JP2008139531A - 有機系の反射防止層形成用組成物の製造方法および有機系の反射防止層を有する製品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】基材あるいは下地層にクラックが形成されるのを抑制しつつ、基材の上、又はこの基材表面に形成された少なくとも1層の下地層の上に有機系の反射防止層を形成できる、有機系の反射防止層形成用組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】この有機系の反射防止層形成用組成物の製造方法は、反射防止層形成用混合物を調合する工程と、調合された反射防止層形成用混合物を希釈および攪拌して調製する工程と、攪拌終了後、調製された反射防止層形成用混合物を熟成させる工程とを有する。熟成させる工程は、調製する工程後の反射防止層形成用混合物を、20℃〜40℃の温度下で24時間〜168時間保持する工程を含む。
【選択図】図4
【解決手段】この有機系の反射防止層形成用組成物の製造方法は、反射防止層形成用混合物を調合する工程と、調合された反射防止層形成用混合物を希釈および攪拌して調製する工程と、攪拌終了後、調製された反射防止層形成用混合物を熟成させる工程とを有する。熟成させる工程は、調製する工程後の反射防止層形成用混合物を、20℃〜40℃の温度下で24時間〜168時間保持する工程を含む。
【選択図】図4
Description
本発明は、光学レンズ、眼鏡レンズ、あるいは記録媒体などといった、反射防止層を有する製品の製造方法、および、反射防止層を形成するための反射防止層形成用組成物の製造方法に関するものである。
コーティングは、基材などの被塗布物を保護し、被塗布物に外観性能を与える方法として、また、被塗布物に高機能をもたらし、高付加価値を与える方法として、様々な産業分野に用いられている。光学関連分野、例えば、プラスチック眼鏡レンズの分野においては、レンズ生地(レンズ基材)の表面に、プライマー加工、ハードコート加工、反射防止加工、防汚加工等のコーティング加工を施し、性能・機能の向上を図ることが一般に行われている。
また、プラスチック眼鏡レンズにおいては、表面反射が生じると、光の透過率を低下させ、結像に寄与する光の減少をもたらし、像のコントラストを低下させる。このため、反射防止加工を施すことは重要であり、このようにすることにより、装用者に良好な視界を与える製品を提供できる。
反射防止層としては、多層の無機層からなるものが知られており、主として、真空蒸着法により形成されている。これに対し、最近では、反射防止機能を有する有機系の硬化性液体(以下、反射防止層形成用組成物という)を用いた、有機系の反射防止層が検討されている。
有機系の反射防止層の製造方法としては、レンズ生地に対して直にまたはプライマー層を介して形成されたハードコート層の上に、有機系の反射防止層形成用組成物を塗布し、その後、硬化させるのが一般的である。反射防止層形成用組成物の塗布方式としては、主として、浸漬方式やスピンコーティング方式が用いられる。
特許文献1には、透明基材上に、湿式法により、シリカ系微粒子と有機ケイ素化合物とからなる反射防止層を形成した光学物品が開示されている。
特開2005−43572号公報
有機系の反射防止層形成用組成物は、時間とともに縮合反応が進んでしまう。このため、反射防止層を形成する際には、従来、反射防止層形成用組成物として、調製後(反射防止層形成用混合物の希釈および攪拌後)5時間放置したものを使用している。しかしながら、これでは、反射防止層形成用組成物を硬化させる際、ハードコート層、プライマー層、あるいはレンズ生地(レンズ基材)に、クラックと呼ばれる亀裂が生じることがわかってきている。したがって、このようなクラックの低減が求められている。
本発明の一態様は、有機系の反射防止層形成用組成物の製造方法である。この有機系の反射防止層形成用組成物の製造方法は、反射防止層形成用混合物を調合する工程と、調合された反射防止層形成用混合物を希釈および攪拌して調製する工程と、攪拌終了後(調製終了後)、調製された反射防止層形成用混合物を熟成させる工程とを有する。熟成させる
工程は、調製する工程後の反射防止層形成用混合物(希釈および攪拌された反射防止層形成用混合物)を、20℃〜40℃の温度下で24時間〜168時間保持する工程を含む。
工程は、調製する工程後の反射防止層形成用混合物(希釈および攪拌された反射防止層形成用混合物)を、20℃〜40℃の温度下で24時間〜168時間保持する工程を含む。
有機系の反射防止層形成用組成物は、時間とともに縮合反応が進む。このため、従来、有機系の反射防止層形成用組成物は、調製後、5時間放置し、その後は、比較的短時間で使い切ってしまうことが好ましいと考えられていた。これに対し、本願発明者らは、クラックの原因は、反射防止層形成用組成物として、5時間といった比較的短時間しか放置していない反射防止層形成用組成物を使用するために起こることを見出した。
すなわち、調合された反射防止層形成用混合物を希釈および攪拌して調製後、5時間程度しか放置せずに反射防止層形成用組成物として使用すると、反射防止層形成用組成物に未反応の加水分解性縮合基が多く存在し過ぎ、反射防止層形成用組成物を硬化させる際、縮合が急速に進行する。その結果、反射防止層が体積収縮し、その応力によって、下地層(ハードコート層および/またはプライマー層など)あるいは基材(生地)に、クラックを生じさせてしまうことがわかった。
