JP2008192766A - ウェットエッチング装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】従来に比べて、エッチング槽内の反応生成物の除去率を向上し得るウェットエッチング装置を提供する。
【解決手段】エッチング液11が貯留されるエッチング槽1と、エッチング槽11内に配置され、且つ、エッチング液11を攪拌する攪拌部材2と、攪拌部材2に回転動力を付与する動力部3とを備えたウェットエッチング装置を用いる。攪拌部材2として、磁性体を備えたものを用いることができる。この場合、攪拌部材2を、エッチング槽11の底面1aに配置する。駆動部3として、エッチング槽1の底面の下方に複数の電磁石4を備えたものを用いる。そして、複数の電磁石4それぞれの磁力を変化させることによって、攪拌部材2に、それを底面1aの法線を軸として回転させる回転動力が付与される。
【選択図】図1
【解決手段】エッチング液11が貯留されるエッチング槽1と、エッチング槽11内に配置され、且つ、エッチング液11を攪拌する攪拌部材2と、攪拌部材2に回転動力を付与する動力部3とを備えたウェットエッチング装置を用いる。攪拌部材2として、磁性体を備えたものを用いることができる。この場合、攪拌部材2を、エッチング槽11の底面1aに配置する。駆動部3として、エッチング槽1の底面の下方に複数の電磁石4を備えたものを用いる。そして、複数の電磁石4それぞれの磁力を変化させることによって、攪拌部材2に、それを底面1aの法線を軸として回転させる回転動力が付与される。
【選択図】図1
Description
本発明は、浸漬式のウェットエッチング装置に関する。
近年、液晶表示パネルやプラズマ表示パネルといった表示パネルの製造工程においては、基板をエッチング槽の中に浸漬させてエッチングを行う浸漬式のウェットエッチングの採用が増加している。これは、大画面化が求められている表示パネルの分野においては、それに伴い、製造装置も大型化する必要があるが、ウェットエッチングによればドライエッチングに比べて安いコストで製造装置の大型化が図れるからである。
また、ウェットエッチングにおいては、エッチング液中のエッチャントと処理対象物との反応によって生成された反応生成物をエッチング槽から除去するため、従来から、エッチング液の濾過及び循環が行われている(例えば、特許文献1参照。)。
具体的には、特許文献1には、エッチング槽と、そこから溢れ出たエッチング液を貯留するオーバーフロー槽と、フィルターが配置された循環路とを備えたウェットエッチング装置が開示されている。このウェットエッチング装置では、使用後のエッチング液は、オーバーフロー層に一旦貯留された後、循環路に送られ、そこでフィルターによって濾過される。その後、濾過されたエッチング液は、再びエッチング槽に戻される。
特開平6−236869号公報
しかしながら、上述の従来のウェットエッチング装置には、反応生成物の除去が不十分であるという問題がある。これは、反応生成物の多くがエッチング槽の底に堆積しやすく、全ての反応生成物がエッチング液と共にオーバーフロー槽に溢れ出る訳ではないからである。
このため、従来のウェットエッチング装置においては、一定期間稼動させた後に装置の運転を停止して、エッチング槽の底を清掃する必要がある。このことは、装置の稼働率の低下を引き起こし、ひいては表示パネルのコスト上昇の要因となる。
本発明の目的は、上記問題を解消し、従来に比べて、エッチング槽内の反応生成物の除去率を向上し得るウェットエッチング装置を提供することにある。
上記目的を達成するために本発明におけるウェットエッチング装置は、エッチング液が貯留されるエッチング槽と、前記エッチング槽内に配置され、且つ、前記エッチング液を攪拌する攪拌部材と、前記攪拌部材に回転動力を付与する動力部とを備えることを特徴とする。
本発明のウェットエッチング装置では、エッチング槽内のエッチング液が攪拌部材の回転によって攪拌されるため、反応生成物はエッチング槽の底に堆積し難く、エッチング液中に分散し易くなっている。よって、本発明のウェットエッチング装置では、従来例に比べて、反応生成物はエッチング槽の外に排出され易くなっており、反応生成物の除去率が向上する。
本発明におけるウェットエッチング装置は、エッチング液が貯留されるエッチング槽と、前記エッチング槽内に配置され、且つ、前記エッチング液を攪拌する攪拌部材と、前記攪拌部材に回転動力を付与する動力部とを備えることを特徴とする。
