JP2008175929A - 反射鏡の製造方法及び光学機器 - Google Patents

Abstract

【課題】 少なくとも可視光領域において均一で高い反射率を示す反射鏡を提供する。
【解決手段】 基板２０上に銀を用いた反射膜２２を形成し、反射膜２２の上に酸化アルミニウムを用いた第１保護層２３とチタン系化合物を用いた第２保護層２４とを形成する反射鏡１９の製造方法において、反射膜２２は第１保護層２３と第２保護層２４の少なくとも一方より速い膜形成速度で蒸着されることを特徴とする。
【選択図】図２

Description

本発明は、反射鏡の製造方法及び光学機器に係り、特に、銀を用いた反射膜を有する反射鏡の製造方法及び該反射鏡を備える光学機器に関するものである。

従来より、カメラ、双眼鏡、顕微鏡等の光学機器や、複写機、プロジェクタ等のＯＡ機器に用いられる反射鏡としては、基板に真空蒸着法やスパッタリング法によってアルミニウムや銀を蒸着し、その蒸着膜を反射膜とした反射鏡が知られている。銀を用いて反射膜を構成した場合、可視光領域（４００〜７００ｎｍ）における光の反射率が向上することが知られているが、基板への密着力の低下や反射膜の腐食が生じてしまうおそれがあった。

そこで、銀を用いた反射膜の基板への密着力を向上させるとともに反射膜の腐食を低減させるために、樹脂基板上に一酸化ケイ素からなる第１の中間層と酸化アルミニウムからなる第２の中間層とを順に備え、その上方に銀の薄膜からなる反射膜が形成された反射鏡が知られている。

また、反射膜の耐久性および耐湿性を向上させるために、樹脂基板上に銅膜からなる中間層と銀の薄膜からなる反射膜とを備え、反射膜の上面に酸化アルミニウムからなる第１保護層と酸化チタン等を用いた第２保護層とを備えた反射鏡が知られている。
特開平２００３−３２９８１８号公報 特開平２０００−２４１６１２号公報

しかしながら、従来の反射鏡によれば、樹脂基板への反射膜の密着力や耐久性の向上は可能であるものの、可視光領域での反射率は９５％程度が上限であるとともに、低波長領域（特に、４５０ｎｍ以下の波長領域）において反射率が激減してしまうという問題があった。また、７５０ｎｍ付近での反射率の変動量が大きくなってしまい、可視光領域であっても反射率を均一にすることができないという問題があった。

そこで、本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、少なくとも可視光領域において均一で高い反射率を得ることが可能な反射鏡の提供を目的とする。

上記課題を解決し目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、基板上に銀を用いた反射膜を形成し、前記反射膜の上に酸化アルミニウムを用いた第１保護層とチタン系化合物を用いた第２保護層とを形成する反射鏡の製造方法において、前記反射膜の膜形成速度は、前記第１保護層と前記第２保護層との少なくとも一方の膜形成速度より速いことを特徴とする。

以上より、本発明の反射鏡によれば、少なくとも可視光領域において均一で高い反射率を示すので、明るい反射像を得ることが可能である。

以下、本発明の実施形態を図面を用いて説明する。

図１は、本実施形態に係る反射鏡の製造方法により製造した反射鏡を備える光学機器の概略構成図である。図１においては、本実施形態に係る反射鏡にのみハッチングを付している。光学機器としての撮像装置であるカメラシステム１は、各部品が内蔵されるカメラ本体２を備えている。カメラ本体２は、その前面に撮影レンズ３等の光学系を有する交換レンズ４を交換可能に装着している。また、カメラ本体２はその内側に、交換レンズ４により結像される被写体像を撮像して画像を記録する撮像素子５を備えている。撮像素子５は、例えば、図示しないＣＣＤやＣＭＯＳなどにより構成されている。撮像素子５の前方にはシャッター６が開閉自在に備えられ、撮影時にはシャッター６が開放されて交換レンズ４からの光束が撮像素子５に入射するようになっている。