この有機系の反射防止層形成用組成物の製造方法によれば、調製する工程後の反射防止層形成用混合物(希釈および攪拌された反射防止層形成用混合物)を、20℃〜40℃の温度下で24時間〜168時間保持するため、成分中において反応が促進される。したがって、あらかじめ、未反応の加水分解性縮合基をある程度減少させておくことができる。このため、反射防止層を形成するための熱硬化の際の反射防止層形成用組成物の体積収縮を抑えることができる。
また、調製後、20℃〜40℃の温度下で24時間〜168時間保持(熟成)させても、縮合反応が進み過ぎることはなく、分子鎖もそれほどは長鎖化しない。したがって、調製後、20℃〜40℃の温度下で24時間〜168時間保持した反射防止層形成用組成物を用いて形成された有機系の反射防止層は、耐擦傷性が良好である。
したがって、この製造方法を用いて製造した有機系の反射防止層形成用組成物を用いることにより、基材あるいは下地層(ハードコート層および/またはプライマー層など)にクラックが発生することを抑制しつつ、基材の上、又はこの基材表面に形成された少なくとも1層の下地層の上に、有機系の反射防止層を形成することができる。また、この製造方法を用いて製造した有機系の反射防止層形成用組成物を用いることにより、耐擦傷性が良好な有機系の反射防止層を得ることができる。しかも、反射防止層形成用組成物は、調製後、24時間〜168時間の間においては、いつでも使用することができる。したがって、使い勝手がよい。
本発明の他の態様は、有機系の反射防止層を有する製品の製造方法である。この有機系の反射防止層を有する製品の製造方法は、製品の基材又はこの基材表面に形成された少なくとも1層の下地層の上に、反射防止層形成用組成物を塗布する工程を有し、反射防止層形成用組成物は、反射防止層形成用混合物を希釈および攪拌して調製後、20℃〜40℃の温度下で24時間〜168時間熟成させたものである。
この有機系の反射防止層を有する製品の製造方法によれば、調製後、20℃〜40℃の温度下で24時間〜168時間熟成させるため、成分中において反応が促進され、あらかじめ、未反応の加水分解性縮合基をある程度減少させておくことができる。このため、熱硬化の際の反射防止層形成用組成物の体積収縮を抑えることができる。したがって、体積収縮によって発生する下地層(ハードコート層および/またはプライマー層など)あるいは基材への応力が弱まり、クラックの発生を抑制することができる。また、調製後、20℃〜40℃の温度下で24時間〜168時間熟成させても、縮合反応が進み過ぎることは
なく、分子鎖もそれほどは長鎖化しない。したがって、この製造方法を用いて製造した有機系の反射防止層は、耐擦傷性も良好である。
なく、分子鎖もそれほどは長鎖化しない。したがって、この製造方法を用いて製造した有機系の反射防止層は、耐擦傷性も良好である。
この有機系の反射防止層を有する製品の製造方法において、反射防止層形成用組成物の調整後とは、反射防止層形成用混合物の希釈および攪拌後のことをさしている。すなわち、反射防止層形成用組成物とは、反射防止層形成用混合物を希釈および攪拌し、20℃〜40℃の温度下で24時間〜168時間熟成させたものをさしている。
したがって、本発明のさらに他の態様は、有機系の反射防止層を有する製品の製造方法であって、調合された反射防止層形成用混合物を希釈および攪拌して調製し、その後、調製された反射防止層形成用混合物を、20℃〜40℃の温度下で24時間〜168時間熟成させ、反射防止層形成用組成物とする工程と、製品の基材又はこの基材表面に形成された少なくとも1層の下地層の上に、反射防止層形成用組成物を塗布する工程とを有する。
この有機系の反射防止層を有する製品の製造方法によれば、予め、有機系の反射防止層形成用組成物を熟成させ、成分中における反応を促進し、未反応の加水分解性縮合基をある程度減少させているので、体積収縮によって発生する下地層(ハードコート層および/またはプライマー層など)あるいは基材のクラックを抑制することができる。また、このように形成された有機系の反射防止層は、分子鎖もそれほどは長鎖化していないため、耐擦傷性も良好である。
これら有機系の反射防止層を有する製品の製造方法において、有機系の反射防止層とは、基材の上又はこの基材表面に形成された少なくとも1層の下地層の上に形成された、基材又は下地層よりも低屈折率の有機層であって、基材又は下地層に対する屈折率差が少なくとも0.1である有機層を示す。
なお、保持する温度(熟成温度)が20℃未満の場合は、熟成が進行しにくく、適当な熟成を得ることが難しい。また、保持する時間(熟成時間)が24時間未満の場合、未熟成となる。これら熟成が不足している状況であると、反射防止層形成用組成物中に未反応の加水分解性縮合基が多く残る。このため、反射防止層形成用組成物を硬化させる際、縮合は急速に進行し、結果、体積収縮をもたらし、その応力によって、下地層(ハードコート層および/またはプライマー層など)あるいは基材にクラックを発生させてしまう。
