JP2008187138A - ディスプレイ用光学フィルタの製造方法、ディスプレイ用光学フィルタ、これを備えたディスプレイ及びプラズマディスプレイパネル - Google Patents

Abstract

【課題】容易に製造することができ、良好な電磁波シールド性を有し、そしてディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有する光学フィルタ及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】矩形状の透明基板の一方の表面に導電層及び合成樹脂を含む機能性層がこの順で設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、矩形状の透明基板全面に導電層が設けられ、その導電層全面に機能性層が設けられており、且つ機能性層の少なくとも両側の縁部が剥離又は除去されて導電層が露出しており、そしてこの露出部が電極部を形成していることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ、及びその製造方法。
【選択図】図１

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する光学フィルタ、及びこの光学フィルタを備えたディスプレイ、特にＰＤＰに関する。

液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及びＣＲＴディスプレイにおいては、外部からの光が表面で反射し、内部の視覚情報が見えにくいとの問題は、従来から知られており、反射防止膜等を含む光学フィルムの設置等、種々対策がなされている。

近年、ディスプレイは大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてＰＤＰが一般的になってきている。しかしながら、このＰＤＰでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射のおそれがあり、このため、ＰＤＰに対しては、導電性を有するＰＤＰ用反射防止フィルム（電磁波シールド性光透過窓材）が種々提案されている。この電磁波シールド性光透過窓材の導電層としては、例えば、(1)金属銀を含む透明導電薄膜が設けられた透明フィルム、(2)金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュを設けた透明フィルム、(3)透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、(4)透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。

さらに、従来のＰＤＰを初めとした大型ディスプレイでは、反射防止フィルムや近赤外線カットフィルム等の種々のフィルムが貼り合わされている。例えば、特許文献１（特開平１１−７４６８３号公報）には、２枚の透明基板の間に導電性メッシュを介在させて、透明接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材が記載されている。

上記電磁波シールド性光透過窓材においては、上記導電層による電磁波シールド性を良好なものとするために、導電層（電磁波シールド材）、例えば導電性メッシュ、をＰＤＰ本体に接地（アース）する必要がある。そのためには、２枚の透明基板間から電磁波シールド材を外部にはみ出させ、上記光透過窓材積層体の裏側に回り込ませて接地するか、２枚の透明基板間に該電磁波シールド材に接触するように導電性粘着テープを挟み込む必要がある。しかしながら、このような方法では、積層工程における上記作業が煩雑であるとの問題がある。

また、特許文献２（特開２００１−１４２４０６号公報）には、１枚の透明基板と、電磁波シールド材と、最表層の反射防止フィルムと、近赤外線カットフィルムとが積層一体化されてなる積層体を備え、該透明基板の端面及び表裏の縁部にまたがって導電性粘着テープが付着され、該導電性粘着テープと該電磁波シールド材の縁部とが導電性粘着剤によって付着されている電磁波シールド性光透過積層フィルムが記載されている。

特開平１１−７４６８３号公報 特開２００１−１４２４０６号公報

例えば、長尺状のプラスチックフィルムを用いて上記ＰＤＰ等のディスプレイ用光学フィルタを製造する場合、まず近赤外線カットフィルム及び反射防止フィルムを作製し、これらを電磁波シールド用導電性メッシュを介して積層することにより長尺状の光学フィルタを得、その後、各ディスプレイの全面の表示部の形状に合わせて矩形状に裁断することになる。このため、このような長尺状の光学フィルタは、通常、幅方向に裁断され、その幅方向の裁断面、即ち端面（側面）には、全ての層の端面が露出しているが、当然極めて小さな面積でしかない。導電性メッシュも、メッシュ状の断面がほんのわずか覗いているに過ぎない。

このようなディスプレイ用光学フィルタを、そのまま用いて、導電層による電磁波シールド性を良好なものとするために露出した導電層（例えば導電性メッシュ）を用いて接地（アース）することは困難である。

一方、１枚の透明基板を用いても、特許文献２に記載されているような光学フィルタでは、導電性メッシュを端面からはみ出させるようにフィルタを構成する各層を接着する必要があるとの問題がある。

従って、本発明は、容易に製造することができ、良好な電磁波シールド性を有し、そしてディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。

また、本発明は、容易に製造することができ、軽量で薄く、良好な電磁波シールド性を有し、そしてディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。

さらに、本発明は、容易に製造することができ、良好な電磁波シールド性を有し、そしてディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するディスプレイ用光学フィルタを製造する方法を提供することを目的とする。

さらにまた、本発明は、容易に製造することができ、軽量で薄く、良好な電磁波シールド性を有し、そしてディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するディスプレイ用光学フィルタを製造する方法を提供することを目的とする。

また、本発明は、容易に製造することができ、良好な電磁波シールド性を有し、そしてディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するＰＤＰ用に好適な光学フィルタを提供することを目的とする。

さらに、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたディスプレイを提供することを目的とする。

さらにまた、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたＰＤＰを提供することを目的とする。

従って、本発明は、矩形状の透明基板の一方の表面に導電層及び合成樹脂を含む機能性層がこの順で設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
矩形状の透明基板全面に導電層が設けられ、その導電層全面に機能性層が設けられており、且つ機能性層の少なくとも両側の縁部が剥離又は除去され導電層が露出しており、そしてこの露出部が電極部を形成していることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ；
にある。