図１に破線で示すように、交換レンズ４からの光束を反射するクイックリターンミラー７は、カメラ本体２の内部であってシャッター６の前方に、光軸に対して略４５度傾くように配置されている。クイックリターンミラー７は、図１中破線で示す反射位置と図１中実線で示す退避位置との間を回動自在であり、撮影時には撮影光路外である退避位置に退避するようになっている。クイックリターンミラー７は、交換レンズ４からの光束の一部を透過させるハーフミラー部８を略中央部に有している。また、クイックリターンミラー７は、ハーフミラー部８を透過した光束を後述の焦点調節部１０へ反射するサブミラー９をハーフミラー部８の後方に有している。さらに、クイックリターンミラー７は、サブミラー９からの光束が入射して撮影レンズ３の焦点調節状態を検出する焦点調節部１０を、その下方に有している。焦点調節部１０による焦点検出方法に特に制限は無く、瞳分割位相差検出方式などを適宜採用可能である。

クイックリターンミラー７の上方には、クイックリターンミラー７が反射位置にあるときに交換レンズ４からの光束が結像する焦点板１１が設けられている。焦点板１１の下方には、焦点板１１に結像された被写体像に焦点検出位置や露出値などの種々の情報を重畳して表示する液晶表示素子１２が備えられている。また、焦点板１１の上方には、クイックリターンミラー７からの光束をファインダー１３に導くミラーペンタ１４が備えられている。ミラーペンタ１４は、光束が入射する反射面に本実施形態に係る反射鏡１９を有している。また、ミラーペンタ１４は、その後方に反射鏡１９により反射された光束を結像する接眼レンズ１５を有している。そのため、撮影者はファインダー１３を介して被写体像を視認することができるようになっている。

カメラ本体２は、操作部材１６、制御装置１７、レンズ駆動装置１８などを有している。操作部材１６は、シャッターボタンや焦点検出エリア選択スイッチなどのカメラシステム１を操作するためのスイッチやセレクターを含むものである。制御装置１７は、ＣＰＵとその周辺部品とから構成され、操作部材１６や焦点調節部１０からの信号に基づいてカメラシステム１全体の各種制御と演算などを行うようになっている。また、レンズ駆動装置１８は、モータと駆動回路とを有しており、焦点調節部１０の検出結果に基づいて撮影レンズ３の焦点調整を行う。

次に、反射鏡１９の構造について説明する。
図２は、本実施形態に係る反射鏡の製造方法により製造した反射鏡１９の断面図である。反射鏡１９は、基板２０と、下地層２１、反射膜２２、第１保護層２３および第２保護層２４とを順に有している。

基板２０は各光学機器に応じて公知のものを適宜使用可能であり、例えば、ガラス基板や、ポリカーボネイト樹脂、ポリアセタール樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ＡＢＳ樹脂などを用いた樹脂基板などが挙げられる。樹脂基板を用いる場合、反射膜２２との密着性を向上させるために酸化ケイ素を用いた密着層を別途設けることが好ましい。本実施形態においては、基板２０としてＢＫ７（光学ガラス）を用いることとした。

下地層２１としては、反射膜２２と基板２０との密着性を確保できるものであれば良く、酸化物、酸窒化物、窒化物を少なくとも１つ含むものなどが挙げられる。本実施形態においては、下地層２１は、基板２０としてのガラス基板と銀を用いた反射膜２２との間の密着力を向上させる観点から、酸化アルミニウムを用いるのが好ましい。下地層２１の膜厚は、密着性を確保するとともに反射膜２２の腐食を防止することができればよく、１００〜５００オングストロームの範囲が好ましい。下地層２１の膜厚が１００オングストローム未満の場合、銀からなる反射膜２２のガス腐食を十分に防止することが困難であり、５００オングストロームより大きい場合、下地層２１の内部応力が増大してしまう。下地層２１の形成方法に特に制限は無いが、酸化アルミニウムなどの融点の高い蒸着材料を用いる場合は、加速した電子線を当てて蒸着材料を蒸発させる電子線蒸着法が好ましい。下地層２１の膜形成速度は、蒸着条件や蒸着材料によって異なるが、１０オングストローム／秒程度である。

反射膜２２は、銀を用いて構成されている。反射膜２２は銀を主成分とすればよく、銅等の不純物を含む他、金等との合金を用いて構成しても良い。反射膜２２の厚みは、１０００〜２０００オングストロームの範囲が好ましい。反射膜２２の厚みが１０００オングストローム未満の場合には反射特性が低下するおそれがあり、２０００オングストロームより大きい場合には膜表面の凹凸により光吸収が生じ反射率が低下するおそれがある。

