JP2008194884A - Printing lithographic printing plate, its manufacturing method, printing method, and method for manufacturing color filter - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電子ペーパーや液晶表示装置用のカラーフィルターの印刷に、インキ膜の除去版とする印刷平版を用いた印刷法に関する。特に、印刷平版およびその製造方法およびそれを使った印刷物の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a printing method using a printing lithographic plate for removing an ink film for printing color filters for electronic paper and liquid crystal display devices. In particular, the present invention relates to a printing lithographic plate, a method for producing the same, and a method for producing printed matter using the same.
近年、液晶表示装置からなるフラットパネルディスプレイは、省エネルギー、省スペース、可搬性などの点からテレビモニター用途やモバイル用途で利用されている。特にモバイル用途においては、携帯時に落下させても破損しないような耐衝撃性や、軽量化、薄型化などの点からプラスチック化への要求がある。また、壁掛け型においても円柱状の柱へのディスプレイの設置という点から可撓性のディスプレイへの要求がある。また高い色再現性が要求され、カラーフィルターに使用される色も、テレビモニター用途ではＲｅｄ、Ｇｒｅｅｎ、Ｂｌｕｅに補色を用いたカラーフィルターが使用され、モバイル用途ではＲｅｄ、Ｇｒｅｅｎ、Ｂｌｕｅにホワイトと呼ばれる透明画素や、透明樹脂にフィラーを分散し光散乱性を付与したパターンが形成されたカラーフィルターが使用されている。 In recent years, flat panel displays composed of liquid crystal display devices have been used for TV monitor applications and mobile applications in terms of energy saving, space saving, and portability. In particular, in mobile applications, there is a demand for plasticization from the viewpoint of impact resistance that does not break even when dropped while carrying, light weight, and thinning. In addition, the wall-hanging type also has a demand for a flexible display from the viewpoint of installing the display on a columnar column. Also, high color reproducibility is required, and colors used for color filters are color filters that use complementary colors for red, green, and blue for TV monitor applications, and white for red, green, and blue for mobile applications. A color filter in which a transparent pixel or a pattern in which a filler is dispersed in a transparent resin to impart light scattering properties is used.
従来のフラットパネルディスプレイは、何れも硝子基板上に形成する構造が主流である。従来のフラットパネルディスプレイの部材の作製には高温での加熱工程とフォトリソ工程が含まれているため、プラスチック基板上にフラットパネルディスプレイを形成することは難しかった。これは、液晶ディスプレイ用のカラーフィルターの製造にあたっては、感光性樹脂のパターニングにあたって、現像、洗浄、ベーキングなどの工程があり、プラスチック基板の熱による損傷や伸縮が生じてしまう為である。また、フォトリソ工程は、製膜、露光、現像、剥離を材料毎に行うので、製造設備も大掛かりとなり、製造のコストが高くなる要因となっていた。 A conventional flat panel display is mainly formed on a glass substrate. Since the production of members of a conventional flat panel display includes a heating process and a photolithography process at a high temperature, it has been difficult to form a flat panel display on a plastic substrate. This is because in manufacturing a color filter for a liquid crystal display, there are processes such as development, washing and baking in patterning the photosensitive resin, and the plastic substrate is damaged or stretched by heat. In addition, since the photolithography process performs film formation, exposure, development, and peeling for each material, the manufacturing equipment becomes large and the manufacturing cost increases.
また、フォトリソ法以外の工法であるインクジェット法は、所定の部分にのみ所定の材料をパターニングできることから材料の利用効率が高く、フォトマスクも使用しないことから、簡便なパターニング方法であるが、現状のインクジェットのインク液滴の直径は数十μｍ程度であり、着弾精度も数μｍ程度あり、高精細なカラーフィルターへ用いることは難しい問題があった。 In addition, the inkjet method, which is a construction method other than the photolithographic method, is a simple patterning method because it can use a predetermined material only in a predetermined portion, so that the use efficiency of the material is high, and a photomask is not used. Ink jet ink droplets have a diameter of about several tens of μm and landing accuracy of about several μm, which makes it difficult to use for high-definition color filters.
以上のことから、特許文献１や特許文献２などで、基材上への精密なパターニングを簡単に形成する方法として、印刷法の１方式である除去版を用いる印刷法が提案された。除去版を用いる印刷法は、インキをオフセットブランケットに、膜厚を制御して、直接塗工し乾燥することでインキ膜を形成する。次に、印刷凹版によりオフセットブランケット上のインキの非印刷パターン部を除去し、オフセットブランケット上に残った印刷パターン部を被印刷基材上に転写する印刷方法である。 From the above, Patent Document 1 and Patent Document 2 propose a printing method using a removal plate, which is one of printing methods, as a method for easily forming precise patterning on a substrate. In the printing method using the removal plate, the ink is formed on the offset blanket by directly coating and drying the ink while controlling the film thickness. Next, there is a printing method in which the non-printing pattern portion of the ink on the offset blanket is removed by the printing intaglio and the printing pattern portion remaining on the offset blanket is transferred onto the substrate to be printed.
以下に公知文献を記す。
特許文献２に開示されている除去版を用いる印刷法では、除去版として、オフセットブランケット４４の印刷パターン部４６に対応する部位が凹部、非印刷パターンに対応する
部分が凸部となった硝子基板の印刷平板１を使用している。その印刷平板１は、硝子の基板１０を、耐フッ酸性の金属膜をエッチングレジストとして、印刷パターン部４６となる部分が凹形状になるようフッ酸で処理するウェットエッチングで硝子凹版を形成し、それを除去版の印刷平板１して使用している。インキの転写に使用するオフセットブランケット４４には、数百μｍ厚からなるシリコーン樹脂層の剥離性フィルムをシリンダー胴４５に巻き付けたローラ状のオフセットブランケット４４を使用している。
In the printing method using the removal plate disclosed in Patent Document 2, a glass substrate in which a portion corresponding to the print pattern portion 46 of the offset blanket 44 is a concave portion and a portion corresponding to the non-print pattern is a convex portion as the removal plate. The printing flat plate 1 is used. The printing flat plate 1 forms a glass intaglio plate by wet etching in which the glass substrate 10 is treated with hydrofluoric acid so that the portion to be the printing pattern portion 46 becomes a concave shape using a hydrofluoric acid resistant metal film as an etching resist. It is used as a printing plate 1 as a removal plate. As the offset blanket 44 used for transferring the ink, a roller-shaped offset blanket 44 in which a peelable film of a silicone resin layer having a thickness of several hundred μm is wound around a cylinder body 45 is used.
そのオフセットブランケット４４には、ダイコーター４８によりインキ膜４３を塗布し、そのインキ膜４３を硝子凹版の印刷平板１にて除去する。その際、オフセットブランケット４４のローラをニップ幅数ｍｍで硝子凹版の印刷平板１に押し当てる事で、硝子凹版の印刷平板１の最表面の凸部のエッジ部でインキ膜４３の剪断性を得る。しかし、オフセットブランケット４４のシリコーン樹脂層は非常に柔らかい為、オフセットブランケット４４の押し圧によりオフセットブランケット４４が印刷平板１の凹形状部に数μｍから数十μｍまでの押し込まれる現象が生じる。オフセットブランケット４４の押し込まれる量は印刷平板１の凹形状部の開口寸法が大きい程大きくなった。 An ink film 43 is applied to the offset blanket 44 by a die coater 48, and the ink film 43 is removed by the printing plate 1 of a glass intaglio. At this time, the roller of the offset blanket 44 is pressed against the printing plate 1 of the glass intaglio plate with a nip width of several mm, thereby obtaining the shearing property of the ink film 43 at the edge portion of the convex portion on the outermost printing plate 1 of the glass intaglio plate. . However, since the silicone resin layer of the offset blanket 44 is very soft, a phenomenon occurs in which the offset blanket 44 is pushed into the concave portion of the printing flat plate 1 from several μm to several tens of μm by the pressing pressure of the offset blanket 44. The amount by which the offset blanket 44 is pushed increases as the opening size of the concave portion of the printed flat plate 1 increases.
このようにオフセットブランケット４４上のインキ膜４８を硝子凹版の印刷平板１にて除去し、オフセットブランケット４４上に印刷パターン部４６を残して形成する際に、硝子凹版の印刷平板１の凹形状部の部分のインキ膜４８は除去されずにオフセットブランケット４４上に残り印刷パターン部４６となる。しかし、この凹形状部の底にオフセットブランケット４４が接触すると、その部分のインキ膜４８が除去され、印刷パターン４８に欠損を生じてしまう。この為、印刷平板１の版深（印刷平板１の凸部頂部と凹形状部の底部との高さの差）を設計する場合、オフセットブランケット４４が印刷平板１の凹形状部の底に接触しないよう、凹形状部は十分な深度で形成する必要があり、パターン寸法に対応し版深を深く形成する必要があった。例えば、凹形状部の開口部幅２０μｍの場合で版深８μｍ、凹形状部の開口部幅３ｍｍの場合で版深５８μｍ程度の版深を必要としていた。 In this way, when the ink film 48 on the offset blanket 44 is removed by the glass intaglio printing plate 1 and the printing pattern portion 46 is left on the offset blanket 44, the concave shape portion of the glass intaglio printing plate 1 is formed. The ink film 48 is not removed and remains on the offset blanket 44 to form a print pattern portion 46. However, when the offset blanket 44 comes into contact with the bottom of the concave portion, the ink film 48 at that portion is removed, and the printed pattern 48 is damaged. For this reason, when designing the plate depth of the printing flat plate 1 (the difference in height between the top of the convex portion of the printing flat plate 1 and the bottom of the concave portion), the offset blanket 44 contacts the bottom of the concave portion of the printing flat plate 1. Therefore, it is necessary to form the concave portion at a sufficient depth, and it is necessary to form a plate depth corresponding to the pattern dimension. For example, a plate depth of about 8 μm is required when the opening width of the concave portion is 20 μm, and a plate depth of about 58 μm is required when the opening width of the concave portion is 3 mm.