一方、保持する温度(熟成温度)が40℃を超える場合または保持する時間(熟成時間)が168時間を超える場合、縮合反応が進みすぎ、分子鎖が長鎖化する。このため、分子内の隙間が大きくなり、反射防止層の緻密さが低下する。その結果、耐擦傷性等の耐久性が低下する。また、反射防止層形成用組成物中の未反応の加水分解性縮合基が少なくなり過ぎ、下地層と反射防止層との間の密着性の低下を生じさせるおそれがある。
また、本願発明者らは、20℃〜40℃の温度下で24時間〜168時間熟成させた反射防止層形成用組成物を10℃以下の雰囲気に保存しておけば、縮合反応が進むのを抑制できることを見出した。したがって、上記の有機系の反射防止層形成用組成物の製造方法により製造された反射防止層形成用組成物は、製造後、10℃以下の雰囲気に保存しておくことができる。また、これら有機系の反射防止層を有する製品の製造方法によれば、20℃〜40℃の温度下で24時間〜168時間熟成させた反射防止層形成用組成物を10℃以下の雰囲気に保存してもよい。
上述した反射防止層形成用組成物の製造方法および有機系の反射防止層を有する製品の製造方法においては、反射防止層形成用組成物を形成するために、反射防止層形成用混合物を溶剤で希釈している。希釈用の溶剤としては、たとえば、水、アルコール類、エステ
ル類、ケトン類、エーテル類、芳香族類等の溶剤が挙げられる。
ル類、ケトン類、エーテル類、芳香族類等の溶剤が挙げられる。
また、上述した反射防止層形成用組成物の製造方法においては、反射防止層形成用混合物は、有機ケイ素化合物およびシリカ系微粒子を含有することが好ましい。上述した有機系の反射防止層を有する製品の製造方法においては、反射防止層形成用組成物は、有機ケイ素化合物およびシリカ系微粒子を含有することが好ましい。
有機ケイ素化合物の一例としては、以下の(1)式で表されるものを挙げることができる。
(1)R1 mR2 nSiX1 4-n-m
ただし、上記の一般式(1)中、R1は、重合可能な反応基を有する有機基、R2は、炭素数1〜6の炭化水素基、X1は、加水分解性基であり、mおよびnは、少なくとも一方は
1であり、他方は0または1である。
(1)R1 mR2 nSiX1 4-n-m
ただし、上記の一般式(1)中、R1は、重合可能な反応基を有する有機基、R2は、炭素数1〜6の炭化水素基、X1は、加水分解性基であり、mおよびnは、少なくとも一方は
1であり、他方は0または1である。
上記一般式(1)で表される式中、R1は、重合可能な反応基を有する有機基であり、
例えば、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基、エポキシ基、メルカプト基、シアノ基、アミノ基等が挙げられる。上記一般式(1)で表される式中、R2は、炭素数
1〜6の炭化水素基であり、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ビニル基、フェニル基等が挙げられる。上記一般式(1)で表される式中、X1は、加水分解可能な官能基
であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキシ基、クロロ基、ブロモ基等のハロゲン基、アシルオキシ基等が挙げられる。
例えば、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基、エポキシ基、メルカプト基、シアノ基、アミノ基等が挙げられる。上記一般式(1)で表される式中、R2は、炭素数
1〜6の炭化水素基であり、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ビニル基、フェニル基等が挙げられる。上記一般式(1)で表される式中、X1は、加水分解可能な官能基
であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキシ基、クロロ基、ブロモ基等のハロゲン基、アシルオキシ基等が挙げられる。
上記一般式(1)で表される成分(有機ケイ素化合物)の具体的な例としては、テトラメトキシシラン、ビニルトリアルコキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリ(β−メトキシ−エトシキ)シラン、アリルトリアルコキシシラン、アクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルジアルコキシメチルシラン、γ−グリシドオキシプロピルトリアルコキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)−エチルトリアルコキシシラン、メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジアルコキシシラン、テトラアルコキシシラン等が挙げられる。
シリカ系微粒子の一例としては、平均粒径1nm〜100nmの微粒子のシリカを、例えば、水、アルコール系溶剤、もしくはその他の有機溶剤にコロイド状に分散させたシリカゾルを挙げることができる。
シリカ系微粒子は、内部空洞(隙間)を有するものが望ましい。内部空洞を有するシリカ系微粒子を用いることによって、反射防止層の屈折率を低下させることができる。また、有機系の反射防止層を有する製品が下地層としてハードコート層を有する場合、このハードコート層との屈折率の差を大きくして、反射防止効果を高めることができる。シリカ系微粒子の内部空洞内にシリカよりも屈折率が低い気体または溶剤が包含される場合、空洞のないシリカ系微粒子よりも屈折率が低減し、被膜の低屈折率化が達成される。