本発明のディスプレイ用光学フィルタの好適態様は以下の通りである。

１）機能性層の全周囲の縁部において、機能性層の剥離又は除去により導電層が露出している。

２）機能性層がハードコート層である。機能性層は、近赤外線吸収層、粘着層及び／又は反射防止層であっても良い。

３）導電層が、金属導電層、特にメッシュ状金属導電層である。

４）機能性層の剥離又は除去が、レーザの照射又はカッターによる当該フィルタ作製時の裁断により形成されている。レーザが好ましい。レーザで裁断した場合は、一般に、機能性層と共に透明基板（プラスチック基板）等の導電層以外の有機物の層が除去されるので、導電層が光学フィルタの端部より突出した構造を示す。

５）機能性層が、ハードコート層と、その上に設けられたハードコート層より屈折率の低い低屈折率層とからなる。

６）機能性層が、ハードコート層と、その上に設けられたハードコート層より屈折率の高い高屈折率層及びその上のハードコート層より屈折率の低い低屈折率層とからなる。

７）機能性層の層厚が、３〜１５μｍの範囲にある。この機能性層の層厚は、例えば、ハードコート層、及びその上の全ての層を含む層厚を意味する。

８）透明基板の導電層の設けられていない側の表面に、近赤外線吸収層が設けられている。

９）近赤外線吸収層上にネオン発光の吸収層を有する。

１０）ハードコート層が、紫外線吸収剤を含有する。

１１）透明基板がプラスチックフィルムである。

１２）プラズマディスプレイパネル用フィルタである。

さらに本発明は、
矩形状の透明基板の表面に設けられた導電層及び導電層に設けられた合成樹脂を含む機能性層を含む光学フィルタを裁断することにより、機能性層の少なくとも両側の縁部を剥離又は除去して、少なくとも両側の縁部に導電層が露出した矩形状の光学フィルタを得ることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法にもある。

上記製造方法において、
光学フィルタの裁断により、機能性層の全周囲（全ての辺）の縁部を剥離又は除去して導電層を露出させることが好ましい。アースを容易にとることができる。

また本発明は、
長尺状の透明基板の表面に設けられた導電層及び導電層上に設けられた合成樹脂を含む機能性層を含む長尺状光学フィルタを横方向に裁断して、機能性層の少なくとも両側の縁部を剥離又は除去して、少なくとも両側の縁部に導電層が露出した矩形状の光学フィルタを得ることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法にもある。

上記製造方法において、
裁断された矩形状の光学フィルタの裁断されてない両側を裁断して、その裁断された機能性層の両側の縁部を剥離又は除去して導電層を露出させる（従ってフィルタの全周囲の機能性層の縁部を剥離又は除去する）ことが好ましい。

本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法の好適態様は以下の通りである。

１）光学フィルタの裁断が、レーザの照射又はカッターにより行われる。レーザによる切断が好ましい。

２）機能性層がハードコート層である。機能性層は、近赤外線吸収層、粘着層及び／又は反射防止層であっても良い。

３）導電層が、金属導電層、特にメッシュ状金属導電層である。

４）機能性層が、ハードコート層と、その上に設けられたハードコート層より屈折率の低い低屈折率層とからなる。

５）機能性層が、ハードコート層と、その上に設けられたハードコート層より屈折率の高い高屈折率層及びその上のハードコート層より屈折率の低い低屈折率層とからなる。

６）機能性層の層厚が、３〜１５μｍの範囲にある。

７）透明基板の導電層の設けられていない側の表面に、近赤外線吸収層が設けられている。

８）近赤外線吸収層上にネオン発光の吸収層を有する。

９）ハードコート層が、紫外線吸収剤を含有する。

１０）透明基板がプラスチックフィルムである。

さらにまた、本発明は、
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ；及び
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルにもある。

上記ディスプレイ又はプラズマディスプレイパネルにおいて、ディスプレイ用光学フィルタの電極部が、ディスプレイパネルに具備された導電性部材によりディスプレイパネルに接続されている。

本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法により、周囲に金属導電層からなる電極部（アース電極）を有する光学フィルタを、極めて容易に製造することができる。即ち、矩形状の透明基板の表面に設けられた導電層及び導電層上に設けられた合成樹脂を含む機能性層を含む光学フィルタを、例えばレーザを利用して、裁断して、機能性層の少なくとも両側、好ましくは周囲の縁部を剥離又は除去して導電層を露出させ、これにより周囲に突き出た金属導電層からなる電極部（アース電極）を有する光学フィルタを製造することができる。

この方法により、周囲に導電層からなる電極部（アース電極）を極めて容易に製造することができる。このような電極部設置により、アースを簡単にとることができる。

また本発明のディスプレイ用光学フィルタは、上記製造方法を利用することにより有利に得られる、特定の構造を有する導電層の電極部付き光学フィルタであり、上記のようにアース設置を非常に容易にすることができるとの利点がある。

特に、透明フィルムを１枚用いて上記光学フィルタを得た場合は、光学フィルタの厚さが極めて小さくなり、これに伴い質量も小さくなるため、ディスプレイに装着する際、そして装着後も取扱い上極めて有利である。