反射膜２２の形成方法は、特に制限無く公知の方法を適用可能であるが、第１保護層２３と第２保護層２４との少なくとも一方の膜形成速度より速い速度で銀分子を蒸着させて形成するのが好ましい。反射膜２２の膜形成速度は、第１保護層２３又は第２保護層２４の膜形成速度の７倍以上であることが好ましく、１０倍以上がより好ましい。膜形成速度は常に上記条件を満たすのが好ましいが、少なくとも蒸着開始後から所定時間経過して膜形成速度が安定した際に上記条件を満たせばよい。

このように、反射膜２２の膜形成速度を速くすることにより、銀分子の蒸発速度が速くなり、銀分子の衝突エネルギーも高くなる。このように銀分子が高い衝突エネルギーをもつので、基板２０上で銀分子が安定な状態に再配列され緻密な反射膜２２が形成される。また、基板２０上で銀分子が高いエネルギーをもつので、Ｈ₂ＯやＯＨ等の不純物が反射膜２２に含まれることもない。このようにして形成された反射膜２２は、低波長領域（特に、３５０〜４００ｎｍ）での反射率が顕著に向上される。図３は本実施形態に係る反射鏡７の反射率を示すグラフである。図３において、横軸は波長（ｎｍ）を表し、縦軸は反射率（％）を表す。ここで、本実施形態における反射率とは、反射鏡７の最も上側に形成される層に入射する光の反射率の平均をいうものとする。

反射膜２２の蒸着方法は、銀を主成分とするため、蒸着材料の入った反応容器に電流を流して抵抗熱を発生させ、その熱で蒸着材料を蒸発させる抵抗加熱法が好ましい。特に、反射膜２２の蒸着方法は、膜形成速度を速くするために、抵抗加熱法により反応容器を高温に加熱させて銀分子を蒸発させるフラッシュ蒸着が好ましい。ここで、従来の反射膜２２の一般的な蒸着方法においては、反応容器の加熱温度は蒸着材料の沸点付近であり、銀の沸点（２１６２℃）に近い２０００℃となっている。一方、本実施形態のフラッシュ蒸着においては、反応容器としてモリブデン（融点２６２０℃）を用い、モリブデンの融点に近い２４００〜２５００℃まで加熱させるので、従来の加熱温度より高く、銀分子の蒸発速度を速くすることが可能である。反応容器は銀との反応性が低くかつ融点の高いものであればよく、反応容器の融点に応じて加熱温度を調整するのが好ましい。

第１保護層２３は反射膜２２を保護するものである。本実施形態においては、第１保護層２３は、その上下の層との密着力を向上させるために酸化アルミニウムを用いて構成されている。このように、反射膜２２をその上面と下面から酸化アルミニウムを用いた層によって挟む構造とすると、硫化水素ガスや亜硫酸ガス等の硫化ガスに対して強い耐性を示し、反射膜２２のガス腐食が効果的に抑制されるようになっている。第１保護層２３の膜厚は、本実施形態においては５００〜１０００オングストロームの範囲が好ましい。第１保護層２３の膜厚が５００オングストローム未満の場合、反射膜２２のガス腐食を十分に防止することが困難であり、１０００オングストロームより大きい場合、第１保護層２３の内部応力が増大してしまう。また、第１保護層２３の形成方法は、特に限定されず、下地層２１と同様に１０オングストローム／秒程度の膜形成速度で電子線蒸着法により形成するのが好ましい。

第２保護層２４は、反射膜２２の反射率を向上させるものであり、チタン系化合物を用いて形成されている。第２保護層２４は反射膜２２の反射率を向上させるとともに反射率の変動を抑えるものが好ましい。具体的には、第２保護層２４は、酸化チタンを含有する屈折率１．９〜２．４の材料を用いて形成するようになっている。チタン系化合物の屈折率が１．９未満の場合には反射率が十分に向上しないおそれがあり、屈折率が２．４より大きい場合には反射率の変動が大きくなってしまうという問題がある。酸化チタンとしては、例えば、ＴｉＯ、ＴｉＯ₂、ＬａＴｉＯ₂，Ｌａ₂Ｔｉ₃Ｏ₅等が挙げられる。本実施形態においては、ＯＨ−５（株式会社オプトロン製，酸化チタンと酸化ジルコニウムの混合物，屈折率２．１３）を使用して第２保護層２４を形成するようになっている。

