JP2008156704A - 成膜方法および成膜装置 - Google Patents
成膜方法および成膜装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008156704A JP2008156704A JP2006346876A JP2006346876A JP2008156704A JP 2008156704 A JP2008156704 A JP 2008156704A JP 2006346876 A JP2006346876 A JP 2006346876A JP 2006346876 A JP2006346876 A JP 2006346876A JP 2008156704 A JP2008156704 A JP 2008156704A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- powder
- film
- substrate
- film forming
- electrodes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】真空下にされた容器3内にて、表面に薄膜が形成される基板Kを保持する上部電極5と、膜材料である粉体Pが載置される下部電極7との間に高圧の直流電圧を印加して両電極5,7間に静電場を形成し、この静電場にて発生した電界により上記粉体Pを両電極5,7間で往復移動させて当該粉体Pを基板Kの表面に付着させて成膜する方法である。
【選択図】図1
Description
静電塗装による方法は、エアにより運ばれる粉体に、ノズル先端に設けられたコロナ放電電極部を通過する際に帯電させ、その帯電された電荷および吹き付け力によって粉体を被加工物に付着させる方法である(例えば、特許文献1参照)。
この静電場にて発生した電界により上記膜材料である粉体を両電極同士間で往復移動させて当該粉体を基板表面に付着させて成膜する方法である。
また、請求項3に係る成膜方法は、請求項1または2に記載の成膜方法において、表面に導電性材料が設けられた基板を用いる方法である。
また、請求項5に係る成膜方法は、請求項1に記載の成膜方法において、膜材料にカーボンナノチューブを混合させる方法である。
容器内の上部に配置されて基板を保持可能な上部電極および当該容器内の上記下部電極の下方に配置されて粉体を載置可能な下部電極と、これら両電極間に直流電圧を印加する直流電源とを具備し、
且つ成膜を行う際に、
上記両電極間に直流電圧を印加して静電場を形成するとともに、この静電場にて発生した電界により下部電極に載置された粉体にクーロン力を付与して両電極間で粉体を往復移動させることにより、基板の表面に粉体を付着させるようにしたものである。
以下、本発明の実施の形態1に係る成膜装置および成膜方法を、図面に基づき説明する。
この成膜装置は、図1に示すように、真空ポンプ1が空気排出管2を介して接続された容器(真空容器ともいう)3と、この容器3内にその軸心方向が上下方向となるように鉛直に配置されるとともにガラスなどの絶縁材料にて形成された円筒体(筒状体であり、円筒状誘電体とも言える)4と、この円筒体4内の上部に配置されるとともに成膜対象となる基板Kを保持し得る上部電極5と、同じく円筒体4内の下部に配置されるとともに粉末状の成膜材料(膜原料とも言える)である粉体Pを載置し得るように電極保持部材6に保持された下部電極7と、これら両電極5,7間に高圧の直流を印加する直流電源8と、上記円筒体4の外周面に巻き付けられるとともに高周波電源9に接続されて両電極5,7間の空間領域にプラズマを発生させる高周波コイル(内部に冷却水が流される)10とから構成されている。
まず、上部電極5の下面に、表面(下部電極に対向する面)に導電性接着剤(導電性材料の一例で、導電性の合成樹脂などが用いられる)が塗布された基板Kを保持させるとともに、電極保持部材6の環状縁部6a内の下部電極7上に成膜材料である粉体Pを載置した後、各電極5,7に配置されたヒータ11,12を作動させる。
そして、真空ポンプ1にて容器1内を、例えば1Pa程度の真空状態にした後、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガスなどの不活性ガスを供給する。
現在開発されている色素増感太陽電池は、ガラス基板またはプラスチック基板に有機溶剤によりペースト化されたTiO2(粒子径が例えば数十nm程度のもの)などの光触媒を塗布した後、乾燥/焼結工程を経て、成膜が行われている。そして、この触媒に色素を染みこませ、対極との間に電解質となる溶液を入れることで製作されている。
さらに、電解質(電解液でもある)については、これまで電気伝導性の観点からヨウ素系の電解液が良く用いられている。しかしながら、封止部からの液漏れなどを改善するため、ゲルまたは固体の電解質による電池の開発も進められている。
なぜなら、電解質が液体であると触媒の隙間に入り込むことで、電子の授受に対する面積を稼ぐことができるが、固体電解質の場合は貼り合わせた面だけで、電子の授受が行われるため、結果として変換効率が落ちることとなる。
AMI(太陽光が大気を通過する路程の長さ)1.5および100mW/cm2の擬似太陽光でこの電池の性能を測定した結果、短絡電流Jzが13.5mA/cm2、開放電圧VDCが0.55V、FF(曲線因子)が0.7で、変換効率が5.2%であった。
[実施の形態2]
次に、本発明の実施の形態2に係る成膜装置および成膜方法について説明する。
また、上部電極5に保持された基板Kを交換せずに、回転テーブル41だけを回転させて、二つの下部電極7を順次対向させて成膜を行うことにより、種類の異なる粉体(材料)を一つの基板Kの表面に積層することができる。