従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する、生産性に優れた光学フィルタということができる。

本発明の、周囲に電極部（アース電極）を有するディスプレイ用光学フィルタ及びその製造方法について、以下に詳細に説明する。

本発明のディスプレイ用光学フィルタの基本構成を示す１例の平面図を図１に示す。透明フィルム１２（図２参照）の一方の表面に、メッシュ状導電層１３（図２参照）、ハードコート層１６（図２参照）及び低屈折率層の反射防止層１７（図２参照）がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層１４（図２参照）及びその上に透明粘着剤層１５（図２参照）が設けられている。矩形状の反射防止層１７の周辺に、メッシュ状導電層１３’が露出している。本発明のディスプレイ用光学フィルタは、例えば、このような層構成を有する大面積の積層体（例えば長尺状の積層フィルム）を裁断することにより得られるものであり、裁断によりメッシュ状導電層が露出し、電極部が形成されている。このメッシュ状導電層１３’に、フィルタをディスプレイの表示部に貼付した際、ディスプレイの枠にある導電性部材（金属化カバー）と接触させることにより容易にアースをとることができる。

図１に示されたディスプレイ用光学フィルタの平面図におけるＡ−Ａ’断面図の１例を図２に示す。図２において、透明フィルム１２の一方の表面に、メッシュ状導電層１３、ハードコート層１６及び低屈折率層の反射防止層１７がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層１４及びその上に透明粘着剤層１５が設けられている。そしてフィルタの周囲には、裁断により露出したメッシュ状導電層１３’の電極部が形成されている。図２のメッシュ状導電層１３’の形状は、一般に裁断をレーザで行った場合に形成されるものである。この場合、ハードコート層１６及び反射防止層１７、さらにプラスチックの透明基板等の有機物の層は溶融昇華するため、髭状のメッシュ状導電層１３’が形成されている。メッシュ状導電層１３’は上記のようにハードコート層１６及び反射防止層１７等の有機物の層が除去されるため、髭状のメッシュ状導電層１３’が多数突出して露出しておりディスプレイの枠にある導電性部材（金属化カバー）との接触が極めて容易である。

図３に裁断をカッターで行った場合の、図１に示されたディスプレイ用光学フィルタの平面図におけるＡ−Ａ’断面図の別の例を示す。図２と同様の構成を有するが、メッシュ状導電層１３’の露出の量はやや少ない。図３において、透明フィルム３２の一方の表面に、メッシュ状導電層３３、ハードコート層３６及び低屈折率層の反射防止層３７がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層３４及びその上に透明粘着剤層３５が設けられている。そしてフィルタの周囲には、裁断により露出したメッシュ状導電層３３’の電極部が形成されている。図３のメッシュ状導電層１３’の形状は、一般に裁断をカッターで行った場合に形成されるものである。この場合、ハードコート層３６及び反射防止層３７等の層は反り返り、メッシュ状導電層が主として側面（一部上側）に露出する。しかしながら、露出部分は図２よりやや少ない。

メッシュ状導電層の露出部分を大きな面積で得るには、メッシュ状導電層上に設けられる機能性層の層厚が大きな影響を与える。即ち、機能性層の層厚は、一般に大きすぎるとメッシュ状導電層の露出部分が小さく、層厚が小さいと露出部分が大きくなる。また機能性層の硬いほどメッシュ状導電層の露出部分が大きくなり易いので、ハードコート層であることが好ましい。一般に表面硬度が２Ｈ以上であることが好ましい。

このような機能性層の層厚は、３〜２０μｍの範囲、特に３〜１５μｍの範囲が好ましい。この機能性層の層厚は、導電層上に設けられる全ての層の層厚、例えば、ハードコート層、及びその上の全ての層を含む層厚、を意味する。

メッシュ状導電層の露出部分の幅は一般に、０．１〜５ｍｍ、特に１〜３ｍｍが好ましい。下限より小さい場合は導通をとり難くなり、上限を超えるとフィルタ全体の面積に影響を与える。

ハードコート層１６，３６上には、上記のように反射防止性を向上させるためにハードコート層１６，３６より屈折率の低い低屈折率層等を設けることが好ましい。ハードコート層及び低屈折率層等を設ける場合は、それぞれ塗工、（光）硬化を別々に行っても良いが、ハードコート層及び低屈折率層等を塗工した後、一度に（光）硬化しても良い。また、上記の金属導電層上にハードコート層１６，３６を形成したが、光学フィルタの所望の設計に従い、ハードコート層１６，３６の代わりに、近赤外線吸収層等の必要な機能性層を設けることもできる。

図２及び３の構成において、ハードコート層１６，３６及び低屈折率層（等の反射防止層）１７，３７と、近赤外線吸収層１４，３４との位置が、相互に入れ替わっていても良く、また近赤外線吸収層１４，３４が、金属導電層２３とハードコート層２６との間に設けられても良い。しかしながら、図２及び３の構成は、ディスプレイ装着時に導電層が、ディスプレイの前面（表面側）に存在することになるため、アースの設置が容易である点で有利である。

上記金属導電層１３，３３は、例えば、メッシュ状の金属層又は金属含有層、或いは金属酸化物層（誘電体層）、又は金属酸化物層と金属層との交互積層膜である。メッシュ状の金属層又は金属含有層は、一般に、エッチングにより、又は印刷法により形成されているか、金属繊維層である。これにより低抵抗を得られやすい。一般に、メッシュ状の金属層又は金属含有層のメッシュの空隙は、上記のようにハードコート層１６、２６で埋められている。これにより透明性が向上する。ハードコート層１６，３６で埋めない場合は、他の層、例えば近赤外線吸収層１４，３４或いはそれ専用の透明樹脂層で埋められるのが好ましい。