第２保護層２４の膜厚は、５００〜１０００オングストロームの範囲が好ましく、適宜調整することによって７５０ｎｍ付近の波長帯域の反射率を向上させることが可能である。第２保護層２４の膜厚が５００オングストローム未満の場合には反射率を十分に向上させることができないおそれがあり、１０００オングストロームより大きい場合には第２保護層２４で干渉光が発生するおそれがある。また、第２保護層２４の形成方法は、特に限定されず第１保護層２３と同様に１０オングストローム／秒程度の膜形成速度で電子線蒸着法により形成するのが好ましい。

ここで、第１保護層２３と第２保護層２４との膜厚の合計は、分光特性を良好に維持するために１０００〜１５００オングストロームの範囲が好ましく、１２００〜１３５０オングストロームがより好ましい。

次に、本実施形態に係る反射鏡１９の製造方法について説明する。
まず、基板２０を真空蒸着装置（不図示）の回転ドームに設置する。真空蒸着装置は、図示省略するが、真空蒸着装置内の真空度を調節する真空ポンプと、基板２０を保持したまま回転する回転ドームと、蒸着材料を載置する反応容器と、反応容器内の蒸着材料を蒸発させる加熱装置と、各層の膜厚と膜形成速度（蒸着レート）とを測定する測定部と、真空蒸着装置全体を制御する制御部とを有している。制御部は図示しない操作部に接続しており、操作者は操作部を介して各層の蒸着条件等を入力できるようになっている。

真空蒸着装置の反応容器には、下地層２１、反射膜２２、第１保護層２３および第２保護層２４の材料それぞれを別個に蒸着源として載置する。真空蒸着が開始されると、制御部は、真空ポンプにより真空蒸着装置内の空気を排気させるとともに回転ドームを回転させる。真空蒸着装置内が所定の真空度に達しかつ基板２０の回転速度が一定になると、制御部は、加熱装置により下地層２１の蒸着材料を入れた反応容器に電子線を照射させる。このように下地層２１の蒸着は電子線蒸着法で行い、電子線のエネルギーにより蒸着材料を加熱して蒸発させることにより下地層２１を形成する。下地層２１の膜形成速度は、一般的な膜形成速度である１０オングストローム／秒程度であればよい。

下地層２１が所望の膜厚に形成された後、制御部は、反射膜２２をフラッシュ蒸着により形成させる。制御部は、加熱装置により電流を印加させて銀が入った反応容器を加熱させ、蒸着材料である銀分子を蒸発させる。この際、加熱装置は、反応容器の温度が２４００〜２５００℃となるように電流・電圧値を調整する。このように蒸着材料の沸点より高い温度に反応容器を加熱することにより、銀分子はそれぞれ高いエネルギーを持って下地層２１に衝突し、安定な状態に再配列されて緻密な反射膜２２が形成される。この際、反射膜２２の膜形成速度は第１保護層２３と第２保護層２４との少なくとも一方の膜形成速度より大きく、好ましくは第１保護層２３と第２保護層２４との少なくとも一方の膜形成速度の７倍以上、より好ましくは１０倍以上とする。制御部は、反射膜２２の膜形成速度を速く保つために、測定部により反射膜２２の蒸着レートを測定させ、蒸着レートの低下が測定された際には反射膜２２の蒸着を停止させることとしても良い。

反射膜２２が所定の膜厚に形成された後、制御部は、第１保護層２３および第２保護層２４の蒸着を順次行わせて真空蒸着を終了する。第１保護層２３および第２保護層２４の蒸着は、下地層２１と同様に電子線蒸着法で行い、１０オングストローム／秒程度の膜形成速度に調整する。

このようにして得られた反射鏡１９は、３５０〜１１００ｎｍでの反射率が９０％以上と高く、かつ４５０ｎｍ以上の波長領域での反射率の変動が３％以内と小さい反射特性を示すことが可能である。このように少なくとも可視光領域において均一で高い反射率を示すので、自然な色合いでかつ明るい反射像が得られる。また、角度特性も良く、光の入射角度に関わらず高い反射率を得ることが可能である。

なお、本実施形態においてはカメラシステム１のミラーペンタ１４（中空ペンタミラー）の反射面に反射鏡１９を用いたが、光を反射する反射部材であれば反射鏡１９を用いることが加納である。