印刷パターン部４６によっては、細線パターンと太線パターンが混在する印刷パターン部４６もあり、この場合、多段エッチにより形成した凹版の印刷平板１を使用する方法や、複数枚の硝子凹版の印刷平板１を使用する必要があった。硝子凹版の形成方法としては、フッ酸水溶液からなるエッチング液によるウェットエッチング処理が一般的である。しかし硝子のウェットエッチング処理では、硝子とエッチングレジスト材の密着が弱く、エッチング液を噴流させるなど薬液の対流を伴う処理は、エッチングの進行により版深と同程度のサイドエッチングが生じ、パターン疎部の版深を深くしようとすると、相対的にレリーフパターンの精度が損なわれ、特にパターン密部の解像度が低下する不具合があった。また、エッチングレジスト層が浮き硝子より剥離する問題を生じたり、エッチングレジスト層にクラックを生じさせる不具合などが生じる。更に、硝子エッチングの際、エッチングレジスト層の剥離した部分や、エッチングレジストの欠陥部で異常エッチングが進行し印刷版の品質が低下する不具合があった。またそのような欠陥部を修正する場合、レーザーによる除去はできるが、欠損部を補うことは難しく、除去版を用いた印刷法に用いることができる完全な硝子凹版を得る事は困難を伴っている。 Depending on the print pattern portion 46, there is also a print pattern portion 46 in which a fine line pattern and a thick line pattern are mixed. In this case, a method of using an intaglio printing plate 1 formed by multistage etching, or a plurality of glass intaglio printing plates 1 are used. Had to be used. As a method for forming a glass intaglio, a wet etching process using an etching solution made of a hydrofluoric acid aqueous solution is generally used. However, in the wet etching process of glass, the adhesion between the glass and the etching resist material is weak, and in the process involving chemical convection such as jetting of the etchant, side etching similar to the plate depth occurs due to the progress of etching, and the pattern sparse part When attempting to increase the plate depth, the accuracy of the relief pattern is relatively impaired, and in particular, the resolution of the dense pattern portion is degraded. In addition, there arises a problem that the etching resist layer is lifted and peeled off from the glass, or a defect that causes a crack in the etching resist layer occurs. Further, when glass etching is performed, abnormal etching progresses at a portion where the etching resist layer is peeled off or a defective portion of the etching resist, resulting in a problem that the quality of the printing plate is deteriorated. Moreover, when correcting such a defective portion, it can be removed by a laser, but it is difficult to compensate for the defective portion, and it is difficult to obtain a complete glass intaglio that can be used in a printing method using a removed plate. Yes.
印刷平版の品質の問題以外にも、ウェットエッチングによる製造方法ではフッ酸を使用する為、装置の安全性や、環境負荷や、人体への影響が大きいなどの問題もある。一方、ドライエッチングによる製造方法もあるが、硝子のエッチングレートが低い、フッ素系のガスを使用する為、環境負荷や、人体への影響が大きいなどの問題があった。 In addition to the quality of printing lithographic plates, hydrofluoric acid is used in the manufacturing method using wet etching, and thus there are other problems such as the safety of the apparatus, the environmental load, and the impact on the human body. On the other hand, there is a manufacturing method using dry etching, but there are problems such as a low etching rate of glass and a large influence on the human body because of the use of a fluorine-based gas.
本発明の課題は、除去版として用いる印刷平板１の製造方法において、硝子凹版を製造する上で問題となっている、製版プロセスの複雑さや危険性及び環境や人体的不可を解消
し、刷版の解像性や欠陥などの品質を改善することにある。特に、除去版を用いる印刷法によるカラーフィルターの製造において、硝子基板やプラスチックフィルム、特に生産効率の良い長尺状のプラスチックフィルムなどの可撓性基材上へ、高精細パターンを高い生産性で連続的に形成する。すなわち、カラーフィルターとして所望される最適な印刷パターン部４６を正確に印刷することができ、高い生産性でカラーフィルターを得ることができる印刷平版１を提供することにある。
An object of the present invention is to eliminate the intricacies and dangers of the plate making process, the environment and the human body, which are problems in producing a glass intaglio in the method for producing a printing flat plate 1 used as a removal plate. It is to improve the quality of resolution and defects. In particular, in the production of color filters by the printing method using a removal plate, high-definition patterns can be produced with high productivity on flexible substrates such as glass substrates and plastic films, especially long plastic films with high production efficiency. Form continuously. That is, it is an object of the present invention to provide a printing lithographic plate 1 that can accurately print an optimum print pattern portion 46 desired as a color filter and can obtain a color filter with high productivity.
本発明は、これらの問題の解決策として、印刷工程においてオフセットブランケット４４上のインキ膜４３の印刷パターン部４６が凹形状部の底に接触してもインキ膜４３が除去されない刷版構成として、印刷平板１の凹形状部に撥インキ処理を行う方法により印刷し、特に、撥インキ性部１１と親インキ性部１２をパターン形成した印刷平版１を除去版として使用する。 As a solution to these problems, the present invention provides a printing plate configuration in which the ink film 43 is not removed even if the print pattern portion 46 of the ink film 43 on the offset blanket 44 contacts the bottom of the concave shape portion in the printing process. Printing is performed on the concave portion of the printing flat plate 1 by a method of performing ink repellency treatment, and in particular, the printing lithographic plate 1 in which the ink repellant portion 11 and the ink-philic portion 12 are patterned is used as a removal plate.
本発明は、この課題を解決するために、除去版を用いる印刷法において除去版として用いる印刷平板であって、硝子又は石英を基材とする略平坦な基板の表面に前記基板と化学結合した撥インキ性有機化合物のパターンから成る撥インキ性部を有し、前記基板の前記撥インキ性部以外の領域が親インキ性部であることを特徴とする印刷平版である。 In order to solve this problem, the present invention is a printing flat plate used as a removal plate in a printing method using a removal plate, which is chemically bonded to the surface of a substantially flat substrate based on glass or quartz. A printing lithographic printing plate having an ink repellency portion comprising a pattern of an ink repellency organic compound, and a region other than the ink repellency portion of the substrate being an ink repellency portion.
また、本発明は、上記親インキ性部が、上記基材の表面に形成した金属膜または金属酸化膜またはそれらの積層膜の金属性膜からなることを特徴とする上記の印刷平版である。 Further, the present invention is the above printing lithographic plate, wherein the ink-philic part is composed of a metal film or a metal oxide film formed on the surface of the substrate or a metal film of a laminated film thereof.
また、本発明は、上記金属性膜が、上記基材の面上にクロム膜を製膜し前記クロム膜面に酸化クロム膜を形成して成る２層クロム膜からなることを特徴とする上記の印刷平版である。 The present invention is also characterized in that the metallic film comprises a two-layer chromium film formed by forming a chromium film on the surface of the substrate and forming a chromium oxide film on the chromium film surface. Printing lithographic.
また、本発明は、上記親インキ性部が上記基材の表面の硝子又は石英からなることを特徴とする上記の印刷平版である。 Further, the present invention is the above printing lithographic plate, wherein the ink-philic part is made of glass or quartz on the surface of the substrate.
また、本発明は、上記撥インキ性有機化合物が、フルオロアルキルシラン、フルオロアルキル基を含むオリゴマー、もしくは加水分解性基を含むシロキサンからなるシランカップリング剤のシロキサン結合またはフッ素原子を含むことを特徴とする上記の印刷平版である。 Further, the invention is characterized in that the ink repellent organic compound contains a siloxane bond or a fluorine atom of a silane coupling agent comprising a fluoroalkylsilane, an oligomer containing a fluoroalkyl group, or a siloxane containing a hydrolyzable group. The above-described printing planographic plate.
また、本発明は、除去版を用いる印刷法における除去版として用いる印刷平板の製造方法であって、硝子又は石英を基材とする基板の表面にレジストパターンを形成する第１の工程と、前記基板の全面に撥インキ性有機化合物を塗布し加熱乾燥することにより前記撥インキ性有機化合物を前記基板に化学結合させる第２の工程と、前記レジストパターンを溶解除去することで前記レジストパタ−ン上の前記撥インキ性有機化合物をリフト・オフにより除去し前記基板の表面を露出させる第３の工程を有することを特徴とする印刷平版の製造方法である。 Further, the present invention is a method for producing a printing plate used as a removal plate in a printing method using a removal plate, the first step of forming a resist pattern on the surface of a substrate based on glass or quartz, A second step of chemically bonding the ink repellent organic compound to the substrate by applying an ink repellent organic compound to the entire surface of the substrate and drying by heating; and dissolving and removing the resist pattern on the resist pattern And a third step of exposing the surface of the substrate by removing the ink-repellent organic compound by lift-off.
また、本発明は、除去版を用いる印刷法における除去版として用いる印刷平板の製造方法であって、硝子又は石英を基材とする基板の表面に金属膜または金属酸化膜またはそれらの積層膜の金属性膜を形成する第１の工程と、前記基板上にレジストパターンを形成する第２の工程と、前記レジストパターンから露出した前記金属性膜をエッチングし除去することで金属性膜レジストパターンを形成し、次に前記レジストパターンを除去する第３の工程と、前記基板の全面に撥インキ性有機化合物を塗布し加熱乾燥することにより前記撥インキ性有機化合物を前記基板に化学結合させる第４の工程と、前記金属性膜レジストパターンを溶解除去することで前記金属性膜レジストパタ−ン上の前記撥インキ性有機化
合物をリフト・オフにより除去し前記基板の基材を露出させる第５の工程を有することを特徴とする印刷平版の製造方法である。
The present invention also relates to a method for producing a printing plate used as a removal plate in a printing method using a removal plate, wherein a metal film, a metal oxide film, or a laminated film thereof is formed on the surface of a substrate based on glass or quartz. A first step of forming a metallic film; a second step of forming a resist pattern on the substrate; and etching the metallic film exposed from the resist pattern to remove the metallic film resist pattern A third step of forming and then removing the resist pattern; and a fourth step of chemically bonding the ink repellent organic compound to the substrate by applying an ink repellent organic compound to the entire surface of the substrate and drying by heating. And removing the ink-repellent organic compound on the metal film resist pattern by lift-off by dissolving and removing the metal film resist pattern. A printing lithographic manufacturing method characterized by having a fifth step of exposing the base material of the substrate.