上記本発明におけるウェットエッチング装置は、前記動力部が、電動機と、前記電動機の回転動力を伝達する軸部材とを備え、前記電動機は、貯留されている前記エッチング液の水面の上方に配置され、前記軸部材は、その先端側の部分が電動機側の部分よりも下方に位置するように配置され、前記攪拌部材が、前記軸部材の前記先端側の部分に取り付けられている態様(第1の態様)であるのが好ましい。
上記第1の態様によれば、回転軸がエッチング槽の側壁や底面を貫通しないため、回転軸をシールする必要がない。このため、シール劣化による漏洩を回避できる。又、複雑な構成は必要ないため、コストの増加を抑制できる。
また、上記本発明におけるウェットエッチング装置は、前記攪拌部材が、磁性体を備え、且つ、前記エッチング槽の底面に配置され、前記駆動部が、前記エッチング槽の底面の下方に複数の電磁石を備え、且つ、前記複数の電磁石それぞれの磁力を変化させることによって、前記攪拌部材に、それを前記底面の法線を軸として回転させる回転動力を付与する態様(第2の態様)であるのも好ましい。
上記第2の態様によれば、動力部に回転する部材が存在しないため、動力部の信頼性及び耐久性の向上を図ることができる。また、上記第2の態様によれば、攪拌部材はエッチング槽の底を擦りながら動くことができるため、反応生成物のエッチング液中への拡散をいっそう促進できる。
上記本発明におけるウェットエッチング装置は、前記エッチング槽から排出された前記エッチング液を濾過し、濾過した前記エッチング液を前記エッチング槽に送る循環路を更に備えているのが好ましい。この場合、エッチング液の再利用を図ることができ、運用コストの低減化を図ることができる。更に、この場合においては、上記本発明におけるウェットエッチング装置は、前記エッチング液を固形分と液状分とに分離する固液分離部を更に備え、前記固液分離部は、前記循環路に設けられているのがより好ましい。これにより、エッチング液中の反応生成物の除去率が更に向上することとなる。
上記本発明におけるウェットエッチング装置においては、前記攪拌部材は、棒状の形状であっても良いし、プロペラ状の形状であっても良い。
(実施の形態1)
以下、本発明の実施の形態1におけるウェットエッチング装置について、図1〜図5を参照しながら説明する。最初に図1を用いて本実施の形態1におけるウェットエッチング装置の全体構成について説明する。図1は、本発明の実施の形態1におけるウェットエッチング装置の全体構成を示す構成図である。なお、図1において、エッチング槽1の側壁及び底、及び動力部3の筐体5は断面で示している。
以下、本発明の実施の形態1におけるウェットエッチング装置について、図1〜図5を参照しながら説明する。最初に図1を用いて本実施の形態1におけるウェットエッチング装置の全体構成について説明する。図1は、本発明の実施の形態1におけるウェットエッチング装置の全体構成を示す構成図である。なお、図1において、エッチング槽1の側壁及び底、及び動力部3の筐体5は断面で示している。
図1に示すように、本実施の形態1におけるウェットエッチング装置は、エッチング液11が貯留されるエッチング槽1と、エッチング槽1内に配置された攪拌部材2と、攪拌部材2に回転動力を与える動力部3とを備えている。攪拌部材2は、動力部3による回転動力の付与によって回転し、エッチング槽1内に貯留されているエッチング液11を攪拌する。本実施の形態1では、攪拌部材2は棒状の形状を有しており、長手軸に垂直な軸を中心に回転する。動力部3の構成については後述する。
エッチング槽1には、エッチング対象物10のエッチングにより、反応生成物12が発生する。本実施の形態1において、エッチング対象物10は、液晶表示パネルを構成するアクティブマトリクス基板である。この場合の反応生成物12は、エッチング液より密度が高いため、エッチング槽1の底面1aに堆積する傾向にある。しかし、上述のように攪拌部材2によるエッチング液11の攪拌が行われるため、反応生成物12は、底面1aに堆積し難く、エッチング液11中に分散する。
本実施の形態1においては、ウェットエッチング装置は、更に、循環路6と、固液分離槽7と、フィルター8とを備えている。固液分離槽7及びフィルター8は、循環路6に設けられており、循環路6の一部を構成している。エッチング槽1内のエッチング液11は、常時、循環路6へと排出されている。排出されたエッチング液11は、先ず、固液分離槽7に導入される。