反射防止層形成用組成物および反射防止層形成用混合物は、有機ケイ素化合物およびシリカ系微粒子の他に、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂等の各種樹脂や、これらの樹脂原料となるメタアクリレート類、アクリレート類、エポキシ類、ビニル類等の各種モノマーを含んでいてもよい。これらの添加により、下地層との密着性の向上、耐擦傷性の向上がはかれる。
また、反射防止層形成用組成物および反射防止層形成用混合物としては、有機ケイ素化合物およびシリカ系微粒子とともに、さらに、フッ素含有の有機ケイ素化合物を含んでいるものを用いることができる。
屈折率を低減する機能を有するものとしては、フッ素含有の各種ポリマー、またはフッ素含有の各種モノマーが挙げられる。したがって、反射防止層形成用組成物および反射防止層形成用混合物は、フッ素含有の各種ポリマー、またはフッ素含有の各種モノマーを含んでいてもよい。フッ素含有ポリマーは、フッ素含有ビニルモノマーを重合して得られるポリマーが好ましい。また、フッ素含有ポリマーは、さらに他の成分と共重合可能な官能基を有するものが好ましい。
さらに、反射防止層形成用組成物および反射防止層形成用混合物としては、必要に応じて、少量の硬化触媒、界面活性剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、ヒンダートアミン・ヒンダートフェノール等の光安定剤、分散染料・油溶染料・蛍光染料・顔料等を添加し、コーティング液としての塗布性の向上や、硬化後の被膜性能を改良することもできる。
以下では、有機系の反射防止層を有する製品の製造方法を、プラスチック眼鏡レンズ(光学製品)を製品として製造する方法を例に説明する。
図1(a)および(b)は、プラスチック眼鏡レンズ6の構造例を断面図により示している。図1(a)において、符号5はプラスチックからなるレンズ基材(レンズ生地)、符号1はプライマー層、符号2はハードコート層、符号3は有機系反射防止層、符号4は防汚層を示している。なお、プライマー層1はレンズ基材5とハードコート層2との密着性を高める必要がある場合や、レンズ6に耐衝撃性を付与する場合に形成する。必要がなければ、プライマー層1は、図1(b)に示すように、省略してもよい。以下の実施例および比較例においては、レンズ基材5上に、プライマー層1、ハードコート層2、反射防止層3、および防汚層4が形成された眼鏡レンズ6(図1(a)参照)を例にとって説明する。
[実施例1]
以下、図2のフローチャートを参照して、レンズ基材5の上に、プライマー層1、ハードコート層2、反射防止層3、および防汚層4が順番に形成された、プラスチック眼鏡レンズ6の製造方法を説明する。まず、レンズ6の製造に用いられるプライマー層形成用組成物、ハードコート層形成用組成物および反射防止層形成用組成物を製造する。
以下、図2のフローチャートを参照して、レンズ基材5の上に、プライマー層1、ハードコート層2、反射防止層3、および防汚層4が順番に形成された、プラスチック眼鏡レンズ6の製造方法を説明する。まず、レンズ6の製造に用いられるプライマー層形成用組成物、ハードコート層形成用組成物および反射防止層形成用組成物を製造する。
(プライマー層形成用組成物の製造)
ステンレス製容器内に、メチルアルコール3700重量部、水250重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル1000重量部を投入し、十分に攪拌した後、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素を主体とする複合微粒子ゾル(アナターゼ型結晶構造、メタノール分散、全固形分濃度20重量%、触媒化成工業(株)製、商品名オプトレイク1120Z U―25、A8)2800重量部を加え、攪拌混合した。次いで、これに
ポリウレタン樹脂2200重量部を加えて攪拌混合した後、さらにシリコーン系界面活性剤(東レ・ダウコーニング(株)製、商品名L−7604)2重量部を加えて、一昼夜攪拌を続けた後、2μmのフィルターでろ過を行い、プライマー層形成用組成物を得た。
ステンレス製容器内に、メチルアルコール3700重量部、水250重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル1000重量部を投入し、十分に攪拌した後、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素を主体とする複合微粒子ゾル(アナターゼ型結晶構造、メタノール分散、全固形分濃度20重量%、触媒化成工業(株)製、商品名オプトレイク1120Z U―25、A8)2800重量部を加え、攪拌混合した。次いで、これに
ポリウレタン樹脂2200重量部を加えて攪拌混合した後、さらにシリコーン系界面活性剤(東レ・ダウコーニング(株)製、商品名L−7604)2重量部を加えて、一昼夜攪拌を続けた後、2μmのフィルターでろ過を行い、プライマー層形成用組成物を得た。
(ハードコート層形成用組成物の製造)