また、本発明は、除去版を用いる印刷法における除去版として用いる印刷平板の製造方法であって、硝子又は石英を基材とする基板の表面に金属膜または金属酸化膜またはそれらの積層膜から成る金属性膜を形成する第１の工程と、前記基板上にレジストパターンを形成する第２の工程と、前記基板の全面に撥インキ性有機化合物を塗布し加熱乾燥することにより前記撥インキ性有機化合物を前記金属性膜に化学結合させる第３の工程と、前記レジストパターンを溶解除去することで前記レジストパタ−ン上の前記撥インキ性有機化合物をリフト・オフにより除去し前記レジストパターン下の前記金属性膜を露出させる第４の工程を有することを特徴とする印刷平版の製造方法である。 The present invention also relates to a method for producing a printing plate used as a removal plate in a printing method using a removal plate, wherein a metal film or a metal oxide film or a laminated film thereof is formed on the surface of a substrate based on glass or quartz. A first step of forming a metallic film, a second step of forming a resist pattern on the substrate, and applying the ink-repellent organic compound to the entire surface of the substrate, followed by drying by heating. A third step of chemically bonding an organic compound to the metallic film, and removing the ink-repellent organic compound on the resist pattern by lift-off by dissolving and removing the resist pattern; It is a manufacturing method of the printing lithographic plate characterized by having the 4th process which exposes the said metallic film.
また、本発明は、除去版を用いる印刷法における除去版として用いる印刷平板の製造方法であって、硝子又は石英を基材とする基板の表面に金属膜または金属酸化膜またはそれらの積層膜から成る金属性膜を形成する第１の工程と、前記基板上にレジストパターンを形成する第２の工程と、前記レジストパターンから露出した前記金属性膜をエッチングし除去し前記基材の表面を露出させる第３の工程と、前記基板の全面に撥インキ性有機化合物を塗布し加熱乾燥することにより前記撥インキ性有機化合物を前記基材の表面に化学結合させる第４の工程と、前記レジストパターンを溶解除去することで前記レジストパタ−ン上の前記撥インキ性有機化合物をリフト・オフにより除去し前記レジストパターン下の前記金属性膜を露出させる第５の工程を有することを特徴とする印刷平版の製造方法である。 The present invention also relates to a method for producing a printing plate used as a removal plate in a printing method using a removal plate, wherein a metal film or a metal oxide film or a laminated film thereof is formed on the surface of a substrate based on glass or quartz. A first step of forming a metallic film comprising: a second step of forming a resist pattern on the substrate; and etching and removing the metallic film exposed from the resist pattern to expose the surface of the base material A fourth step of applying an ink repellent organic compound to the entire surface of the substrate and drying by heating to chemically bond the ink repellent organic compound to the surface of the substrate; and the resist pattern And removing the ink-repellent organic compound on the resist pattern by lift-off to expose the metallic film under the resist pattern. A printing lithographic manufacturing method characterized by having a step.
また、本発明は、上記第１の工程が、上記基材の表面にクロム膜を製膜する工程と、次に、前記クロム膜の表面に酸化クロム膜を形成する工程により２層クロム膜を形成することを特徴とする上記の印刷平板の製造方法である。 Further, in the present invention, the first step comprises forming a two-layer chromium film by a step of forming a chromium film on the surface of the base material, and a step of forming a chromium oxide film on the surface of the chromium film. It is a manufacturing method of said printing flat plate characterized by forming.
また、本発明は、除去版を用いる印刷法であって、シリコーン樹脂層からなるオフセットブランケット上にインキ膜を形成し予備乾燥する第１の工程と、撥インキ性有機化合物が基板に化学結合して成る撥インキ性部のパターンとそれ以外の親インキ性部を有する印刷平版を前記オフセットブランケットの前記インキ膜に接することにより前記親インキ性部の接した前記インキ膜を除去する第２の工程と、前記オフセットブランケット上に残った前記インキ膜のパターンを被印刷基材に転写する第３の工程を有することを特徴とする印刷方法である。 The present invention also relates to a printing method using a removed plate, in which a first step of forming an ink film on an offset blanket made of a silicone resin layer and pre-drying, and an ink repellent organic compound chemically bonded to the substrate. A second step of removing the ink film in contact with the ink-philic part by contacting the printing lithographic plate having the ink-repellent part pattern and the other ink-philic part with the ink film of the offset blanket And a third step of transferring the pattern of the ink film remaining on the offset blanket to a substrate to be printed.
また、本発明は、シリコーン樹脂層からなるオフセットブランケット上にカラーフィルター用インキ膜を形成し予備乾燥する第１の工程と、撥インキ性有機化合物が基板に化学結合して成る撥インキ性部のパターンとそれ以外の親インキ性部を有する印刷平版を前記オフセットブランケットの前記カラーフィルター用インキ膜に接することにより前記親インキ性部の接した前記カラーフィルター用インキ膜を除去する第２の工程と、前記オフセットブランケット上に残った前記カラーフィルター用インキ膜のパターンを被印刷基材に転写する第３の工程を有することを特徴とするカラーフィルターの印刷方法である。 The present invention also includes a first step of forming an ink film for a color filter on an offset blanket made of a silicone resin layer and pre-drying, and an ink repellent portion formed by chemically bonding an ink repellent organic compound to a substrate. A second step of removing the color filter ink film in contact with the ink-philic part by contacting a printing plate having a pattern and other ink-philic part with the color filter ink film of the offset blanket; A color filter printing method comprising a third step of transferring the pattern of the color filter ink film remaining on the offset blanket to a substrate to be printed.
本発明は、略平坦な基板の表面に親インキ性部と、撥インキ性部とをパターニングすることにより、深い版深を必要としない印刷平板が得られるので印刷平板が容易に得られる効果がある。また、フッ酸を使用した印刷平板の加工を不要としたので、製造装置の安全性が高い効果があり、環境負荷も少ない効果があり、製造者の人体への影響が少ない効果がある。更に、本発明の印刷平板の基板の表面が略平坦なため、数ミクロンの細密なパターンから数ミリの大きな印刷パターンを高精度に形成でき、その印刷パターンをオフセットブランケットのインキ膜に転写した高精度な印刷パターン部を形成でき、その印刷パターン部のインキ膜を、被印刷基材上に転写し印刷することで高精密な印刷を行うことが可能になる効果がある。また、高精細パターンを連続的に形成する高い生産性でカラーフィルターを製造できる効果がある。 According to the present invention, a printing flat plate that does not require a deep plate depth can be obtained by patterning an ink-philic part and an ink repellency part on the surface of a substantially flat substrate. is there. In addition, since the processing of the printed flat plate using hydrofluoric acid is not required, there is an effect that the safety of the manufacturing apparatus is high, there is an effect that the environmental load is small, and there is an effect that there is little influence on the human body of the manufacturer. Furthermore, since the surface of the substrate of the printing plate of the present invention is substantially flat, a large printing pattern of several millimeters can be formed with high accuracy from a fine pattern of several microns, and the printing pattern is transferred to the ink film of the offset blanket. An accurate print pattern portion can be formed, and an ink film of the print pattern portion can be transferred onto a substrate to be printed and printed, so that high-precision printing can be performed. In addition, there is an effect that a color filter can be manufactured with high productivity for continuously forming a high-definition pattern.
本実施形態は、図１のように、基板１０の表面に、親インキ性部１２と、撥インキ性部１１とをパターニングした印刷平板１を形成する。撥インキ性部１１は、基板１０と化学結合した撥インキ性有機化合物２で形成する。本実施形態は、こうして形成した印刷平版１により、図４のように、オフセットブランケット４４上のインキ膜４３から非印刷パターン部を除去する。印刷平版１においては、オフセットブランケット４４上にインキ膜４３を形成し、そのインキ膜４３から、印刷平板１で非印刷パターン部を除去して印刷パターン部４６をオフセットブランケット４４上に形成する。 In the present embodiment, as shown in FIG. 1, a printed flat plate 1 in which an ink-philic part 12 and an ink-repellent part 11 are patterned is formed on the surface of a substrate 10. The ink repellent portion 11 is formed of the ink repellent organic compound 2 chemically bonded to the substrate 10. In the present embodiment, the non-printing pattern portion is removed from the ink film 43 on the offset blanket 44 as shown in FIG. In the printing lithographic plate 1, the ink film 43 is formed on the offset blanket 44, and the non-printing pattern portion is removed from the ink film 43 by the printing flat plate 1 to form the printing pattern portion 46 on the offset blanket 44.
この印刷方法で用いる印刷平板１は、オフセットブランケット４４の印刷パターン部４６に対応する部分を撥インキ性部１１にする。撥インキ性部１１は、印刷平板１からのインキ剥離性が良い撥インキ性処理を行った部分である。オフセットブランケット４４上の印刷パターン部４６以外の非印刷パターン部に対応する印刷平版１の部分は、インキ膜４３を印刷平版１に結合させてオフセットブランケット４４から除去する親インキ性部１２にする。印刷平板１の表面にほぼ平坦な構造の撥インキ性部１１と親インキ性部１２を形成する。なお、印刷平板１の表面は完全な平坦面である必要は無く、凹凸が存在しても良い。 In the printing flat plate 1 used in this printing method, the portion corresponding to the printing pattern portion 46 of the offset blanket 44 is changed to the ink repellent portion 11. The ink repellency portion 11 is a portion that has been subjected to an ink repellency treatment with good ink detachability from the printing flat plate 1. The portion of the printing lithographic plate 1 corresponding to the non-printing pattern portion other than the printing pattern portion 46 on the offset blanket 44 is the ink-affinity portion 12 that bonds the ink film 43 to the printing lithographic plate 1 and removes it from the offset blanket 44. An ink-repellent part 11 and an ink-philic part 12 having a substantially flat structure are formed on the surface of the printing flat plate 1. In addition, the surface of the printing flat plate 1 does not need to be a perfect flat surface, and an unevenness | corrugation may exist.