[実施の形態3]
次に、本発明の実施の形態3に係る成膜装置および成膜方法について説明する。
この成膜がある程度行われると、電極保持部材51を所定方向に移動させて当該一方の基板K1を円筒体4の外側に移動させ、その下方に配置された膜厚計52により、当該基板K1に形成された薄膜の厚さが計測される。
P 粉体
1 真空ポンプ
2 空気排出管
3 容器
4 円筒体
5 上部電極
6 電極保持部材
7 下部電極
8 直流電源
10 高周波コイル
11 ヒータ
12 ヒータ
13 不活性ガス供給管
21 カーボンナノチューブ
31 粒径制御板
41 回転テーブル
51 電極保持部材
52 膜厚計
Claims (9)
- 表面に膜が形成される基板を保持する一方の電極と、膜材料である粉体が載置される他方の電極との間に直流電圧を印加して両電極同士間に静電場を形成し、
この静電場にて発生した電界により上記膜材料である粉体を両電極同士間で往復移動させて当該粉体を基板表面に付着させて成膜することを特徴とする成膜方法。 - 成膜を真空下で行うことを特徴とする請求項1に記載の成膜方法。
- 表面に導電性材料が設けられた基板を用いることを特徴とする請求項1または2に記載の成膜方法。
- 基板表面に設けられる導電性材料としてカーボンナノチューブまたは接着剤を用いることを特徴とする請求項3に記載の成膜方法。
- 膜材料にカーボンナノチューブを混合させることを特徴とする請求項1に記載の成膜方法。
- 両電極同士の空間領域にプラズマを発生させて粉体表面にイオンを付与して活性化させることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の成膜方法。
- 基板の表面に粉体を付着させて成膜する成膜装置であって、
容器内の上部に配置されて基板を保持可能な上部電極および当該容器内の上記下部電極の下方に配置されて粉体を載置可能な下部電極と、これら両電極間に直流電圧を印加する直流電源とを具備し、
且つ成膜を行う際に、
上記両電極間に直流電圧を印加して静電場を形成するとともに、この静電場にて発生した電界により下部電極に載置された粉体にクーロン力を付与して両電極間で粉体を往復移動させることにより、基板の表面に粉体を付着させるようにしたことを特徴とする成膜装置。 - 容器内の少なくとも両電極間の空間領域にプラズマを発生させるプラズマ発生装置を具備したことを特徴とする請求項7に記載の成膜装置。
- 両電極間に、下部電極から基板側に移動する粉体の大きさを制御するための粒径制御板を配置したことを特徴とする、請求項7または8に記載の成膜装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006346876A JP4859656B2 (ja) | 2006-12-25 | 2006-12-25 | 成膜方法および成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006346876A JP4859656B2 (ja) | 2006-12-25 | 2006-12-25 | 成膜方法および成膜装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008156704A true JP2008156704A (ja) | 2008-07-10 |
JP4859656B2 JP4859656B2 (ja) | 2012-01-25 |
Family
ID=39657945
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006346876A Expired - Fee Related JP4859656B2 (ja) | 2006-12-25 | 2006-12-25 | 成膜方法および成膜装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4859656B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05212321A (ja) * | 1992-01-31 | 1993-08-24 | Nkk Corp | 粉体塗装設備 |
JPH08309266A (ja) * | 1995-05-18 | 1996-11-26 | Kazuo Hattori | 薄膜形成方法 |
JP2002266082A (ja) * | 2001-03-07 | 2002-09-18 | Nagoya Industrial Science Research Inst | 無機高誘電率材料と有機材料とからなる複合薄膜、及びその複合薄膜の製造方法 |
JP2004256841A (ja) * | 2003-02-24 | 2004-09-16 | Toshiba Corp | 粒子堆積層形成装置 |
-
2006
- 2006-12-25 JP JP2006346876A patent/JP4859656B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05212321A (ja) * | 1992-01-31 | 1993-08-24 | Nkk Corp | 粉体塗装設備 |
JPH08309266A (ja) * | 1995-05-18 | 1996-11-26 | Kazuo Hattori | 薄膜形成方法 |
JP2002266082A (ja) * | 2001-03-07 | 2002-09-18 | Nagoya Industrial Science Research Inst | 無機高誘電率材料と有機材料とからなる複合薄膜、及びその複合薄膜の製造方法 |
