JP2008246938A - Fine pattern printing method - Google Patents

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守 玉越
Hideyuki Yamada
英幸 山田
Koji Imayoshi
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a fine pattern printing method whereby a high-fine pattern is continuously formed on a flexible substrate such as a glass substrate and plastic film, especially long plastic film with good production efficiency. <P>SOLUTION: A film substrate 13a with ink peelability is manufactured by plasma processing a peelable film substrate 13 at an atmospheric plasma part 110. Furthermore, an ink liquid film 21 is formed on a film substrate 13a with ink peelability at a painted part 120 and pre-dried, thereby forming a pre-dried ink film 21a. Further, an intended ink film pattern 21c is formed on the film substrate 13a by eliminating unnecessary pre-dried ink film on a film substrate 11a by a relief plate at a part 140 where the pattern is eliminated. Then the ink film pattern 21c is transferred on the substrate 31 at a part 150 where the pattern is transferred, thereby forming the intended ink pattern 21d. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、ガラス基材やプラスチックフィルム、特に生産効率の良い長尺状のプラスチックフィルムなどの可撓性基材上へ、高精細パターンを連続的に形成する精細パターンの印刷方法に関する。   The present invention relates to a fine pattern printing method for continuously forming a high-definition pattern on a flexible substrate such as a glass substrate or a plastic film, in particular, a long plastic film with good production efficiency.

近年、フラットパネルディスプレイは、省エネルギー、省スペース、可搬性などの点から据え置き型、壁掛け型、携帯型の様々な用途の画像表示装置として利用されている。   In recent years, flat panel displays have been used as image display devices for various uses such as stationary, wall-mounted, and portable types in terms of energy saving, space saving, and portability.

特に携帯型においては、携帯時に落下させても破損しないような耐衝撃性や、軽量化、薄型化などの点からプラスチック化への要求がある。また、壁掛け型においても円柱状の柱へのディスプレイの設置という点から可撓性のディスプレイへの要求がある。   In particular, in the portable type, there is a demand for plasticization from the viewpoints of impact resistance that does not break even when dropped while carrying, light weight, and thinning. In addition, the wall-hanging type also has a demand for a flexible display from the viewpoint of installing the display on a columnar column.

しかしながら、従来のフラットパネルディスプレイは、何れもガラス基板上に製造された物であり、プラスチック基板上に製造することは難しかった。   However, all of the conventional flat panel displays are manufactured on a glass substrate, and it is difficult to manufacture on a plastic substrate.

その理由は、従来のフラットパネルディスプレイの部材の作製には高温での加熱工程とフォトリソ工程が含まれているためである。   The reason is that the production of the members of the conventional flat panel display includes a heating process and a photolithography process at a high temperature.

例えば、液晶ディスプレイ用のカラーフィルターの製造にあたっては、感光性樹脂のパターニングにあたって、現像、洗浄、ベーキングなどの工程があり、プラスチック基板の熱による損傷や伸縮が生じてしまう。   For example, in manufacturing a color filter for a liquid crystal display, patterning of a photosensitive resin involves processes such as development, washing, and baking, and the plastic substrate is damaged or stretched by heat.

また、ディスプレイの駆動電極である薄膜トランジスタの製造工程では、シリコン半導体や、絶縁膜の形成には300℃以上の高温工程を含み、プラスチック基板の耐熱性を上回っていた。   Moreover, in the manufacturing process of the thin film transistor which is a drive electrode of the display, the formation of the silicon semiconductor and the insulating film includes a high temperature process of 300 ° C. or more, which exceeds the heat resistance of the plastic substrate.

また、フォトリソ工程は、成膜、露光、現像、剥離を材料毎に行うので、製造設備も大掛かりとなり、製造コストが高くなる。   In addition, since the photolithography process performs film formation, exposure, development, and peeling for each material, the manufacturing equipment becomes large and the manufacturing cost increases.

以上のことから、プラスチック基材上への精細なパターニングが可能な印刷方法が求められていた。   From the above, a printing method capable of fine patterning on a plastic substrate has been demanded.

プラスチック基材上への印刷法の一つとして、インクジェット法が検討されている。
インクジェット法は、所定の部分にのみ所定の材料をパターニングできることから材料の利用効率が高く、版も使用しないことから、もっとも簡便なパターニング方法として期待されている。
As one of printing methods on a plastic substrate, an ink jet method has been studied.
The ink-jet method is expected as the simplest patterning method because a predetermined material can be patterned only in a predetermined portion, so that the use efficiency of the material is high and a plate is not used.

しかしながら、現状のインクジェットのインク液滴の直径は数十μm程度であり、着弾精度も数μm程度ある。   However, the diameter of ink droplets of the current ink jet is about several tens of μm, and the landing accuracy is about several μm.

また、インクジェット法を用いて精密なパターニングをするためには、あらかじめ基板上にフォトリソ工程により隔壁を形成しなければならず、カラーフィルターのブラックマトリクスや印刷方式の薄膜トランジスタ配線などの10μm程度のパターンを形成する方法としては、採用することは難しい。   In addition, in order to perform precise patterning using the ink jet method, a partition wall must be formed on a substrate in advance by a photolithography process, and a pattern of about 10 μm such as a black matrix of a color filter or a thin film transistor wiring of a printing method is formed. As a method of forming, it is difficult to adopt.

インクジェット法以外の方法としては、スクリーン印刷法が挙げられる。スクリーン印
刷法は、電子部品における配線や抵抗体、誘電体の印刷などで実用化されている。
Examples of methods other than the inkjet method include screen printing. The screen printing method has been put to practical use in the printing of wirings, resistors and dielectrics in electronic parts.

しかしながら、孔版印刷であることからインキはペースト状の高粘度のものに限られ、また、スクリーンメッシュの精細度から数十μm程度の厚膜の印刷法としては採用できても、やはり10μm前後のパターンを形成する方法としての採用は難しい。   However, since it is stencil printing, the ink is limited to a paste-like high-viscosity ink. Even if it can be used as a printing method for a thick film of about several tens of micrometers because of the fineness of the screen mesh, it is still about 10 μm. It is difficult to adopt as a pattern forming method.

そこで、インクジェット法およびスクリーン印刷法以外の方法として、フィルムへ乾燥インキ膜を予め設けた、いわゆるドライフィルムを熱圧によりパターン除去した後、残ったパターンを目的の基材に転写する転写方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   Therefore, as a method other than the inkjet method and the screen printing method, a transfer method in which a dry ink film is provided on a film in advance, a so-called dry film is removed by hot pressure, and the remaining pattern is transferred to a target substrate is proposed. (For example, refer to Patent Document 1).

しかしながら、フィルムからインキ層を転写する際に熱圧を用いるために、フィルム基材の膨張・収縮や版の膨張、インキ層の溶融・軟化を伴うことから、数十μm程度の微小なパターンの再現性を得る事が困難である。また、熱圧を均一に与える為の装置も複雑になり、大画面への対応も困難となってしまう。   However, since the thermal pressure is used when transferring the ink layer from the film, it involves expansion / contraction of the film base, expansion of the plate, and melting / softening of the ink layer. It is difficult to obtain reproducibility. In addition, the apparatus for uniformly applying the heat pressure becomes complicated, and it becomes difficult to cope with a large screen.

また、版胴に巻き付けたブランケット上にインキを塗工・予備乾燥してインキ膜を形成し、その後、非画像部パターンが形成された凸版をインキ膜に押圧することによりブランケット上に画像パターンを形成し、最後に、ブランケット上の画像パターンを被印刷基材上に転写し、被印刷基材上に画像パターンを形成する印刷方法が試みられている(例えば、特許文献2参照)。
この方法は、インキ膜厚を調整することが容易である。この印刷法ではインキ剥離性のブランケット上に画像パターンを形成することから、被印刷基材へのインキ転写性が良好である。また、薄膜での微細パターン形成が可能である。
特開平9−90117号公報 特開2001−56405号公報
In addition, ink is applied onto a blanket wound around a plate cylinder and pre-dried to form an ink film, and then an image pattern is formed on the blanket by pressing the relief plate on which the non-image area pattern is formed against the ink film. Finally, a printing method in which an image pattern on a blanket is transferred onto a substrate to be printed and an image pattern is formed on the substrate to be printed has been attempted (for example, see Patent Document 2).
This method is easy to adjust the ink film thickness. In this printing method, since an image pattern is formed on an ink-peeling blanket, ink transfer to a substrate to be printed is good. Further, it is possible to form a fine pattern with a thin film.
JP-A-9-90117 JP 2001-56405 A

しかしながら、上記特許文献2の方法は、シリコーンゴムまたはシリコーン樹脂からなるブランケット上でインキの予備乾燥を行う時に、ブランケット表面のインキ濡れ性や転写性が不安定になるという問題点を有している。
これは、ブランケットが版胴に固定されたまま乾燥を行うために均一な予備乾燥が困難であり、塗工されたインキ中の溶剤がブランケット内に吸収され膨潤していき、部分的な転写性や精度のバラツキが発生することが原因である。
However, the method of Patent Document 2 has a problem that the ink wettability and transferability of the blanket surface become unstable when the ink is pre-dried on a blanket made of silicone rubber or silicone resin. .
This is because it is difficult to perform uniform pre-drying because the blanket is fixed to the plate cylinder, and the solvent in the coated ink is absorbed into the blanket and swells, resulting in partial transferability. This is because of variations in accuracy.

また、転写後のクリーニングやブランケットの乾燥による膨潤量の調整を転写毎に行う必要があるため、連続加工に不向きである。また、ブランケットが版胴に固定されているので、あるパターンが形成された基材上に転写する場合に、ブランケット上のパターンと基材上のマークとの位置合わせが困難であるという問題を有している。   Further, since it is necessary to adjust the amount of swelling by cleaning after transfer or drying of the blanket for each transfer, it is not suitable for continuous processing. In addition, since the blanket is fixed to the plate cylinder, there is a problem that it is difficult to align the pattern on the blanket and the mark on the substrate when transferring the pattern onto the substrate on which a pattern is formed. is doing.

本発明は、上記のような問題を解決するためになされたもので、ガラス基材やプラスチックフィルム、特に生産効率の良い長尺状のプラスチックフィルムなどの可撓性基材上へ、連続的に高精細パターンを形成する精細パターンの印刷方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and is continuously applied to a flexible substrate such as a glass substrate or a plastic film, particularly a long plastic film having a high production efficiency. An object is to provide a fine pattern printing method for forming a high-definition pattern.

本発明に於いて上記問題を解決するために、まず請求項1では、少なくとも、
(a)巻き出しロール部から供給されたフィルム基材の表面を、大気圧プラズマによってフッ化処理してインキ剥離性を有するフィルム基材を作製する工程と、
(b)前記インキ剥離性を有するフィルム基材上にインキ液膜を形成する工程と、
(c)前記インキ剥離性を有するフィルム基材上の前記インキ液膜を予備乾燥し、予備乾燥インキ膜を形成する工程と、
(d)必要な画像部パターンが凹部に形成された凸版を前記インキ剥離性を有するフィルム基材上の前記予備乾燥インキ膜に押し当て、前記予備乾燥インキ膜の不要部を前記凸版の凸部に転移させ、前記インキ剥離性を有するフィルム基材上に予備乾燥インキ膜からなる画像部パターンを形成する工程と、
(e)前記インキ剥離性を有するフィルム基材上に形成された予備乾燥インキ膜からなる画像部パターンを被印刷基材上に転写することにより、被印刷基材上に画像パターンを形成する工程と、を有することを特徴とする精細パターンの印刷方法としたものである。
In order to solve the above problems in the present invention, first, in claim 1, at least,
(A) A step of producing a film base material having ink releasability by fluorinating the surface of the film base material supplied from the unwinding roll part with atmospheric pressure plasma;
(B) a step of forming an ink liquid film on the film substrate having the ink peelability;
(C) a step of pre-drying the ink liquid film on the film substrate having ink peelability to form a pre-dried ink film;
(D) A relief plate in which a necessary image portion pattern is formed in a recess is pressed against the preliminary dry ink film on the film substrate having the ink peelability, and an unnecessary portion of the preliminary dry ink film is pressed onto the convex portion of the relief plate And forming an image part pattern consisting of a pre-dried ink film on the film substrate having the ink releasability,
(E) The process of forming an image pattern on a to-be-printed base material by transcribe | transferring the image part pattern which consists of a preliminary | backup dry ink film formed on the film base material which has the said ink peelability on a to-be-printed base material. And a fine pattern printing method characterized by comprising:

また、請求項2では、前記フィルム基材が、光学的に透明であることを特徴とする請求項1に記載の精細パターンの印刷方法としたものである。   According to a second aspect of the present invention, there is provided the fine pattern printing method according to the first aspect, wherein the film substrate is optically transparent.

また、請求項3では、前記フィルム基材の表面に弾性のある有機樹脂層が形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の精細パターンの印刷方法としたものである。   According to a third aspect of the present invention, there is provided the fine pattern printing method according to the first or second aspect, wherein an elastic organic resin layer is formed on the surface of the film substrate.

また、請求項4では、前記大気圧プラズマによる処理が、フッ素原子を有する分子を主成分とする反応性ガスを含むプラズマ処理であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の精細パターンの印刷方法としたものである。   Moreover, in Claim 4, the process by the said atmospheric pressure plasma is a plasma process containing the reactive gas which has the molecule | numerator which has a fluorine atom as a main component, The Claim 1 thru | or 3 characterized by the above-mentioned. This is the fine pattern printing method described.

また、請求項5では、前記予備乾燥インキ膜が、インキ液膜の予備乾燥によって粘着性を有し、形状は保っているが常温において外力により容易に形状が変化する半乾燥状態であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の精細パターンの印刷方法としたものである。   Further, in claim 5, the pre-dried ink film is in a semi-dry state in which the ink liquid film has adhesiveness by pre-drying of the ink liquid film and the shape is maintained, but the shape is easily changed by an external force at room temperature. 5. The fine pattern printing method according to claim 1, wherein the fine pattern is printed.

また、請求項6では、前記インキ剥離性を有するフィルム基材上に形成された予備乾燥インキ膜からなる画像部パターンを被印刷基材上に転写する工程において、前記被印刷基材に予め形成されたアライメントマークと、前記インキ剥離性のフィルム基材上に予備乾燥インキ膜による画像パターンを形成する際に同時に形成されたアライメントマークとを、カメラ等の観察機器によって観察して位置合わせした後、前記インキ剥離性のフィルム基材上に形成された予備乾燥インキ膜からなる画像パターンを前記被印刷基材上の所定位置に転写することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の精細パターンの印刷方法としたものである。   According to a sixth aspect of the present invention, in the step of transferring an image portion pattern made of a pre-dried ink film formed on the film substrate having ink peelability onto the substrate to be printed, it is previously formed on the substrate to be printed. After aligning the alignment mark formed with the alignment mark formed at the same time when forming the image pattern with the pre-dried ink film on the ink-peelable film substrate with an observation device such as a camera 6. An image pattern comprising a pre-dried ink film formed on the ink-peelable film substrate is transferred to a predetermined position on the substrate to be printed. The fine pattern printing method described in 1).

また、請求項7では、前記予備乾燥インキ膜を除去するための凸版が、ガラス、石英ガラス、もしくは樹脂材から形成されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の精細パターンの印刷方法としたものである。   Moreover, in Claim 7, the letterpress for removing the said preliminary | backup drying ink film is formed from glass, quartz glass, or a resin material, The one of Claims 1 thru | or 6 characterized by the above-mentioned. This is a fine pattern printing method.

さらにまた、請求項8では、前記フィルム基材は、予備乾燥インキ膜を全て転写した後に洗浄し、繰り返し使用することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の精細パターンの印刷方法としたものである。   Furthermore, in claim 8, the film substrate is washed after transferring the pre-dried ink film, and used repeatedly. The fine pattern according to any one of claims 1 to 7, This is a printing method.

請求項1に係る発明によれば、巻き出しロール部から供給されたフィルム基材の表面を、大気圧プラズマによってフッ化処理してインキ剥離性を持たせた後、インキ液膜を形成し、該インキ液膜を予備乾燥して予備乾燥インキ膜を得た後、必要な画像部パターンを凹
部に形成した凸版を該予備乾燥インキ膜に押し当て、非画像部を該凸版の凸部に転移させ、インキ剥離性のフィルム基材上に残された予備乾燥インキ膜による画像パターンを目的の被印刷基材表面上へ転写するため、高精細な印刷方法とすることができる。
According to the invention according to claim 1, after the surface of the film substrate supplied from the unwinding roll part is fluorinated by atmospheric pressure plasma to give ink peelability, an ink liquid film is formed, The ink liquid film is pre-dried to obtain a pre-dried ink film, and then a relief plate having a necessary image portion pattern formed in the concave portion is pressed against the preliminary dry ink film, and the non-image portion is transferred to the convex portion of the relief plate. The image pattern formed by the pre-dried ink film remaining on the ink-peeling film substrate is transferred onto the surface of the target substrate to be printed, so that a high-definition printing method can be achieved.

また、請求項2に係る発明によれば、フィルム基材が光学的に透明であることで、インキ剥離性のフィルム基材表面に残った画像パターンやアライメントマーク越しに、被印刷基材上の画像パターンやアライメントマークを確認することができることから、転写位置を正確に合わせこむことが容易となり再現性の高い高精細パターンの印刷方法とすることができる。   Moreover, according to the invention which concerns on Claim 2, since a film base material is optically transparent, it passes on the to-be-printed base material through the image pattern and alignment mark which remained on the film base material of ink peelability. Since the image pattern and the alignment mark can be confirmed, it is easy to accurately match the transfer position, and a high-definition pattern printing method with high reproducibility can be obtained.

また、請求項3に係る発明によれば、フィルム基材の表面に弾性のある有機樹脂層が形成されていることで、凸版や目的の被印刷基材表面への転写性を高め、再現性の高い高精細パターンの印刷方法とすることができる。   Moreover, according to the invention which concerns on Claim 3, since the organic resin layer with elasticity is formed in the surface of a film base material, the transcription | transfer property to a letterpress or the target printing substrate surface is improved, and reproducibility. High-definition pattern printing method.

また、請求項4に係る発明によれば、大気圧プラズマによる処理が、フッ素またはフッ素化合物を主成分とする反応性ガスを含むプラズマ処理であるため、フィルム基材表面の平滑性を維持したまま短時間でフィルム基材表面の濡れ性を低くすることが可能で、凸版や被印刷基材表面への転写性を高め、再現性の高い高精細パターンの印刷方法とすることができる。   According to the invention of claim 4, since the treatment with the atmospheric pressure plasma is a plasma treatment containing a reactive gas mainly composed of fluorine or a fluorine compound, the smoothness of the film substrate surface is maintained. It is possible to reduce the wettability of the film substrate surface in a short time, increase the transferability to the relief printing plate or the surface of the substrate to be printed, and obtain a high-definition pattern printing method with high reproducibility.

また、請求項5に係る発明によれば、予備乾燥インキ膜がインキ液膜の予備乾燥によって粘着性を有し、形状は保っているが常温において外力により容易に形状が変化する半乾燥状態であることで、加熱処理を施すことなく、一部パターン除去や被転写基材への転写を行うことが可能となり、インキ剥離性やフィルム基材や被転写基材の熱膨張やパターンの熱溶融による形状変化の影響の受けることの無い、精密なパターンの印刷方法とすることができる。   Further, according to the invention according to claim 5, the pre-dried ink film has adhesiveness by pre-drying of the ink liquid film, and the shape is maintained, but in a semi-dry state in which the shape is easily changed by an external force at room temperature. As a result, it is possible to remove a part of the pattern and transfer it to the substrate to be transferred without performing heat treatment, and the ink peeling property, the thermal expansion of the film substrate or the substrate to be transferred, and the pattern heat melting. Therefore, it is possible to obtain a precise pattern printing method that is not affected by the shape change due to the above.

また、請求項6に係る発明によれば、被印刷基材に予め画像パターンが設けられていて、前記インキ剥離性のフィルム基材上に残された予備乾燥インキ膜による画像パターンを、被印刷基材表面に転写する際に、インキ剥離性のフィルム基材と被印刷基材とを平行に近づけ、インキ剥離性のフィルム基材ないし被印刷基材の裏面より、カメラ等の観察機器によって観察し、少なくとも一方の基材を移動させながら、該インキ剥離性のフィルム基材上に残された画像部パターンが有するアライメントマークと、被印刷基材表面に設けられた画像パターンが有するアライメントマークとを重ね合わせることから、転写位置を正確に合わせこむことが可能となり再現性の高い高精細パターンの印刷方法とすることができる。   According to the invention of claim 6, an image pattern is preliminarily provided on the substrate to be printed, and the image pattern by the pre-dried ink film left on the ink peelable film substrate is printed. When transferring to the substrate surface, the ink-removable film substrate and the substrate to be printed are brought close to each other in parallel, and observed from the ink-removable film substrate or the back surface of the substrate to be printed with an observation device such as a camera. Then, while moving at least one substrate, the alignment mark that the image portion pattern left on the ink peelable film substrate has, and the alignment mark that the image pattern provided on the surface of the substrate to be printed has As a result, the transfer position can be accurately aligned, and a highly reproducible high-definition pattern printing method can be achieved.

また、請求項7に係る発明によれば、予備乾燥インキ膜を除去するための凸版として、ガラス、石英ガラス、もしくは樹脂材から成る版を使用することで、高精細パターンの印刷方法とすることができる。   Further, according to the invention of claim 7, a printing method for a high-definition pattern is obtained by using a plate made of glass, quartz glass, or a resin material as a relief plate for removing the pre-dried ink film. Can do.

また、請求項8に係る発明によれば、フィルム基材において、予備乾燥インキ膜を全て転写した後に洗浄し、繰り返し使用することで、フィルム基材を複数回使用でき、毎回安定した連続印刷が可能な印刷方法とすることができる。   Moreover, according to the invention which concerns on Claim 8, in a film base material, it wash | cleans after transferring all the preliminary | backup dried ink films | membranes, By using repeatedly, a film base material can be used in multiple times, and the stable continuous printing is carried out every time. Possible printing methods can be obtained.

従って、本発明はガラス基材あるいはプラスチック等可撓性基材、とりわけ長尺状の可撓性基材へ高精細パターンの印刷を連続に安定しておこなうことができ、ディスプレイ部材となるカラーフィルターのブラックマトリックス、ホワイトマトリックス、カラーパターン、スペーサーなどを作製することができる。
また、印刷トランジスタのゲート電極、ソース/ドレイン電極、ゲート絶縁膜、有機半導
体などの溶液型半導体パターンをこの印刷法にて作製することができる。
さらに、高分子型有機ELの発光層のパターニングをこのような印刷法により効率良く作製することができる。
Therefore, the present invention is capable of continuously and stably printing a high-definition pattern on a flexible substrate such as a glass substrate or plastic, particularly a long flexible substrate, and a color filter serving as a display member. The black matrix, white matrix, color pattern, spacer, etc. can be produced.
Further, a solution type semiconductor pattern such as a gate electrode, a source / drain electrode, a gate insulating film, and an organic semiconductor of a printing transistor can be manufactured by this printing method.
Furthermore, the patterning of the light emitting layer of the polymer organic EL can be efficiently produced by such a printing method.

以下、本発明の実施形態につき図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の精細パターンの印刷方法に用いたパターン印刷装置の一例を示す模式構成図である。
図2(a)〜(g)は、本発明の精細パターンの印刷方法の一実施例を工程順に示す部分模式断面図である。
本発明の精細パターンの印刷方法は、フィルム基材巻き出し部101よりフィルム基材13を供給し、大気圧プラズマ部110にてプラズマ処理して、インキ剥離性を有するフィルム基材13aを作製する。さらに、塗工部120にてインキ剥離性を有するフィルム基材13a上にインキ液膜21を形成し、乾燥部130にてフィルム基材13a上のインキ液膜21の予備乾燥を行い、インキ剥離性を有するフィルム基材13a上に予備乾燥インキ膜21a形成する。
さらに、パターン除去部140にて、フィルム基材11a上の不要な予備乾燥インキ膜を凸版にて除去して、フィルム基材13a上に所望のインキ膜パターン21cを形成する。さらに、アライメント部152を有するパターン転写部150にて、フィルム基材13a上のインキ膜パターン21cを被印刷基材31上に位置合わせして転写し、乾燥部160にてインキ膜パターン21cを乾燥し、被印刷基材21上に所望のインキパターン21dを形成する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an example of a pattern printing apparatus used in the fine pattern printing method of the present invention.
FIGS. 2A to 2G are partial schematic cross-sectional views showing an embodiment of the fine pattern printing method of the present invention in the order of steps.
In the fine pattern printing method of the present invention, the film substrate 13 is supplied from the film substrate unwinding section 101, and plasma treatment is performed in the atmospheric pressure plasma section 110 to produce a film substrate 13a having ink peelability. . Furthermore, the ink liquid film 21 is formed on the film base material 13a having ink releasability at the coating part 120, and the ink liquid film 21 on the film base material 13a is preliminarily dried at the drying part 130, thereby removing the ink. The pre-dried ink film 21a is formed on the film base material 13a having properties.
Further, an unnecessary pre-dried ink film on the film base material 11a is removed with a relief plate at the pattern removing unit 140, thereby forming a desired ink film pattern 21c on the film base material 13a. Further, the ink film pattern 21c on the film substrate 13a is aligned and transferred onto the substrate 31 to be printed by the pattern transfer unit 150 having the alignment unit 152, and the ink film pattern 21c is dried by the drying unit 160. Then, a desired ink pattern 21d is formed on the substrate 21 to be printed.

以下、本発明の精細パターンの印刷方法について工程順に説明する。
まず、未加工のフィルム基材11の表面上に有機樹脂層12をコーティングしてフィルム基材13を作製した(図2(a)参照)後、ロール状に巻取り、巻き取りロール部101とする。
Hereinafter, the fine pattern printing method of the present invention will be described in the order of steps.
First, the organic resin layer 12 was coated on the surface of the raw film base material 11 to produce a film base material 13 (see FIG. 2A), and then wound into a roll shape, To do.

フィルム基材のテンションの制御は、これら装置以外に搬送系にニップ部を設置して基材を保持することでも調節を行うことができる。ニップ部は、主に搬送ロールに備わったエアー吸着孔による吸着ニップが用いられる。   In addition to these devices, the tension of the film base material can be adjusted by installing a nip portion in the transport system and holding the base material. As the nip portion, an adsorption nip formed mainly by air adsorption holes provided in the transport roll is used.

フィルム基材の搬送は、各工程で必要な時間差を緩和し、フィルムの連続搬送を行うためのバッファを備えた場合、5m/sec〜10m/secの連続搬送を行うことができるが、インキ剥離性フィルム基材や被印刷基材を、工程毎に必要な長さ繰り出す方式を用いるのが好ましい。   The film substrate can be transported at a rate of 5 m / sec to 10 m / sec when a buffer for continuously transporting the film is provided to ease the time difference required for each process. It is preferable to use a method of drawing out the required length of the conductive film substrate or the substrate to be printed for each step.

未加工のフィルム基材11としては、光学的に透明なフィルムを用いることが可能であり、透明な基材を用いることにより、パターンの重ね合わせ時にアライメントを容易にすることができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースなどのフィルム、シートを用いることができる。   As the raw film base material 11, an optically transparent film can be used. By using a transparent base material, alignment can be facilitated at the time of pattern superposition. For example, films and sheets of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyether sulfone, cycloolefin polymer, polyimide, nylon, aramid, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, triacetyl cellulose, and the like can be used.

未加工のフィルム基材11の表面上には、予め有機樹脂層12をコーティングし、弾性を付与しておく。この弾性は、インキ剥離性のフィルム基材上の予備乾燥インキ膜を、凸版の凸部に転移させる際に、凸版との密着性を良くし高精細なパターンを形成できるようにするためのものである。この際に、弾性力はゴム硬度で20〜80(JISK6301:スプリング式硬さ試験 A形)であることが好ましい。
コーティングする有機樹脂としては、例えばポリエチレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、
ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂の単独、混合或いは共重合物、エラストマー等が用いられるが、前記のゴム硬度を満たしているものであれば、これらに限定されるものではない。
On the surface of the unprocessed film substrate 11, an organic resin layer 12 is coated in advance to give elasticity. This elasticity is intended to improve the adhesion to the relief plate and form a high-definition pattern when the pre-dried ink film on the ink-peelable film substrate is transferred to the relief of the relief plate. It is. At this time, the elastic force is preferably 20 to 80 (JISK6301: spring type hardness test A type) in rubber hardness.
Examples of organic resins to be coated include polyethylene resins, polyurethane resins,
Polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, polyester resins, acrylic resins alone, mixed or copolymerized products, elastomers, etc. are used, but those that satisfy the above rubber hardness are limited to these. is not.

次に、有機樹脂層12を形成したフィルム基材13は、大気圧プラズマ部110にてプラズマ処理し、インキ剥離性を有するフィルム基材13aを作製する(図2(b)参照)。
大気圧プラズマ処理は、フッ素またはフッ素化合物を主成分とする反応性ガスを用いて大気圧雰囲気下でプラズマ照射するが、使用するガスとしてはCF4、CHF3、C26、SF6、C38、C58などから選択されるフッ素ガスを含有する反応性ガスである。
Next, the film base material 13 on which the organic resin layer 12 is formed is subjected to plasma treatment in the atmospheric pressure plasma unit 110 to produce a film base material 13a having ink peelability (see FIG. 2B).
In the atmospheric pressure plasma treatment, plasma irradiation is performed in an atmospheric pressure atmosphere using a reactive gas mainly composed of fluorine or a fluorine compound. The gases used are CF 4 , CHF 3 , C 2 F 6 , SF 6 , It is a reactive gas containing a fluorine gas selected from C 3 F 8 , C 5 F 8 and the like.

大気圧プラズマ部110は、誘電体で形成されプラズマ原料ガスを導入するガス導入口と、反応管内で生成されるプラズマを被処理物体に向けて放出するガス出口を有する反応管と、反応管のガス導入口にプラズマ原料ガスを供給するガス供給装置と、反応管を周囲して配置され高周波電源から高周波電圧が印加される一対の高圧電極と接地電極から成り反応管内に高周波電界を発生せしめる高周波電界発生装置とを具備しており、反応管内部をフィルム基材11が搬送される構造となっている。   The atmospheric pressure plasma unit 110 is formed of a dielectric material, a gas introduction port for introducing a plasma source gas, a reaction tube having a gas outlet for discharging plasma generated in the reaction tube toward an object to be processed, and a reaction tube A high frequency that generates a high-frequency electric field in the reaction tube, comprising a gas supply device that supplies a plasma source gas to the gas inlet, and a pair of high-voltage electrodes and a ground electrode that are arranged around the reaction tube and to which a high-frequency voltage is applied from a high-frequency power source It has an electric field generator, and has a structure in which the film substrate 11 is conveyed inside the reaction tube.

上記インキ剥離性を有するフィルム基材13aのインキ剥離性は、処理面へインキを滴下した際の接触角が、10°以上90°以下となるのが好ましく、より好ましくは20°以上70°以下である。この接触角が小さいと後工程でのインキ剥離性が低下してパターンの欠陥(再現性不良等)が発生しやすくなり、接触角が大きいとインキ液膜を形成する際にハジキが生じて、均一なインキ液膜を形成することが困難になる。   The ink peelability of the film substrate 13a having the ink peelability is such that the contact angle when ink is dropped onto the treated surface is preferably 10 ° or more and 90 ° or less, more preferably 20 ° or more and 70 ° or less. It is. If this contact angle is small, ink releasability in the subsequent process is reduced and pattern defects (such as poor reproducibility) are likely to occur. If the contact angle is large, repelling occurs when forming the ink liquid film, It becomes difficult to form a uniform ink liquid film.

次に、インキ剥離性を有するフィルム基材13a上に塗工部120にてインキ液膜21を形成する(図2(c)参照)。
塗工部120は、可動ステージ121と、可動ステージ上に設けられたインキ剥離性フィルム基材11aに対しインキを塗布する塗工装置122が設置されている。
可動ステージ121は、ボールねじやリニアモーター等で駆動するものを用いることができ、金属製、石製などのものを用いることができるが少なくとも水平方向に水平を保ったまま往復運動することができ、インキ剥離性フィルム基材11aを吸着することができる。吸着による表面の凹凸を防ぐためにフィルムのエッジ付近のみ吸着孔を設ける方法や、多孔質性材料を用いた吸着表面を用いる方法を選択することができる。
Next, the ink liquid film 21 is formed in the coating part 120 on the film base material 13a which has ink peelability (refer FIG.2 (c)).
The coating unit 120 is provided with a movable stage 121 and a coating device 122 that applies ink to the ink peelable film substrate 11a provided on the movable stage.
The movable stage 121 can be driven by a ball screw, a linear motor, or the like, and can be made of metal or stone, but can reciprocate while maintaining at least the horizontal direction. The ink peelable film substrate 11a can be adsorbed. In order to prevent unevenness of the surface due to adsorption, a method of providing adsorption holes only near the edge of the film or a method of using an adsorption surface using a porous material can be selected.

また、塗工部120にてインキ液膜21を形成する方法としては、インキの粘度や溶媒の乾燥性によって公知の塗工方法を用いることができる。すなわち、例えばディッピング法、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、コンマコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等が挙げられる。中でも、ダイコート、キャップコート、ロールコート、アプリケータは、広い範囲の粘度のインキについて均一なインキ液膜を形成することができ、さらにその中でも可動するインキ剥離性のフィルム基材上へ連続的に形成する場合は、ダイコートが最も効率的で好適な形成方法である。   Moreover, as a method of forming the ink liquid film 21 in the coating part 120, a well-known coating method can be used by the viscosity of an ink or the drying property of a solvent. That is, for example, dipping method, roll coating, gravure coating, reverse coating, air knife coating, comma coating, die coating, screen printing method, spray coating, gravure offset method and the like can be mentioned. Above all, the die coat, cap coat, roll coat, and applicator can form a uniform ink film for inks with a wide range of viscosity, and continuously on the movable ink peelable film substrate. In the case of forming, die coating is the most efficient and preferable forming method.

インキ液膜の材料としては、画像パターン形成材料に溶媒を溶解又は分散させたものを用いることができる。例えば、カラーフィルターにおいて赤色、緑色、青色からなるカラーパターン(着色層)やブラックマトリックス等を本発明の製造方法により形成する場合、顔料成分と樹脂成分を溶媒中に溶解、分散させることによりインキとなる。   As a material for the ink liquid film, a material obtained by dissolving or dispersing a solvent in an image pattern forming material can be used. For example, when a color pattern (colored layer) consisting of red, green, and blue or a black matrix is formed by the production method of the present invention in a color filter, the pigment component and the resin component are dissolved and dispersed in a solvent to form an ink. Become.

顔料には、例えば、赤、緑、青の各色で使用できる顔料として次のものが挙げられる。顔料の種類は、カラーインデックス(C.I.)No.で示す。まず、赤色顔料として、
97、122、123、149、168、177、180、192、208、209、215などが、緑色顔料として7、36などが、青色顔料として、15、15:1、15:3、15:6、22、60、64などが挙げられる。墨顔料として、カーボンブラック、チタンブラックなどが挙げられる。また、これら赤、緑及び青顔料の色調整及びインキの流動性を改善するために、次に挙げる顔料を必要量添加することができる。
Examples of the pigment include the following pigments that can be used in red, green, and blue colors. The type of pigment is a color index (CI) No. It shows with. First, as a red pigment,
97, 122, 123, 149, 168, 177, 180, 192, 208, 209, 215, etc., 7, 36, etc. as green pigments, 15, 15: 1, 15: 3, 15: 6 as blue pigments , 22, 60, 64 and the like. Examples of black pigments include carbon black and titanium black. Further, in order to improve the color adjustment of these red, green and blue pigments and the fluidity of the ink, the following pigments can be added in necessary amounts.

赤色、緑色、青色以外にも、例えば、黄顔料として、17、83、109、110、128などが、紫顔料として、19、23などが、白顔料として、18、21、27、28などが、橙顔料として、38、43などが挙げられる。顔料は、単体以外に、顔料を予め分散剤、有機溶剤に分散させた顔料分散体であっても良い。   Besides red, green, and blue, for example, yellow pigments such as 17, 83, 109, 110, and 128, purple pigments such as 19, 23, and white pigments such as 18, 21, 27, and 28, etc. Examples of the orange pigment include 38 and 43. In addition to the simple substance, the pigment may be a pigment dispersion in which the pigment is previously dispersed in a dispersant or an organic solvent.

また、ブラックマトリックスに用いられる黒色顔料としては、カーボンブラックやチタンブラックが単独又は混合して用いられる。   Moreover, as a black pigment used for a black matrix, carbon black or titanium black is used alone or in combination.

樹脂成分には、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂からなる群から選ばれる1つ以上のものが使用される。溶剤には、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤及び炭化水素系溶剤などが使用される。エステル系溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エトキシエチルプロピオネート、アルコール系溶剤として、1−ブタノール、3メトキシー3メチル−1ブタノール、1−ヘキサノール、1,3ブタンジオール、1−ペンタノール、2−メチル1−ブタノール、4−メチル−2−ペンタノール、エーテル系溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールターシャリーブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、炭化水素系溶剤として、ソルベッソ100、ソルベッソ150(製品名:エクソン化学社製)などが挙げられる。   As the resin component, one or more selected from the group consisting of polyester resins, acrylic resins, epoxy resins, melamine resins, and benzoguanamine resins are used. As the solvent, an ester solvent, an alcohol solvent, an ether solvent, a hydrocarbon solvent, or the like is used. As ester solvents, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethoxyethyl propionate, and alcohol solvents, 1-butanol, 3methoxy-3-methyl-1-butanol, 1-hexanol, 1,3 butanediol, 1-pentanol, 2 -Methyl 1-butanol, 4-methyl-2-pentanol, ether solvents such as propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol tertiary butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol butyl ether, ethylene glycol ethyl Ether, ethylene glycol methyl ether, diethylene glycol butyl ether, diethylene glycol ethyl ether, hydrocarbon As a solvent, Solvesso 100, Solvesso 150 (product name: manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.) and the like.

また、有機EL素子において有機発光層を形成する場合、例えば、ポリフェニレンビニレン(PPV)といった高分子発光材料を溶媒としてトルエンやキシレンといった芳香族系有機溶媒に溶解、分散させることによりインキとなる。また、回路基材において、配線を形成する場合、金、銀、銅、ニッケル、白金、パラジウム、ロジウム等の金属微粒子分散液を水やアルコール、グリコール系溶媒に溶解、分散させることによりインキとなる。また、これらのインキには必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤、レベリング剤等が添加されてもよい。なお、本発明のインキはこれらに限定されるものではない。   When an organic light emitting layer is formed in an organic EL element, for example, an ink is obtained by dissolving and dispersing a polymer light emitting material such as polyphenylene vinylene (PPV) in an aromatic organic solvent such as toluene or xylene as a solvent. In addition, when wiring is formed on a circuit base material, an ink is obtained by dissolving and dispersing a metal fine particle dispersion such as gold, silver, copper, nickel, platinum, palladium, rhodium in water, alcohol, or glycol solvent. . Moreover, surfactant, antioxidant, a viscosity modifier, a ultraviolet absorber, a leveling agent, etc. may be added to these inks as needed. The ink of the present invention is not limited to these.

塗工部120は、連続加工や膜厚の均一性が優れるダイ方式のものについて説明するが、これに限定するものではない。ダイヘッドには、別に用意されたインキ供給用のポンプから所定量のインキを供給することができる。このダイヘッドとインキ剥離性フィルム基材とのギャップは印刷開始前に設定してもよく、また可動式ステージの搬送に合わせてダイヘッドを上下動させて調整してもよい。   Although the coating part 120 demonstrates the thing of the die | dye system which is excellent in the continuous processing and the uniformity of a film thickness, it is not limited to this. A predetermined amount of ink can be supplied to the die head from a separately prepared ink supply pump. The gap between the die head and the ink peelable film substrate may be set before the start of printing, or may be adjusted by moving the die head up and down in accordance with the conveyance of the movable stage.

次に、インキ剥離性を有するフィルム基材13a上のインキ液膜21を乾燥部130にて予備乾燥し、予備乾燥インキ膜21aを形成する(図2(d)参照)。
ここで、乾燥部130での予備乾燥には、自然乾燥、冷風・温風乾燥、マイクロ波、減圧乾燥などを用いることができ、また、紫外線、電子線などの放射線を用いることもできる。
Next, the ink liquid film 21 on the film substrate 13a having ink peelability is preliminarily dried in the drying unit 130 to form the preliminarily dried ink film 21a (see FIG. 2D).
Here, for the preliminary drying in the drying unit 130, natural drying, cold air / hot air drying, microwave, vacuum drying, or the like can be used, and radiation such as ultraviolet rays or electron beams can also be used.

上記予備乾燥は、インキ液膜21の粘度またはチキソトロピー性、脆性を上げることを
目的とするもので、インキ液膜21の完全乾燥はさせない。乾燥が不十分な場合は、後工程の凸版の凸部を押し当て剥離する際に、インキ液膜が断裂し不良が発生する。逆に乾燥が行き過ぎた場合は、凸版にインキが転写されない。
そのため、予備乾燥インキ膜21aは、使用するインキの組成によって乾燥状態を乾燥時間や雰囲気温度により調節するが、乾燥したインキ膜に対して0.5%から4%の溶剤の残留が認められる状態が好ましい。
The preliminary drying is intended to increase the viscosity, thixotropy and brittleness of the ink liquid film 21, and the ink liquid film 21 is not completely dried. When the drying is insufficient, the ink liquid film tears and a defect occurs when the convex part of the relief printing plate in the subsequent process is pressed and peeled off. On the other hand, if the drying is excessive, the ink is not transferred to the letterpress.
For this reason, the pre-dried ink film 21a has a dry state adjusted by the drying time and the atmospheric temperature depending on the composition of the ink to be used, but a state in which 0.5% to 4% of solvent remains in the dried ink film. Is preferred.

次に、パターン除去部140にて、必要な画像部パターンが凹部に形成された凸版141をインキ剥離性を有するフィルム基材13a上の予備乾燥インキ膜21aに押し当て、予備乾燥インキ膜21aの不要部を凸版141の凸部に転移させ、インキ剥離性を有するフィルム基材13a上に予備乾燥インキ膜からなる画像部パターン21cを形成する(図2(e)参照)。
ここで、凸版141としては、無アルカリガラス等の低膨張ガラスや、石英ガラスなどの表面に感光性樹脂を用いてマスクパターンを形成した後、既存のドライエッチング処理やウエットエッチング処理、もしくはサンドブラスト処理を用いて、2μmから30μmの版深を設けたものを用いることができる。
Next, the pattern removing unit 140 presses the relief plate 141 having the necessary image portion pattern formed in the recesses against the pre-dried ink film 21a on the film substrate 13a having ink peelability, and the pre-dried ink film 21a. An unnecessary part is transferred to the convex part of the relief plate 141, and the image part pattern 21c which consists of a preliminary | backup dry ink film is formed on the film base material 13a which has ink peelability (refer FIG.2 (e)).
Here, as the relief plate 141, a mask pattern is formed on a surface of low expansion glass such as non-alkali glass or quartz glass using a photosensitive resin, and then an existing dry etching process, wet etching process, or sand blasting process is performed. Can be used with a plate depth of 2 to 30 μm.

パターン除去部140は、可動ステージに樹脂製またはガラス製の凸版141が吸着により装着されており、インキ剥離性フィルム基材11a上の予備乾燥インキ膜21a面を凸版141に近づけた後、可動ステージの移動とともに圧胴142による加重をかけ、凸版141の凸部と接した予備乾燥インキ膜21aを凸版に転移させる。   The pattern removing unit 140 has a resin-made or glass-made relief plate 141 attached to the movable stage by adsorption, and after the surface of the pre-dried ink film 21a on the ink peelable film substrate 11a is brought close to the relief plate 141, the movable stage When the pressure is applied by the impression cylinder 142, the pre-dried ink film 21a in contact with the convex portion of the relief plate 141 is transferred to the relief plate.

また、凸版141の基材にはナイロン、アクリル、シリコーン樹脂、スチレン-ジエン共重合体などからなるものを用いることもできる。また、エチレン-プロピレン系、ブチル系、ウレタン系ゴムなどのゴム製の版を用いることもできる。このような樹脂製の凸版は、すでに凸版印刷やフレキソ印刷用に用いられており、予め作製した型に所定の樹脂を流し込んで版とする、あるいは彫刻によっても作製することができるが、感光性樹脂を用いる方法がより高精度のものを作製できる。   Further, the base plate of the relief plate 141 may be made of nylon, acrylic, silicone resin, styrene-diene copolymer, or the like. Also, rubber plates such as ethylene-propylene, butyl, and urethane rubbers can be used. Such resin-made relief plates have already been used for relief printing and flexographic printing, and can be produced by pouring a predetermined resin into a previously produced mold or engraving. A method using a resin can be manufactured with higher accuracy.

次に、可動ステージ151とアライメント部152と転写ロール153とを有するパターン転写部150にて、インキ剥離性を有するフィルム基材13a上の予備乾燥インキ膜からなる画像部パターン21cを被印刷基材巻取り部201から供給された被印刷基材31のパターンとをアライメント部152にて位置合わせして、予備乾燥インキ膜からなる画像部パターン21cを被印刷基材31の所定位置に転写する(図2(f)参照)。   Next, in the pattern transfer unit 150 having the movable stage 151, the alignment unit 152, and the transfer roll 153, the image portion pattern 21 c made of the pre-dried ink film on the film substrate 13 a having ink peelability is printed. The pattern of the substrate 31 to be printed supplied from the winding unit 201 is aligned with the alignment unit 152, and the image portion pattern 21c made of the pre-dried ink film is transferred to a predetermined position on the substrate 31 to be printed ( (Refer FIG.2 (f)).

可動性ステージ151に固定された被印刷基材31と、わずかな隙間をあけて設置されたインキ剥離性フィルム基材13aの上からローラー153を押し当て、可動性ステージ151の移動と共にローラー153を回転させながら印圧をかけ、つぎにインキ剥離性フィルム基材13aを被印刷基材31から剥がすことにより画像部パターン21cを被印刷基材31上へ転写することができる。   The roller 153 is pressed against the substrate 31 to be printed fixed on the movable stage 151 and the ink peelable film substrate 13a installed with a slight gap, and the roller 153 is moved along with the movement of the movable stage 151. The image pattern 21c can be transferred onto the printing substrate 31 by applying printing pressure while rotating, and then peeling the ink peelable film substrate 13a from the printing substrate 31.

アライメント部152は、可動性ステージ151と複数の顕微鏡カメラから構成されており、可動性ステージ151上に吸着した被印刷基材31上に、インキ剥離性フィルム基材上の予備乾燥インキ膜からなる画像部パターン21cを100〜500μmに近づけた後、インキ剥離性フィルム基材11aが透明なことを利用して、インキ剥離性フィルム基材11a上に形成された画像部パターン21cの一部やアライメント用のマークパターンと、被印刷基材31上のパターンを透過画像で認識し、それぞれの基材パターンを認識した画像を基に可動性ステージを動作させ転写位置の補正を行うことができる。   The alignment unit 152 includes a movable stage 151 and a plurality of microscope cameras. The alignment unit 152 includes a pre-dried ink film on an ink-peelable film substrate on a printing substrate 31 adsorbed on the movable stage 151. After the image part pattern 21c is brought close to 100 to 500 μm, a part of the image part pattern 21c formed on the ink peelable film base material 11a and the alignment are utilized by utilizing the transparency of the ink peelable film base material 11a. The mark pattern for printing and the pattern on the substrate 31 to be printed are recognized by a transmission image, and the movable stage is operated based on the image in which each substrate pattern is recognized to correct the transfer position.

また、画像部パターン21cが形成されたインキ剥離性フィルム基材11aと被印刷基
材31の間に顕微鏡カメラを挿入し、それぞれの基材上のパターンを認識した画像を基に位置の補正を行う方法も選択できる。
Further, a microscope camera is inserted between the ink peelable film substrate 11a on which the image portion pattern 21c is formed and the substrate 31 to be printed, and the position is corrected based on the image on which the pattern on each substrate is recognized. You can also choose how to do it.

上記顕微鏡カメラは光学顕微鏡、CCD(Charge Coupled Device)顕微鏡のどちらであっても良いが、オートフォーカス、電気的に制御可能な手動焦点制御機構のいずれか、もしくはその両方の機能を必要とし、観察の為に外部に設置したモニターや位置補正の為の画像処理装置へのインターフェースを持つものとすることができる。   The microscope camera may be either an optical microscope or a CCD (Charge Coupled Device) microscope, but requires either autofocus, an electrically controllable manual focus control mechanism, or both. For this purpose, it is possible to have an interface to an external monitor or an image processing apparatus for position correction.

次に、画像部パターン21cが転写された被印刷基材31は乾燥部160にて、乾燥処理されて、所定の位置に画像パターン21dが形成された被印刷基材31を作製する(図2(g)参照)。
ここで、乾燥部160は、ホットプレート、オーブン、温風、減圧乾燥、紫外線照射などの乾燥装置が使用でき、被印刷基材31の巻き取り時のブロッキングを防止する為に必要な乾燥条件であればよく、具体的には120℃で3分から5分間の熱乾燥を行うのが良い。
Next, the printing substrate 31 to which the image portion pattern 21c has been transferred is dried in the drying unit 160 to produce the printing substrate 31 in which the image pattern 21d is formed at a predetermined position (FIG. 2). (See (g)).
Here, the drying unit 160 can use a drying device such as a hot plate, an oven, hot air, reduced-pressure drying, and ultraviolet irradiation, and the drying conditions necessary for preventing blocking at the time of winding the substrate 31 to be printed. Specifically, it is preferable to perform thermal drying at 120 ° C. for 3 to 5 minutes.

本発明の精細パターンの印刷方法は、ガラスやプラスチック板などへの印刷に適用できるが、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースなどのフィルム、シートを用いることもできる。印刷に適用するインキの乾燥条件に合わせて選定すればよく、耐熱性のものとしてはポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミドなどが好適である。また、無機フィラーを樹脂に添加して耐熱性を向上させた材料からなる基材でもよい。フィルムおよびシートは、延伸フィルムでもよく、未延伸フィルムでもよく、また、可撓性基材には必要に応じてガスバリア層や平滑化層、インキ受像層が印刷面または他の面に積層されていても良い。   The fine pattern printing method of the present invention can be applied to printing on glass or plastic plates. For example, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyethersulfone, cycloolefin polymer, polyimide, nylon Films and sheets of aramid, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, triacetyl cellulose, etc. can also be used. What is necessary is just to select according to the drying conditions of the ink applied to printing, and polyethylene naphthalate, polyether sulfone, a cycloolefin polymer, a polyimide, etc. are suitable as a heat resistant thing. Moreover, the base material which consists of material which added the inorganic filler to resin and improved heat resistance may be sufficient. The film and sheet may be a stretched film or an unstretched film, and a flexible substrate is laminated with a gas barrier layer, a smoothing layer, or an ink image-receiving layer on the printing surface or other surface as necessary. May be.

以上述べたように、本発明の精細パターンの印刷方法は、ガラス基材や、プラスチックフィルム等の可撓性基材、とりわけ長尺状の可撓性基材へ高精細パターンの薄膜印刷を連続に安定して行うことができるので、カラーパターン、ブラックマトリクス、ホワイトマトリクス、スペーサー等のカラーフィルター部材、ゲート電極、ソース電極、ドレイン電極、ゲート絶縁膜、有機半導体材料等のトランジスタ部材、有機発光層等の有機EL素子の製造に利用できる。   As described above, the fine pattern printing method of the present invention continuously performs thin film printing of a high-definition pattern on a glass substrate, a flexible substrate such as a plastic film, especially a long flexible substrate. Color filter member such as color pattern, black matrix, white matrix, spacer, gate electrode, source electrode, drain electrode, gate insulating film, transistor member such as organic semiconductor material, organic light emitting layer, etc. It can be used to manufacture organic EL devices such as

以下、本発明の具体的実施例について説明する。
まず、120μm厚、300mm幅のPET基材11に予めポリウレタンをコートして有機樹脂層12を形成したフィルム基材13(図2(a)参照)をロール状に巻取り長尺の巻取りロール101を作製した。
Hereinafter, specific examples of the present invention will be described.
First, a film base 13 (see FIG. 2A) in which an organic resin layer 12 is formed by coating polyurethane on a PET base 11 having a thickness of 120 μm and a width of 300 mm is wound into a roll and is a long winding roll. 101 was produced.

次に、有機樹脂層12を形成したフィルム基材13を、O2/CF4の混合ガスを用いた常圧プラズマ表面処理装置RD300(積水化学工業社製)からなる大気圧プラズマ部110にてプラズマ処理し、インキ剥離性を有するフィルム基材13aを作製した(図2(b)参照)。 Next, the film base material 13 on which the organic resin layer 12 is formed is subjected to an atmospheric pressure plasma unit 110 including an atmospheric pressure plasma surface treatment apparatus RD300 (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) using a mixed gas of O 2 / CF 4 . Plasma treatment was performed to produce a film substrate 13a having ink peelability (see FIG. 2B).

次に、剥離性を有するフィルム基材13a上に、ヘッド幅200mmのダイコーターからなる塗工部120を用いて、下記のカラーフィルタ用赤色着色インキを塗工し、赤色着色インキからなるインキ液膜21を形成した(図2(c)参照)。
<カラーフィルタ用赤色顔料分散体の組成>
赤色顔料:
C.I.Pigment Red254(「イルガーフォーレッド B−CF」:チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥18重量部
C.I.Pigment Red177(「クロモフタールレッド A2B」チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥2重量部
・アクリルワニス(固形分20%)‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥108重量部上記組成の混合物を均一に撹拌混合した後、直径1mmのガラスビーズを用い、サンドミルで5時間分散し、さらに5μmのフィルタでろ過して赤色顔料の分散体を得た。
〔赤色着色インキの組成〕
・上記赤色顔料分散体‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥100重量部・メチル化メチロールメラミン:MW−30(三洋化成社製)‥‥‥‥‥‥‥20重量部・レベリング剤:メガファックF−483SF(大日本インキ化学工業社製)‥1重量部・プロピレングリコールモノメチルエーテル‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥85重量部・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥45重量部上記組成の混合物を均一になるように攪拌混合した後、5μmのフィルタで濾過して赤色着色インキを得た。
Next, on the film substrate 13a having peelability, the following red colored ink for color filter is applied using a coating part 120 made of a die coater having a head width of 200 mm, and an ink liquid made of red colored ink. A film 21 was formed (see FIG. 2C).
<Composition of red pigment dispersion for color filter>
Red pigment:
CIPigment Red254 ("Ilgar Forred B-CF" manufactured by Ciba Specialty Chemicals) ……………………………………………………………………………………………………… 18 parts by weight
CIPigment Red 177 (“Chromophthal Red A2B” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) ………………………………………………………………………………………………… Acrylic varnish (solid content 20%) …………………………………………………… 108 parts by weight A mixture of the above composition is uniformly stirred and mixed, and then a glass bead with a diameter of 1 mm is used to create a sand mill. For 5 hours, and further filtered through a 5 μm filter to obtain a red pigment dispersion.
[Composition of red coloring ink]
・ The above-mentioned red pigment dispersion …………………………………………………………………………………… 100 parts by weight methylated methylol melamine: MW-30 (manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd.) ··········· 20 parts by weight • Leveling agent: Megafac F-483SF (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) 1 part by weight • Propylene glycol monomethyl ether ……………………………………………………………………………………………………………………… 85 parts by weight / propylene glycol monomethyl ether acetate 45 parts by weight A mixture of the above composition was stirred and mixed uniformly, and then filtered through a 5 μm filter to obtain a red colored ink. .

次に、インキ剥離性を有するフィルム基材13a上のインキ液膜21を40℃に加熱されたホットプレートからなる乾燥部130にて30秒予備乾燥し、予備乾燥インキ膜21aを形成した(図2(d)参照)。   Next, the ink liquid film 21 on the film substrate 13a having ink releasability was preliminarily dried for 30 seconds in a drying unit 130 composed of a hot plate heated to 40 ° C. to form a pre-dried ink film 21a (FIG. 2 (d)).

次に、パターン除去部140にて、必要な画像部パターンが凹部に形成された200mm幅(パターン有効幅は150mm)の樹脂製フレキソ用版(東洋紡績社製)からなる凸版141をインキ剥離性を有するフィルム基材13a上の予備乾燥インキ膜21aに押し当て、予備乾燥インキ膜21aの不要部を凸版141の凸部に転移させ、インキ剥離性を有するフィルム基材13a上に予備乾燥インキ膜からなる画像部パターン21cを形成した(図2(e)参照)。
パターンは凸部20μm幅、凹部80μm幅の連続したストライプパターンと、4つの角に位置する200μm□内へ設けられたアライメントマークを設けた。
Next, the relief plate 141 made of a resin flexo plate (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a width of 200 mm (pattern effective width is 150 mm) in which a necessary image portion pattern is formed in the concave portion by the pattern removing unit 140 is used as an ink peeling property. Is pressed against the pre-dried ink film 21a on the film base material 13a, and the unnecessary part of the pre-dried ink film 21a is transferred to the convex parts of the relief plate 141, so that the pre-dried ink film is formed on the film base material 13a having ink peelability. An image portion pattern 21c made of (see FIG. 2 (e)) was formed.
As the pattern, a continuous stripe pattern having a width of 20 μm of convex portions and a width of 80 μm of concave portions and an alignment mark provided in 200 μm square located at four corners were provided.

次に、可動ステージ151とアライメント部152と転写ロール153とを有するパターン転写部150にて、被印刷基材巻取り部201から供給されたフィルム厚120μm、幅300mmの光透過性PETフィルムからなる被印刷基材31を可動性ステージ151に固定し、2つのアライメント用カメラからなるアライメント部152で対角上のアライメントマークを確認した後、ゴムローラーからなる転写ロール153でインキ剥離性フィルム基材13aと被印刷基材31を貼り合わせた後、可動性ステージ151から動かしながらインキ剥離性フィルム基材13aを被印刷基材31から剥がすことによって、予備乾燥インキ膜からなる画像部パターン21cを被印刷基材31の所定位置に転写した(図2(f)参照)。   Next, the pattern transfer unit 150 having the movable stage 151, the alignment unit 152, and the transfer roll 153 is made of a light-transmitting PET film having a film thickness of 120 μm and a width of 300 mm supplied from the printing substrate winding unit 201. After fixing the substrate 31 to be printed on the movable stage 151 and confirming the diagonal alignment mark with the alignment unit 152 made of two alignment cameras, the ink peelable film substrate is made with the transfer roll 153 made of a rubber roller. 13a and the substrate to be printed 31 are bonded to each other, and then the image peeling pattern 21c made of the pre-dried ink film is coated by peeling the ink peelable film substrate 13a from the substrate to be printed 31 while moving from the movable stage 151. It was transferred to a predetermined position on the printing substrate 31 (see FIG. 2F).

最後に、画像部パターン21cが転写された被印刷基材31をホットプレートからなる乾燥部110で120秒乾燥し、被印刷基材31上に赤色インキからなる画像パターン21dが形成されたカラーフィルタ赤色パターンを得た(図2(g)参照)。   Finally, the printing substrate 31 to which the image portion pattern 21c has been transferred is dried for 120 seconds by the drying unit 110 made of a hot plate, and the color filter in which the image pattern 21d made of red ink is formed on the printing substrate 31 A red pattern was obtained (see FIG. 2 (g)).

実施例1と同様な工程で、まず、120μm厚、300mm幅のPET基材11に予めポリウレタンをコートして有機樹脂層12を形成したフィルム基材13(図2(a)参照
)をロール状に巻取り長尺の巻取りロール101を作製した。
さらに、有機樹脂層12を形成したフィルム基材13を、O2/CF4の混合ガスを用いた常圧プラズマ表面処理装置RD300(積水化学工業社製)からなる大気圧プラズマ部110にてプラズマ処理し、インキ剥離性を有するフィルム基材13aを作製した(図2(b)参照)。
In the same process as in Example 1, first, a film substrate 13 (see FIG. 2A) in which an organic resin layer 12 is formed by coating polyurethane on a PET substrate 11 having a thickness of 120 μm and a width of 300 mm in advance is rolled. A long winding roll 101 was prepared.
Furthermore, the film base material 13 on which the organic resin layer 12 is formed is subjected to plasma in an atmospheric pressure plasma unit 110 including an atmospheric pressure plasma surface treatment apparatus RD300 (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) using a mixed gas of O 2 / CF 4. The film base material 13a which processed and had ink peelability was produced (refer FIG.2 (b)).

次に、剥離性を有するフィルム基材13a上に、ヘッド幅200mmのダイコーターからなる塗工部120にて、銀粒子水分散液(平均粒径20nm)からなる導電性インキを塗工し、導電性インキからなるインキ液膜21を形成した(図2(c)参照)。   Next, on the film substrate 13a having peelability, a coating ink 120 made of a die coater having a head width of 200 mm is applied with a conductive ink made of a silver particle aqueous dispersion (average particle size 20 nm), An ink liquid film 21 made of conductive ink was formed (see FIG. 2C).

次に、インキ剥離性を有するフィルム基材13a上の導電性インキからなるインキ液膜21を40℃に加熱されたホットプレートからなる乾燥部130にて30秒予備乾燥し、予備乾燥インキ膜21aを形成した(図2(d)参照)。   Next, the ink liquid film 21 made of conductive ink on the film substrate 13a having ink peelability is preliminarily dried for 30 seconds in a drying section 130 made of a hot plate heated to 40 ° C., and the pre-dried ink film 21a (See FIG. 2D).

次に、パターン除去部140にて、必要な画像部パターンが凹部に形成された200mm幅(パターン有効幅は150mm)のガラス板からなる凸版141をインキ剥離性を有するフィルム基材13a上の予備乾燥インキ膜21aに押し当て、予備乾燥インキ膜21aの不要部を凸版141の凸部に転移させ、インキ剥離性を有するフィルム基材13a上に予備乾燥インキ膜からなる画像部パターン21cを形成した(図2(e)参照)。
パターンは凸部20μm幅、凹部80μm幅の連続したストライプパターンと、4つの角に位置する200μm□内へ設けられたアライメントマークを設けた。
Next, a relief plate 141 made of a glass plate having a width of 200 mm (pattern effective width is 150 mm) in which a necessary image portion pattern is formed in the concave portion by the pattern removing unit 140 is preliminarily provided on the film base material 13a having ink peelability. By pressing against the dry ink film 21a, the unnecessary part of the preliminary dry ink film 21a was transferred to the convex part of the relief plate 141, and the image part pattern 21c made of the preliminary dry ink film was formed on the film substrate 13a having ink peelability. (See FIG. 2 (e)).
As the pattern, a continuous stripe pattern having a width of 20 μm of convex portions and a width of 80 μm of concave portions and an alignment mark provided in 200 μm square located at four corners were provided.