本実施形態の印刷平板１は、略平坦な基板１０の表面に親インキ性部１２と、撥インキ性部１１とをパターニングすることにより、従来の印刷平板に必要とされる深い版深（印刷平板の凸部頂部と凹部底部との高さの差）を必要としない効果がある。本実施形態の印刷平板１は、その表面がほぼ平坦なため、数ミクロンの細密なパターンから数ミリの大きな印刷パターンを高精度に形成でき、その印刷パターンをオフセットブランケット４４のインキ膜４３に転写した高精度な印刷パターン部４６を形成でき、その印刷パターン部４６のインキ膜４３を、被印刷基材４７上に転写し印刷することで高精密な印刷を行うことが可能になる効果がある。 The printing flat plate 1 of the present embodiment has a deep plate depth (printing) required for a conventional printing flat plate by patterning an ink-philic part 12 and an ink-repellent part 11 on the surface of a substantially flat substrate 10. There is an effect that a difference in height between the top of the convex portion of the flat plate and the bottom of the concave portion is not required. Since the printing flat plate 1 of this embodiment has a substantially flat surface, it can form a printing pattern as large as several millimeters from a fine pattern of several microns with high accuracy, and the printing pattern is transferred to the ink film 43 of the offset blanket 44. The high-precision printing pattern portion 46 can be formed, and the ink film 43 of the printing pattern portion 46 can be transferred and printed on the substrate 47 to be printed, so that high-precision printing can be performed. .
本実施形態の基板１０の材料としては、硝子や石英の使用が望ましい。これらは、加工しやすく、これは金属材料や有機樹脂材料に比べ熱膨張率が１〜５＊１０-6μｍ／ケルビンと低く寸法安定性が高く、版洗浄時の有機溶剤や有機アルカリなどの薬液耐性、耐溶剤性が高く、耐刷性の高い為である。また、撥インキ性部１１の撥インキ性有機化合物２が化学結合でこれらの基板材料と結合するため、印刷平板１の洗浄時の有機溶剤や有機アルカリなどの薬液耐性、耐刷性を更に高めることが可能になる効果がある。 As a material of the substrate 10 of this embodiment, it is desirable to use glass or quartz. These are easy to process and have a low coefficient of thermal expansion of 1-5 * 10-6 μm / Kelvin and high dimensional stability compared to metal materials and organic resin materials, and chemicals such as organic solvents and organic alkalis during plate cleaning. This is because it has high resistance and solvent resistance and high printing durability. Further, since the ink repellent organic compound 2 of the ink repellent portion 11 is bonded to these substrate materials by chemical bonding, chemical resistance and printing durability such as an organic solvent and an organic alkali at the time of cleaning the printing plate 1 are further enhanced. There is an effect that becomes possible.
印刷平板１に撥インキ性部１１を形成するためには、撥インキ性有機化合物２として、シランカップリング剤の中でもフッ素原子やシロキサン基が含まれるシランカップリング剤などを用い、撥インキ性処理を行う。特に好ましく用いることのできる撥インキ性有機化合物２としては、例えば、長鎖フルオロアルキルシラン、加水分解性基含有シロキサン、フルオロアルキル基含有オリゴマーなどを用いる。撥インキ性部１１への撥インキ性有機化合物２を形成する膜厚は数十から数百オングストロームで十分な撥インキ性を得ることができる。 In order to form the ink repellant portion 11 on the printed flat plate 1, an ink repellency treatment is performed using a silane coupling agent containing a fluorine atom or a siloxane group among the silane coupling agents as the ink repellant organic compound 2. I do. As the ink repellent organic compound 2 that can be particularly preferably used, for example, a long-chain fluoroalkylsilane, a hydrolyzable group-containing siloxane, a fluoroalkyl group-containing oligomer, or the like is used. The film thickness for forming the ink repellent organic compound 2 on the ink repellent portion 11 is several tens to several hundred angstroms, and sufficient ink repellency can be obtained.
撥インキ性部１１を形成する製造方法としては、図２（ｂ）のように、基板１０の上に、有機樹脂のレジストパターン２３、あるいは、金属膜及び金属酸化膜またはそれらの積層膜から成る金属性膜をレジストパターンで保護してエッチングし金属性膜のレジストパターン２３を形成し有機樹脂のレジストパターンは除去する。次に、そのレジストパターン２３の開口部の基板１０の表面に上述のシランカップリング剤の撥インキ性有機化合物２を化学的に結合させて固定する方法を挙げることができる。例えば、シランカップリング剤を水、酢酸水、水−アルコール混合液、あるいはアルコールに溶解させてシランカップリング剤溶液を調製する。次いで、図２（ｃ）のように、前記シランカップリング剤溶液を、レジストパターン２３を形成した基板１０の表面に、スピンコート、ロールコート、アプリケータなどを用いて塗工する。次に、約１２０℃に加熱し約１０分程度乾燥させて溶媒を除くことでシランカップリング剤を基板１０の表面に水素結合により化学結合させて固定する。このとき基板１０の表面の撥インキ性部１１では、加熱乾燥によってシランカップリング剤がオリゴマー化することにより撥インキ性有機化合物２が形成され、撥インキ性部１１の表面を撥インキ性有機化合物２がほぼ単分子膜の状態で覆っている。その後、図２（ｄ）のようにレジストパターン２３を剥離し除去する。 As a manufacturing method for forming the ink-repellent portion 11, as shown in FIG. 2B, the resist pattern 23 made of an organic resin or a metal film and a metal oxide film or a laminated film thereof is formed on the substrate 10. The metallic film is protected with a resist pattern and etched to form a metallic film resist pattern 23, and the organic resin resist pattern is removed. Next, a method of chemically bonding and fixing the above ink-repellent organic compound 2 of the silane coupling agent to the surface of the substrate 10 at the opening of the resist pattern 23 can be mentioned. For example, a silane coupling agent solution is prepared by dissolving a silane coupling agent in water, acetic acid water, a water-alcohol mixed solution, or alcohol. Next, as shown in FIG. 2C, the silane coupling agent solution is applied to the surface of the substrate 10 on which the resist pattern 23 is formed using a spin coat, a roll coat, an applicator, or the like. Next, it is heated to about 120 ° C. and dried for about 10 minutes, and the solvent is removed to fix the silane coupling agent to the surface of the substrate 10 by hydrogen bonding. At this time, in the ink repellent portion 11 on the surface of the substrate 10, the ink repellent organic compound 2 is formed by oligomerization of the silane coupling agent by heat drying, and the surface of the ink repellent portion 11 is formed on the surface of the ink repellent portion 11. 2 covers almost a monomolecular state. Thereafter, the resist pattern 23 is peeled and removed as shown in FIG.
撥インキ性部１１を形成するための撥インキ性有機化合物２として選択するカップリング剤は、用いるインキ膜４３によって異なるが、メチルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシランなどのアルキルシランカップリング剤が好ましい。また、フッ素系のガスによるプラズマ処理による化学結合によって撥インキ性部１１に撥インキ性有機化合物２を形成することもできる。 The coupling agent selected as the ink repellent organic compound 2 for forming the ink repellent portion 11 varies depending on the ink film 43 used, but methyltrimethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-octyltrimethoxysilane. Alkyl silane coupling agents such as dodecyltrimethoxysilane are preferred. Alternatively, the ink repellent organic compound 2 can be formed on the ink repellent portion 11 by chemical bonding by plasma treatment with a fluorine-based gas.
印刷平版１上の撥インキ性部１１は、純水に対する接触角が小さい方が好ましいが、上述のオフセットブランケット材４４よりは接触角が大きい方が好ましく、印刷平版１上の撥インキ性部１１の純水に対する接触角と、オフセットブランケット材４４の純水に対する接触角の差は５度以上あること、望ましくは１０度以上あることが望ましい。 The ink repellant portion 11 on the printing lithographic plate 1 preferably has a smaller contact angle with respect to pure water, but preferably has a larger contact angle than the offset blanket material 44 described above. The difference between the contact angle with respect to the pure water and the contact angle with respect to the pure water of the offset blanket material 44 is 5 degrees or more, preferably 10 degrees or more.
親インキ性部１２となる部分は、撥インキ性有機化合物２を形成する際には、撥インキ性有機化合物２形成前に形成されたレジストパターン２３の部分である。そのレジストパターン２３の形成方法としては、フォトリソグラフィー法により感光性のポジレジスト、ネガレジストをパターニングしてレジストパターン２３を形成する方法や、印刷によりレジストパターン２３を形成する方法などが可能である。レジストパターン２３は、撥インキ性部１１の撥インキ性有機化合物２にダメージを与える事無く剥離することができる膜のレジストパターン２３を用いる。また、レジストパターン２３の形状異常部は、撥インキ性有機化合物２形成前にレーザーリペア等の方法により修正することができる。 When the ink repellent organic compound 2 is formed, the portion that becomes the lyophilic portion 12 is a portion of the resist pattern 23 that is formed before the ink repellent organic compound 2 is formed. As a method of forming the resist pattern 23, a method of forming a resist pattern 23 by patterning a photosensitive positive resist or negative resist by a photolithography method, a method of forming the resist pattern 23 by printing, or the like is possible. The resist pattern 23 is a film resist pattern 23 that can be peeled off without damaging the ink repellent organic compound 2 of the ink repellent portion 11. Further, the abnormal shape portion of the resist pattern 23 can be corrected by a method such as laser repair before the ink repellent organic compound 2 is formed.
レジストパターン２３として用いる材料としては、撥インキ性有機化合物２により剥離や溶解すること無く基板１０を被覆できればよく、感光性レジスト膜、あるいは、金属膜、金属酸化物膜、また、それらの積層膜などの金属性膜レジスト膜を用いることができる。レジストパターン２３の材料は、そのレジストパターン２３上に形成された撥インキ性有機化合物２をリフト・オフにより除去する際、ウェット処理により剥離しやすいポジ型レジストの使用が望ましい。 As a material used as the resist pattern 23, it is sufficient that the substrate 10 can be coated without being peeled off or dissolved by the ink repellent organic compound 2, and a photosensitive resist film, or a metal film, a metal oxide film, or a laminated film thereof. A metallic film resist film such as can be used. As the material of the resist pattern 23, it is desirable to use a positive resist that is easily peeled off by wet treatment when the ink-repellent organic compound 2 formed on the resist pattern 23 is removed by lift-off.