固液分離槽7は、エッチング液11を液状分(上澄液)7aと固形分(汚泥)7bとに分離する。エッチング液11中に分散している反応生成物12の大部分は、固形分7bとして固液分離槽7の底に堆積し、外部へと排出される。一方、上澄液7aは、フィルター8に送られる。固液分離槽7によって除去できなかった反応生成物12は、フィルター8による濾過によって除去される。そして、濾過が終了したエッチング液11は、再びエッチング槽1に送られ、再利用される。9は、ノズルを示している。
このように、本実施の形態1におけるウェットエッチング装置では、従来例と異なり、エッチング槽1の底面1aに反応生成物12が堆積し難くなっている。反応生成物12の大部分は、エッチング液11中に分散し、エッチング液11と共にエッチング槽1の外に排出される。このため、本実施の形態1におけるウェットエッチング装置によれば、従来例に比べて、反応生成物12の除去率を向上させることができる。
なお、本実施の形態1においては、エッチング液11を液状分7aと固形分7bとの分離は、固液分離槽7によって行われているが、これに限定されるものではない。本実施の形態1では、固液分離槽7の代わりに、遠心力等を利用して強制的にエッチング液11を液状分7aと固形分7bとに分離する装置を用いることもできる。
次に、図1に示した攪拌部材2及び動力部3の構成について図2及び図3を用いて説明する。図2は、図1に示した攪拌部材及び動力部の構成を示す斜視図である。図3は、攪拌部材の内部構造を示す断面図であり、図3(a)は縦断面を示し、図3(b)は横断面を示している。
図1及び図2に示すように、本実施の形態1においては、駆動部3は、複数個の電磁石4とそれを収容する筐体5とを備えている。電磁石4は、エッチング槽1の底面1aの下方に配置されている。図2の例では、電磁石4の数は4個である。
各電磁石4は、鉄心4aと、その周囲に電導線を巻き付けて形成したコイル4bとで構成されている。4個の電磁石4は、それぞれの鉄心4aの中心軸が、上から見たときに同心円上に位置するように配置されている。
また、図2に示すように、本実施の形態1では、攪拌部材2は、エッチング槽1の底面1aに配置されている。更に、攪拌部材2は、磁性体で形成された芯部材2aと、それを被覆する保護膜2bとで形成されている。保護膜2bは、芯部材2aがエッチング液に侵されるのを防止するために形成されている。攪拌部材2は、エッチング槽1の底を介して電磁石4から磁力を受けることになる。
よって、4個の電磁石4それぞれの磁力を変化させれば、攪拌部材2に、それを底面1aの法線(図1参照)を軸として回転させる回転動力が付与される。具体的には、4個の電磁石4に、正弦波の電圧が印加される。そして、このとき、各電磁石4に印加される電圧は、位相が時計周り(又は反時計回り)の順で90度遅れるように設定される。この結果、4個の電磁石4によって、時計周り(又は反時計回り)に強さ及び方向が変化する磁界が形成され、攪拌部材2は上述したように回転する。
このように、本実施の形態1によれば、回転軸等の機械的な動力伝達手段を用いることなく、4個の電磁石4の磁力によって攪拌部材2を回転させることができる。動力部3内に回転する部材が存在しないことから、動力部3の信頼性や耐久性は高いものとなる。また、攪拌部材2は、底面1aを擦りながら動くため、反応生成物12が底1aに堆積してしまっても、これをエッチング液11に簡単に分散させることができる。
本実施の形態1において、芯部材2aの形成材料は、磁性体であれば良く、特に限定されるものではない。具体的には、芯部材2aの形成材料としては、酸化鉄、酸化クロム、コバルト、フェライト、アルニコ磁石等が挙げられる。また、保護膜2bの形成材料は、エッチング液に対する耐性に優れた材料であれば良く、特に限定されるものではない。保護膜2bの形成材料としては、ポリテトラフロオロエチレン、等が挙げられる。
また、図2に示した例では、電磁石4の数は4個であるが、これに限定されるものではない。電磁石4の数は、攪拌部材2に回転動力を与えることができる数であれば良い。なお、攪拌部材2の回転を滑らかにする点からは、電磁石4の数は4個以上であるのが好ましい。