前記低屈折率層１７，３７は、反射防止層を構成している。即ち、ハードコート層１６，３６とその上に設けられた低屈折率層１７，３７との複合膜により反射防止効果を効率良くに示す。この低屈折率層とハードコート層１６，３６との間に高屈折率層を設けても良い。これにより反射防止機能は向上する。

また低屈折率層１７，３７は設けなくても良く、透明フィルムと、透明フィルムより屈折率の高い又は低い（好ましくは低い）ハードコート層１６，３６のみであっても良い。ハードコート層１６，３６及び反射防止層１７，３７は、一般に塗工により形成される。生産性、経済性の観点から好ましい。

上記近赤外線吸収層１４，２４は、ＰＤＦのネオン発光等の不要な光を遮断する機能を有する。一般に８００〜１２００ｎｍに吸収極大を有する色素を含む層である。透明粘着層１５，２５は一般にディスプレイへの容易に装着するために設けられている。透明粘着剤層１５の上に剥離シートを設けても良い。

本発明のディスプレイ用光学フィルタは、例えば、矩形状のプラスチックフィルムの一方の全表面に、金属導電層を形成し、次いで導電層上に、ハードコート層及び低屈折率層等の反射防止層を形成し、その後、他方の表面に近赤外線吸収層、透明粘着剤層を形成する（或いは予めプラスチックフィルム裏面に形成する）ことにより大面積の光学フィルタを得、これを裁断することにより本発明の光学フィルタを得る。裁断は、矩形状のプラスチックフィルムとして長尺状の物を用いた場合、横方向に裁断することにより、両側の縁部に導電層が露出した、即ち両側に電極部を有する光学フィルタを得、さらに反対方向（元のフィルムの縦方向）に裁断することにより３辺、或いは４辺全てが電極部である光学フィルタを得ることができる。例えば、レーザ等を用いることにより、大面積の光学フィルタから直接４辺全てが電極部である光学フィルタを得ることも可能である。

上記矩形のディスプレイ用光学フィルタは透明フィルムを１枚用いているが、透明フィルムは２枚用いても良い。例えば、透明フィルムの表面に、メッシュ状の金属導電層、ハードコート層及び低屈折率層等の反射防止層がこの順で設けられ、別の透明フィルムの表面には近赤外線吸収層及びその上に透明粘着剤層が設けられ、２枚の透明フィルムの層が設けられていない表面同士で接着された構成を有するものでも良い。

透明フィルム２枚は、製造上有利である場合に採用されるが、厚さが大きくなるので嵩高くなる点で不利である。

本発明の裁断方法としては、カッター（裁断機）、レーザ、超音波等を使用することができるが、カッター（裁断機）、レーザが好ましく、特にレーザが好ましい。露出する導電層の面積が大きくとることができる。

カッターとしては、通常のカッティングマシン、例えば、繊維裁断用、或いは紙、プラスチック又は金属箔裁断用のものを使用することができる。カッターの材質としては、ステンレス等を挙げることができる。導電層を露出させるため、カッターの刃の切れ味は余り鋭くないものが好ましい。

本発明で使用することができるレーザは、短時間で合成樹脂層を燃焼、分解等により除去でき、金属導電層も溶融、破壊できるもの、或いはそのように設定できるものであればよい。レーザ照射技術としては、ラインビーム成形技術、レーザ光分岐技術、ダブルパルス技術等を、単独または組み合わせて用いることができる。レーザ光としては、ＹＡＧレーザ（２倍波、３倍波）、ルビーレーザ、エキシマレーザ、ＣＯ₂レーザ、アルゴンレーザ等を用いることができる。特に、ＹＡＧレーザ（２倍波、３倍波）、エキシマレーザ、ＣＯ₂レーザが、極めて短時間で合成樹脂層を燃焼、分解等により除去することができるので、好ましい。レーザは、出力５Ｗ〜５０kW、焦点位置での直径 を０．０５〜３０mmに集光して、移動速度１〜３０００ｍｍ／秒で行うことが好ましい。

矩形の透明フィルムの場合、各層はバッチ式で形成されても良いが、連続透明フィルム上に、各層を連続式、一般にロールトゥロール方式で形成し、裁断することが好ましい。

本発明のディスプレイ用光学フィルタに使用される材料について以下に説明する。

透明基板は、一般に、透明なプラスチックフィルム及びガラス板である。その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はないが、プラスチックフィルムが好ましい。一般にプラスチックフィルムが使用される。例えば、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性に優れているので好ましい。

透明フィルムの厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜１０ｍｍ、１μｍ〜５ｍｍ、特に２５〜２５０μｍが好ましい。

本発明の金属導電層は、得られる光学フィルタの表面抵抗値が、一般に１０Ω／□以下、好ましくは０．００１〜５Ω／□の範囲、特に０．００５〜５Ω／□のとなるように設定される。メッシュ（格子）状の金属導電層が好ましい。或いは、導電層は、気相成膜法により得られる層（金属酸化物（ＩＴＯ等）の透明導電薄膜）でも良い。さらに、ＩＴＯ等の金属酸化物の誘電体膜とＡｇ等の金属層との交互積層体（例、ＩＴＯ／銀／ＩＴＯ／銀／ＩＴＯの積層体）であっても良い。