レジストパターン２３として金属性膜を用いる場合に、その金属性膜に撥インキ性部１１のために開口部を形成した金属性膜のレジストパターン２３を形成する。そのパターニング方法としては、有機樹脂のレジストパターンを形成し、薬液による金属性膜のウェットエッチングにより金属性膜のレジストパターン２３を形成し、次に有機樹脂のレジストパターンを剥離して除去する方法を用いることができる。それ以外に、反応性ガスによるドライエッチング法、サンドブラスト、ウエットブラストなどのブラスト法、ＦＩＢ（収束イオンビーム）による切削、ナノインプリンティング法が使用可能である。但し、撥インキ処理後に、この金属性膜のレジストパターン２３上に形成された撥インキ性有機化合物２を、リフト・オフで金属性膜のレジストパターン２３と一緒に除去する。その際に、基板１０上に形成された撥インキ性部１１へ与えるダメージの少ないウェット処理により金属性膜のレジストパターン２３を溶解除去することが望ましい。 When a metal film is used as the resist pattern 23, a metal film resist pattern 23 in which openings are formed in the metal film for the ink-repellent portion 11 is formed. As a patterning method, a resist pattern of an organic resin is formed, a resist pattern 23 of the metal film is formed by wet etching of the metal film with a chemical solution, and then the resist pattern of the organic resin is peeled and removed. Can be used. In addition, dry etching using reactive gas, blasting such as sand blasting and wet blasting, cutting using FIB (focused ion beam), and nanoimprinting can be used. However, after the ink repellent treatment, the ink repellent organic compound 2 formed on the resist pattern 23 of the metallic film is removed together with the resist pattern 23 of the metallic film by lift-off. At this time, it is desirable to dissolve and remove the resist pattern 23 of the metallic film by a wet process that causes little damage to the ink repellent portion 11 formed on the substrate 10.
基板１０に撥インキ性有機化合物２を形成した後に、図２（ｄ）のように、基板１０からレジストパターン２３を剥離することで親インキ性部１２を形成する。すなわち、印刷平版１の親インキ性部１２は、図１（ａ）のように、基板１０の表面の撥インキ性有機化合物２で覆われずに露出する基板１０の表面である。他の変形例としては、オフセットブランケット４４のインキ膜４３への、印刷平板１の親インキ性部１２の密着性を高める為に、図１（ｂ）あるいは図１（ｃ）のように、基板１０の親インキ性部１２にＣｒ、Ｔｉなどの金属膜、または、ＩＴＯ、ＣｕＯx、Ｃｒ2Ｏ3、Ｎｉ2Ｏ3、ＴｉＯ2などの金属酸化膜、あるいは、それらの積層膜などの金属性膜１３を形成する。金属性膜１３の形成方法としては、真空成膜法、メッキ処理及び印刷による方法が挙げられる。親インキ性部１２へ形成する金属性膜１３の膜厚は数千オングストロームで必要な親インキ性を得ることができる。 After the ink repellent organic compound 2 is formed on the substrate 10, the ink-philic part 12 is formed by peeling the resist pattern 23 from the substrate 10 as shown in FIG. That is, the ink-philic part 12 of the printing lithographic plate 1 is the surface of the substrate 10 exposed without being covered with the ink repellent organic compound 2 on the surface of the substrate 10 as shown in FIG. As another modification, in order to improve the adhesion of the ink-philic part 12 of the printing flat plate 1 to the ink film 43 of the offset blanket 44, as shown in FIG. 1B or FIG. Metallic properties such as a metal film such as Cr, Ti, or a metal oxide film such as ITO, CuOx, Cr 2 O 3 , Ni 2 O 3 , or TiO 2 , or a laminated film thereof. A film 13 is formed. Examples of the method for forming the metallic film 13 include a vacuum film forming method, a plating process, and a printing method. The thickness of the metallic film 13 formed on the ink-philic part 12 is several thousand angstroms, and the necessary ink-philicity can be obtained.
また、印刷平板１の親インキ性部１２の表面処理剤として親インキ処理剤を用いる事も可能である。親インキ処理剤としては印刷に用いるインキとの親和性が高いものから適宜選択することが可能である。例えば、インキとしてポリエチレングリコールを添加した組成物を用いる場合、親インキ処理剤としてポリエチレングリコールやエチレングリコール、エチレンエーテル部を含むシランカップリング剤などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。 Moreover, it is also possible to use an ink-philic treatment agent as a surface treatment agent for the ink-philic part 12 of the printing flat plate 1. The parent ink treatment agent can be appropriately selected from those having high affinity with the ink used for printing. For example, when a composition to which polyethylene glycol is added as an ink is used, examples of the parent ink treatment agent include polyethylene glycol, ethylene glycol, and a silane coupling agent containing an ethylene ether moiety, but are not limited thereto.
印刷平版１の表面に親インキ処理を施す方法としては、撥インキ処理と同様にガラス表面処理方法を用いることができる。すなわち、表面処理剤を水、酢酸水、水−アルコール混合液、あるいはアルコールに溶解させて親インキ処理剤溶液を調製する。次いで、前記親インキ処理剤溶液をスピンコート、ロールコート、アプリケータなどを用いて基板１０の表面に塗工する。最後に加熱乾燥して溶媒を除くことで親インキ処理剤分子が、親インキ性部１２をほぼ単分子膜の状態で覆って化学結合で固定される。この工程において、撥インキ性部１１をシランカップリング材分子がほぼ単分子膜の状態で覆っているため、親インキ処理剤は撥インキ性部１１では阻害され、親インキ性部１２の表面にのみ化学結合する。これを表面処理剤の溶媒でリンスすることにより物理吸着している余分な表面処理剤は洗い流される。その後、約１２０℃に加熱し約１０分程度乾燥させて溶媒を除くことにより、親インキ処理剤が印刷平版１の表面に化学結合で強固に固定され、単分子膜であっても非常に耐性のある表面処理となる。また、親インキ性部１２は、スパッタ処理し表面を荒し、その表面にインキ膜４３の膜厚より小さい数十から数百オングストロームの凹凸を形成することで、インキの食いつきを良くしインキの密着性を高める処理を行う事も可能である。 As a method of performing the ink-philic treatment on the surface of the printing lithographic plate 1, a glass surface treatment method can be used as in the ink repellent treatment. That is, a surface treatment agent is dissolved in water, acetic acid water, a water-alcohol mixed solution, or alcohol to prepare an ink-philic treatment solution. Next, the lyophobic ink treating agent solution is applied to the surface of the substrate 10 using a spin coat, a roll coat, an applicator or the like. Finally, by drying by heating and removing the solvent, the ink-philic treatment agent molecules cover the ink-philic part 12 in a substantially monomolecular state and are fixed by chemical bonds. In this step, since the ink-repellent part 11 is covered with the silane coupling material molecules in a substantially monomolecular state, the ink-repellent agent is inhibited by the ink-repellent part 11 and is formed on the surface of the ink-philic part 12. Only chemically bond. By rinsing this with a solvent for the surface treatment agent, excess surface treatment agent that is physically adsorbed is washed away. After that, by heating to about 120 ° C. and drying for about 10 minutes to remove the solvent, the ink treatment agent is firmly fixed to the surface of the printing lithographic plate 1 by a chemical bond, and even a monomolecular film is extremely resistant. It becomes surface treatment with. Further, the ink-philic part 12 is sputtered to roughen the surface, and by forming unevenness of several tens to several hundreds of angstroms smaller than the film thickness of the ink film 43 on the surface, the ink bite is improved and the ink adhesion is improved. It is also possible to perform processing that enhances the performance.
以上のように、本実施形態では、略平坦な基板１０の表面に親インキ性部１２と、撥インキ性部１１とをパターニングすることにより、深い版深を必要としない印刷平板１が得られるので、除去版を用いた印刷法に用いる印刷平板１が容易に得られる効果がある。 As described above, in the present embodiment, the printing plate 1 that does not require a deep plate depth is obtained by patterning the ink-philic part 12 and the ink-repellent part 11 on the surface of the substantially flat substrate 10. Therefore, there is an effect that the printing flat plate 1 used for the printing method using the removal plate can be easily obtained.
本実施形態で用いるオフセットブランケット４４は、ダイコーター４８によるインキ膜４３の形成や、印刷平版１による非印刷パターン部の除去及び被印刷基板への印刷パターン部４６のインキ膜４３の転写が可能なものを用いる。また、変形の少ない材料が好ましいが、ある程度の柔軟性が求められる。このような材料として、シリコーンゴム、シリコーン系エラストマー、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴムやシランカップリング剤などを用いることができる。また、オフセットブランケット４４表面の濡れ性を調整するため、オフセットブランケット４４表面にフッ素樹脂およびシリコーンの塗布、プラズマ処理、ＵＶオゾン洗浄処理などの表面処理を施しても良い。このようなインキ膜形成部材は可とう性が高く、これを枚葉状態で円筒形のシリンダー胴４５に巻きつけて用いたり、強度のある枠に固定して用いたり、あるいは、連続したフィルム状態で巻き取りロールから供給したフィルム基材をオフセットブランケット４４として使用することが可能である。 The offset blanket 44 used in the present embodiment is capable of forming the ink film 43 by the die coater 48, removing the non-printing pattern portion by the printing planographic plate 1, and transferring the ink film 43 of the printing pattern portion 46 to the substrate to be printed. Use things. A material with little deformation is preferable, but a certain degree of flexibility is required. As such a material, silicone rubber, silicone elastomer, butyl rubber, ethylene propylene rubber, silane coupling agent, or the like can be used. Further, in order to adjust the wettability of the offset blanket 44 surface, the surface of the offset blanket 44 may be subjected to a surface treatment such as application of a fluororesin and silicone, plasma treatment, or UV ozone cleaning treatment. Such an ink film forming member has high flexibility, and is used by being wound around a cylindrical cylinder body 45 in a single sheet state, fixed on a strong frame, or in a continuous film state. It is possible to use the film substrate supplied from the take-up roll as the offset blanket 44.
