JP2008159664A - 半導体発光素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】正孔と電子とが再結合することにより発光可能とされた活性層3と、活性層3を挟んで配置されたn型半導体層1およびp型半導体層2と、n型半導体層1に導通するn側電極4と、p型半導体層のうち活性層3とは反対側の表面に設けられており、厚さ方向視においてp型半導体層2よりも小とされているp側電極5と、を備えており、活性層3から少なくともp型半導体層2を透して光を出射する構成とされた半導体発光素子Aであって、p型半導体層2は、活性層3寄りに位置する高屈折率層21と、p側電極5および高屈折率層21によって挟まれており、かつ厚さ方向において平均された屈折率が高屈折率層21の屈折率よりも小さい低屈折率層22とを有している。
【選択図】 図1
Description
1 n型半導体層(第1型半導体層)
2 p型半導体層(第2型半導体層)
3 活性層
4 n側電極(第1電極)
5 p側電極(第2電極)
11 n−GaAs基板
12 n−クラッド層
21 ウインドウ層(高屈折率層)
22 低屈折率層
22A 第1低屈折率層
22B 第2低屈折率層
23 p−クラッド層
Claims (3)
- 正孔と電子とが再結合することにより発光可能とされた活性層と、
上記活性層を挟んで配置された第1型半導体層および第2型半導体層と、
上記第1型半導体層に導通する第1電極と、
上記第2型半導体層のうち上記活性層とは反対側の表面に設けられており、厚さ方向視において上記第2型半導体層よりも小とされている第2電極と、を備えており、
上記活性層から少なくとも上記第2型半導体層を透して光を出射する構成とされた半導体発光素子であって、
上記第2型半導体層は、上記活性層寄りに位置する高屈折率層と、上記第2電極および上記高屈折率層によって挟まれており、かつ厚さ方向において平均された屈折率が上記高屈折率層の屈折率よりも小さい低屈折率層とを有していることを特徴とする、半導体発光素子。 - 上記低屈折率層は、複数の第1低屈折率層と、第1低屈折率層よりも屈折率が大きい複数の第2低屈折率層とが交互に積層されており、
上記高屈折率層には、上記第2低屈折率層が接している、請求項1に記載の半導体発光素子。 - 上記第1低屈折率層は、上記高屈折率層寄りにあるものの厚さの方が、上記第2電極寄りにあるものの厚さよりも小とされており、
上記複数の第2低屈折率層は、上記高屈折率層寄りにあるものの厚さの方が、上記第2電極寄りにあるものの厚さよりも大とされている、請求項2に記載の半導体発光素子。
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