メッシュ状の金属導電層としては金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属を網状にしたもの、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。

メッシュ状の金属導電層の場合、メッシュとしては、金属繊維及び／又は金属被覆有機繊維よりなる線径１μｍ〜１ｍｍ、開口率４０〜９５％のものが好ましい。より好ましい線径は１０〜５００μｍ、開口率は５０〜９５％である。メッシュ状の導電層において、線径が１ｍｍを超えると電磁波シールド性が向上するが、開口率が低下し両立させることができない。１μｍ未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が９５％を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、４０％未満では光透過性が低下し、ディスプレイからの光量も低下する。

なお、導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。

メッシュ状の導電層を構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。

金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。

金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたもの場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。

金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が長くなることから、１〜２００μｍ程度とするのが好ましい。

エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。

上記の他に、メッシュ状の金属導電層として、フィルム面に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られるメッシュ状金属導電層を用いても良い。

金属導電層上に、さらに金属メッキ層を、導電性を向上させるために設けても良い（特に、上記溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成する方法の場合）。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。

また、防眩性能を付与させても良い。この防眩化処理を行う場合、（メッシュ）導電層の表面に黒化処理を行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等を行うことができる。

本発明の反射防止層は、一般に基板である透明フィルムより屈折率の低いハードコート層とその上に設けられたハードコート層より屈折率の低い低屈折率層であるか、或いはハードコート層と低屈折率層との間にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止効果は基板より屈折率の低いハードコート層のみであっても有効である。但し、基板の屈折率が低い場合、透明フィルムより屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜、或いは低屈折率層上にさらに高屈折率層が設けられた複合膜としても良い。

ハードコート層としては、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコン樹脂層等の合成樹脂を主成分とする層である。通常その厚さは１〜５０μｍ、好ましくは１〜１０μｍである。合成樹脂は、一般に熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂であり、紫外線硬化性樹脂が好ましい。紫外線硬化性樹脂は、短時間で硬化させることができ、生産性に優れ、またレーザにより除去し易い点からも好ましい。

熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げることができる。

ハードコート層としては、紫外線硬化性樹脂組成物（紫外線硬化性樹脂、光重合開始剤等からなる）を主成分とする層の硬化層が好ましく、通常その厚さは１〜５０μｍ、好ましくは１〜１０μｍである。

紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２′−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。

ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）の内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。

紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）が好ましい。

光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。

さらに、ハードコート層は、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいても良い。特に、紫外線吸収剤（例、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤又はベンゾフェノン系紫外線吸収剤）を含むことが好ましく、これによりフィルタの黄変等の防止が効率的に行うことができる。その量は、樹脂組成物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。

ハードコート層は、透明フィルムより屈折率が低くても、高くてもよい。上記紫外線硬化性樹脂を用いることにより一般に基板より低い屈折率を得られやすい。この場合、透明基板としては、ＰＥＴ等の高い屈折率の材料を用いることが好ましい。このため、ハードコート層は、屈折率を、１．６０以下にすることが好ましい。膜厚は前記の通りである。ハードコート層は、その屈折率を調節するために、下記の高屈折率層、低屈折率層に使用される微粒子を使用することもできる。

高屈折率層は、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に、ＩＴＯ，ＡＴＯ，Ｓｂ₂Ｏ₃，ＳｂＯ₂，Ｉｎ₂Ｏ₃，ＳｎＯ₂，ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ₂等の導電性金属酸化物微粒子（無機化合物）が分散した層（硬化層）とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。特にＩＴＯ（特に平均粒径１０〜５０ｎｍのもの）が好ましい。屈折率を１．６４以上としたものが好適である。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。

なお、高屈折率層が導電層である場合、この高屈折率層の屈折率を１．６４以上とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．６９以上、好ましくは１．６９〜１．８２とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。

低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを１０〜４０重量％（好ましくは１０〜３０質量％）がポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に分散した層（硬化層）であることが好ましい。この低屈折率層の屈折率は、１．４５〜１．５１が好ましい。この屈折率が１．５１超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。

中空シリカとしては、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。

ハードコート層は、可視光線透過率が８５％以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも８５％以上であることが好ましい。

反射防止層がハードコート層と上記２層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは２〜２０μｍ、高屈折率層の厚さは７５〜９０ｎｍ、低屈折率層の厚さは８５〜１１０ｎｍであることが好ましい。

反射防止層の、各層を形成するには、例えば、前記の通り、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）に必要に応じ上記の微粒子を配合し、得られた塗工液を、前記の矩形透明基板表面に塗工し、次いで乾燥した後、紫外線照射して硬化すればよい。この場合、各層を１層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。

塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。前記導電層も同様に形成することができる。

紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザ光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。

近赤外線吸収層は、一般に、透明フィルムの表面に色素等を含む層が形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば上記色素及びバインダ樹脂等を含む紫外線硬化性又は電子線硬化性の樹脂、或いは熱硬化性樹脂を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。或いは上記色素及びバインダ樹脂等を含む塗工液を塗工、そして単に乾燥させることによっても得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。

本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。

ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。

また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。

また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。

本発明の光学フィルタの近赤外線吸収特性としては、８５０〜１０００ｎｍの透過率を、２０％以下、さらに１５％するのが好ましい。また選択吸収性としては、５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、５７５〜５９５ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。

近赤外線吸収層の層厚は、０．５〜５０μｍが一般的である。

端部に露出した金属導電層に導電性粘着テープ貼付する場合、その導電性粘着テープとしては、金属箔の一方の面に、導電性粒子を分散させた粘着層を設けたものであって、この粘着層には、アクリル系、ゴム系、シリコン系粘着剤や、エポキシ系、フェノール系樹脂に硬化剤を配合したものを用いることができる。

粘着層に分散させる導電性粒子としては、電気的に良好な導体であればよく、種々のものを使用することができる。例えば、銅、銀、ニッケル等の金属粉体、このような金属で被覆された樹脂又はセラミック粉体等を使用することができる。また、その形状についても特に制限はなく、リン片状、樹枝状、粒状、ペレット状等の任意の形状をとることができる。

この導電性粒子の配合量は、粘着層を構成するポリマーに対し０．１〜１５容量％であることが好ましく、また、その平均粒径は０．１〜１００μｍであることが好ましい。このように、配合量及び粒径を規定することにより、導電性粒子の凝縮を防止して、良好な導電性を得ることができるようになる。

導電性粘着テープの基材となる金属箔としては、銅、銀、ニッケル、アルミニウム、ステンレス等の箔を用いることができ、その厚さは通常の場合、１〜１００μｍである。

粘着層は、この金属箔に、前記粘着剤と導電性粒子とを所定の割合で均一に混合したものをロールコーター、ダイコーター、ナイフコーター、マイカバーコーター、フローコーター、スプレーコーター等により塗工することにより容易に形成することができる。

この粘着層の厚さは通常の場合５〜１００μｍである。

導電性粘着テープの代わりに、上記粘着層を構成する材料からなる接着剤を導電層の露出部に塗布し、その上に上記導電性テープを貼付しても良い。

本発明の透明粘着剤層１５，３５は、本発明の光学フィルムをディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。例えば、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）を主成分とするＴＰＥ系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。

その層厚は、一般に５〜５００μｍ、特に１０〜１００μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。

本発明において透明フィルム２枚を使用する場合、これらの接着（粘着剤層）には、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂（例、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体）、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ及びＳＢＳ等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。

その層厚は、一般に１０〜５０μｍ、好ましくは、２０〜３０μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。

前記透明粘着剤層の材料として、ＥＶＡも使用する場合、ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。

架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブチルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサイド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオキシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロルベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロルヘキサノンパーオキサイド等を挙げることができる。これらの過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００重量部に対して、５質量部以下、好ましくは０．５〜５．０質量部の割合で使用される。

有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。

なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。

その例としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００質量部に対して０．１〜２質量部、好ましくは０．５〜５質量部用いられる。

ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００質量部に対して５質量部以下、好ましくは０．１〜３．０質量部使用される。

この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。

また、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用される。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γグリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。

シランカップリング剤は、一般にＥＶＡ１００質量部に対して０．００１〜１０質量部、好ましくは０．００１〜５質量部の割合で１種又は２種以上が混合使用される。

なお、本発明に係るＥＶＡ接着層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。

上記接着のための粘着剤層は、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。

反射防止層上には、保護層を設けても良い。保護層は、前記ハードコート層と同様にして形成することが好ましい。

透明粘着剤層上に設けられる剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。

本発明の電極部付き光学フィルタは、上記の材料を用いて、前述のように製造することができる。このようにして得られる本発明のディスプレイ用光学フィルタは、ＰＤＰ等のディスプレイの画像表示ガラス板の表面に貼り合わされて使用される。

本発明の光学フィルタが、ディスプレイの１種であるプラズマディスプレイパネル４９の画像表示面に貼付された状態の１例を図４に示す。ディスプレイパネル４０の表示面の表面に透明粘着剤層４５を介して光学フィルタが接着されている。即ち、透明フィルム４２の一方の表面に、メッシュ状導電層４３、ハードコート層４６、低屈折率層等の反射防止層４７がこの順で設けられ、透明フィルム４２の他方の表面には近赤外線吸収層４４及び透明粘着剤層４５が設けられた光学フィルタが表示面に設けられている。そしてフィルタの端部（側端部）に、メッシュ状導電層４３’が露出している。この露出したメッシュ状導電層４３’にプラズマディスプレイパネル４０の周囲に設けられた金属カバー４９に接触状態にされている。接触状態にするために、必要により、導電性ガスケット又はシールドフィンガー（板バネ状金属部品）等が用いられる。これにより、光学フィルタと金属カバー４９が導通し、アースが達成される。金属カバー４９は金属枠、フレームでも良い。図４から明らかなように、メッシュ状導電層４３は、視聴者側を向いている。金属カバー４９は、導電層４３の端部の縁部から２〜２０ｍｍ程度覆っている。

本発明の光学フィルタが、ディスプレイの１種であるプラズマディスプレイパネル４９の画像表示面に貼付された状態野別の１例を図５に示す。ディスプレイパネル５０の表示面の表面に透明粘着剤層５５を介して光学フィルタが接着されている。即ち、透明フィルム５２の一方の表面に、メッシュ状導電層５３、ハードコート層５６、低屈折率層等の反射防止層５７がこの順で設けられ、透明フィルム５２の他方の表面には近赤外線吸収層５４及び透明粘着剤層５５が設けられた光学フィルタが表示面に設けられている。そしてフィルタの端部（側端部）に、メッシュ状導電層５３’が露出している。この露出したメッシュ状導電層５３’にプラズマディスプレイパネル４０の周囲に設けられた金属カバー５９に接触状態にされている。この図では、金属カバー５９が、露出したメッシュ状導電層５３’と接触しやすいように、上側が斜めに曲げられている。これにより、光学フィルタと金属カバー５９が導通し、アースが達成される。

本発明のＰＤＰ表示装置は、一般に透明基板としてプラスチックフィルムを使用しているので、本発明の光学フィルタをその表面であるガラス板表面に直接貼り合わせることができるため、特に透明フィルムを１枚使用した場合は、ＰＤＰ自体の軽量化、薄型化、低コスト化に寄与できる。また、ＰＤＰの前面側に透明成形体からなる前面板を設置する場合に比べると、ＰＤＰとＰＤＰ用フィルタとの間に屈折率の低い空気層をなくすことができるため、界面反射による可視光反射率の増加、二重反射などの問題を解決でき、ＰＤＰの視認性をより向上させることができる。

従って、本発明の光学フィルタを有するディスプレイは、アースが容易であるばかりでなく、反射防止効果、帯電防止性に優れ、危険な電磁波の放射もほとんどなく、見やすく、ホコリ等が付きにくく、安全なディスプレイということができる。

以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

［実施例１］
＜電極部付きディスプレイ用光学フィルタの作製＞
（１）メッシュ状導電層
表面にメッシュ状導電層（線幅は２０μｍ、開口率は７７％、厚さ４μｍの銅層）を有する厚さ１００μｍの長尺状のポリエチレンテレフタレートフィルム（幅：５４０ｍｍ、長さ６００ｍ）を用意した。

（２）ハードコート層（インク）の形成
下記の配合：
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ） ８０質量部
ＩＴＯ（平均粒径１５０ｎｍ） ２０質量部
メチルエチルケトン ４０質量部
トルエン ４０質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
を混合して得たインク（塗工液）を、上記メッシュ状導電層に、バーコータにより塗布し、紫外線照射により硬化させた。これにより、メッシュ状導電層上に厚さ５μｍのハードコート層（屈折率１．５２）を形成した。

（３）低屈折率層の形成
下記の配合：
オプスターＪＮ―７２１２（日本合成ゴム（株）製） １００質量部
メチルエチルケトン ５０質量部
メチルイソブチルケトン ５０質量部
を混合して得たインク（塗工液）を、上記ハードコート層上にバーコータにより塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させ、次いでその紫外線照射により硬化させた。これにより、ハードコート層上に厚さ９０ｎｍの低屈折率層（屈折率１．４２）を形成した。表面硬度は２Ｈであった。

（４）近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）の形成
下記の配合：
ポリメチルメタクリレート ３０質量部
ＴＰ−２（山田化学工業（株）製） ０．４質量部
Ｐｌａｓｔ Ｒｅｄ ３８０（有本化学工業（株）製 ０．１質量部
ＣＩＲ−１０８５（日本カーリット（株）製） １．３質量部
ＩＲ−１０Ａ（（株）日本触媒製） ０．６質量部
メチルエチルケトン １５２質量部
メチルイソブチルケトン １８質量部
を混合して得た塗工液を、上記ポリエチレンフィルムの裏面にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、ポリエチレンフィルム上に厚さ７μｍの近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）を形成した。

（５）透明粘着剤層の形成
下記の配合：
ＳＫダイン１８１１Ｌ（綜研化学（株）製） １００質量部
硬化剤Ｌ−４５（綜研化学（株）製） ０．４５質量部
トルエン １５質量部
酢酸エチル ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記近赤外線吸収層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、近赤外線吸収層上に厚さ１０μｍの透明粘着剤層を形成した。

得られた光学フィルタを、長さ４００ｍｍ及び幅５４０ｍｍの寸法に、縦及び横に裁断した。裁断には、カッター（商品名：開梱作業用ＮＴカッターＰ−１Ｐ、エヌティー（株）製）を用いて常温にて行った。

［実施例２］
裁断を、下記のレーザを用いて常温にて行った以外、実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。

得られた光学フィルタを、長さ４００ｍｍ及び幅５４０ｍｍの寸法になるよう、低屈折率層の上からＣＯ₂レーザ加工機を用いて、出力３０W、焦点位置での直径０．５mmに集光して、移動速度１００ｍｍ／秒でレーザ照射した。

［比較例１］
裁断しなかった以外、実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。

［光学フィルタの評価］
（１）導電性
光学フィルタの電極（相対する２個の電極部）に抵抗計（商品名：ｍΩＨｉ−Ｔｅｓｔｅｒ（ＭＣＰ−Ｔ６００）；日置電機（株）製）を接続して、抵抗値を測定した。

上記結果を表１に示す。

また実施例１及び２で得られたＰＤＰフィルタは、実際にＰＤＰに貼付しても透明性、電磁波遮蔽性等において、従来のものと遜色はなく、一方、電極部設置においては極めて容易に行うことができた。