ステンレス製容器内に、ブチルセロソルブ1000重量部を取り、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン1200重量部を加えて十分攪拌した後、0.1モル/リット
ル塩酸300重量部を添加して、一昼夜攪拌を続け、シラン加水分解物を得た。このシラン加水分解物中に、シリコーン系界面活性剤(東レ・ダウコーニング(株)製、商品名L−7001)30重量部を加えて1時間攪拌した後、酸化チタン、酸化スズ、酸化ケイ素を主体とする複合微粒子ゾル(ルチル型結晶構造、メタノール分散、触媒化成工業(株)製、商品名オプトレイク1120Z 8RU―25、A17)7300重量部を加え、2
時間攪拌混合した。次いで、これにエポキシ樹脂(ナガセケムテックス(株)製、商品名デナコールEX−313)250重量部を加えて2時間攪拌した後、鉄(III)アセチル
アセトナート20重量部を加えて1時間攪拌し、2μmのフィルターでろ過を行い、ハードコート層形成用組成物を得た。
ステンレス製容器内に、ブチルセロソルブ1000重量部を取り、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン1200重量部を加えて十分攪拌した後、0.1モル/リット
ル塩酸300重量部を添加して、一昼夜攪拌を続け、シラン加水分解物を得た。このシラン加水分解物中に、シリコーン系界面活性剤(東レ・ダウコーニング(株)製、商品名L−7001)30重量部を加えて1時間攪拌した後、酸化チタン、酸化スズ、酸化ケイ素を主体とする複合微粒子ゾル(ルチル型結晶構造、メタノール分散、触媒化成工業(株)製、商品名オプトレイク1120Z 8RU―25、A17)7300重量部を加え、2
時間攪拌混合した。次いで、これにエポキシ樹脂(ナガセケムテックス(株)製、商品名デナコールEX−313)250重量部を加えて2時間攪拌した後、鉄(III)アセチル
アセトナート20重量部を加えて1時間攪拌し、2μmのフィルターでろ過を行い、ハードコート層形成用組成物を得た。
(反射防止層形成用組成物の製造)
ステンレス製容器内に、下記式(A)に示すシラン化合物47.8重量部(0.08モル)を取り、メタノール312.4重量部を加え、さらにエポキシ基含有有機化合物としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン4.7重量部(0.02モル)、さらに0.1N(0.1モル/L)の塩酸水溶液36重量部を加え、これをよく混合し、混合液を得た。この混合液を25℃の恒温槽で2時間攪拌して固形分10重量%のシリコーンレジンを得た。
(CH3O)3Si−C2H4−C6F12−C2H4−Si(OCH3)3 (A)
ステンレス製容器内に、下記式(A)に示すシラン化合物47.8重量部(0.08モル)を取り、メタノール312.4重量部を加え、さらにエポキシ基含有有機化合物としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン4.7重量部(0.02モル)、さらに0.1N(0.1モル/L)の塩酸水溶液36重量部を加え、これをよく混合し、混合液を得た。この混合液を25℃の恒温槽で2時間攪拌して固形分10重量%のシリコーンレジンを得た。
(CH3O)3Si−C2H4−C6F12−C2H4−Si(OCH3)3 (A)
このシリコーンレジンと、中空シリカ−イソプロパノール分散ゾル(触媒化成工業(株)製、固形分濃度20重量%、平均一次粒子径35nm、外殻厚み8nm)とを、シリコーンレジン/中空シリカが、固形分比70/30となるように配合し、反射防止層形成用混合物を調合した。
調合した反射防止層形成用混合物に、プロピレングリコールモノメチルエーテル935部を加えて希釈した後、攪拌した。この攪拌を停止させた時点を調製が終了した点とする。
調製後、調製された反射防止層形成用混合物を、20℃の大気雰囲気下、密閉容器中で24時間熟成した。これにより、熟成終了時点で固形分が3重量%である反射防止層形成用組成物を得た。
これらのプライマー層形成用組成物、ハードコート層形成用組成物および反射防止層形成用組成物を用い、図2に示した工程21〜27に沿って製品を製造する。
(プライマー層、ハードコート層の形成(図2中の工程21〜24))
レンズ基材5として、チオウレタン系プラスチックレンズ基材(セイコーエプソン(株)製、商品名セイコースーパーソブリン生地、屈折率1.67)を準備した。そして、準備したレンズ基材5をアルカリ処理(50℃に保たれた2.0規定水酸化カリウム水溶液に5分間浸漬した後に純水洗浄を行い、次いで25℃に保たれた0.5規定硫酸に1分間浸漬して中和する)し、純水洗浄及び乾燥、放冷を行った。そして、上記で用意したプライマー層形成用組成物中に浸漬し、引き上げ速度30cm/min.で引き上げた(工程21)。その後、80℃で20分焼成し、レンズ基材5表面にプライマー層1を形成した(工程22)。
レンズ基材5として、チオウレタン系プラスチックレンズ基材(セイコーエプソン(株)製、商品名セイコースーパーソブリン生地、屈折率1.67)を準備した。そして、準備したレンズ基材5をアルカリ処理(50℃に保たれた2.0規定水酸化カリウム水溶液に5分間浸漬した後に純水洗浄を行い、次いで25℃に保たれた0.5規定硫酸に1分間浸漬して中和する)し、純水洗浄及び乾燥、放冷を行った。そして、上記で用意したプライマー層形成用組成物中に浸漬し、引き上げ速度30cm/min.で引き上げた(工程21)。その後、80℃で20分焼成し、レンズ基材5表面にプライマー層1を形成した(工程22)。