JP2004256841A (ja) * | 2003-02-24 | 2004-09-16 | Toshiba Corp | 粒子堆積層形成装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4859656B2 (ja) | 2012-01-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Areir et al. | 3D printing of highly flexible supercapacitor designed for wearable energy storage | |
Lee et al. | High-energy, flexible micro-supercapacitors by one-step laser fabrication of a self-generated nanoporous metal/oxide electrode | |
Du et al. | Recent advances in printable secondary batteries | |
Li et al. | Constructing in-chip micro-supercapacitors of 3D graphene nanowall/ruthenium oxides electrode through silicon-based microfabrication technique | |
CN113438986B (zh) | 全固体电池的制造方法 | |
CN109873120A (zh) | 无金属集流体、自支撑石墨烯基锂硫电池正极的制备方法 | |
CN103395240B (zh) | 碳纳米复合材料的制备方法以及相应碳纳米复合材料 | |
CN109961881B (zh) | 狭缝涂布式石墨烯透明导电膜基材功能层设置方法 | |
CN104477892A (zh) | 一种鳞片状石墨烯的制备方法和使用该方法制备的鳞片状石墨烯器件 | |
Van Toan et al. | Liquid and solid states on-chip micro-supercapacitors using silicon nanowire-graphene nanowall-pani electrode based on microfabrication technology | |
WO2020145214A1 (ja) | 全固体電池の製造方法 | |
JP2004281221A (ja) | 電極製造装置および方法 | |
CN109961904B (zh) | 刮刀涂布式石墨烯透明导电膜基材功能层设置方法 | |
JP4859656B2 (ja) | 成膜方法および成膜装置 | |
JP2011142028A (ja) | 色素増感太陽電池におけるバッファ層の形成方法 | |
JP4742266B2 (ja) | 半導体粒子積層膜、色素増感太陽電池、電気化学発光素子および電子放出素子の各製造方法 | |
CN109961903B (zh) | 光脉冲熔接式石墨烯材料层设置方法 | |
CN109961877B (zh) | 等离子喷射式石墨烯透明导电膜基材预处理方法 | |
JP4837409B2 (ja) | ナノ粒子製造方法 | |
JP6813824B2 (ja) | 酸化物薄膜形成方法及び酸化物薄膜形成装置 | |
Wu et al. | Boosting the Output of Liquid–Solid Triboelectric Nanogenerator by an External Charge‐Pumping Strategy | |
CN115197452A (zh) | 一种耐高温聚合物电介质薄膜材料及薄膜电容器 | |
KR102393182B1 (ko) | 전하 저장을 위한 다층 박막 구조체 제조 방법, 전하 저장을 위한 다층 박막 구조체 및 이를 적용한 마찰 대전 발전기 소자 | |
CN109954644B (zh) | 常温等离子熔接式石墨烯材料层设置方法 | |
CN106252071A (zh) | 一种高比容量纳米电介质电容器及其制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20080430 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090903 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091007 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110705 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110719 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110905 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111004 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111101 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141111 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |