施されるが高真空ほど好ましく、その真空度は例えば１００Ｐａ以下が好ましい。また分子蒸留装置などを用いて精製することも特に好ましい。また可塑剤が固体の場合は、溶媒を用いて再結晶させてろ過，洗浄し乾燥することで実施されることが一般的である。

本発明に用いる可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルを用いることが好ましい。リン酸エステルとしては、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェートが含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルとしては、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルとしては、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、が含まれる。これらうち、特に好ましい可塑剤は、ＴＰＰ（融点約５０℃）或いは、２５℃において液体であり、沸点も２５０℃以上である。

その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。グリコール酸エステルの例としては、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、メチルフタリルメチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレートなどがある。中でもトリフェニルフォスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、トリブチルホスフェート、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジエチルヘキシルフタレート、トリアセチン、エチルフタリルエチルグリコレートが好ましい。特にトリフェニルフォスフェート、ジエチルフタレート、エチルフタリルエチルグリコレートが好ましい。これらの可塑剤は１種でもよいし２種以上併用してもよい。可塑剤の添加量はセルロースアシレートに対して２〜３０質量％、特に５〜２０質量％が好ましい。

本発明のセルロースアシレートフイルムに好ましく使用される紫外線吸収剤について説明する。本発明のセルロースアシレートフイルムは、その高い寸法安定性から、偏光板または液晶表示用部材等に使用されるが、偏光板または液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としての具体例を下記に列記するが、本発明はこれらに限定されない。２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）、（２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２（２’−ヒドロキシ−３’，５‘−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、（２（２’−ヒドロキシ−３’，５‘−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイトなどが挙げられる。特に（２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２（２’−ヒドロキシ−３’，５‘−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、（２（２’−ヒドロキシ−３’，５‘−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジンなどのヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォスファイトなどの燐系加工安定剤を併用してもよい。これらの化合物の添加量は、セルロースアシレートに対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍが更に好ましい。

また、その他にも旭電化プラスチック用添加剤概要「アデカスタブ」のカタログにある光安定剤も使用できる。チバ・スペシャル・ケミカルズのチヌビン製品案内にある光安定剤、紫外線吸収剤も使用できる。SHIPROKASEI KAISYAのカタログにＳＥＥＳＯＲＢ（登録商標）、ＳＥＥＮＯＸ（登録商標）、ＳＥＥＴＥＣ（登録商標）なども使用できる。城北化学工業のＵＶ吸収剤、酸化防止剤も使用できる。共同薬品のＶＩＯＳＯＲＢ（登録商標）、吉富製薬の紫外線吸収剤も使用できる。

（微粒子）
ドープに微粒子を添加することにより、作製されたセルロースアシレートフイルムがハンドリングされる際に、傷が付いたり搬送性が悪化することを防止することができる。それらは、マット剤、ブロッキング防止剤あるいはキシミ防止剤と称されて、従来から利用されている。それらは、前述の機能を呈する素材であれば特に限定されないが、これらのマット剤の好ましい具体例は、無機化合物としては、ケイ素を含む化合物、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化ジルコニウム、酸化ストロングチウム、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化スズ・アンチモン、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が好ましく、更に好ましくはケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、セルロースアシレートフイルムの濁度を低減できるので、二酸化ケイ素が特に好ましく用いられる。二酸化ケイ素の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）等の商品名を有する市販品が使用できる。酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）等の商品名で市販されているものが使用できる。

有機化合物としては、例えば、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマーが好ましく、中でも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。シリコーン樹脂の中でも、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、トスパール１０５、トスパール１０８、トスパール１２０、トスパール１４５、トスパール３１２０及びトスパール２４０（以上東芝シリコーン（株）製）等の商品名を有する市販品が使用できる。

なお、セルロースアシレートの詳細については、特開２００５−１０４１４８号の［０１４１］段落から［０１９５］段落に記載されている。これらの記載は本発明にも適用できる。また、溶媒及び可塑剤，劣化防止剤，紫外線吸収剤，光学異方性コントロール剤，レターデーション制御剤，染料，マット剤，剥離剤などの添加剤、同じく特開２００５−１０４１４８号の［０１９６］段落から［０５１６］段落に詳細に記載されている。

（ドープ製造方法）
図１にドープ製造ライン１０を示す。ドープ製造ライン１０には、溶媒を貯留するための溶媒タンク１１と、溶媒とＴＡＣなどとを混合するための溶解タンク１３と、ＴＡＣを供給するためのホッパ１４、添加剤液を貯留するための添加剤タンク１５と、後述する膨潤液を加熱するための加熱装置１８と、調製されたドープの温度を調整する温調機１９と、ドープを濾過する濾過装置２０と、ドープを濃縮するフラッシュ装置２１，濃縮後のドープを濾過する濾過装置２２などが備えられている。また、溶媒を回収するための回収装置２３と、回収された溶媒を再生するための再生装置２４とが備えられている。また、溶解タンク１３の下流にはポンプ２５が設けられ、フラッシュ装置２１の下流にはポンプ２６が設けられる。ポンプ２５は溶解タンク１３中の膨潤液４４を加熱装置１８に送り、ポンプ２６はフラッシュ装置２１中の濃縮後の濾過装置２２に送る。そして、濾過装置２０，２２の下流側には、ストックタンク３０が接続する。ドープ製造ライン１０は、ストックタンク３０を介してフイルム製膜ライン３２に接続されている。

初めに、溶媒タンク１１と溶解タンク１３とを接続する配管に設けられたバルブ３５を開き、溶媒を溶媒タンク１１から溶解タンク１３に送る。次に、ホッパ１４に入れられているＴＡＣを計量しながら溶解タンク１３に送り込む。添加剤タンク１５と溶解タンク１３とを接続する配管に設けられたバルブ３６の開閉操作を行って、必要量の添加剤溶液を添加剤タンク１５から溶解タンク１３に送り込む。なお、添加剤は溶液として送り込む方法以外にも、例えば添加剤が常温で液体の場合には、その液体の状態で溶解タンク１３に送り込むことも可能である。また、添加剤が固体の場合には、ホッパを用いて溶解タンク１３に送り込むことも可能である。添加剤を複数種類添加する場合には、添加剤タンク１５中に複数種類の添加剤を溶解させた溶液を入れておくこともできる。または、多数の添加剤タンクを用いてそれぞれに添加剤が溶解している溶液を入れて、それぞれ独立した配管により溶解タンク１３に送り込むこともできる。

前述した説明においては、溶解タンク１３に入れる順番が、溶媒（混合溶媒の場合も含めた意味で用いる）、ＴＡＣ、添加剤であったが、この順番に限定されるものではない。ＴＡＣを計量しながら溶解タンク１３に送り込んだ後に、好ましい量の溶媒を送液することもできる。また、添加剤は必ずしも溶解タンク１３に予め入れる必要はなく、後の工程でＴＡＣと溶媒との混合物（以下、これらの混合物もドープと称する場合がある）に混合させることもできる。

溶解タンク１３には、その外面を包み込むジャケット３７と、モータ３８により回転する第１攪拌翼３９とが備えられている。さらに、溶解タンク１３には、モータ４０により回転する第２攪拌翼４１が取り付けられていることが好ましい。なお、第１攪拌翼３９は、アンカー翼であることが好ましく、第２攪拌翼４１は、ディゾルバータイプのものを用いることが好ましい。ジャケット３７に伝熱媒体を流して溶解タンク１３内を−１０℃以上５５℃以下の範囲に温度調整することが好ましい。第１攪拌翼３９，第２攪拌翼４１を適宜選択して回転させることでＴＡＣが溶媒中で膨潤した膨潤液４４を得ることができる。

膨潤液４４をポンプ２５により加熱装置１８に送液する。加熱装置１８は、ジャケット付き配管を用いることが好ましく、更に膨潤液４４を加圧できる構成であることが好ましい。膨潤液４４を加熱または加圧加熱条件下でＴＡＣなどを溶媒に溶解させてドープを得る。なお、この場合に膨潤液４４の温度は、０℃以上９７℃以下であることが好ましい。加熱溶解法及び冷却溶解法を適宜選択して行うことでＴＡＣを溶媒に十分溶解させることが可能となる。温調機１９によりドープの温度を略室温とした後に、濾過装置２０により濾過を行いドープ中の不純物を取り除く。濾過装置２０の濾過フィルタの平均孔径が１００μｍ以下であることが好ましい。また、濾過流量は、５０Ｌ／時以上であることが好ましい。濾過後のドープは、バルブ４６を介してストックタンク３０に入れられる。

前記ドープは、後述する原料ドープとして用いることが可能である。しかしながら、膨潤液４４を調製した後にＴＡＣを溶解させる方法は、ＴＡＣの濃度を上昇させるほど時間がかかりコストの点で問題が生じる場合がある。その場合には、目的とするＴＡＣ濃度より低濃度のドープを調製した後に目的とする濃度のドープを調製する濃縮工程を行うことが好ましい。濾過装置２０で濾過されたドープを、バルブ４６を介してフラッシュ装置２１に送液する。フラッシュ装置２１内でドープ中の溶媒の一部を蒸発させる。蒸発した溶媒は、凝縮器（図示は省略）により液体とした後に回収装置２３で回収する。その溶媒は再生装置２４によりドープ調製用の溶媒として再生を行い再利用することがコストの点から有利である。

濃縮されたドープをフラッシュ装置２１からポンプ２６を用いて抜き出す。さらに、ドープ中の泡抜きを行うことが好ましい。泡抜きは、公知のいずれの方法により行っても良く、例えば超音波照射法が挙げられる。その後に濾過装置２２に送液して異物の除去を行う。なお、この際にドープの温度が０℃以上２００℃以下であることが好ましい。そして、ストックタンク３０にドープを入れる。