プライマー層1が形成されたレンズ基材5を、上記で用意したハードコート層形成用組成物中に浸漬し、引き上げ速度30cm/min.で引き上げた(工程23)。その後、80℃で30分焼成し、プライマー層1上にハードコート層2を形成した(工程24)。その後、さらに、125℃に設定したオーブン内で3時間加熱して、レンズ基材5上のプライマー層1とハードコート層2とが形成されたプラスチックレンズ(以下、ワークとい
う)10を得た。形成されたプライマー層1の膜厚は0.5μm、ハードコート層2の膜厚は2.5μmであった。
う)10を得た。形成されたプライマー層1の膜厚は0.5μm、ハードコート層2の膜厚は2.5μmであった。
(反射防止層の形成(図2中の工程25〜26))
図3は、スピンコート装置の断面図である。図3に示すような装置を用いて、ワーク10に反射防止層形成用組成物のコーティングを行った。
図3は、スピンコート装置の断面図である。図3に示すような装置を用いて、ワーク10に反射防止層形成用組成物のコーティングを行った。
保持具13は、回転軸Lを中心に回転する回転支持体(図示せず)と、回転支持体に支持されたホルダー11と、ホルダー11に取り付けられた吸着パッド12とを有しており、回転軸Lを中心に、矢印の方向又は矢印とは反対方向に回転する構造になっている。保持具13に保持されたワーク10の上部には、反射防止層形成用組成物をワーク10に対して吐出するための吐出ノズル14が設けられている。また、図示していないが、保持具13に保持されたワーク10の上部には、水をワーク10に対して吐出するための吐出ノズルが設けられている。
吸着パッド12の材質としては、ニトリルゴム、フッ素ゴム、クロロプレンゴム等の各種ゴム素材が適しているが、ワーク10の形状に追従し、密着するものであれば、これらに限られるものではない。
予めプラズマ処理(大気プラズマ)したワーク10を、凹面を上にして保持具13にセットし、吸着パッド12に吸引により吸着させた。次にワーク10を低速で回転させ、上側水吐出ノズルより水を吐出し、高速で回転、水を振り切ってワーク10を清浄化した。次に、低速で回転させながら上側反射防止層形成用組成物吐出ノズル14より、上記で用意した反射防止層形成用組成物を吐出し、続けて高速で回転させて、余分な反射防止層形成用組成物を振り切った。その後、100℃で10分間、乾燥・焼成した。
ワーク10の凸面側に対しても同様の方法で反射防止層形成用組成物を塗布した後、100℃で90分間乾燥・焼成することで、ワーク10の両面に反射防止層3を形成した。形成された反射防止層3の膜厚は100nmであった。
(防汚層の形成(図2中の工程27))
反射防止層3が形成されたワーク10に防汚層4を成膜した。防汚層形成用処理液としては、含フッ素シラン化合物(信越化学工業(株)製、商品名「KY−130」及び「KP−801」)を、KY−130/KP−801が80/20の割合となるように調合し、パーフルオロヘキサンに希釈して、0.3%溶液に調製したものを用いた。この処理液を用い、反射防止層3上に、蒸着方式で防汚層4を成膜した。
反射防止層3が形成されたワーク10に防汚層4を成膜した。防汚層形成用処理液としては、含フッ素シラン化合物(信越化学工業(株)製、商品名「KY−130」及び「KP−801」)を、KY−130/KP−801が80/20の割合となるように調合し、パーフルオロヘキサンに希釈して、0.3%溶液に調製したものを用いた。この処理液を用い、反射防止層3上に、蒸着方式で防汚層4を成膜した。
[実施例2]
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で20℃、168時間熟成したものを用いた。それ以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で20℃、168時間熟成したものを用いた。それ以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
[実施例3]
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で30℃、96時間熟成したものを用いた。それ以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で30℃、96時間熟成したものを用いた。それ以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
[実施例4]
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で40℃、24時間熟成したものを用いた。それ以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製
造した。
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で40℃、24時間熟成したものを用いた。それ以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製
造した。
[実施例5]
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で40℃、168時間熟成したものを用いた。それ以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で40℃、168時間熟成したものを用いた。それ以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
[比較例1]
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で20℃、5時間熟成したものを用いた。それ以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で20℃、5時間熟成したものを用いた。それ以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
[比較例2]
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で20℃、20時間熟成したものを用いた。それ以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で20℃、20時間熟成したものを用いた。それ以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
[比較例3]
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で10℃、24時間熟成したものを用いた。それ以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で10℃、24時間熟成したものを用いた。それ以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
[比較例4]
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で10℃、168時間熟成したものを用いた。それ以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で10℃、168時間熟成したものを用いた。それ以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
[比較例5]
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で20℃、336時間熟成したものを用いた以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で20℃、336時間熟成したものを用いた以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
[比較例6]
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で40℃、336時間熟成したものを用いた以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で40℃、336時間熟成したものを用いた以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
[比較例7]
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で60℃、24時間熟成したものを用いた以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で60℃、24時間熟成したものを用いた以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
[比較例8]
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で60℃、168時間熟成したものを用いた以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
有機系の反射防止層形成用組成物として、調製後、密閉容器中で60℃、168時間熟成したものを用いた以外は、実施例1と同様の方法でプラスチック眼鏡レンズ6を製造した。
(評価)
上記の実施例1〜5および比較例1〜8で得られたプラスチック眼鏡レンズについて、クラックの有無および耐擦傷性に関する評価を行った。
上記の実施例1〜5および比較例1〜8で得られたプラスチック眼鏡レンズについて、クラックの有無および耐擦傷性に関する評価を行った。
クラックは、製造したプラスチック眼鏡レンズの外観を目視で検査し、以下のように評価した。
○:1mm以上のクラックが発生していない
×:1mm以上のクラックが1本以上発生している
○:1mm以上のクラックが発生していない
×:1mm以上のクラックが1本以上発生している
耐擦傷性は、製造したプラスチック眼鏡レンズの表面に、ボンスター#0000スチールウール(日本スチールウール(株)製)を荷重1kgで印加し、3〜4cmの距離を10往復擦った後、目視でプラスチック眼鏡レンズの表面に入った傷の状態を、下記のA〜Eの5水準の基準で評価した。
A:全く傷がない