本発明の印刷平版１を用いた除去版を用いる印刷法では、液晶ディスプレイや電子ペーパー、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイの表示をカラー化するために使用されるカラーフィルターを製造することが可能で、印刷物の種類に応じてインキ膜４３を調整すれば良い。カラーフィルターに用いるインキ膜４３の組成物としては有機樹脂、有機溶剤、顔料や剪断性調整の為のフィラー、及び界面活性剤からなるものが使用可能である。また、カラーフィルターを製造する上で、カラーフィルタの全色とも除去版を用いる印刷法にて形成することも可能であるが、ブラックのみフォトリソ法にて形成し、Ｒｅｄ、Ｇｒｅｅｎ，Ｂｌｕｅを除去版を用いる印刷により形成する様に、他の形成方式と併用することも可能である。 In the printing method using the removal plate using the printing lithographic plate 1 of the present invention, it is possible to produce a color filter used for colorizing the display of a liquid crystal display, electronic paper, or organic electroluminescence (EL) display. The ink film 43 may be adjusted according to the type of printed matter. As the composition of the ink film 43 used for the color filter, an organic resin, an organic solvent, a pigment, a filler for adjusting shearing properties, and a surfactant can be used. In addition, when manufacturing a color filter, it is possible to form all colors of the color filter by a printing method using a removal plate, but only black is formed by a photolithography method, and Red, Green, and Blue are removed. It can also be used in combination with other forming methods such as forming by printing using.
インキ膜４３の転写によって印刷パターン部４６が形成される被印刷基板４７は、目的とする印刷物に応じて適宜選択することができる。ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネートなどのフレキシブルなプラスチック材料、石英などの硝子基板やシリコンウェハーなどを挙げることができる。また、被印刷基板４７として、ロールから供給されたフィルム基材を使用することが可能である。そして、被印刷基材４７の形態により、除去版を用いる印刷機の構成を選択することが可能であり、生産効率の向上のために長尺の基材を用い、連続して効率良く印刷を行うことが可能である。 The substrate to be printed 47 on which the print pattern portion 46 is formed by the transfer of the ink film 43 can be appropriately selected according to the target printed matter. Examples thereof include flexible plastic materials such as polyethylene terephthalate (PET), polyimide, polyethersulfone (PES), polyethylene naphthalate (PEN), and polycarbonate, glass substrates such as quartz, and silicon wafers. Moreover, it is possible to use the film base material supplied from the roll as the to-be-printed substrate 47. The configuration of the printing press using the removal plate can be selected according to the form of the substrate to be printed 47, and a long base material is used for continuous and efficient printing in order to improve production efficiency. Is possible.
以下、本発明の実施例１を図２により説明する。実施例１は、図２（ａ）のように、基板１０として、２００ｍｍ×２００ｍｍ、０．７ｍｍ厚の低膨張硝子板（１７３７材）を用いた。次に、図２（ｂ）のように、この硝子板の基板１０上に感光性ポジレジストを塗布する。次に、フォトリソグラフィー法によって、オフセットブランケット４４の印刷パターン部４６に対応する除去版とする印刷平板１の部分、すなわち、撥インキ性部１１とする部分を開口し、親インキ性部１２とする部分は保護したレジストパターン２３を形成した。本実施例では、印刷パターン部４６としては、６０μｍ幅のストライプパターンと４０μｍ幅からなるアライメントマークを配置したパターンを形成した。レジストパターン２３のこれ以外の形成方法は、感光性のネガレジストをフォトリソグラフィー法によってパターニングする方法が可能である。あるいは、印刷によりレジストパターン２３を形成する方法も可能である。これらのレジストパターン２３は、その開口部とする印刷平板１の撥インキ性部１１の撥インキ性有機化合物２にダメージを与える事無く剥離可能な膜であればよい。レジストパターン２３を形成した際に形状異常部がある場合は、次の工程の撥インキ性有機化合物２形成前にレーザーリペア等の方法によりレジストパターン２３を修正すれば良い。 Embodiment 1 of the present invention will be described below with reference to FIG. In Example 1, a low expansion glass plate (1737 material) having a size of 200 mm × 200 mm and a thickness of 0.7 mm was used as the substrate 10 as shown in FIG. Next, as shown in FIG. 2B, a photosensitive positive resist is applied on the glass plate substrate 10. Next, the portion of the printing flat plate 1 to be the removal plate corresponding to the printing pattern portion 46 of the offset blanket 44, that is, the portion to be the ink repellent portion 11 is opened by the photolithography method, and the ink-philic portion 12 is formed. A protected resist pattern 23 was formed on the part. In this embodiment, as the print pattern portion 46, a pattern in which a stripe pattern having a width of 60 μm and an alignment mark having a width of 40 μm are arranged is formed. As another method of forming the resist pattern 23, a method of patterning a photosensitive negative resist by a photolithography method is possible. Alternatively, a method of forming the resist pattern 23 by printing is also possible. These resist patterns 23 may be any film that can be peeled without damaging the ink-repellent organic compound 2 of the ink-repellent portion 11 of the printing flat plate 1 serving as the opening. If there is an abnormal shape when the resist pattern 23 is formed, the resist pattern 23 may be corrected by a method such as laser repair before forming the ink repellent organic compound 2 in the next step.
次いで、図２（ｃ）のように、撥インキ性有機化合物２としてエチレンエーテル部を含むシランカップリング剤（日本ユニカー製Ａ−１２３０）をイソプロピルアルコールに０．５重量％で溶解させた溶液をレジストパターン２３を形成した基板１０上にスピンコートし、１２０℃に１０分加熱し乾燥させることにより基板全面にシランカップリング剤を化学的に結合させた。この加熱により、このシランカップリング剤から成る撥インキ性有機化合物２はレジストパターン２３の開口部の撥インキ性部１１の基板１０の表面で水素基、水酸基との化学反応で水素結合を形成し強固に結合した撥インキ性有機化合物２を形成する。次に、硝子板の基板１０上のレジストパターン２３を溶解除去しレジストパターン２３上に形成されたシランカップリング剤から成る撥インキ性有機化合物２をリフト・オフし、親インキ性部１２の基板１０の表面を露出させた。こうしてシランカップリング剤から成る撥インキ性有機化合物２のパターンをる撥インキ性部１１とし、露出した硝子の基板１０の表面を親インキ性部１２とした印刷平版１を製造した。 Next, as shown in FIG. 2 (c), a solution obtained by dissolving a silane coupling agent (A-1230, manufactured by Nihon Unicar Co., Ltd.) containing an ethylene ether portion as the ink repellent organic compound 2 in isopropyl alcohol at 0.5% by weight. The substrate 10 on which the resist pattern 23 was formed was spin-coated, heated to 120 ° C. for 10 minutes and dried to chemically bond a silane coupling agent to the entire surface of the substrate. By this heating, the ink repellent organic compound 2 made of this silane coupling agent forms hydrogen bonds on the surface of the substrate 10 of the ink repellent portion 11 of the opening of the resist pattern 23 by a chemical reaction with a hydrogen group and a hydroxyl group. A strongly bonded ink-repellent organic compound 2 is formed. Next, the resist pattern 23 on the glass plate substrate 10 is dissolved and removed, and the ink-repellent organic compound 2 made of the silane coupling agent formed on the resist pattern 23 is lifted off, so that the substrate of the ink-philic part 12 is formed. Ten surfaces were exposed. In this way, a printing lithographic plate 1 was produced in which the ink-repellent portion 11 having a pattern of the ink-repellent organic compound 2 made of a silane coupling agent was used, and the exposed surface of the glass substrate 10 was the ink-philic portion 12.
以上の実施例で得らた印刷平版１を実際に除去版を用いる印刷法に使用し、性能を評価した。テストに用いるインキとして、カラーフィルタ用の着色インキを用いた。着色インキの組成を以下に示す。
＜赤色顔料分散液＞
まず、赤色顔料分散液を、基本的に剪断性調整の為のフィラーが入っている下記の組成で調整した。
・赤色顔料
Ｃ．Ｉ． Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製
「イルガーフォーレッド Ｂ−ＣＦ」）…１８重量部
Ｃ．Ｉ． Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ １７７ （チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製
「クロモフタールレッド Ａ２Ｂ」）…２重量部
・アクリルワニス（固形分２０％）…１０８重量部。
The printing lithographic plate 1 obtained in the above examples was used in a printing method that actually uses a removed plate, and the performance was evaluated. As the ink used for the test, a color ink for a color filter was used. The composition of the colored ink is shown below.
<Red pigment dispersion>
First, a red pigment dispersion was prepared with the following composition containing a filler for adjusting shearing properties.
-Red pigment C.I. I. Pigment Red 254 (“Ilgar Forred B-CF” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 18 parts by weight C.I. I. Pigment Red 177 (“Chromophthal Red A2B” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 2 parts by weight / acrylic varnish (solid content 20%) 108 parts by weight.
＜赤色着色インキ＞
その後、下記組成の混合物を均一になるように攪拌混合した後、５μｍのフィルタで濾過して赤色着色インキを得た。
・上記赤色顔料分散液…１００重量部
・メチル化メチロールメラミン（三洋化成工業株式会社製：商品名ＭＷ−３０）…２０重量部
・レベリング剤（大日本インキ化学工業株式会社製：商品名メガファック Ｆ−４８３Ｓ
Ｆ）…１重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル…８５重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート…４５重量部。
<Red coloring ink>
Thereafter, a mixture having the following composition was stirred and mixed to be uniform, and then filtered through a 5 μm filter to obtain a red colored ink.
-Red pigment dispersion liquid: 100 parts by weight-Methylated methylol melamine (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd .: trade name MW-30) ... 20 parts by weight- Leveling agent (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc .: trade name: Megafuck) F-483S
F) 1 part by weight / propylene glycol monomethyl ether 85% by weight propylene glycol monomethyl ether acetate 45 parts by weight
こうして調整した赤色着色インキを、図４のように、オフセットブランケット４４（基材厚約１２０μｍのシリコーン系離形ポリエステルフィルム：K1504（東洋紡績社製）のインキ剥離性フィルムから成る）上に＃６のバーコーターを用いて塗布し室温で約２分乾燥させてインキ膜４３を形成した。次に、印刷平板１を、オフセットブランケット４４上のインキ膜４３に接触させ、オフセットブランケット４４の非印刷パターン部のインキ膜４３を印刷平板１の親インキ性部１２に転写して除去し、オフセットブランケット４４に印刷パターン部４６を残した。次に、オフセットブランケット４４を、フィルム厚１２０μｍで幅が２００ｍｍの光透過性ＰＥＴのフィルムから成る被印刷基材４７に押圧し、オフセットブランケット４４から印刷パターン部４６のインキ膜４３をこの被印刷基材４７上に転写した。 As shown in FIG. 4, the red coloring ink thus prepared was applied to offset blanket 44 (silicone release polyester film having a substrate thickness of about 120 μm: made of K1504 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.)) # 6 And an ink film 43 was formed by drying at room temperature for about 2 minutes. Next, the printing flat plate 1 is brought into contact with the ink film 43 on the offset blanket 44, and the ink film 43 in the non-printing pattern portion of the offset blanket 44 is transferred to the ink-philic portion 12 of the printing flat plate 1 to be removed. The print pattern portion 46 was left on the blanket 44. Next, the offset blanket 44 is pressed against a printing substrate 47 made of a light-transmissive PET film having a film thickness of 120 μm and a width of 200 mm, and the ink film 43 of the printing pattern portion 46 is transferred from the offset blanket 44 to the printing substrate. Transferred onto the material 47.