また、本実施の形態1において、攪拌部材2の数は特に限定されるものではない。攪拌部材2の数は、エッチング槽の形状や大きさを適宜考慮して決定すれば良い。図4は、複数個の攪拌部材が設置された本実施の形態1におけるウェットエッチング装置を示す斜視図である。図4の例では、攪拌部材2は、3個設置されている。この場合、攪拌部材2毎に、動力部3も複数個設置される。なお、図4の例において、攪拌部材2及び動力部3の構成は、図2及び図3に示した例と同様である。
また、本実施の形態1においては、攪拌部材2の形状も特に限定されるものではない。攪拌部材2の形状は、図1〜図4に示した例では棒状であるが、これとは別の形状であっても良い。図5は、攪拌部材の他の例を示す斜視図である。
図6に示す攪拌部材11は、プロペラ状の形状を有している。このような形状とした場合は、図1〜図5に示した棒状の攪拌部材2を用いる場合よりも、よりいっそう攪拌効率を高めることができる。
また、図6の例では、プロペラのブレード12の数は4枚であるが、これに限定されるものではない。各ブレード12は、図3に示した例と同様に、磁性体で形成された芯部材を保護膜で被覆することによって形成されている。
(実施の形態2)
次に、本発明の実施の形態2におけるウェットエッチング装置について、図6及び図7を参照しながら説明する。図6は、本発明の実施の形態2におけるウェットエッチング装置の第1例の構成を示す斜視図である。図7は、本発明の実施の形態2におけるウェットエッチング装置の第2例の構成を示す斜視図である。なお、図6及び図7では、図2の場合と同様に、攪拌部材及び動力部の構成が主に示されている。図6及び図7においては、図1に示した循環路、固液分離槽、フィルターについては図示を省略している。
次に、本発明の実施の形態2におけるウェットエッチング装置について、図6及び図7を参照しながら説明する。図6は、本発明の実施の形態2におけるウェットエッチング装置の第1例の構成を示す斜視図である。図7は、本発明の実施の形態2におけるウェットエッチング装置の第2例の構成を示す斜視図である。なお、図6及び図7では、図2の場合と同様に、攪拌部材及び動力部の構成が主に示されている。図6及び図7においては、図1に示した循環路、固液分離槽、フィルターについては図示を省略している。
図6に示す本実施の形態2におけるウェットエッチング装置は、動力部13及び攪拌部材16の構成の点で、実施の形態1におけるウェットエッチング装置と異なっている。それ以外の点では、本実施の形態2におけるウェットエッチング装置は、実施の形態1におけるウェットエッチング装置と同様である。以下、相違点について具体的に説明する。
図6に示すように、本実施の形態2においては、動力部13は、電動機(図示せず)が収められた動力ボックス14と、電動機の回転動力を伝達する軸部材15とを備えている。電動機を収める動力ボックス14は、エッチング槽1に貯留されているエッチング液の水面の上方に配置されている。
また、図6に示すように、軸部材15は、その先端側の部分が電動機側の部分よりも下方に位置するように、言い換えると、軸部材15の先端側の部分を上方からエッチング液中に挿しいれるようにして、配置されている。更に、攪拌部材16は、軸部材15の先端側の部分に取り付けられている。具体的には、攪拌部材16は、実施の形態1と同様に棒状の形状を有しており、軸部材15に形成された貫通孔に挿入されている。
よって、電動機を稼動させ、軸部材15を回転させれば、これに伴い攪拌部材16も回転し、エッチング液の攪拌が行われる。本実施の形態2においても、実施の形態1と同様に、エッチング槽1の底面への反応生成物の堆積を抑制でき、反応生成物12の大部分をエッチング液11と共にエッチング槽1の外に排出できる。このため、本実施の形態2におけるウェットエッチング装置を用いることによっても、従来例に比べて、反応生成物の除去率を向上させることができる。
また、本実施の形態2においては、軸部材15はエッチング槽1の側壁や底を貫通しないため、軸部材15をシールする必要がない。このため、シール劣化による漏洩が生じることもない。更に、複雑な構成は必要ないため、ウェットエッチング装置のコストの増加を最小限に抑えることもできる。また、動力部13及び攪拌部材16は、既存のウェットエッチング装置のエッチング槽に簡単に取り付けることができ、これによって、本実施の形態2におけるウェットエッチング装置を得ることもできる。
なお、攪拌部材16への回転動力の伝達が軸部材15によって行われることから、本実施の形態2においては、攪拌部材16は磁性体を備えていない態様であっても良い。攪拌部材16の形成材料は、エッチング液に対して耐性を有する材料であれば良い。