これらの方法により、ＴＡＣ濃度が１０重量％以上３０重量％以下のドープを製造することができる。なお、製造されたドープ（以下、原料ドープと称する）４８は、ストックタンク３０に貯蔵される。

上述したドープ製造ライン１０での、素材、原料、添加剤の溶解方法、濾過方法、脱泡、添加方法については、特開２００５−１０４１４８号の［０５１７］段落から［０６１６］段落が詳しい。これらの記載も本発明に適用できる。

（フイルム製造工程） 次に、本発明のフイルム製造工程５０について説明する。図２のように、フイルム製造工程５０は、上記で得られた原料ドープ４８から流延ドープ５１を調製する流延ドープ調製工程５２と、流延ドープ５１を支持体上に流延して流延膜５３を形成する流延工程５４と、自己支持性を有する流延膜５３を支持体から剥ぎ取って湿潤フイルム５５とする剥取工程５６と、湿潤フイルム５５を乾燥して、フイルム５７を得る乾燥工程５８とを有する。なお、このフイルム５７を巻き取り、フイルムロールとする巻取工程を行っても良い。

（溶液製膜設備）
図３にフイルム製膜ライン３２を示す。ストックタンク３０には、モータ６１で回転する攪拌翼６２が取り付けられている。攪拌翼６２を回転させることで原料ドープ４８を攪拌して常に濃度等を均一にしている。ストックタンク３０と後述するフィードブロックとの間には、中間層用ドープ流路６３と裏面層用ドープ流路６４と表面層用ドープ流路６５とが接続されている。それぞれの流路６３〜６５にギアポンプ６６〜６８が設けられる。

本実施形態では、基層を形成するドープ（以下、基層形成用ドープと称する）として中間層用ドープ７１を用い、表層を形成するドープ（以下、表層形成用ドープと称する）として、裏面層用ドープ７２，表面層用ドープ７３を用いる。基層形成用ドープとしては、製造する光学機能性フイルムの強度や光学的機能に適するドープを用い、表層形成用ドープとしては、光学機能性フイルムの平面性や滑り性を良くするためのドープを用いる。また、上記に加え、表層形成用ドープとして、基層形成用ドープよりも粘性が低いものを用いることが好ましい。これにより、後述する乾燥工程などにおいて、後述する流延膜や湿潤フイルムの表面におけるスジやムラの生成や、厚さムラなどを防ぐことができる。

ギアポンプ６６〜６８は、図示を省略した制御部に接続する。この制御部により、ギアポンプ６６〜６８は、ストックタンク３０から原料ドープ４８を送液し、また、原料ドープ４８からつくられる中間層用ドープ７１，裏面層用ドープ７２，表面層用ドープ７３をフィードブロック７４に送液する。

中間層用ドープ流路６３には、配管を介してストックタンク７５が接続する。ストックタンク７５には、中間層用添加液７６が貯留する。流路６３とストックタンク７５とを接続する配管には、ポンプ７７が設けられる。ストックタンク７５中の中間層用添加液７６は、ポンプ７７により中間層用ドープ流路６３に送液され、中間層用ドープ流路６３中の原料ドープ４８に添加される。その後、原料ドープ４８と中間層用添加液７６とは、中間層用ドープ流路６３に設けられる静止型混合器（スタティックミキサ）７８により攪拌混合されて均一となる。以下、このドープを中間層用ドープ７１と称する。中間層用添加液７６には、例えば紫外線吸収剤，レターデーション制御剤や可塑剤などの添加剤が予め含まれた溶液（または分散液）が入れられている。

裏面層用ドープ流路６４には、配管を介してストックタンク８０が接続する。ストックタンク８０には、裏面層用添加液８１が貯留する。流路６４とストックタンク８０とを接続する配管には、ポンプ８２が設けられる。ストックタンク８０中の裏面層用添加液８１は、ポンプ８２により裏面層用ドープ流路６４に送液され、裏面層用ドープ流路６４中の原料ドープ４８に添加される。その後、原料ドープ４８と裏面層用添加液８１とは、裏面層用ドープ流路６４に設けられる静止型混合器８３により攪拌混合されて均一となる。以下、このドープを裏面層用ドープ７２と称する。裏面層用添加液８１には、支持体である流延バンドからの剥離を容易とする剥離促進剤（例えば、クエン酸エステルなど）、フイルムをロール状に巻き取った際にフイルム面間での密着を抑制するマット剤（例えば、二酸化ケイ素など）や劣化防止剤などの添加剤が予め含有されている。なお、裏面層用添加液８１には、可塑剤，紫外線吸収剤やレターデーション制御剤などの光学特性制御剤などの添加剤が含まれていても良い。

表面層用ドープ流路６５には、配管を介してストックタンク８５が接続される。ストックタンク８５には、表面層用添加液８６が貯留する。流路６５とストックタンク８５とを接続する配管には、ポンプ８７が設けられる。ストックタンク８５中の表面層用添加液８６は、ポンプ８７により表面層用ドープ流路６５に送液され、表面層用ドープ流路６５中の原料ドープ４８に添加される。その後、原料ドープ４８と表面層用添加液８６とは、表面層用ドープ流路６５に設けられる静止型混合器８８により攪拌混合されて均一となる。以下、このドープを表面層用ドープ７３と称する。表面層用添加液８６には、フイルムをロール状に巻き取った際にフイルム面間での密着を抑制するマット剤（例えば、二酸化ケイ素など）や劣化防止剤などの添加剤が予め含有されている。なお、表面層用添加液８６には、剥離促進剤，可塑剤，紫外線吸収剤やレターデーション制御剤などの光学特性制御剤などの添加剤が含まれていても良い。

フィードブロック７４の内部には３本の内部流路が設けられている。これらの内部流路は、それぞれ流路６３〜６５と接続している。第１の内部流路は、鉛直下向きに延びるように、流路６３からフィードブロック７４を貫通し、流延ダイ９１に接続する。第１の内部流路の途中には合流部が設けられる。第２の内部流路、第３の内部流路は、流路６４、６５から合流部まで延びるように形成される。この合流部で、各ドープ７１〜７３が層をなす流延ドープ５１が形成される。フィードブロック７４は、各ドープ７１〜７３を所定の温度に保持する温調機（例えば、ヒータ，ジャケットなど）を備えることが好ましい。

（流延室）
流延ダイ９１は、フィードブロック７４の下流側と連結するように配される。流延ダイ９１の下流には、回転ドラム９３，９４や流延バンド９５が設けられる。流延バンド９５と回転ドラム９３、９４の詳細は後述する。流延室９６には、流延ダイ９１、回転ドラム９３、９４、流延バンド９５の他、流延室９６内の温度を所定の値に保つ温調設備９７が取り付けられている。温調設備９７は、流延室９６の室温を−１０℃以上５７℃以下に保つ。また、流延室９６内で蒸発している溶媒を凝縮回収するための凝縮器（コンデンサ）９８が設けられている。凝縮液化した有機溶媒は、回収装置９９により回収され再生させた後に、ドープ調製用溶媒として再利用される。

フィードブロック７４及び流延ダイ９１の材質は析出硬化型のステンレス鋼を用いることが好ましい。その熱膨張率が２×１０^-5 （℃^-1 ）以下の素材を用いることが好ましい。また、電解質水溶液での強制腐食試験でＳＵＳ３１６と略同等の耐腐食性を有するものを用いることもできる。さらに、その素材はジクロロメタン、メタノール、水の混合液に３ヵ月浸漬しても気液界面にピッティング（孔開き）が生じない耐腐食性を有するものを用いる。さらに、鋳造後１ヶ月以上経過したものを研削加工して流延ダイ９１を作製することが好ましい。これにより流延ダイ９１内を流れるドープの面状が一定に保たれる。流延ダイ９１及びフィードブロック７４の接液面の仕上げ精度は表面粗さで１μｍ以下、真直度はいずれの方向にも１μｍ／ｍ以下のものを用いることが好ましい。スリットのクリアランスの平均値が、自動調整により０．５ｍｍ〜３．５ｍｍの範囲で調整可能なものを用いる。流延ダイ９１のリップ先端の接液部の角部分について、Ｒはスリット全巾に亘り５０μｍ以下のものを用いる。また、流延ダイ９１内でのドープ７１〜７３の剪断速度は１（１／秒）〜５０００（１／秒）となるように調整されているものを用いることが好ましい。

（流延ダイ）
流延ダイ９１は、流延ドープ５１を所定の温度に保持する温調機（例えば、ヒータ，ジャケットなど）を備えることが好ましい。また、流延ダイ９１にはコートハンガー型のものを用いることが好ましい。さらに、厚み調整ボルト（ヒートボルト）を所定の間隔で設けてヒートボルトによる自動厚み調整機構を取り付けることがより好ましい。ヒートボルトは予め設定されるプログラムによりギアポンプ６６〜６８の送液量に応じてプロファイルを設定し製膜を行うことが好ましい。また、フイルム製膜ライン３２中に図示を省略した厚み計（例えば、赤外線厚み計）のプロファイルに基づく調整プログラムによってフィードバック制御を行っても良い。流延エッジ部を除いて任意の２点の厚み差は１μｍ以内に調整し、幅方向厚みの最小値で最も大きな差が３μｍ以下となるように調整することが好ましい。また、厚み精度は±１．５μｍ以下に調整されているものを用いることが好ましい。

流延ダイ９１のリップ先端に硬化膜が形成されていることがより好ましい。硬化膜の形成方法は、特に限定されるものではないが、セラミックスコーティング、ハードクロムメッキ、窒化処理方法などが挙げられる。硬化膜としてセラミックスを用いる場合には、研削でき気孔率が低く脆くなく耐腐食性が良く、かつ流延ダイ９１と密着性が良く、ドープと密着性がないものが好ましい。具体的には、タングステン・カーバイド（ＷＣ），Ａｌ₂ Ｏ₃ ，ＴｉＮ，Ｃｒ₂Ｏ₃ などが挙げられるが特に好ましくはＷＣを用いることである。ＷＣコーティングは、溶射法で行うことができる。