また、光学機器としてカメラシステム１を例に挙げて説明したが、広帯域で高反射率を示しかつ反射特性が均一であるので、顕微鏡の双眼鏡筒の反射ミラーとしても用いることが可能である。その他、双眼鏡などの光学機器や、複写機又はプロジェクタなどのＯＡ機器に用いられる反射鏡としても用いることが可能である。

また、第１保護層２３は、酸化アルミニウムを用いて構成されることとしたが、反射鏡１９の耐久性および耐湿性を向上させることができればよく、適宜変更可能である。第２保護層２４についても、チタン系化合物を用いて構成されることとしたが、反射鏡１９の反射特性を少なくとも可視光領域において均一にしかつ向上させることができるものであればよい。第１保護層２３および第２保護層２４は、その構成に応じて膜形成方法も変更可能であり、電子線蒸着法や抵抗加熱法などの真空蒸着法で形成すればよい。このように、下地層や保護層を変更した場合であっても、反射膜の膜形成速度をその上側に位置する保護層の少なくとも一つの膜形成速度より速くすれば緻密な反射膜が得られ、反射鏡の反射特性を向上させることが可能である。

また、本実施形態においては反射鏡１９を４層構造としたが、各層の密着性や耐性を高めるために図示しない保護層や密着層を備えることとしてもよい。

まず、直径３０ｍｍ、厚み１．０ｍｍの円板状のＢＫ７（光学ガラス）をガラス基板として用意した。ガラス基板は、洗浄してから真空蒸着装置の回転ドームに設置した。真空蒸着装置の反応容器には、反射膜を形成するフラッシュ蒸着の蒸着源として粒状の銀を載置した。また、真空蒸着装置の他の反応容器には、下地層、第１保護層および第２保護層を形成する電子線加熱法の蒸着源として酸化アルミニウムとＯＨ−５（株式会社オプトロン製，酸化チタンと酸化ジルコニウムの混合物，屈折率２．１３）をそれぞれの反応容器に載置した。

次に、真空装置内部を真空ポンプで排気し、所定の真空度（１．３３×１０−３Ｐａ）まで減圧するとともに回転ドームにより基板２０を回転させた。続いて電子線蒸着法を開始し、酸化アルミニウムを１０オングストローム／秒の膜形成速度で蒸着させて２００オングストロームの膜厚の下地層を形成した。次に、抵抗加熱法を開始し、Ａｇを蒸着させて１５００オングストロームの膜厚の反射膜を形成した。この際、反射膜の膜形成速度は７０オングストローム／秒で開始させてから徐々に加速させ、１００オングストローム／秒まで速くした。

さらに、電子線蒸着法により第１保護層として酸化アルミニウムを６００オングストロームの膜厚まで蒸着させた後、第２保護層としてＯＨ−５を７２０オングストロームの膜厚まで蒸着させた。第1保護層および第２保護層の膜形成速度は１０オングストローム／秒とした。

このようにして得られた反射膜の反射率を図４に実線で示す。図４において、横軸は波長（ｎｍ）を表し、縦軸は反射率（％）を表すものとする。図４からわかるように、本実施例に係る反射鏡は、３５０〜１１００ｎｍと広い波長領域でも反射率を９０％以上とすることが可能である。特に、３５０〜４００ｎｍの波長領域の反射率が９０％以上であるので、可視光領域の下限付近で反射率が低下することによる弊害を防止することが可能である。また、４００〜７５０ｎｍの波長領域の反射率を９６％以上、４００〜６５０ｎｍの波長領域の反射率を９７％以上、４５０〜５５０ｎｍの波長領域の反射率を９８％以上とするので、銀を反射膜に用いても可視光領域でより高い反射率を得ることが可能である。さらに、４５０〜７５０ｎｍの波長領域の反射率の変動量が３％以内であるので、反射率の変動により反射像が不自然な色合いになることを防止することが可能である。以上より、本実施例の反射鏡によれば、少なくとも可視光領域において均一で高い反射率を示し、自然な色合いで明るい反射像を得ることが可能である。