本発明の光学フィルタの１例を示す概略平面図である。 図１の光学フィルタのＡ−Ａ’概略平面図である。 本発明のディスプレイ用光学フィルタの別の１例を概略平面図である。 光学フィルタが、ディスプレイの１種であるプラズマディスプレイパネルの画像表示面に貼付された状態の１例を示す概略断面図である。 光学フィルタが、ディスプレイの１種であるプラズマディスプレイパネルの画像表示面に貼付された状態の別の１例を示す概略断面図である。

符号の説明

１１、３１ ディスプレイ用光学フィルタ
１２、３２、４２、５２ 透明フィルム
１３、１３’、３３、３３’、４３、５３ メッシュ状導電層
１６、３６、４６、５６ ハードコート層
１７、３７、４７、５７ 反射防止層
１４、３４、４４、５４ 近赤外線吸収層
１５、３５、４５、５５ 透明粘着剤層
４９、５９ 金属カバー

Claims (32)

1. 矩形状の透明基板の一方の表面に導電層及び合成樹脂を含む機能性層がこの順で設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
   矩形状の透明基板全面に導電層が設けられ、その導電層全面に機能性層が設けられており、且つ機能性層の少なくとも両側の縁部が剥離又は除去され導電層が露出しており、そしてこの露出部が電極部を形成していることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
2. 機能性層の全周囲の縁部において、機能性層の剥離又は除去により導電層が露出している請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
3. 機能性層がハードコート層である請求項１又は２に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
4. 導電層が、メッシュ状金属導電層である請求項１〜３のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
5. 機能性層の剥離又は除去が、レーザの照射又はカッターによる当該フィルタ作製時の裁断によりにより形成されている請求項１〜４のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
6. 機能性層が、ハードコート層と、その上に設けられたハードコート層より屈折率の低い低屈折率層とからなる請求項１〜５のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
7. 機能性層が、ハードコート層と、その上に設けられたハードコート層より屈折率の高い高屈折率層及びその上のハードコート層より屈折率の低い低屈折率層とからなる請求項１〜６のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
8. 機能性層の層厚が、３〜１５μｍの範囲にある請求項１〜６のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
9. 透明基板の導電層の設けられていない側の表面に、近赤外線吸収層が設けられている請求項３〜８のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
10. 近赤外線吸収層上にネオン発光の吸収層を有する請求項９に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
11. ハードコート層が、紫外線吸収剤を含有する請求項３〜１０のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
12. 透明基板がプラスチックフィルムである請求項１〜１１のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
13. 矩形状の透明基板の表面に設けられた導電層及び導電層に設けられた合成樹脂を含む機能性層を含む光学フィルタを裁断することにより、機能性層の少なくとも両側の縁部を剥離又は除去して、少なくとも両側の縁部に導電層が露出した矩形状の光学フィルタを得ることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
14. 光学フィルタの裁断により、機能性層の全周囲の縁部を剥離又は除去して導電層を露出させる請求項１３に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
15. 光学フィルタの裁断が、レーザの照射又はカッターにより行われる請求項１３又は１４に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
16. 長尺状の透明基板の表面に設けられた導電層及び導電層上に設けられた合成樹脂を含む機能性層を含む長尺状光学フィルタを横方向に裁断することにより、機能性層の少なくとも両側の縁部を剥離又は除去して、少なくとも両側の縁部に導電層が露出した矩形状の光学フィルタを得ることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
17. 裁断された矩形状の光学フィルタの裁断されてない両側を裁断して、その裁断された機能性層の周囲の縁部を剥離又は除去して導電層を露出させる請求項１６に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
18. 光学フィルタの裁断が、レーザの照射又はカッターにより行われる請求項１６又は１７に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
19. 機能性層がハードコート層である請求項１３〜１８のいずれか１項に記載の製造方法。
20. 導電層が、メッシュ状金属導電層である請求項１３〜１９のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
21. 機能性層が、ハードコート層と、その上に設けられたハードコート層より屈折率の低い低屈折率層とからなる請求項１３〜２０のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
22. 機能性層が、ハードコート層と、その上に設けられたハードコート層より屈折率の高い高屈折率層及びその上のハードコート層より屈折率の低い低屈折率層とからなる請求項１３〜２１のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
23. 機能性層の層厚が、３〜１５μｍの範囲にある請求項１３〜２２のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
24. 透明基板の導電層の設けられていない側の表面に、近赤外線吸収層が設けられている請求項１３〜２３のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
25. 近赤外線吸収層上にネオン発光の吸収層を有する請求項２４に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
26. ハードコート層が、紫外線吸収剤を含有する請求項１９〜２５のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
27. 透明基板がプラスチックフィルムである請求項１３〜２６のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
28. プラズマディスプレイパネル用フィルタである請求項１〜１２のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
29. 請求項１〜１２のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ。
30. ディスプレイ用光学フィルタの電極部が、プレイパネルに具備された導電性部材によりディスプレイに接続されている請求項２９に記載のプディスプレイ。
31. 請求項１〜１２のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
32. ディスプレイ用光学フィルタの電極部が、プラズマディスプレイパネルに具備された導電性部材によりプラズマディスプレイパネルに接続されている請求項３１に記載のプラズマディスプレイパネル。

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