流延ダイ９１のスリット端に流出するドープが、局所的に乾燥固化することを防止するために溶媒供給装置（図示は省略）をスリット端に取り付けることが好ましい。ドープを可溶化する溶媒（例えば、ジクロロメタン８６．５重量部，メタノール１３重量部，１−ブタノール０．５重量部の混合溶媒）を流延ビード端部とスリットとの気液界面に供給することが好ましい。なお、この液を供給するポンプの脈動率は５％以下のものを用いることが好ましい。

（減圧チャンバ）
流延ダイ９１の近傍には、流延ビードの形成を安定化させる減圧チャンバ１００が設けられている。減圧チャンバ１００は、流延ビードの背面側（流延バンド９５の走行方向上流側）に配されており、例えば、流延ビードの背面側の圧力を前面側よりも１０Ｐａ以上２０００Ｐａ以下の範囲で減圧する。さらに、減圧チャンバ１００の温度を所定の温度に保つため、ジャケット（図示は省略）を取り付けることが好ましい。減圧チャンバ１００の温度は特に限定されるものではないが、１０℃以上５０℃以下の範囲であることが好ましい。また、流延ビードの形状を所望のものにたもつため流延ダイ９１のエッジ部に吸引装置（図示は省略）を取り付けることが好ましい。エッジ吸引風量は、１Ｌ／分以上１００Ｌ／分以下の範囲であることが好ましい。

（渡り部）
流延室９６の下流側には渡り部１０５が設けられる。渡り部１０５には、ローラ１０６、送風機１０７が配される。ローラ１０６が、流延室９６から送り出された湿潤フイルム５５を所定の方向に搬送する搬送路を形成する。渡り部１０５では、送風機１０７から所望の温度の乾燥風を送風することで湿潤フイルム５５の乾燥を進行させる。このとき乾燥風の温度が、２０℃以上２５０℃以下であることが好ましい。なお、渡り部１０５では下流側のローラの回転速度を上流側のローラの回転速度より速くすることにより湿潤フイルム５５に流延方向に延伸を付与させることも可能である。

（テンタ）
渡り部１０５の下流側にはテンタ１１０が設けられる。テンタ１１０は、湿潤フイルム５５の両側端部を担持するクリップと、クリップにより担持された湿潤フイルム５５に乾燥風をあてるための送風機とが設けられる。テンタ１１０内を異なった温度ゾーンに区画して乾燥条件を調整することが好ましい。テンタ１１０を用いて湿潤フイルム５５を幅方向に延伸及び緩和させることも可能である。このように、渡り部１０５またはテンタ１１０で湿潤フイルム５５の流延方向と幅方向との少なくとも１方向を０．５％〜３００％延伸することが好ましい。

（耳切装置）
テンタ１１０の下流側には耳切装置１１２が設けられる。耳切装置１１２は、フイルム５７の両端を切断する。切断されたフイルムは、図示を省略したカッターブロワによりクラッシャ１１３に送られる。クラッシャ１１３によりフイルム５７の縁部は、粉砕されてチップとなる。このチップをドープ調製用に再利用することがコストの点から有利である。なお、このフイルム５７の両縁を切断する工程は、省略することもできるが、前記流延してからフイルム５７を巻き取るまでのいずれかで行うことが好ましい。

（乾燥室）
耳切装置１１２の下流側には乾燥室１１５が設けられる。乾燥室１１５は、多数のローラ１１６と温調機（図示は省略）とを備える。ローラ１１６は、耳切装置１１２から送られるフイルム５７を所定の方向に搬送する。温調機は、乾燥室１１５の温度や湿度を所定の条件下に保持する。乾燥室１１５の温度は特に限定されるものではないが、６０℃以上１４５℃以下の範囲であることが好ましい。乾燥室１１５でフイルム５７は、ローラ１１６に巻き掛けられながら搬送され、フイルム５７中の溶媒は蒸発する。これにより、フイルム５７が乾燥する。また、乾燥室１１５には、吸着回収装置１１７が取り付けられている。吸着回収装置１１７は、乾燥室１１５内で気化した溶媒を吸着回収する。吸着回収装置１１７は、溶媒成分が除去された気体を、乾燥室１１５内に乾燥風として再度送風する。なお、乾燥室１１５は、乾燥温度を変えるために複数の区画に分割されていることがより好ましい。また、耳切装置１１２と乾燥室１１５との間に予備乾燥室（図示は省略）を設け、フイルム５７の予備乾燥を行うことにより、急激な温度の上昇によるフイルム５７の形状変化を抑制できるためにより好ましい。

乾燥室１１５の下流側には冷却室１１８が設けられる。冷却室１１８では、乾燥室１１５から送り出されたフイルム５７を略室温まで冷却する。なお、乾燥室１１５と冷却室１１８との間に調湿室（図示は省略）を設けても良い。調湿室でフイルム５７の所望の湿度及び温度に調整された風を吹き付ける。これにより、フイルム５７のカールの発生やフイルム５７を巻き取る際の巻き取り不良の発生を抑制できる。

冷却室１１８の下流側には巻取室１２０が設けられる。巻取室１２０には、巻取ローラ１２１が設けられる。巻取ローラ１２１は、図示を省略した制御部により回転し、冷却室１１８からおくられるフイルム５７を巻取る。フイルム５７を巻き取る際、プレスローラ１２２を用いて、所望のテンションを付与しつつフイルム５７を巻き取ることが好ましい。なお、テンションは巻取開始時から終了時まで徐々に変化させることがより好ましい。巻き取られるフイルム５７は、長手方向（流延方向）に少なくとも１００ｍ以上とすることが好ましい。また、フイルム５７の幅が５００ｍｍ以上であることが好ましく、５００ｍｍ以上２８００ｍｍ以下であることがより好ましい。フイルム製膜ライン３２は、厚さ１５μｍ以上１００μｍ以下であり、フイルム５７全体の厚さムラが５％以下、幅方向の厚さムラが２％以下のフイルム５７を製造することができる。

なお、冷却室１１８と巻取室１２０との間には、強制除電装置（除電バー）１２５やナーリング付与ローラ対１２６などが設けられている。強制除電装置（除電バー）１２５は、フイルム５７が搬送されている間の帯電圧が所定の範囲（例えば、−３ｋＶ〜＋３ｋＶ）となるように除電を行う。図３では、冷却室１１８の下流側に設けられている例を図示しているが、その位置に限定されるものではない。ナーリング付与ローラ対１２６は、フイルム５７の両縁にエンボス加工でナーリングを付与する。なお、ナーリングされた箇所の変形は、１μｍ〜２００μｍであることが好ましい。

次に、流延室９６の内部の詳細について説明する。図３及び図４に示すように、流延バンド９５の近傍には、剥取ローラ（剥ぎ取り手段）１４０が設けられる。流延ダイ９１から流出する流延ドープ５１は、この流延バンド９５上で流延膜５３を形成し、所定の方向へ搬送される。流延バンド９５上の流延膜５３は、剥取ローラ１４０により剥ぎ取られ、湿潤フイルム５５となって渡り部１０５へ送られる。

また、流延バンド９５の近傍には、送風機１４１〜１４３が設けられる。送風機１４１〜１４３は、流延膜５３中の溶媒を蒸発させるための乾燥風を送り出す送風口を有する。送風機１４１〜１４３の取り付け位置として、流延バンド９５の上部上流側、上部下流側や流延バンド９５の下部とする形態を図示しているがこれに限定されるものではない。また、流延ダイ９１と送風機１４１との間には、遮風板１４５が設けられている。遮風板１４５は、流延ビードに乾燥風が直接吹き付けられることによる膜面の面状変動を抑える。

（回転ドラム）
回転ドラム９３，９４は、略円柱状又は略円筒状に形成されている。回転ドラム９３，９４は、図示を省略した駆動部によって、少なくとも一方が回転駆動される。この回転ドラム９３，９４の回転にともなって、流延バンド９５が連続的に走行する。また、回転ドラム９３，９４は、間隔が調整できるように構成されている。これにより、各回転ドラム９３，９４に巻き掛けられた流延バンド９５に所定のテンションが付与される。なお、流延バンド９５に付与されるテンションは、３０Ｎ／ｍｍ^２〜１００Ｎ／ｍｍ^２であることが好ましい。

なお、回転ドラム９３，９４の形状は、上記に限るものではないが、回転ドラム９３，９４の周面に沿って流延バンド９５が走行させる際、回転ドラム９３，９４や流延バンド９５に発生する応力が小さいものであることが好ましい。また、回転ドラム９３，９４の周面９３ａ、９４ａの平均粗さは、０．０１μｍ以下であることが好ましい。さらに、回転ドラム９３、９４には、耐摩耗性の高いステンレス鋼を用いることが好ましい。この際、周面９３ａ、９４ａにクロムメッキ処理などを行って、十分な硬度と耐久性とを持たせるようにすると、さらに好適である。

回転ドラム９３，９４には、流延バンド９５の温度を所定の値にするための伝熱媒体循環装置１４６が取り付けられている。回転ドラム９３，９４の内部には、伝熱媒体を流すための流路が形成されている。伝熱媒体循環装置１４６は、所定の温度に調節された伝熱媒体を前述の流路に循環させることで、回転ドラム９３，９４の温度を所定の範囲に保持する。これにより、回転ドラム９３，９４の温度を介して流延バンド９５の温度が、所望の範囲に保持される。なお、流延バンド９５の温度は、例えば、０℃以上４０℃以下であることが好ましい。

