JP2008139843A - 階層opcのための局所的な色付け - Google Patents
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Abstract
【解決手段】交互位相シフト・マスク、二重露光マスク及び二重露光エッチング・マスクのような色付けを必要とするマスク・レイアウトが、色付けされていない階層設計ユニットに編成される方法であって、各々の階層設計ユニットが局所的に色付けされ、次いで局所的に色付けされた階層設計ユニットに対してOPCが行われる。OPC修正済み設計ユニットについての局所的な色付け情報は廃棄される。OPC修正後に、色付けされていないOPC修正済み設計ユニットがマスク・レイアウト内に配置され、フラット化されたデータが色付けされる。フラット化されたデータに対してOPCを行う必要性が回避される一方、フラット化されたデータに対してはあまり強力ではない全体的な色付けが行われるため、マスク設計のための納期が著しく短縮される。
【選択図】図1
Description
色付けされることになる色付けされていない形状を含む階層設計ユニットの複数のインスタンスの配置を含む設計レイアウトを提供するステップと、
階層設計ユニット内の色付けされていない形状を局所的に色付けして、局所的に色付けされた設計ユニットを形成するステップと、
局所的に色付けされた設計ユニットに対して光近接効果補正(OPC)を行って、OPC修正済み設計ユニットを形成するステップと、
OPC修正済み設計ユニットの局所的な色付けを廃棄して、色付けされていないOPC修正済み階層設計ユニットを形成するステップと、
色付けされていないOPC修正済み階層設計ユニットを配置して、当該配置に従って修正済み設計レイアウトを形成するステップと、
修正済み設計レイアウトを全体的に色付けするステップと、
を含む方法を対象とする本発明において達成される。
Claims (14)
- マスクを設計するための方法であって、
色付けされることになる色付けされていない形状を含む階層設計ユニットの複数のインスタンスの配置を含む設計レイアウトを提供するステップと、
前記階層設計ユニット内の前記色付けされていない形状を局所的に色付けして、局所的に色付けされた設計ユニットを形成するステップと、
前記局所的に色付けされた設計ユニットに対して光近接効果補正(OPC)を行って、OPC修正済み設計ユニットを形成するステップと、
前記OPC修正済み設計ユニットの前記局所的な色付けを廃棄して、色付けされていないOPC修正済み階層設計ユニットを形成するステップと、
前記色付けされていないOPC修正済み階層設計ユニットを配置して、当該配置に従って修正済み設計レイアウトを形成するステップと、
前記修正済み設計レイアウトを全体的に色付けするステップと、
を含む方法。 - 局所的に色付けする前記ステップの前に前記設計レイアウトを全体的に色付けして全体色付け情報を形成し、前記全体色付け情報に従って前記修正済み設計レイアウトを全体的に色付けする前記ステップを実行することをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 局所的に色付けする前記ステップの前に、前記設計レイアウトがクリーンな色付けソリューションを有することを検証するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記設計レイアウトは、交互位相シフト・マスク設計、二重露光マスク設計、及び二重露光エッチング・マスク設計からなる群から選択される、請求項1に記載の方法。
- 前記設計レイアウトは交互位相シフト・マスク設計を含み、前記階層設計ユニットは、クリティカル・フィーチャと、前記クリティカル・フィーチャの両側に配置された色付けされていない位相形状の対とを含む、請求項1に記載の方法。
- OPCによって修正される形状を含むOPCサブ処理ユニットを形成するステップをさらに含み、前記サブ処理ユニットは、OPCによって修正される前記形状を囲む境界の外側の光学的影響領域をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- OPCを行う前記ステップの後で前記光学的影響領域を廃棄するステップをさらに含む、請求項6に記載の方法。
- マスクを設計するためにコンピュータに、
色付けされることになる色付けされていない形状を含む階層設計ユニットの複数のインスタンスの配置を含む設計レイアウトを提供するステップと、
前記階層設計ユニット内の前記色付けされていない形状を局所的に色付けして、局所的に色付けされた設計ユニットを形成するステップと、
前記局所的に色付けされた設計ユニットに対して光近接効果補正(OPC)を行って、OPC修正済み設計ユニットを形成するステップと、
前記OPC修正済み設計ユニットの前記局所的な色付けを廃棄して、色付けされていないOPC修正済み階層設計ユニットを形成するステップと、
前記色付けされていないOPC修正済み階層設計ユニットを配置して、当該配置に従って修正済み設計レイアウトを形成するステップと、
前記修正済み設計レイアウトを全体的に色付けするステップと、
を実行させるコンピュータ・プログラム。 - 集積回路を製造するための方法であって、
色付けされることになる色付けされていない形状を含む階層設計ユニットの複数のインスタンスの配置を含む設計レイアウトを提供するステップと、
前記階層設計ユニット内の前記色付けされていない形状を局所的に色付けして、局所的に色付けされた設計ユニットを形成するステップと、
前記局所的に色付けされた設計ユニットに対して光近接効果補正(OPC)を行って、OPC修正済み設計ユニットを形成するステップと、
前記OPC修正済み設計ユニットの前記局所的な色付けを廃棄して、色付けされていないOPC修正済み階層設計ユニットを形成するステップと、
前記色付けされていないOPC修正済み階層設計ユニットを配置して、当該配置に従って修正済み設計レイアウトを形成するステップと、
前記修正済み設計レイアウトを全体的に色付けするステップと、
前記修正済み設計レイアウトを含むマスクを製造するステップと、
前記マスクを用いて基板をパターン形成するステップと、
を含む方法。 - 局所的に色付けする前記ステップの前に前記設計レイアウトを全体的に色付けして全体色付け情報を形成し、前記全体色付け情報に従って前記修正済み設計レイアウトを全体的に色付けする前記ステップを実行することをさらに含む、請求項9に記載の方法。
- 局所的に色付けする前記ステップの前に、前記設計レイアウトがクリーンな色付けソリューションを有することを検証するステップをさらに含む、請求項9に記載の方法。
- 色付けされることになる色付けされていない形状を含む階層設計ユニットの複数のインスタンスの配置を含む設計レイアウトを提供するステップと、
前記階層設計ユニット内の前記色付けされていない形状を局所的に色付けして、局所的に色付けされた設計ユニットを形成するステップと、
前記局所的に色付けされた設計ユニットに対して光近接効果補正(OPC)を行って、OPC修正済み設計ユニットを形成するステップと、
前記OPC修正済み設計ユニットの前記局所的な色付けを廃棄して、色付けされていないOPC修正済み階層設計ユニットを形成するステップと、
前記色付けされていないOPC修正済み階層設計ユニットを配置して、当該配置に従って修正済み設計レイアウトを形成するステップと、
前記修正済み設計レイアウトを全体的に色付けするステップと、
前記修正済み設計レイアウトを含むマスクを製造するステップと、
前記マスクを用いて基板をパターン形成するステップと、
を含む方法によって製造された集積回路を含む製品。 - 前記方法は、局所的に色付けする前記ステップの前に前記設計レイアウトを全体的に色付けして全体色付け情報を形成し、前記全体色付け情報に従って前記修正済み設計レイアウトを全体的に色付けする前記ステップを実行することをさらに含む、請求項12に記載の製品。
- 前記方法は、局所的に色付けする前記ステップの前に、前記設計レイアウトがクリーンな色付けソリューションを有することを検証するステップをさらに含む、請求項12に記載の製品。
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