次に、可動ステージ151とアライメント部152と転写ロール153とを有するパターン転写部150にて、被印刷基材巻取り部201から供給されたフィルム厚120μm、幅300mmの光透過性PETフィルムからなる被印刷基材31を可動性ステージ151に固定し、2つのアライメント用カメラからなるアライメント部152で対角上のアライメントマークを確認した後、ゴムローラーからなる転写ロール153でインキ剥離性フィルム基材13aと被印刷基材31を貼り合わせた後、可動性ステージ151から動かしながらインキ剥離性フィルム基材13aを被印刷基材31から剥がすことによって、予備乾燥インキ膜からなる画像部パターン21cを被印刷基材31の所定位置に転写した(図2(f)参照)。   Next, the pattern transfer unit 150 having the movable stage 151, the alignment unit 152, and the transfer roll 153 is made of a light-transmitting PET film having a film thickness of 120 μm and a width of 300 mm supplied from the printing substrate winding unit 201. After fixing the substrate 31 to be printed on the movable stage 151 and confirming the diagonal alignment mark with the alignment unit 152 made of two alignment cameras, the ink peelable film substrate is made with the transfer roll 153 made of a rubber roller. 13a and the substrate to be printed 31 are bonded to each other, and then the image peeling pattern 21c made of the pre-dried ink film is coated by peeling the ink peelable film substrate 13a from the substrate to be printed 31 while moving from the movable stage 151. It was transferred to a predetermined position on the printing substrate 31 (see FIG. 2F).

最後に、画像部パターン21cが転写された被印刷基材31をホットプレートからなる乾燥部110で120秒乾燥し、被印刷基材31上に導電性物質からなる画像パターン21dが形成されたパターン印刷物を得た(図2(g)参照)。   Finally, the substrate 31 to which the image portion pattern 21c is transferred is dried for 120 seconds by the drying unit 110 made of a hot plate, and the image pattern 21d made of a conductive material is formed on the substrate 31 to be printed. A printed matter was obtained (see FIG. 2 (g)).

上記実施例1及び実施例2では、優れた再現性を有する高精細パターンを安定して印刷することができた。   In the said Example 1 and Example 2, the high-definition pattern which has the outstanding reproducibility was able to be printed stably.

図1は、本発明の精細パターンの印刷方法に用いたパターン印刷装置の一例を示す模式構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an example of a pattern printing apparatus used in the fine pattern printing method of the present invention. (a)〜(g)は、本発明の精細パターンの印刷方法の一実施例を工程順に示す部分模式断面図である。(A)-(g) is a partial schematic cross section which shows one Example of the printing method of the fine pattern of this invention in order of a process.

符号の説明Explanation of symbols

11……未加工のフィルム基材
12……有機樹脂層
13……フィルム基材
13a……インキ剥離性を有するフィルム基材
21……インキ液膜
21a……予備乾燥インキ膜
21c……画像部パターン
21d……画像パターン
31……被印刷基材
101……インキ剥離性を有するフィルム基材の巻出し部
102……インキ剥離性を有するフィルム基材の巻取り部
110……大気プラズマ部
120……塗工部
130……乾燥部
140……パターン除去版
141……凸版
142……加圧ロール
150……パターン転写部
151……可動性ステージ
152……アライメント部
153……転写ロール
160……乾燥部
201……被印刷基材巻出し部
202……被印刷基材巻取り部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Unprocessed film base material 12 ... Organic resin layer 13 ... Film base material 13a ... Film base material 21 which has ink peelability ... Ink liquid film 21a ... Pre-drying ink film 21c ... Image part Pattern 21d ... Image pattern 31 ... Printed substrate 101 ... Unwinding part 102 of film substrate having ink peelability ... Winding part 110 of film substrate having ink peelability ... Air plasma part 120 …… Coating part 130 ...... Dry part 140 ...... Pattern removal plate 141 ...... Letter plate 142 ...... Pressure roll 150 ...... Pattern transfer part 151 ...... Movable stage 152 ...... Alignment part 153 ...... Transfer roll 160 ...... ... Drying unit 201 ... Printed substrate unwinding unit 202 ... Printed substrate winding unit

Claims (8)

少なくとも、
(a)巻き出しロール部から供給されたフィルム基材の表面を、大気圧プラズマによってフッ化処理してインキ剥離性を有するフィルム基材を作製する工程と、
(b)前記インキ剥離性を有するフィルム基材上にインキ液膜を形成する工程と、
(c)前記インキ剥離性を有するフィルム基材上の前記インキ液膜を予備乾燥し、予備乾燥インキ膜を形成する工程と、
(d)必要な画像部パターンが凹部に形成された凸版を前記インキ剥離性を有するフィルム基材上の前記予備乾燥インキ膜に押し当て、前記予備乾燥インキ膜の不要部を前記凸版の凸部に転移させ、前記インキ剥離性を有するフィルム基材上に予備乾燥インキ膜からなる画像部パターンを形成する工程と、
(e)前記インキ剥離性を有するフィルム基材上に形成された予備乾燥インキ膜からなる画像部パターンを被印刷基材上に転写することにより、被印刷基材上に画像パターンを形成する工程と、を有することを特徴とする精細パターンの印刷方法。
at least,
(A) A step of producing a film base material having ink releasability by fluorinating the surface of the film base material supplied from the unwinding roll part with atmospheric pressure plasma;
(B) a step of forming an ink liquid film on the film substrate having the ink peelability;
(C) a step of pre-drying the ink liquid film on the film substrate having ink peelability to form a pre-dried ink film;
(D) A relief plate in which a necessary image portion pattern is formed in a recess is pressed against the preliminary dry ink film on the film substrate having the ink peelability, and an unnecessary portion of the preliminary dry ink film is pressed onto the convex portion of the relief plate And forming an image part pattern consisting of a pre-dried ink film on the film substrate having the ink releasability,
(E) The process of forming an image pattern on a to-be-printed base material by transcribe | transferring the image part pattern which consists of a preliminary | backup dry ink film formed on the film base material which has the said ink peelability on a to-be-printed base material. A method for printing a fine pattern, comprising:
前記フィルム基材が、光学的に透明であることを特徴とする請求項1に記載の精細パターンの印刷方法。   The fine pattern printing method according to claim 1, wherein the film substrate is optically transparent. 前記フィルム基材の表面に弾性のある有機樹脂層が形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の精細パターンの印刷方法。   3. The fine pattern printing method according to claim 1, wherein an elastic organic resin layer is formed on a surface of the film base material. 前記大気圧プラズマによる処理が、フッ素原子を有する分子を主成分とする反応性ガスを含むプラズマ処理であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の精細パターンの印刷方法。   The fine pattern printing method according to any one of claims 1 to 3, wherein the treatment with the atmospheric pressure plasma is a plasma treatment including a reactive gas whose main component is a molecule having a fluorine atom. . 前記予備乾燥インキ膜が、インキ液膜の予備乾燥によって粘着性を有し、形状は保っているが常温において外力により容易に形状が変化する半乾燥状態であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の精細パターンの印刷方法。   2. The pre-dried ink film is sticky by pre-drying of an ink liquid film and is in a semi-dry state in which the shape is maintained but the shape is easily changed by an external force at room temperature. 5. The fine pattern printing method according to any one of 4 above. 前記インキ剥離性を有するフィルム基材上に形成された予備乾燥インキ膜からなる画像部パターンを被印刷基材上に転写する工程において、前記被印刷基材に予め形成されたアライメントマークと、前記インキ剥離性のフィルム基材上に予備乾燥インキ膜による画像パターンを形成する際に同時に形成されたアライメントマークとを、カメラ等の観察機器によって観察して位置合わせした後、前記インキ剥離性のフィルム基材上に形成された予備乾燥インキ膜からなる画像パターンを前記被印刷基材上の所定位置に転写することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の精細パターンの印刷方法。   In the step of transferring an image part pattern composed of a pre-dried ink film formed on the film substrate having ink peelability onto the substrate to be printed, an alignment mark previously formed on the substrate to be printed, and The alignment mark formed at the same time as forming the image pattern with the pre-drying ink film on the ink peelable film substrate is observed and aligned with an observation device such as a camera, and then the ink peelable film. The fine pattern printing according to any one of claims 1 to 5, wherein an image pattern composed of a pre-dried ink film formed on a substrate is transferred to a predetermined position on the substrate to be printed. Method. 前記予備乾燥インキ膜を除去するための凸版が、ガラス、石英ガラス、もしくは樹脂材から形成されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の精細パターンの印刷方法。   The fine pattern printing method according to any one of claims 1 to 6, wherein the relief plate for removing the pre-dried ink film is formed of glass, quartz glass, or a resin material. 前記フィルム基材は、予備乾燥インキ膜を全て転写した後に洗浄し、繰り返し使用することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の精細パターンの印刷方法。   The method for printing a fine pattern according to any one of claims 1 to 7, wherein the film substrate is washed after transferring the entire pre-dried ink film and repeatedly used.
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