（流延バンド）
流延バンド９５は、環状に形成されている。流延バンド９５の外面９５ａは、流延ダイ９１から流出した流延ドープ５１を支持して流延膜５３を形成する。一方、流延バンド９５の内面９５ｂは、回転ドラム９３、９４の周面９３ａ、９４ａと接触する。流延バンド９５の幅Ｗ１は、特に限定されるものではないが、例えば、ドープの流延幅の１．１倍〜３．０倍の範囲のものを用いることが好ましい。また、流延バンド９５の周囲の長さは、１０ｍ以上２００ｍ以下、厚みは、０．３ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることが好ましい。

流延膜５３の厚さムラ故障を抑制するため、流延バンド９５の全体の厚みムラは、０．５％以下であることが好ましく、幅方向の厚みムラは、０．１％以下であることが好ましい。また、外面９５ａの粗さは０．０５μｍ以下であることが好ましい。流延バンド９５の表面欠陥は最小限に抑制する必要がある。具体的には、３０μｍ以上のピンホールは皆無であり、１０μｍ以上３０μｍ未満のピンホールは１個／ｍ² 以下であり、１０μｍ未満のピンホールは２個／ｍ² 以下とすることが好ましい。

流延バンド９５には、十分な耐腐食性と耐摩耗性と強度とを有するオーステナイト系ステンレス鋼が用いられる。オーステナイト系ステンレスのうち、ＳＵＳ３１６、ＳＵＳ３１６Ｌ、ＳＵＳ３１６ＬＮ、ＳＵＳ３１６Ｎなどを用いることが好ましく、中でもＳＵＳ３１６を用いることが最適である。また、ＳＵＳ３１６の中では、オーステナイト生成元素が多く、フェライト生成元素が少ないもの、またはいずれか１つを満たすものであることが好ましい。オーステナイト生成元素には、例えば、Ｃ、Ｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｃｕなどが挙げられ、フェライト生成元素には、例えば、Ｃｒ、Ｓｉ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ａｌなどが挙げられる。これらの中でも、１．３５重量％以上２重量％以下のＭｎと、１１重量％以上１４重量％以下のＮｉと、１６重量％以上１７重量％以下のＣｒと、２重量％以上２．０７重量％以のＭｏとのうち少なくとも１つを満たすステンレス鋼であることが好ましい。また、上記の他、加工硬化を抑制するＰ（リン）やＳ（硫黄）などを添加しても良い。

また、流延バンド９５内の残留応力は少ないことが好ましい。流延バンド９５内の残留応力は、外面９５ａにスジ状の変形を誘起するためである。そのため、鋳造後１ヶ月以上経過したものを研削加工して流延バンド９５を作製することが好ましい。更に、作成後、加工時に生じた残留応力が緩和された流延バンド９５を用いることが好ましい。

流延バンド９５の走行速度が遅いと、フイルム５７の生産性が悪い。一方、流延バンド９５の走行速度が速すぎると、流延バンド９５に上下方向の振動や幅方向の蛇行などが生じるため、フイルム５７の品質を低下させる要因となる。このため、流延バンド９５の走行速度は、４５ｍ／分以上２００ｍ／分以下とすることが好ましい。この際、流延バンド９５と回転ドラム９３，９４との相対速度差は、０．０１ｍ／分以下とすることが好ましい。また、流延バンド９５に速度変動が生じると、流延膜５３の長手方向の厚みムラの要因となる。このため、流延バンド９５の速度変動は、０．５％以下であることが好ましい。なお、流延バンド９５が一回転する際に生じる幅方向の蛇行は、１．５ｍｍ以下とすることが好ましい。この蛇行を制御するため、流延バンド９５の両端を検出する検出器（図示は省略）を設け、その測定値に基いてフィードバック制御を行うようにしてもよい。

（ガイドローラ）
図４に示すように、回転ドラム９３，９４の間には、等間隔に並べて配置された複数のガイドローラ１０２が設けられている。各ガイドローラ１０２は、流延バンド９５の上部の内面９５ｂと接触して流延バンド９５を内側から支持し、流延バンド９５の上部に生じる撓みや振動などを防止する。流延ダイ９１から流出する流延ドープ５１を受ける流延バンド９５の上部に撓みや振動などの上下方向の位置変動が生じると、流出直後の自己支持性の低い流延膜５３に厚みムラなどの悪影響を与える恐れがある。このため、各ガイドローラ１０２は、流延バンド９５の上部に生じる上下方向の位置変動を防止し、流延膜５３に厚みムラなどが生じることを防ぐ。なお、流延バンド９５の上部に生じる上下方向の位置変動は、流延バンド９５に付与されるテンションや各ガイドローラ１０２との接触面圧などを調整することによって、２００μｍ以下にすることが好ましい。

図５に示すように、各ガイドローラ１０２は、回転ドラム９３，９４と略平行に配置される金属ローラ部（ローラ本体部）１０３と、この金属ローラ部１０３に巻き付けられた無端状のゴム部１０４とによって構成されており、いわゆるゴムライニングされたローラとなっている。金属ローラ部１０３には、回転軸１０３ａが形成されている。各ガイドローラ１０２は、この回転軸１０３ａを介して回動自在に保持され、流延バンド９５の走行に応じて従動回転する。なお、各ガイドローラ１０２は、従動回転するものに限らず、回転駆動されるものであってもよい。

流延バンド９５には、各ガイドローラ１０２と接触する際に、ガイドローラ１０２からの垂直抗力が加わる。この垂直抗力が過大になると、流延バンド９５の内面９５ｂの近傍のオーステナイト系ステンレス相Ｐ１（図６（Ａ）参照）が、マルテンサイト系ステンレス相Ｑ１（図６（Ｂ）参照）に変化してしまうことがある。オーステナイト系ステンレス相Ｐ１がマルテンサイト系ステンレス相Ｑ１に変化すると、約４％体積が増加することが知られている。このため、マルテンサイト系ステンレス相Ｑ１への変化が生じると、図６（Ｂ）に示すように、内面９５ｂが隆起し、これに伴って外面９５ｂが凹状に湾曲する。また、マルテンサイト系ステンレス相Ｑ１への変化は、各ガイドローラ１０２との接触に伴って、流延バンド９５の走行方向に連続的に発生する。すなわち、各ガイドローラ１０２からの過大な垂直抗力は、外面９５ｂに流延バンド９５の走行方向と略平行なスジ状の変形を生じさせる。こうしたスジ状の変形は、流延膜５３の幅方向の厚みムラの要因となる。

ゴム部１０４は、流延バンド９５のマルテンサイト化による外面９５ａの変形を防止するためのものであって、その弾性によって内面９５ｂと接触する際の接触面圧を低減し、流延バンド９５に加わる垂直抗力を抑える。この際、ゴム部１０４が柔らかすぎると、流延バンド９５との摩擦によって磨耗し、ゴム部１０４の変形や破損などが懸念される。一方、ゴム部１０４が硬すぎると、マルテンサイト化の問題を起こしかねない。このため、ゴム部１０４の硬度は、６０°〜１００°［ＪＩＳ−Ａ］であることが好ましく、特に７０°〜８０°［ＪＩＳ−Ａ］であることが好適である。

ところで、ゴム部１０４が厚すぎると、接触面圧によってゴム部１０４に割れなどの破損や変形が生じてしまうことが懸念される。一方、ゴム部１０４が薄すぎると、接触面圧を低減させる効果が薄れてしまう。このため、ゴム部１０４の厚みｔ１は、１ｍｍ〜１０ｍｍであることが好ましく、５ｍｍが最適である。また、ゴム部１０４の表面が粗すぎると、点接触になってマルテンサイト化を誘起しやすい。一方、ゴム部１０４の表面が滑らかすぎると、流延バンド９５との摩擦が低下してスリップの要因となる。このため、ゴム部１０４の表面粗さは、最大高さＲｙが０．１μｍ〜１０μｍであることが好ましく、特に２μｍ〜８μｍであることが好適である。

なお、ゴム部１０４には、例えば、耐摩耗性、耐溶剤性に優れたフッ素ゴム（ＦＫＭ）などを用いることが好ましい。フッ素ゴムとしては、例えば、ハイフロン（明和ゴム工業（株）製）などの商品名で市販されているものが使用できる。また、金属ローラ部１０３には、例えば、耐腐食性の高いステンレス鋼などを用いることが好ましい。

次に、本発明の作用について説明する。

ドープ製造ライン１０（図１）では、溶媒、ＴＡＣや添加剤液などから、原料ドープ４８が調整され、ストックタンク３０に貯留する。

図３のように、ギアポンプ６６〜６８により、ストックタンク３０に貯留する原料ドープ４８は、中間層用ドープ流路６３と裏面層用ドープ流路６４と表面層用ドープ流路６５へ送液される。流路６３〜６５では、原料ドープ４８に所定の添加剤等が添加され、静止型混合器（スタティックミキサ）７８、８３、８８により、中間層用ドープ７１，裏面層用ドープ７２，表面層用ドープ７３がつくられる。こうして、中間層用ドープ７１，裏面層用ドープ７２，表面層用ドープ７３は、フィードブロック７４にそれぞれ所望の流量で送液される。各ドープ７１〜７３は、フィードブロック７４内で合流し、流延ドープ５１となって流延ダイ９１へ送られる（図４）。

流延ダイ９１は、流延ドープ５１を流延バンド９５に流出する。流延ダイ９１から流延バンド９５にかけて、流延ドープ５１は、流延ビードを形成する。流延バンド９５上に流出した流延ドープ５１は流延膜５３を形成する。この流延膜５３は、流延ドープ５１と同様に各ドープ７１〜７３が層をなしている。なお、このときのドープ７１〜７３の温度は、−１０℃以上５７℃以下であることが好ましい。