また、反射鏡の耐性をみるため、耐候性試験（雰囲気温度５０℃、絶対湿度９０％の恒温恒湿層に６０時間放置）、加熱試験（２００℃のホットプレート上に３０分放置）、煮沸試験（煮沸した純水中に３０分浸漬後アルコール拭き）をそれぞれ行った後に、テープによる膜剥離の有無を検討したところ、すべての試験後において膜剥離はみられなかった。また、上記３つの試験をすべて行った後に反射率を測定した。その結果を図４に点線で示す。図４に示すように、反射率の変化はほとんどみられず、耐候性試験の後でも反射率が低下しないことがわかる。このように、本実施例においては、耐性が高く、膜剥離を防止するとともに反射率の低下を防止することが可能である。

本実施形態の撮像装置の概略構成を示す断面図である。 本実施形態の反射鏡の構成を示す断面図である。 本実施形態の反射鏡の反射率を示す図である。 本実施例の反射鏡の反射率を示す図である。

符号の説明

１ カメラシステム
５ 撮像素子
１４ ミラーペンタ
１９ 反射鏡
２０ 基板
２１ 下地層
２２ 反射膜
２３ 第１保護層
２４ 第２保護層

Claims (14)

1. 基板上に銀を用いた反射膜を形成し、前記反射膜の上に酸化アルミニウムを用いた第１保護層とチタン系化合物を用いた第２保護層とを形成する反射鏡の製造方法において、
   前記反射膜の膜形成速度は、前記第１保護層と前記第２保護層との少なくとも一方の膜形成速度より速いことを特徴とする反射鏡の製造方法。
2. 請求項１に記載の反射鏡の製造方法において、
   前記反射膜の膜形成速度は、前記第１保護層と前記第２保護層との少なくとも一方の膜形成速度の７倍以上であることを特徴とする反射鏡の製造方法。
3. 請求項１又は２に記載の反射鏡の製造方法において、
   前記反射膜の膜形成速度は、前記第１保護層と前記第２保護層との少なくとも一方の膜形成速度の１０倍以上であることを特徴とする反射鏡の製造方法。
4. 請求項１〜３のいずれか一項に記載の反射鏡の製造方法において、
   前記反射膜はフラッシュ蒸着により形成することを特徴とする反射鏡の製造方法。
5. 請求項１〜４のいずれか一項に記載の反射鏡の製造方法において、
   ３５０〜４００ｎｍの波長領域において、最も上側に形成される層に入射する光の反射率が９０％以上であることを特徴とする反射鏡の製造方法。
6. 請求項１〜５のいずれか一項に記載の反射鏡の製造方法において、
   ４５０〜７５０ｎｍの波長領域において、最も上側に形成される層に入射する光の反射率の変動量が３％以内であることを特徴とする反射鏡の製造方法。
7. 請求項１〜６のいずれか一項に記載の反射鏡の製造方法において、
   ４００〜７５０ｎｍの波長領域において、最も上側に形成される層に入射する光の反射率が９６％以上であることを特徴とする反射鏡の製造方法。
8. 請求項１〜７のいずれか一項に記載の反射鏡の製造方法において、
   前記第２保護層の膜厚を５００〜１０００オングストロームとすることを特徴とする反射鏡の製造方法。
9. 請求項１〜８のいずれか一項に記載の反射鏡の製造方法において、
   前記第１保護層と前記第２保護層との膜厚の合計を１０００〜１５００オングストロームとすることを特徴とする反射鏡の製造方法。
10. 請求項１〜９のいずれか一項に記載の反射鏡の製造方法において、
    前記チタン系化合物は、チタン酸化物であることを特徴とする反射鏡の製造方法。
11. 請求項１〜１０のいずれか一項に記載の反射鏡の製造方法において、
    前記チタン系化合物は、二酸化チタンと二酸化ジルコニウムとの混合物であることを特徴とする反射鏡の製造方法。
12. 請求項１〜１１のいずれか一項に記載の反射鏡の製造方法において、
    前記基板と前記反射膜との間に、酸化アルミニウムを用いた下地層を形成することを特徴とする反射鏡の製造方法。
13. 基板上に銀を用いた反射膜を形成し、前記反射膜の上に第１保護層と第２保護層とを形成する反射鏡の製造方法において、
    前記反射膜の膜形成速度は、前記第１保護層と前記第２保護層との少なくとも一方の膜形成速度の７倍以上であることを特徴とする反射鏡の製造方法。
14. 請求項１〜１３のいずれか１項に記載の反射鏡の製造方法により製造された反射鏡を備える光学機器。

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