実施例２は図１（ｃ）の形状の印刷平板１である。実施例２では、基板１０として、２００ｍｍ×２００ｍｍ、０．７ｍｍ厚の低膨張硝子板（１７３７材）を用いた。図３（ａ）のように、この硝子板の基板１０の片面にスパッタ法によりクロム膜を形成し、次に酸化クロム膜を形成することで、酸化クロム／クロムの２層クロム膜の金属性膜１３を０．０５μｍ／０．１μｍ製膜した。次に、図２（ｂ）と同様にして、この金属性膜１３上に感光性ポジレジストによるレジストパターン２３をフォトリソグラフィー法によって形成した。レジストパターン２３のパターンとしては、オフセットブランケット４４に形成する印刷パターン部４６に相当する部分が開口したパターンを形成した。なお、印刷パターン部４６の形状は、１０μｍ幅のストライプパターンと画面部を囲む３ｍｍ幅の額縁パターン、及び４０μｍ幅からなるアライメントマークを配置したパターンを形成した。 Example 2 is a printed flat plate 1 having the shape shown in FIG. In Example 2, a low expansion glass plate (1737 material) having a size of 200 mm × 200 mm and a thickness of 0.7 mm was used as the substrate 10. As shown in FIG. 3 (a), a chromium film is formed on one surface of the substrate 10 of this glass plate by sputtering, and then a chromium oxide film is formed. Membrane 13 was formed to 0.05 μm / 0.1 μm. Next, similarly to FIG. 2B, a resist pattern 23 made of a photosensitive positive resist was formed on the metallic film 13 by photolithography. As the pattern of the resist pattern 23, a pattern in which a portion corresponding to the print pattern portion 46 formed in the offset blanket 44 was opened was formed. The shape of the print pattern portion 46 was a pattern in which a stripe pattern having a width of 10 μm, a frame pattern having a width of 3 mm surrounding the screen portion, and an alignment mark having a width of 40 μm were arranged.
次に、図２（ｃ）のように、撥インキ性有機化合物２として、エチレンエーテル部を含むシランカップリング剤（日本ユニカー製Ａ−１２３０）をイソプロピルアルコールに０．５重量％で溶解させた溶液をレジストパターン２３が形成された基板１０の金属性膜１３上にスピンコートし、１２０℃で１０分加熱し乾燥させることにより金属性膜１３とその上のレジストパターン２３の全面にシランカップリング剤を水素結合で化学的に結合させた。 Next, as shown in FIG. 2C, as the ink repellent organic compound 2, a silane coupling agent containing an ethylene ether part (A-1230 manufactured by Nihon Unicar) was dissolved in isopropyl alcohol at 0.5 wt%. The solution is spin-coated on the metallic film 13 of the substrate 10 on which the resist pattern 23 is formed, heated at 120 ° C. for 10 minutes, and dried to silane coupling the entire surface of the metallic film 13 and the resist pattern 23 thereon. The agent was chemically bonded by hydrogen bonding.
次に、図２（ｄ）のように、レジストパターン２３を溶解剥離しレジストパターン２３上に形成した撥インキ性有機化合物２をリフト・オフした。こうして、図１（ｃ）のように、金属性膜１３の表面を親インキ性部１２とし、金属性膜１３上に撥インキ性有機化合物層２からなる撥インキ性部１１をパターン形成した印刷平版１を作製した。ここで、２層クロム膜の金属性膜１３を用いることで、除去版のその部分が硝子よりも強度が強くなり繰り返し使用に耐えられるようになる効果がある。また、この金属性膜１３は表面が酸化クロムから成るので、親インキ性に優れる効果がある。更に、酸化クロムの色が明瞭に視認でき、その部分に欠陥がある場合にその欠陥を発見し易くなることにより、その印刷平板１の品質が向上する効果がある。 Next, as shown in FIG. 2D, the resist pattern 23 was dissolved and peeled off, and the ink repellent organic compound 2 formed on the resist pattern 23 was lifted off. In this way, as shown in FIG. 1C, the surface of the metal film 13 is used as the ink-philic part 12, and the ink-repellent part 11 made of the ink-repellent organic compound layer 2 is patterned on the metal film 13 A lithographic plate 1 was prepared. Here, by using the metallic film 13 of the two-layer chromium film, there is an effect that the portion of the removal plate is stronger than the glass and can endure repeated use. Further, since the surface of the metallic film 13 is made of chromium oxide, there is an effect of excellent ink affinity. Further, the color of the chromium oxide can be clearly recognized, and when the portion has a defect, it becomes easy to find the defect, thereby improving the quality of the printed flat plate 1.
実施例３を図３を用いて説明する。実施例３は、基板１０として、２００ｍｍ×２００ｍｍ、０．７ｍｍ厚の低膨張硝子板（１７３７材）を用いた。図３（ａ）のように、この硝子の基板１０の基板１０の片面にスパッタ法によりクロム膜を形成し、次に酸化クロム膜を形成することで、酸化クロム/クロムの２層のクロム膜を０．０５μｍ／０．１μｍ製膜し金属性膜１３とした。次に、図３（ｂ）のように、この金属性膜１３上に感光性ポジレジストを用いたフォトリソグラフィー法によってレジストパターン２３を形成し、露出した金属性膜１３をエッチングした。オフセットブランケット４４の印刷パターン部４６の形状は、１０μｍ幅のストライプパターンと画面部を囲む３ｍｍ幅の額縁パターン、及び４０μｍ幅からなるアライメントマークを配置したパターンを使用した。こうして印刷時の印刷パターン部４６に相当する部分が開口した金属性膜１３のパターンが形成された基板１０を得た。 A third embodiment will be described with reference to FIG. In Example 3, a low expansion glass plate (1737 material) having a size of 200 mm × 200 mm and a thickness of 0.7 mm was used as the substrate 10. As shown in FIG. 3A, a chromium film is formed on one surface of the glass substrate 10 by sputtering, and then a chromium oxide film is formed, thereby forming a chromium oxide / chromium two-layer chromium film. Was formed into a metallic film 13. Next, as shown in FIG. 3B, a resist pattern 23 was formed on the metallic film 13 by a photolithography method using a photosensitive positive resist, and the exposed metallic film 13 was etched. As the shape of the print pattern portion 46 of the offset blanket 44, a pattern in which a stripe pattern having a width of 10 μm, a frame pattern having a width of 3 mm surrounding the screen portion, and an alignment mark having a width of 40 μm is used. Thus, the substrate 10 on which the pattern of the metallic film 13 having an opening corresponding to the print pattern portion 46 at the time of printing was obtained.
次に、図３（ｃ）のように、撥インキ性有機化合物２としてエチレンエーテル部を含むシランカップリング剤（日本ユニカー製Ａ−１２３０）をイソプロピルアルコールに０．５重量％で溶解させた溶液を２層クロムのパターンが形成された基板１０上にスピンコートし、１２０℃で１０分加熱し乾燥させることにより基板１０の全面にシランカップリング剤の撥インキ性有機化合物２を水素結合で化学的に結合させた。 Next, as shown in FIG. 3 (c), a solution obtained by dissolving a silane coupling agent (A-1230, manufactured by Nihon Unicar Co., Ltd.) containing an ethylene ether moiety as the ink repellent organic compound 2 in isopropyl alcohol at 0.5% by weight. Is spin-coated on the substrate 10 on which the two-layer chromium pattern is formed, heated at 120 ° C. for 10 minutes, and dried to chemistry of the ink-repellent organic compound 2 as a silane coupling agent on the entire surface of the substrate 10 by hydrogen bonding. Combined.
次に、基板板１０上のレジストパターン２３を溶解剥離しレジストパターン２３上の撥インキ性有機化合物２をリフト・オフで除去した。こうして、図１（ｂ）に示す構造の、金属性膜１３の表面を親インキ性部１２にし、硝子の基板１０の表面に撥インキ性有機化合物層２を化学結合させた撥インキ性部１１にした印刷平版１を作製した。 Next, the resist pattern 23 on the substrate plate 10 was dissolved and peeled, and the ink-repellent organic compound 2 on the resist pattern 23 was removed by lift-off. In this way, the surface of the metallic film 13 having the structure shown in FIG. 1B becomes the ink-philic part 12 and the ink-repellent part 11 in which the ink-repellent organic compound layer 2 is chemically bonded to the surface of the glass substrate 10. A printing lithographic plate 1 was prepared.