B:1〜5本の傷が確認された
C:6〜20本の傷が確認された
D:21本以上の傷があるが曇りには見えない状態
E:多数の傷があり曇りに近い状態
A:全く傷がない
B:1〜5本の傷が確認された
C:6〜20本の傷が確認された
D:21本以上の傷があるが曇りには見えない状態
E:多数の傷があり曇りに近い状態
(評価結果)
図4に、実施例1〜5および比較例1〜8で得られたプラスチック眼鏡レンズにおける評価結果を纏めて示してある。
図4に、実施例1〜5および比較例1〜8で得られたプラスチック眼鏡レンズにおける評価結果を纏めて示してある。
実施例1〜5において製造されたプラスチック眼鏡レンズは、1mm以上のクラックが発生しなかった。また、実施例1〜5において製造されたプラスチック眼鏡レンズは、上述のような耐擦傷性試験において、プラスチック眼鏡レンズの表面に1〜5本の傷ができたものの、プラスチック眼鏡レンズとして許容される程度の耐擦傷性が得られることがわかった。
比較例1および2において製造されたプラスチック眼鏡レンズは、耐擦傷性は許容される程度のものであったが、1mm以上のクラックが1本以上発生した。これは、熟成時間が短く、熟成が十分に進まなかったためであると考えられる。このため、反射防止層形成用組成物に未反応の加水分解性縮合基が過剰に残っており、有機系の反射防止層形成用組成物を硬化させる際、縮合が急速に進行し、体積収縮をもたらし、その応力によって、クラックが発生したと考えられる。
比較例3および4において製造されたプラスチック眼鏡レンズは、耐擦傷性は許容される程度のものであったが、1mm以上のクラックが1本以上発生した。これは、熟成温度が低く、熟成が十分に進まなかったためであると考えられる。このため、反射防止層形成用組成物に未反応の加水分解性縮合基が過剰に残っており、有機系の反射防止層形成用組成物を硬化させる際、縮合が急速に進行し、体積収縮をもたらし、その応力によって、クラックが発生したと考えられる。
比較例5および6において製造されたプラスチック眼鏡レンズは、クラックは発生しなかったが、耐擦傷性の評価が良好ではなかった。これは、熟成時間が長く、縮合反応が進みすぎ、分子鎖が長鎖化したためであると考えられる。このため、反射防止層において、分子内の隙間が大きくなり、緻密さが低下し、その結果、耐擦傷性が低下したと考えられる。
比較例7および8において製造されたプラスチック眼鏡レンズは、クラックは発生しなかったが、耐擦傷性の評価が良好ではなかった。これは、熟成温度が高く、縮合反応が進みすぎ、分子鎖が長鎖化したためであると考えられる。このため、反射防止層において、分子内の隙間が大きくなり、緻密さが低下し、その結果、耐擦傷性が低下したと考えられ
る。
る。
上記の結果より、本実施形態によれば、調合された反射防止層形成用混合物を希釈および攪拌して調製し、その後、調製された反射防止層形成用混合物を、20℃〜40℃の温度下で24時間〜168時間熟成させ、反射防止層形成用組成物とすることにより、下地層(ハードコート層および/またはプライマー層など)あるいは基材(生地)に、クラックを生じさせることなく、耐擦傷性の良好な、有機系の反射防止層を形成できることがわかった。
なお、上記では、プラスチックのレンズ生地を基材として説明しているが、基材はガラスレンズであっても同様の効果を得ることができる。また、本発明は、眼鏡レンズに限らず、カメラ用などの多種多様なレンズ、画像表示装置の光学系の素子、プリズム、光ファイバー、情報記録媒体用の素子、フィルター、さらには、DVD等などの記録媒体、窓用のガラスなど多種多様なものを製造する際に適用できる。
Claims (5)
- 有機系の反射防止層形成用組成物の製造方法であって、
反射防止層形成用混合物を調合する工程と、
調合された前記反射防止層形成用混合物を希釈および攪拌して調製する工程と、
攪拌終了後、調製された前記反射防止層形成用混合物を熟成させる工程とを有し、
前記熟成させる工程は、前記調製する工程後の前記反射防止層形成用混合物を、20℃〜40℃の温度下で24時間〜168時間保持する工程を含む、製造方法。 - 請求項1において、前記反射防止層形成用混合物は、有機ケイ素化合物およびシリカ系微粒子を含有する、製造方法。
- 有機系の反射防止層を有する製品の製造方法であって、
前記製品の基材の上、又はこの基材表面に形成された少なくとも1層の下地層の上に、反射防止層形成用組成物を塗布する工程を有し、
前記反射防止層形成用組成物は、反射防止層形成用混合物を希釈および攪拌して調製後、20℃〜40℃の温度下で24時間〜168時間熟成させたものである、製造方法。 - 有機系の反射防止層を有する製品の製造方法であって、
調合された反射防止層形成用混合物を希釈および攪拌して調製し、その後、調製された前記反射防止層形成用混合物を、20℃〜40℃の温度下で24時間〜168時間熟成させ、反射防止層形成用組成物とする工程と、
前記製品の基材の上、又はこの基材表面に形成された少なくとも1層の下地層の上に、前記反射防止層形成用組成物を塗布する工程とを有する、製造方法。 - 請求項3または4において、前記反射防止層形成用組成物は、有機ケイ素化合物およびシリカ系微粒子を含有する、製造方法。
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