回転ドラム９３、９４は、伝熱媒体循環装置１４６により所定の温度に保持される。また、図示を省略した駆動部により回転ドラム９３が、所定の速度で回転する。回転ドラム９３の回転に従動して流延バンド９５が所定の速度で走行する。そして、流延バンド９５の走行に従動して回転ドラム９４が回転する。流延膜５３は、剥取ローラ１４０によって剥ぎ取られるまで、流延バンド９５により流延室９６内を案内される。流延室９６内を案内される間、送風機１４１〜１４３が流延膜５３に乾燥風をあてて、流延膜５３内の溶媒を蒸発させる。こうして、所望の程度まで乾燥された流延膜５３は、剥取ローラ１４０によって剥ぎ取られ、湿潤フイルム５５となる。

流延膜５３が自己支持性を有するものとなった後に剥取ローラ１４０で支持しながら湿潤フイルム５５として流延バンド９５から剥ぎ取る。その後に多数のローラが設けられている渡り部１０５を搬送させた後にテンタ１１０に送り込む。渡り部１０５では、送風機１０７から所望の温度の乾燥風を送風することで湿潤フイルム５５の乾燥を進行させる。

テンタ１１０には、所定の乾燥条件に保持された温度ゾーンが設けられる。テンタ１１０に送られる湿潤フイルム５５は、その両縁がクリップ等で把持されながら温度ゾーンに搬送される。この温度ゾーンへの搬送或いは通過において、湿潤フイルム５５に含まれる溶媒が蒸発し、湿潤フイルム５５が乾燥する。テンタ１１０は、乾量基準の残留溶媒量が２５０重量％以上１０重量％以下になるまで湿潤フイルム５５を乾燥することが好ましい。なお、この乾量基準による残留溶媒量は、サンプリング時におけるフイルム重量をｘ、そのサンプリングフイルムを乾燥した後の重量をｙとするとき｛（ｘ−ｙ）／ｙ｝×１００で算出される値である。

テンタ１１０で所定の残留溶媒量まで乾燥された湿潤フイルム５５は、フイルム５７として送り出され、耳切装置１１２によりその両縁が切断される。次にフイルム５７は、乾燥室１１５に送られる。乾燥室１１５では、フイルム５７の残留溶媒量を乾量基準で５重量％以下にすることが好ましい。その後、フイルム５７は、冷却室１１８に搬送され、略室温まで冷却される。最後に、フイルム５７を巻取室１２０内の巻取ローラ１２１で巻き取る。

流延工程５４では、駆動部を介して回転ドラム９３を回転させ、この回転に伴わせて流延バンド９５を所定の速度で走行させる。この際、流延バンド９５は、各回転ドラム９３、９４によって支持されるとともに、各回転ドラム９３、９４の間を各ガイドローラ１０２によって支持される。各ガイドローラ１０２は、流延バンド９５の内面９５ｂと接触する外周部分にゴム部１０４を有している。ゴム部１０４は、流延バンド９５と接触した際の接触面圧を低減させ、流延バンド９５に過大な垂直抗力が加わることを防ぐ。これにより、流延バンド９５にオーステナイト系ステンレスを用いた際の、流延バンド９５のマルテンサイト化が防止される。また、流延バンド９５のマルテンサイト化を防止することで、厚みムラのないフイルム５７を製造することができる。

さらに、流延バンド９５のマルテンサイト化によって外面９５ａにスジ状の変形が起きた場合には、この変形に起因する厚みムラ故障を回避するために流延バンド９５の走行速度を減速させたり、新たな流延バンド９５に交換するために溶液製膜設備全体を停止させたりする必要があったが、本発明により、流延バンド９５の減速、溶液製膜設備全体の停止が不要になる。従って、本発明は、厚みムラがないフイルム５７を高い生産効率で製造することができる。

なお、上記実施形態では、複数のドープが層をなす流延ドープ５１を用いて複数の層を有する流延膜５３をつくる溶液製膜設備、及び溶液製膜方法について説明したが、本発明はこれに限らず、例えば、単層のドープからなる流延ドープを用いて流延膜をつくる溶液製膜設備、及び溶液製膜方法などにも適用することができる。

また、上記実施形態では、流延バンド９５の上部のみをガイドローラ１０２で支持するようにしているが、これに限ることなく、流延バンド９５の下部をガイドローラ１０２で支持するようにしてもよい。さらに、上記実施形態では、ガイドローラ１０２のローラ本体部としてステンレス鋼からなる金属ローラ部１０３を示したが、ローラ本体部は、これに限ることなく、例えば、硬質な樹脂材料などによって成形されるものであってもよい。

なお、流延ダイ、減圧チャンバ、支持体などの構造、共流延、剥離法、延伸、各工程の乾燥条件、ハンドリング方法、カール、平面性矯正後の巻取方法から、溶媒回収方法、フイルム回収方法まで、特開２００５−１０４１４８号の［０６１７］段落から［０８８９］段落に詳しく記述されている。これらの記載も本発明に適用できる。

［性能・測定法］
（カール度・厚み）
巻き取られたセルロースアシレートフイルムの性能及びそれらの測定法は、特開２００５−１０４１４８号の［０１１２］段落から［０１３９］段落に記載されている。これらも本発明にも適用できる。

［表面処理］
前記セルロースアシレートフイルムの少なくとも一方の面が表面処理されていることが好ましい。前記表面処理が真空グロー放電処理、大気圧プラズマ放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理、火炎処理、酸処理またはアルカリ処理の少なくとも一種であることが好ましい。

［機能層］
（帯電防止・硬化層・反射防止・易接着・防眩）
前記セルロースアシレートフイルムの少なくとも一方の面が下塗りされていても良い。

さらに前記セルロースアシレートフイルムをベースフイルムとして、他の機能性層を付与した機能性材料として用いることが好ましい。前記機能性層が帯電防止層、硬化樹脂層、反射防止層、易接着層、防眩層及び光学補償層から選択される少なくとも１層を設けることが好ましい。

前記機能性層が、少なくとも一種の界面活性剤を０．１ｍｇ／ｍ^２〜１０００ｍｇ／ｍ^２含有することが好ましい。また、前記機能性層が、少なくとも一種の滑り剤を０．１ｍｇ／ｍ^２〜１０００ｍｇ／ｍ^２含有することが好ましい。さらに、前記機能性層が、少なくとも一種のマット剤を０．１ｍｇ／ｍ^２〜１０００ｍｇ／ｍ^２含有することが好ましい。さらには、前記機能性層が、少なくとも一種の帯電防止剤を１ｍｇ／ｍ^２〜１０００ｍｇ／ｍ^２含有することが好ましい。セルロースアシレートフイルムに、種々様々な機能、特性を実現するための表面処理機能性層の付与方法は、上記以外にも、特開２００５−１０４１４８号の［０８９０］段落から［１０８７］段落に詳細な条件、方法も含めて記載されている。これらも本発明に適用できる。

（用途）
前記セルロースアシレートフイルムは、特に偏光板保護フイルムとして有用である。セルロースアシレートフイルムを偏光子に貼り合わせた偏光板を、液晶層に通常は２枚貼って液晶表示装置を作製する。ただし、液晶層と偏光板との配置は限定されるものではなく、公知の各種配置とすることができる。特開２００５−１０４１４８号には、液晶表示装置として、ＴＮ型，ＳＴＮ型，ＶＡ型，ＯＣＢ型，反射型、その他の例が詳しく記載されている。この方法は、本発明にも適用できる。また、同出願には光学的異方性層を付与した、セルロースアシレートフイルムや、反射防止、防眩機能を付与したセルロースアシレートフイルムについての記載もある。更には適度な光学性能を付与し二軸性セルロースアシレートフイルムとして光学補償フイルムとしての用途も記載されている。これは、偏光板保護フイルムと兼用して使用することもできる。これらの記載は、本発明にも適用できる。特開２００５−１０４１４８号の［１０８８］段落から［１２６５］段落に詳細が記載されている。

また、本発明の製造方法により光学特性に優れるセルローストリアセテートフイルム（ＴＡＣフイルム）を得ることができる。前記ＴＡＣフイルムは、偏光板保護フイルムや写真感光材料のベースフイルムとして用いることができる。さらにテレビ用途などの液晶表示装置の視野角依存性を改良するための光学補償フイルムとしても使用可能である。特に偏光板の保護膜を兼ねる用途に効果的である。そのため、従来のＴＮモードだけでなくＩＰＳモード、ＯＣＢモード、ＶＡモードなどにも用いられる。また、前記偏光板保護膜用フイルムを用いて偏光板を構成しても良い。

次に、本発明の実施例を説明する。以下の各実施例では、詳細を実施例１で説明し、実施例２〜４については、実施例１と異なる条件のみを説明する。なお、実施例１〜３は本発明の実施様態の例であり、実施例４は実施例１〜３に対する比較実験である。

以下に実施例１を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。使用した重量部を下記に示す。
［組成］
セルローストリアセテート（置換度２．８４、粘度平均重合度３０６、含水率０．２重量％、ジクロロメタン溶液中６重量％の粘度３１５ｍＰａ・ｓ、平均粒子径１．５ｍｍであって標準偏差０．５ｍｍである粉体） １００重量部
ジクロロメタン（第１溶媒） ３２０重量部
メタノール（第２溶媒） ８３重量部
１−ブタノール（第３溶媒） ３重量部
可塑剤Ａ（トリフェニルフォスフェート） ７．６重量部
可塑剤Ｂ（ジフェニルフォスフェート） ３．８重量部
染料（染料例 化−１１５（Ｉ−４）） ０．０００５重量部

［綿化合物］
なお、ここで使用したセルローストリアセテートは、残存酢酸量が０．１重量％以下であり、Ｃａ含有量が５８ｐｐｍ、Ｍｇ含有量が４２ｐｐｍ、Ｆｅ含有量が０．５ｐｐｍであり、遊離酢酸４０ｐｐｍ、さらに硫酸イオンが１５ｐｐｍ含むものであった。また６位アセチル基の置換度は０．９１であり全アセチル中の３２．５％であった。また、アセトン抽出分は８重量％、重量平均分子量／数平均分子量比は２．５であった。また、イエローインデックスは１．７であり、ヘイズは０．０８、透明度は９３．５％であり、Ｔｇ（ガラス転移温度；ＤＳＣにより測定）は１６０℃、結晶化発熱量は６．４Ｊ／ｇであった。このセルローストリアセテートは、綿から採取したセルロースを原料としてセルローストリアセテートを合成した。

（１−１）ドープ仕込み
図１に示すドープ製造ライン１０を用いた。攪拌翼根を有する４０００Ｌのステンレス製の溶解タンク１３に、前記複数の溶媒を混合して混合溶媒として攪拌・分散しつつ、セルローストリアセテート粉体（フレーク）をホッパ１４から徐々に添加し、全体が２０００ｋｇとなるように調製した。なお、溶媒は、すべてその含水率が０．５重量％以下のものを使用した。溶解タンク１３内を攪拌剪断速度が最初は５ｍ／秒（剪断応力５×１０^４ｋｇｆ／ｍ／秒^２）の周速で攪拌するディゾルバータイプの第２攪拌翼４１および、中心軸にアンカータイプの第１攪拌翼３９を有して周速１ｍ／秒（剪断応力１×１０^４ｋｇｆ／ｍ／秒^２）で攪拌する条件下で３０分間分散した。分散の開始温度は２５℃であり、最終到達温度は４８℃となった。分散終了後、高速攪拌は停止し、第１攪拌翼３９の周速を０．５ｍ／秒としてさらに１００分間攪拌し、セルローストリアセテートフレークを膨潤させて膨潤液４４を得た。膨潤終了までは窒素ガスでタンク内を０．１２ＭＰａになるように加圧した。この際のタンク内の酸素濃度は２ｖｏｌ％未満であり防爆上で問題のない状態を保った。またドープ中の水分量は０．３重量％であった。

（１−２）溶解・濾過
膨潤液４４を溶解タンク１３からポンプ２５で加熱装置１８であるジャケット付配管に送液した。ジャケット付き配管で５０℃まで加熱し、更に２ＭＰａの加圧下で９０℃まで加熱し、完全溶解させた。加熱時間は１５分であった。温調機１９で３６℃まで温度を下げ、公称孔径８μｍの濾材を有する濾過装置２０を通過させて固形分濃度が１９重量％のドープ（以下、濃縮前ドープと称する）を得た。この際、濾過１次圧は１．５ＭＰａ、２次圧は１．２ＭＰａとした。なお、高温にさらされるフィルタ、ハウジング及び配管はハステロイ（登録商標）合金製で耐食性の優れたものを利用し保温加熱用の熱媒を流通させるジャケットを有するものを使用した。

（１−３）濃縮・濾過・脱泡・添加剤
濃縮前ドープを８０℃で常圧に調整されているフラッシュ装置２１内でフラッシュさせて、蒸発した溶媒を凝縮器で液化して回収装置２３で回収分離した。フラッシュ後のドープの固形分濃度は、２１．８重量％となった。なお、回収された溶媒は、再生装置２４で再利用のために調整された。フラッシュ装置２１のフラッシュタンクには中心軸にアンカー翼を有しており、周速０．５ｍ／秒で攪拌して脱泡を行った。フラッシュタンク内のドープの温度は２５℃であり、タンク内の平均滞留時間は５０分であった。このドープを採取して２５℃で測定した剪断粘度は剪断速度１０（秒^−１）で４５０Ｐａ・ｓであった。

つぎに、このドープに弱い超音波照射することで泡抜きを実施した。その後、ポンプ２６を用いて１．５ＭＰａに加圧した状態で、濾過装置２２に送液した。濾過装置２２では、最初公称孔径１０μｍの焼結繊維金属フィルタを通過させ、ついで同じく１０μｍの焼結繊維フィルタを通過させた。それぞれの１次圧は１．５ＭＰａ，１．２ＭＰａであり、２次圧は１．０ＭＰａ，０．８ＭＰａであった。濾過後のドープの温度を３６℃に調整して２０００Ｌのステンレス製のストックタンク３０内に貯蔵した。以下、このドープを原料ドープ４８と称する。ストックタンク３０は中心軸にアンカー翼である攪拌翼６２を有して周速０．３ｍ／秒で常時攪拌された。なお、濃縮前ドープから原料ドープ４８を調製する際に、各装置のドープ接液部には、腐食などの問題は全く生じなかった。また、ジクロロメタンが８６．５重量部、メタノールが１３重量部、１−ブタノール０．５重量部の混合溶媒Ａを作製した。

（１−４）吐出・直前添加・流延・ビード減圧
図３に示すフイルム製膜ライン３２を用いて、図２に示すフイルム製造工程５０を行った。ストックタンク３０内の原料ドープ４８を１次増圧用のギアポンプ６６〜６８で、１次側圧力が０．８ＭＰａになるようにインバーターモーターによりフィードバック制御を行い送液した。ギアポンプ６６〜６８は容積効率９９．２％、吐出量の変動率０．５％以下の性能であった。また、吐出圧力は１．５ＭＰａであった。

流延ダイ９１は、幅が１．８ｍであり共流延用に調整したフィードブロック７４を装備し、主流のほかに両面にそれぞれ積層して３層構造のフイルムを成形できるようにした装置を用いた。なお、ドープの送液流路は、中間層用ドープ流路６３、裏面層用ドープ流路６４，表面層用ドープ流路６５の３流路を用いた。

ＵＶ剤ａ（２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール），ＵＶ剤ｂ（２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）５−クロルベンゾトリアゾール）とレターデーション制御剤（N,N’−di−
M−トリル−N’’−p−メトキシフェニル−１、３、５−トリアジン−２、４、６−トリアミン）と混合溶媒Ａと原料ドープ４８とを混合させた中間層用添加液７６をストックタンク７５に入れた。中間層用添加液７６をポンプ７７により中間層用ドープ流路６３中の原料ドープ４８に送液した。そして、静止型混合器７８を介して混合させて、中間層用ドープ７１とした。

マット剤である二酸化ケイ素（粒径１５ｎｍ モース硬度 約７）を０．０５重量部と剥離促進剤であるクエン酸エステル混合物（クエン酸，クエン酸モノエチルエステル，クエン酸ジエチルエステル，クエン酸トリエチルエステル）を０．００６重量部と原料ドープ４８と混合溶媒Ａとを溶解または分散させて裏面層用添加液８１とした。裏面層用添加液８１をストックタンク８０に入れ、ポンプ８２を用いて所望の流量で裏面層用ドープ流路６７中に流れている原料ドープ４８に送液した。そして、静止型混合器８３で混合させて、裏面層用ドープ７２を作製した。添加量は、全固形分濃度が２０．５重量％、フイルム形態でマット剤濃度が０．０５重量％、フイルム形態で剥離促進剤濃度が０．０３重量％となるように行った。

二酸化ケイ素０．０５重量部を混合溶媒Ａに分散させて表面層用添加液８６を調製しストックタンク８５に入れた。表面層用添加液８６をポンプ８７により表面層用ドープ流路６５中の原料ドープ４８に送液した。そして、静止型混合器８８を介して混合させて、表面層用ドープ７３を作製した。添加量は、全固形分濃度が２０．５重量％、フイルム形態でマット剤濃度が０．１重量％となるように行った。

そして、目的とするＴＡＣフイルムの膜厚（表面層，中間層，裏面層）がそれぞれ４μｍ，７３μｍ，３μｍであり、製品厚みが８０μｍとなるように、流延幅を１７００ｍｍとして各ドープ（中間層用ドープ，裏面層用ドープ，表面層用ドープ）の流量を調整して流延を行った。各ドープの温度を３６℃に調整するため、流延ダイ９１にジャケット（図示は省略）を設けてジャケット内に供給する伝熱媒体の入口温度を３６℃とした。

流延ダイ９１、フィードブロック７４、配管は製膜時にはすべて３６℃に保温した。流延ダイ９１はコートハンガータイプのものを用い、厚み調整ボルト（ヒートボルト）が２０ｍｍピッチに設けられており、ヒートボルトによる自動厚み調整機構を具備しているものを使用した。ヒートボルトは予め設定したプログラムにより高精度ギアポンプの送液量に応じたプロファイルを設定することもでき、フイルム製膜ライン３２内に設置した赤外線厚み計（図示は省略）のプロファイルに基づいた調整プログラムによってフィードバック制御も可能な性能を有するものである。流延エッジ部２０ｍｍを除いたフイルムで５０ｍｍ離れた任意の２点の厚み差は１μｍ以内であり、幅方向厚みの最小値で最も大きな差が３μｍ／ｍ以下となるように調整した。また、各層の平均厚み精度は両外層が±２％以下、主流が±１％以下に制御され、全体厚みは±１．５％以下となるように調整した。

各ドープ７１〜７３は、フィードブロック７４を経て、各ドープ７１〜７３が層をなす流延ドープ５１となった。この流延ドープ５１は、流延ダイ９１に送られた。

流延ダイ９１の１次側には減圧するための減圧チャンバ１００を設置した。減圧チャンバ１００の減圧度は流延ビードの前後で１Ｐａ〜５０００Ｐａの圧力差が生じるようになっていて、流延スピードに応じて調整が可能なものである。その際に、ビードの長さが４ｍｍ±２０ｍｍとなるように圧力差を設定した。また、減圧チャンバ１００の温度は、流延部周囲のガスの凝縮温度よりも高く設定できる機構を具備したものであった。ビード前後、後部にラビリンスパッキン（図示は省略）を設けた。また、両端には開口部を設けた。さらに、そこから、流延ビードの両縁の乱れを調整するためにエッジ吸引装置（図示は省略）が取り付けられているものを用いた。

流延ダイ９１の材質は析出硬化型のステンレス鋼であり、熱膨張率が２×１０^-5（℃^−１）以下の素材であり、電解質水溶液での強制腐食試験でＳＵＳ３１６製と略同等の耐腐食性を有する素材を使用した。また、ジクロロメタン，メタノール，水の混合液に３ヶ月浸漬しても気液界面にピッティング（孔開き）が生じない耐腐食性を有する素材を使用した。流延ダイ９１及びフィードブロック７４の接液面の仕上げ精度は表面粗さで１μｍ以下、真直度はいずれの方向にも１μｍ／ｍ以下であり、スリットのクリアランスは１．５ｍｍに調整した。ダイリップ先端の接液部の角部分について、Ｒはスリット全巾に亘り５０μｍ以下になるように加工した。ダイ内部での剪断速度は１（１／秒）〜５０００（１／秒）の範囲であった。また、流延ダイ９１のリップ先端には、溶射法によりＷＣコーティングをおこない硬化膜を設けた。

さらに流延ダイ９１のスリット端には流出するドープが、局所的に乾燥固化することを防止するために、ドープを可溶化する前記混合溶媒を流延ビード端部とスリット気液界面に片側で０．５ｍｌ／分で供給した。この液を供給するポンプの脈動率は５％以下のものを用いた。また、減圧チャンバ１００により流延ビード背面（流延バンド走行方向の上流）側の圧力を１５０Ｐａ低くした。減圧チャンバ１００の温度を一定にするために、ジャケット（図示は省略）を取り付けた。そのジャケット内に３５℃に調整された伝熱媒体を供給した。エッジ吸引風量は、１Ｌ／分〜１００Ｌ／分の範囲で調整可能なものを用い、本実施例では３０Ｌ／分〜４０Ｌ／分の範囲で適宜調整した。

支持体として幅２．１ｍで長さが７０ｍのオーステナイト系ステンレス製のエンドレスバンドを流延バンド９５として利用した。流延バンド９５の厚みは１．５ｍｍであり、表面粗さは０．０５μｍ以下になるように研磨した。流延バンド９５の全体の厚みムラは０．５％以下で、幅方向の厚みムラは０．１％以下であった。内面９５ｂと周面９３ａ、９４ａとが接触するように、流延バンド９５を２個の回転ドラム９３，９４に掛け渡した。そして、駆動部を介して回転ドラム９３を回転させた。回転ドラム９３の回転により、流延バンド９５は無端走行した。

また、流延バンド９５に付与されるテンションが、７０Ｎ／ｍｍ² となるように、各回転ドラム９３、９４の間隔を調整した。流延バンド９５の速度変動は０．５％以下であった。また、１回転の幅方向の蛇行が、１．５ｍｍ以下に制限するように流延バンド９５の両端位置を検出して制御した。さらに、流延ダイ９１直下におけるダイリップ先端と流延バンド９５との上下方向の位置変動は２００μｍ以下とした。流延バンド９５は、風圧変動抑制手段（図示は省略）を有した流延室９６内に設置されている。この流延バンド９５上に流延ダイ９１から３層のドープ（表面層，中間層，裏面層）からなる流延ドープ５１を流出した。

回転ドラム９３，９４は、流延バンド９５の温度調整を行えるように、内部に伝熱媒体を送液できるものを用いた。流延ダイ９１側の回転ドラム９３には略５℃の伝熱媒体を流し、他方の回転ドラム９４には略４０℃の伝熱媒体を流した。流延直前の流延バンド９５中央部の表面温度は略１５℃であり、その両端の温度差は６℃以下であった。なお、流延バンド９５は、表面欠陥がないものが好ましく、３０μｍ以上のピンホールは皆無であり、１０μｍ〜３０μｍのピンホールは１個／ｍ² 以下、１０μｍ未満のピンホールは２個／ｍ² 以下であるものを用いた。また、流延バンド９５の走行速度は、１０ｍ／分以上２００ｍ／分以下の範囲に調節した。

流延バンド９５の上部の上下方向の位置変動を防止するため、各回転ドラム９３、９４の間に複数のガイドローラ１０２を設け、各ガイドローラ１０２で流延バンド９５の上部を内側から支持した。各ガイドローラ１０２には、表１に示すガイドローラ（１）を用いた。ここで、表１中に付される番号１〜３は、それぞれ、ゴム部１０４の厚みｔ１、金属ローラ部１０３の直径、及びガイドローラ１０２の直径である。金属ローラ部１０３には、ステンレス鋼を用いた。また、ゴム部１０４には、明和ゴム工業（株）製のフッ素ゴムであるハイフロンを用いた。なお、ゴム部１０４の硬度は、８０°［ＪＩＳ−Ａ］とした。また、ゴム部１０４の表面粗さは、最大高さＲｙが８μｍとなるようにした。

流延室９６の温度は、温調設備９７を用いて３５℃に保った。流延バンド９５上に流延されたドープから形成された流延膜５３は、最初に平行流の乾燥風により乾燥した。乾燥する際の乾燥風からの流延膜５３への総括伝熱係数は２４ｋｃａｌ／ｍ² ・時・℃であった。乾燥風の温度は流延バンド９５上部の上流側を１３５℃とし、下流側を１４０℃とした。また、流延バンド９５下部は、６５℃となるように送風機１４１〜１４３から送風した。それぞれの乾燥風に含まれる溶媒の飽和温度は、いずれも−８℃付近であった。流延バンド９５上の乾燥雰囲気における酸素濃度は５ｖｏｌ％に保持した。なお、酸素濃度を５ｖｏｌ％に保持するため空気を窒素ガスで置換した。また、流延室９６内の溶媒を凝縮回収するために、凝縮器（コンデンサ）９８を設け、その出口温度は、−１０℃に設定した。

流延後５秒間は遮風板１４５により乾燥風が、直接流延ドープ５１及び流延膜５３に当たらないようにして流延ダイ９１直近の静圧変動を±１Ｐａ以下に抑制した。流延膜５３中の溶媒比率が乾量基準で１５０重量％になった時点で流延バンド９５から剥取ローラ１４０で支持しながら湿潤フイルム５５として剥ぎ取った。このときの剥取テンションは１０ｋｇｆ／ｍであり、剥取不良を抑制するために流延バンド９５の速度に対して剥取速度（剥取ローラドロー）は、１００．１％〜１１０％の範囲で適切に調整した。湿潤フイルム５５の表面温度は１５℃であった。流延バンド９５上での乾燥速度、すなわち、乾量基準における残留溶媒量の減少量は、平均６０重量％／分であった。乾燥して発生した溶媒ガスは、−１０℃の凝縮器９８で凝縮液化して回収装置９９で回収した。回収された溶媒は調整がなされた後に、ドープ調製用溶媒として再利用した。その際に、溶媒に含まれる水分量を０．５％以下に調整した。溶媒が除去された乾燥風は再度加熱して乾燥風として再利用した。

剥取ローラ１４０により剥ぎ取られた湿潤フイルム５５を渡り部１０５のローラ１０６を介して搬送し、テンタ１１０に送った。このときに送風機１０７から４０℃の乾燥風を湿潤フイルム５５に送風した。なお、渡り部１０５のローラ１０６で搬送している際に、湿潤フイルム５５に約１００Ｎのテンションを流延方向に付与した。

テンタ１１０に送られた湿潤フイルム５５は、クリップでその両端を固定されながらテンタ１１０の乾燥ゾーン内を搬送され、乾燥風により乾燥した。クリップには、２０℃の伝熱媒体を供給して冷却した。クリップの駆動はチェーンで行い、そのスプロケットの速度変動は０．５％以下であった。また、テンタ１１０内を３ゾーンに分け、それぞれのゾーンの乾燥風温度を上流側から９０℃，１００℃，１１０℃とした。乾燥風に含まれる溶媒の飽和温度は、いずれも−１０℃であった。テンタ１１０内での平均乾燥速度は１２０重量％／分であった。テンタ１１０の出口ではフイルム内の残留溶媒の量が、７重量％となるように乾燥ゾーンの条件を調整した。また、テンタ１１０内では搬送しつつ幅方向に延伸も行った。テンタ１１０に搬送された際の湿潤フイルム５５の幅を１００％としたときの拡幅量を１０３％とした。

剥取ローラ１４０からテンタ１１０入口に至る延伸率（テンタ駆動ドロー）は、１０２％とした。テンタ１１０内の延伸率はテンタ噛み込み部から１０ｍｍ以上はなれた部分における実質延伸率の差異が１０％以下であり、かつ２０ｍｍ離れた任意の２点の延伸率の差異は５％以下であった。ベース端のうちテンタ１１０で固定している長さの比率は９０％とした。テンタ１１０内で蒸発した溶媒は、−１０℃の温度で凝縮させ液化して回収した。凝縮回収用に凝縮器（図示は省略）を設け、その出口温度は−８℃に設定した。溶媒に含まれる水分量を０．５重量％以下に調整して再使用した。そして、テンタ１１０からフイルム５７として送り出した。

そして、テンタ１１０の出口から送り出されてから３０秒以内に、フイルム５７の両端を耳切装置１１２により切断した。ＮＴ型カッターにより両側５０ｍｍの耳をカットし、カットした耳はカッターブロワー（図示は省略）によりクラッシャ１１３に風送して平均８０ｍｍ² 程度のチップに粉砕した。このチップは、再度ドープ調製用原料としてＴＡＣフレークと共にドープ製造の際に原料として利用した。テンタ１１０の乾燥雰囲気における酸素濃度は５ｖｏｌ％に保持した。なお、酸素濃度を５ｖｏｌ％に保持するため空気を窒素ガスで置換した。後述する乾燥室１１５で高温乾燥させる前に、１００℃の乾燥風が供給されている予備乾燥室（図示は省略）でフイルム５７を予備加熱した。

フイルム５７を乾燥室１１５で高温乾燥した。乾燥室１１５を４区画に分割して、上流側から１２０℃，１３０℃，１３０℃，１３０℃の乾燥風を送風機（図示は省略）から給気した。フイルム５７のローラ１１６による搬送テンションは１００Ｎ／巾として、最終的に残留溶媒量が、０．３重量％になるまでの約１０分間乾燥した。前記ローラ１１６のラップ角度は、９０度および１８０度とした。前記ローラ１１６の材質はアルミ製もしくは炭素鋼製であり、表面にはハードクロム鍍金を施した。ローラ１１６の表面形状はフラットなものとブラストによりマット化加工したものとを用いた。ローラ１１６の回転による振れは全て５０μｍ以下であった。また、テンション１００Ｎ／巾でのローラ撓みは０．５ｍｍ以下となるように選定した。

乾燥風に含まれる溶媒ガスは、吸着回収装置１１７を用いて吸着回収除去した。吸着剤は活性炭であり、脱着は乾燥窒素を用いて行った。回収した溶媒は、水分量０．３重量％以下に調整してドープ調製用溶媒として再利用した。乾燥風には溶媒ガスの他、可塑剤，ＵＶ吸収剤，その他の高沸点物が含まれるので冷却除去する冷却器およびプレアドソーバーでこれらを除去して再生循環使用した。そして、最終的に屋外排出ガス中のＶＯＣ（揮発性有機化合物）は１０ｐｐｍ以下となるよう、吸脱着条件を設定した。また、全蒸発溶媒のうち凝縮法で回収する溶媒量は９０重量％であり、残りの大部分は吸着回収により回収した。

乾燥されたフイルム５７を第１調湿室（図示は省略）に搬送した。乾燥室１１５と第１調湿室との間の渡り部には、１１０℃の乾燥風を給気した。第１調湿室には、温度５０℃、露点が２０℃の空気を給気した。さらに、フイルム５７のカールの発生を抑制する第２調湿室（図示は省略）にフイルム５７を搬送した。第２調湿室では、フイルム５７に直接９０℃，湿度７０％の空気をあてた。

調湿後のフイルム５７は、冷却室１１８で３０℃以下に冷却して両端耳切りを行った。搬送中のフイルム帯電圧は、常時−３ｋＶ〜＋３ｋＶの範囲となるように強制除電装置（除電バー）１２５を設置した。さらにフイルム５７の両端にナーリング付与ローラ１２６でナーリングを行った。ナーリングは片側からエンボス加工を行うことで付与し、ナーリングする幅は１０ｍｍであり、最大高さは平均厚みよりも平均１２μｍ高くなるように押し圧を設定した。

そして、フイルム５７を巻取室１２０に搬送した。巻取室１２０は、室内温度２８℃，湿度７０％に保持した。さらに、フイルム帯電圧が−１．５ｋＶ〜＋１．５ｋＶになるようにイオン風除電装置（図示は省略）も設置した。このようにして得られたフイルム（厚さ６０μｍ）５７の製品幅は、１５００ｍｍとなった。巻取ローラ１２１の径は１６９ｍｍのものを用いた。巻き始めテンションは３６０Ｎ／巾であり、巻き終わりが２５０Ｎ／巾になるようなテンションパターンとした。巻き取り全長は３９４０ｍであった。巻き取りの際の周期を４００ｍとし、オシレート幅を±５ｍｍとした。また、巻取ローラ１２１にプレスローラ１２２を押し圧５０Ｎ／巾に設定した。巻き取り時のフイルムの温度は２５℃、含水量は１．４重量％、残留溶媒量は０．３重量％であった。全工程を通しても平均乾燥速度は２０重量％（乾量基準溶媒）／分であった。また巻き緩み、シワもなく、１０Ｇでの衝撃テストにおいても巻きずれが生じなかった。また、ロール外観も良好であった。

フイルム５７のフイルムロールを２５℃、５５％ＲＨの貯蔵ラックに１ヶ月保管して、さらに上記と同様に検査した結果、いずれも有意な変化は認められなかった。さらにロール内における接着も認められなかった。また、フイルム５７を製膜した後に、流延バンド９５上にはドープから形成された流延膜５３の剥げ残りは全く見られなかった。

本実施例では、ガイドローラ１０２を実施例１のガイドローラ（１）に代えて、表１に示すガイドローラ（２）を用いた。このガイドローラ１０２を代えた以外は、実施例１と同様にして溶液製膜を行った。

本実施例では、ガイドローラ１０２を実施例１のガイドローラ（１）に代えて、表１に示すガイドローラ（３）を用いた。このガイドローラ１０２を代えた以外は、実施例１と同様にして溶液製膜を行った。

本実施例では、ガイドローラ１０２を実施例１のガイドローラ（１）に代えて、表１に示すガイドローラ（４）を用いた。このガイドローラ１０２を代えた以外は、実施例１と同様にして溶液製膜を行った。

上記実施例１〜４の溶液製膜を２０００時間連続で行い、ガイドローラ１０２の状態、及び流延バンド９５の外面９５ａの状態について、以下の評価を行った。評価の結果について以下に示す。

１．ガイドローラ外観の評価
ガイドローラを目視で観察し、その外観を以下の如く評価した。
◎：ガイドローラに変形は見られない。
○：ガイドローラに弱い変形が見られる。
×：ガイドローラに変形がはっきりと見られる。

２．流延バンドの外面の評価
流延バンドの外面を目視で観察し、その面状を以下の如く評価した。
◎：流延バンドの外面は平滑である。
○：流延バンドの外面に弱い変形が見られる。
×：流延バンドの外面に変形がはっきりと見られる。

各実施例における評価結果について表２に示す。なお、表２中に付される番号１、２はそれぞれ、ガイドローラの外観の評価結果、及び流延バンドの外面の評価結果である。

実施例１では、ガイドローラ１０２、流延バンド９５ともに変形は見られなかった。実施例２では、流延バンド９５の外面９５ａに変形は見られなかったものの、ガイドローラ１０２に変形が見られた。これは、ゴム部１０４の厚みｔ１が厚すぎたためであると考察される。一方、実施例３では、ガイドローラ１０２に変形は見られなかったものの、流延バンド９５の外面９５ａに僅かに変形が見られた。これは、ゴム部１０４の厚みｔ１が薄すぎ、垂直抗力を低減させる効果が十分ではなかったためと考察される。そして、ゴム部１０４を設けなかった実施例４では、流延バンド９５のマルテンサイト化によるスジ状の変形が、流延バンド９５の外面９５ａに明らかに見られた。

ドープ製造ラインの構成を概略的に示す説明図である。 フイルム製造工程の概略を示す説明図である。 フイルム製造ラインの構成を概略的に示す説明図である。 流延バンド周辺の構成を概略的に示す斜視図である。 ガイドローラの構成を概略的に示す側面図である。 マルテンサイト化による流延バンドの断面形状の変化を示す説明図である。

符号の説明

１０ ドープ製造ライン
３２ フイルム製造ライン
４８ 原料ドープ
５３ 流延膜
５５ 湿潤フイルム
５７ フイルム
９１ 流延ダイ
９３、９４ 回転ドラム
９５ 流延バンド
９５ａ 外面
９５ｂ 内面
１０２ ガイドローラ
１０３ 金属ローラ部（ローラ本体部）
１０４ ゴム部
１４０ 剥取ローラ（剥ぎ取り手段）

Claims (8)

1. 複数の回転ドラムに巻き掛けられ、前記各回転ドラムの回転に応じて走行するオーステナイト系ステンレス製の流延バンドと、
   ポリマーと溶媒とを含むドープを走行中の前記流延バンド上に流出して流延膜を形成する流延ダイと、
   前記流延バンド上の流延膜を剥ぎ取ってフイルムとする剥ぎ取り手段と、
   前記各回転ドラムと略平行に配置されるローラ本体部と、このローラ本体部に巻き付けられたゴム部とで構成され、前記各回転ドラムの間の前記流延バンドの内面と接触して内側から前記流延バンドを支持するガイドローラとを備えたことを特徴とする溶液製膜設備。
2. 前記ガイドローラは、前記各回転ドラムの間に複数並べて設けられることを特徴とする請求項１記載の溶液製膜設備。
3. 前記ゴム部の厚みが、１ｍｍ〜１０ｍｍであることを特徴とする請求項１又は２記載の溶液製膜設備。
4. 前記ゴム部の硬度が、ＪＩＳ−Ａ硬度で６０°〜１００°であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の溶液製膜設備。
5. 前記ゴム部の表面粗さの最大高さＲｙが、０．１μｍ〜１０μｍであることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の溶液製膜設備。
6. 前記流延バンドの走行速度が、３０ｍ／分以上であることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の溶液製膜設備。
7. 前記ローラ本体部が、ステンレス製の金属ローラであることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の溶液製膜設備。
8. オーステナイト系ステンレス製の流延バンドを複数の回転ドラムに巻き掛けてエンドレスに走行する支持体を構成し、この支持体の表面に流延ダイから、ポリマーと溶媒とを含むドープを流出させて流延膜を形成し、前記流延膜を前記支持体から剥ぎ取ってフイルムとする溶液製膜方法において、
   前記支持体をゴムライニングされたガイドローラで支持することを特徴とする溶液製膜方法。

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