＜比較例＞
比較例として、基板１０に撥インキ性を付与する場合の、基板１０の形状の影響を確認するために、基板１０の凹形状部を形成し、その凹形状部に撥インキ性処理をし実験した。基板１０として、２００ｍｍ×２００ｍｍ、０．７ｍｍ厚の低膨張硝子板（１７３７材）を用い、１０μｍ幅のストライプパターンと画面部を囲む３ｍｍ幅の額縁パターン、及び４０μｍ幅からなるアライメントマークを配置した印刷パターン部４６を形成した硝子凹版の印刷平板１を製造した。この印刷平板１は、ウェットエッチングの際のエッチングレジスト層としてスパッタ法によりクロム膜を形成し、次に酸化クロム膜を形成することで形成した酸化クロム/クロムの２層クロム膜（０．０５μｍ／０．１μｍ）のエッチングレジスト層を形成した。この金属性のエッチングレジスト層上に感光性ポジレジストの有機樹脂のエッチングレジストパターンを用いたフォトリソグラフィー法によって２層クロム被膜をエッチングすることで金属性のエッチングレジストパターンを形成した。こうして印刷時の印刷パターン部４６に相当する部分が開口した金属性のエッチングレジストパターンを用い、フッ酸によるウェットエッチ処理でこの硝子の基板１０に版深２．５μｍの凹形状部を形成した。なお、印刷パターン部４６はＥＦ５μｍにて設計した。
<Comparative example>
As a comparative example, in order to confirm the influence of the shape of the substrate 10 when ink repellency is imparted to the substrate 10, a concave shape portion of the substrate 10 is formed, and an ink repellency treatment is performed on the concave shape portion. did. A low expansion glass plate (1737 material) having a size of 200 mm × 200 mm and 0.7 mm was used as the substrate 10, and a 10 μm wide stripe pattern, a 3 mm wide frame pattern surrounding the screen portion, and an alignment mark having a 40 μm width were arranged. A glass intaglio printing plate 1 on which the printing pattern portion 46 was formed was manufactured. The printed flat plate 1 is formed by forming a chromium film by sputtering as an etching resist layer during wet etching, and then forming a chromium oxide film to form a two-layer chromium film (0.05 μm / chromium oxide). An etching resist layer of 0.1 μm) was formed. On this metallic etching resist layer, a metallic etching resist pattern was formed by etching a two-layer chromium film by a photolithography method using an etching resist pattern of a photosensitive positive resist organic resin. A metallic etching resist pattern having an opening corresponding to the printing pattern portion 46 at the time of printing was used, and a concave portion having a plate depth of 2.5 μm was formed on the glass substrate 10 by wet etching with hydrofluoric acid. The print pattern portion 46 was designed with EF of 5 μm.
この基板１０の全面にエチレンエーテル部を含むシランカップリング剤（日本ユニカー製Ａ−１２３０）をイソプロピルアルコールに０．５重量％で溶解させた溶液を塗布し、１２０℃１０分間加熱し乾燥させることで基板全面にシランカップリング剤の撥インキ性有機化合物２を水素結合で化学的に結合させる撥インキ性処理をした。次に、２層クロム膜を溶解剥離して、凹形状部のみ撥インキ性にし、２層クロム膜で覆っていた表面の撥インキ性有機化合物２は２層クロム膜とともに除去した硝子凹版の印刷平板１を製造した。 A solution obtained by dissolving 0.5% by weight of a silane coupling agent containing an ethylene ether portion (A-1230, manufactured by Nihon Unicar Co., Ltd.) in isopropyl alcohol is applied to the entire surface of the substrate 10 and heated to 120 ° C. for 10 minutes to dry. Then, an ink repellency treatment was performed in which the ink repellency organic compound 2 of the silane coupling agent was chemically bonded by hydrogen bonding to the entire surface of the substrate. Next, the two-layer chrome film is dissolved and peeled so that only the concave portion is ink-repellent, and the surface of the ink-repellent organic compound 2 covered with the two-layer chrome film is removed together with the two-layer chrome film. A flat plate 1 was produced.
こうして得た印刷平板１は、この構造でも従来技術に比べ有用な効果があったが、感光性ポジレジストのパターニング、Ｃｒ膜のパターニング、硝子エッチングと、フォトリソ工程を重ねると、硝子エッチングの際に除去基板１０の凹形状部の版深と同程度のサイドエッチングが生じることなどの影響で、基板１０の最表面の凸部のコーナー部の丸みの曲率半径Ｒが、工程を経る毎に、Ｒ＝１．５μｍ、２μｍ、４．５μｍと曲率半径が大きくなり悪化していく問題があった。また、硝子エッチングの途中でサイドエッチ進行に伴い生じた２層クロム膜のクラック部よりＶ形状に異常エッチングが進行するパターン欠陥が認められた問題があった。そのため、この比較例も従来技術を改善する効果はあるが、本発明の実施例１から実施例３は、この問題が無く、この比較例よりも更に優れた効果があった。 The printed flat plate 1 thus obtained had a useful effect compared with the prior art even in this structure. However, when the photoresist positive resist patterning, the Cr film patterning, the glass etching, and the photolithography process are repeated, the glass etching is performed. The radius of curvature R of the corner portion of the convex portion on the outermost surface of the substrate 10 is changed every time the process is performed due to the influence of side etching similar to the plate depth of the concave portion of the removal substrate 10. = 1.5 μm, 2 μm, 4.5 μm There is a problem that the radius of curvature increases and gets worse. In addition, there is a problem in which a pattern defect in which abnormal etching progresses in a V shape from a crack portion of the two-layer chrome film generated along with the progress of the side etching during the glass etching. For this reason, this comparative example also has an effect of improving the prior art, but Examples 1 to 3 of the present invention do not have this problem, and have an effect superior to this comparative example.
本発明の印刷平版１は、印刷平版１の親インキ性部１２にてオフセットブランケット４４上に形成されたインキ膜４３より不要なインキ膜４３の除去が容易かつ確実になされるため、カラーフィルタ以外に、薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタアレイなどの導電性ペーストなどを印刷物として製造する際に応用することができる。 In the printing lithographic plate 1 of the present invention, the unnecessary ink film 43 can be easily and reliably removed from the ink film 43 formed on the offset blanket 44 in the ink-philic part 12 of the printing lithographic plate 1. In addition, the present invention can be applied to the production of printed materials such as conductive pastes such as thin film transistors and thin film transistor arrays.
１・・・印刷平板
２・・・撥インキ性有機化合物
１０・・・基板
１１・・・撥インキ性部
１２・・・親インキ性部
１３・・・金属性膜
２３・・・レジストパターン
４３・・・インキ膜
４４・・・オフセットブランケット
４５・・・シリンダー胴
４６・・・印刷パターン部
４７・・・被印刷基材
４８・・・ダイコーター
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Printing flat plate 2 ... Ink-repellent organic compound 10 ... Board | substrate 11 ... Ink-repellent part 12 ... Ink-philic part 13 ... Metallic film 23 ... Resist pattern 43 ... Ink film 44 ... Offset blanket 45 ... Cylinder cylinder 46 ... Print pattern part 47 ... Print substrate 48 ... Die coater
Claims (12)
る金属性膜を形成する第１の工程と、前記基板上にレジストパターンを形成する第２の工程と、前記レジストパターンから露出した前記金属性膜をエッチングし除去し前記基材の表面を露出させる第３の工程と、前記基板の全面に撥インキ性有機化合物を塗布し加熱乾燥することにより前記撥インキ性有機化合物を前記基材の表面に化学結合させる第４の工程と、前記レジストパターンを溶解除去することで前記レジストパタ−ン上の前記撥インキ性有機化合物をリフト・オフにより除去し前記レジストパターン下の前記金属性膜を露出させる第５の工程を有することを特徴とする印刷平版の製造方法。 A method for producing a printing flat plate used as a removing plate in a printing method using a removing plate, wherein a metal film or a metal oxide film or a laminated film thereof is formed on the surface of a substrate based on glass or quartz. A first step of forming a resist pattern on the substrate; a third step of etching and removing the metallic film exposed from the resist pattern to expose the surface of the substrate; A fourth step of chemically bonding the ink repellent organic compound to the surface of the substrate by applying an ink repellent organic compound to the entire surface of the substrate and drying by heating; and dissolving and removing the resist pattern A fifth step of removing the ink-repellent organic compound on the resist pattern by lift-off to expose the metallic film under the resist pattern; Method of manufacturing a printed lithographic characterized by.
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010058330A (en) * | 2008-09-02 | 2010-03-18 | Sharp Corp | Method for forming image pattern and image pattern and semiconductor device, electric circuit, display module, color filter, and light emitting element |
| JP2010076189A (en) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Sharp Corp | Printing plate and printing method using the same |
| CN103890128A (en) * | 2011-10-21 | 2014-06-25 | 旭硝子株式会社 | Method for manufacturing ink-repellent agent, negative-type photosensitive resin composition, partition wall, and optical device |
| KR102023306B1 (en) * | 2019-05-31 | 2019-11-04 | 이원재 | Silicon transfer printed surface forming apparatus with printed surface having different type patterns and the printing method using this |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0776062A (en) * | 1993-09-09 | 1995-03-20 | Masamichi Fujihira | Manufacture of ps plate for lithography |
| JP2005212222A (en) * | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Shin Sti Technology Kk | Printing apparatus and printing method |
| JP2005310406A (en) * | 2004-04-16 | 2005-11-04 | Toppan Printing Co Ltd | Removal plate, manufacturing method of organic el display device and manufacturing device of organic el display device |
| JP2006168297A (en) * | 2004-12-20 | 2006-06-29 | Sony Corp | Printing plate and method for manufacturing printing plate |
-
2007
- 2007-02-09 JP JP2007030416A patent/JP2008194884A/en active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0776062A (en) * | 1993-09-09 | 1995-03-20 | Masamichi Fujihira | Manufacture of ps plate for lithography |
| JP2005212222A (en) * | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Shin Sti Technology Kk | Printing apparatus and printing method |
| JP2005310406A (en) * | 2004-04-16 | 2005-11-04 | Toppan Printing Co Ltd | Removal plate, manufacturing method of organic el display device and manufacturing device of organic el display device |
| JP2006168297A (en) * | 2004-12-20 | 2006-06-29 | Sony Corp | Printing plate and method for manufacturing printing plate |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010058330A (en) * | 2008-09-02 | 2010-03-18 | Sharp Corp | Method for forming image pattern and image pattern and semiconductor device, electric circuit, display module, color filter, and light emitting element |
| JP2010076189A (en) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Sharp Corp | Printing plate and printing method using the same |
| CN103890128A (en) * | 2011-10-21 | 2014-06-25 | 旭硝子株式会社 | Method for manufacturing ink-repellent agent, negative-type photosensitive resin composition, partition wall, and optical device |
| CN103890128B (en) * | 2011-10-21 | 2016-06-29 | 旭硝子株式会社 | Refuse the ink manufacture method of agent, negative light-sensitive resin combination, partition wall and optical element |
| KR102023306B1 (en) * | 2019-05-31 | 2019-11-04 | 이원재 | Silicon transfer printed surface forming apparatus with printed surface having different type patterns and the printing method using this |
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