本実施の形態2において、攪拌部材16は、軸部材15の先端近くに取り付けられている。これは、攪拌部材16をエッチング槽1の底面1a近くに位置させて、底面1aへの反応生成物の堆積を効率良く抑制するためである。なお、攪拌部材16の取付位置は特に限定されず、エッチング槽1の形状や大きさを考慮して適宜設定される。
また、本実施の形態2は、図7に示すように、軸部材15に複数の攪拌部材16が取り付けられた態様とすることもできる。図7に示す態様とすれば、エッチング槽1内全体を効率良く攪拌できるため、反応生成物の攪拌をいっそう促進することができる。
以上のように、本発明のウェットエッチング装置によれば、エッチング液中に発生する反応生成物の除去率を向上させることができる。よって、従来に比べて、装置の運転を停止させてエッチング槽を清掃する回数が少なくなり、装置の稼働率の低下が抑制される。このため、本発明のウェットエッチング装置は、これを用いて製造される製品のコスト削減に貢献でき、産業上の利用可能性を有する。
1 エッチング槽
1a エッチング槽の底面
2 攪拌部材
3 動力部
4 電磁石
4a 鉄心
4b コイル
5 筐体
6 循環路
7 固液分離槽
7a 液状分(上澄液)
7b 固形分(汚泥)
8 フィルター
9 ノズル
10 エッチング対象物(アクティブマトリクス基板)
11 エッチング液
12 反応生成物
13 動力部
14 動力ボックス
15 軸部材
16 攪拌部材
1a エッチング槽の底面
2 攪拌部材
3 動力部
4 電磁石
4a 鉄心
4b コイル
5 筐体
6 循環路
7 固液分離槽
7a 液状分(上澄液)
7b 固形分(汚泥)
8 フィルター
9 ノズル
10 エッチング対象物(アクティブマトリクス基板)
11 エッチング液
12 反応生成物
13 動力部
14 動力ボックス
15 軸部材
16 攪拌部材
Claims (7)
- エッチング液が貯留されるエッチング槽と、
前記エッチング槽内に配置され、且つ、前記エッチング液を攪拌する攪拌部材と、
前記攪拌部材に回転動力を付与する動力部とを備えることを特徴とするウェットエッチング装置。 - 前記動力部が、電動機と、前記電動機の回転動力を伝達する軸部材とを備え、
前記電動機は、貯留されている前記エッチング液の水面の上方に配置され、
前記軸部材は、その先端側の部分が電動機側の部分よりも下方に位置するように配置され、
前記攪拌部材が、前記軸部材の前記先端側の部分に取り付けられている請求項1に記載のウェットエッチング装置。 - 前記攪拌部材が、磁性体を備え、且つ、前記エッチング槽の底面に配置され、
前記駆動部が、前記エッチング槽の底面の下方に複数の電磁石を備え、且つ、前記複数の電磁石それぞれの磁力を変化させることによって、前記攪拌部材に、それを前記底面の法線を軸として回転させる回転動力を付与する請求項1に記載のウェットエッチング装置。 - 前記エッチング槽から排出された前記エッチング液を濾過し、濾過した前記エッチング液を前記エッチング槽に送る循環路を更に備えている請求項1に記載のウェットエッチング装置。
- 前記エッチング液を固形分と液状分とに分離する固液分離部を更に備え、
前記固液分離部は、前記循環路に設けられている請求項4に記載のウェットエッチング装置。 - 前記攪拌部材が、棒状の形状を有している請求項1に記載のウェットエッチング装置。
- 前記攪拌部材が、プロペラ状の形状を有している請求項1に記載のウェットエッチング装置。
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2007
- 2007-02-02 JP JP2007024658A patent/JP2008192766A/ja not_active Withdrawn
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Date | Code | Title | Description |
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A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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