JP2008133542A - Surface treatment method for ornament, and ornament - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、装飾品の表面処理方法および装飾品に関する。 The present invention relates to a surface treatment method for a decorative article and a decorative article.
時計用外装部品のような装飾品には、優れた美的外観が要求される。
従来、このような目的を達成するために、例えば、装飾品の構成材料として、Pd、Rd、Pt等の銀白色の金属材料を用いてきた。しかし、これらの金属材料は、いずれも貴金属であり、装飾品の製造コストが高くなる等の問題点を有していた。また、前述の貴金属に代わる銀白色の材料としては、Tiやステンレス鋼等が用いられている。
A decorative product such as a watch exterior part is required to have an excellent aesthetic appearance.
Conventionally, in order to achieve such an object, for example, a silver-white metal material such as Pd, Rd, Pt or the like has been used as a constituent material of an ornament. However, these metal materials are all noble metals, and have problems such as an increase in the manufacturing cost of decorative products. Moreover, Ti, stainless steel, etc. are used as a silver-white material which replaces the above-mentioned noble metal.
また、前述したように装飾品には、優れた美的外観が要求されるが、前記のような材料で構成された装飾品(特に、時計用外装部品や装身具等)は、その表面に傷が付き易く、長期間使用することにより美的外観が著しく低下する等の問題点を有していた。
このような問題を解決するために、基材を硬質化する技術として、例えばステンレス鋼やTiからなる基材の表面を、窒素により窒化する技術(例えば、特許文献1参照)や、炭素を注入する浸炭処理により表面を固くする技術(例えば、特許文献2参照)が用いられている。
Further, as described above, a decorative article is required to have an excellent aesthetic appearance. However, a decorative article (particularly, a watch exterior part or a jewelry accessory) made of the above-described materials has scratches on its surface. There was a problem that it was easy to stick and the aesthetic appearance was remarkably deteriorated after long-term use.
In order to solve such problems, as a technique for hardening the base material, for example, a technique for nitriding the surface of a base material made of stainless steel or Ti with nitrogen (for example, refer to Patent Document 1), or carbon is injected. A technique (for example, see Patent Document 2) that hardens the surface by carburizing treatment is used.
しかしながら、窒化処理、浸炭処理は、表面荒れをおこすので、研磨外観が変わってしまう。鏡面品は特に荒れて、くもりとなってしまい、そのままでは、装飾品としては使用できない。
そこで、後工程として、機械的研磨により、鏡面に磨く方法がとられていた。しかし、この方法は、研磨により固い硬化層を削り取りすぎて硬度が落ちたり、後研磨できない形状(バフが当たらないような形状)のものは処理不可であるといった欠点がある。
However, the nitriding treatment and the carburizing treatment cause surface roughness, so that the polished appearance changes. Mirror surface products are particularly rough and cloudy, and cannot be used as decorations as they are.
Therefore, as a post process, a method of polishing to a mirror surface by mechanical polishing has been adopted. However, this method has a drawback that the hardened layer is excessively scraped by polishing and the hardness is lowered, or a shape that cannot be polished afterwards (a shape that does not hit the buff) cannot be processed.
本発明の目的は、長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供すること、および前記装飾品を提供することができる表面処理方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a decorative article that can maintain excellent hardness and aesthetic appearance over a long period of time, and to provide a surface treatment method that can provide the decorative article.
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の装飾品の表面処理方法は、少なくとも表面付近の一部が主としてTiおよび/またはステンレス鋼で構成された基材の少なくとも一部に、窒化処理または浸炭処理による硬化処理を施す工程と、
前記硬化処理が施された前記基材上に、乾式めっきにより、Tiおよび/またはCrを含む材料で構成された被膜を形成する工程とを有することを特徴とする。
これにより、長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供することができる。
Such an object is achieved by the present invention described below.
The surface treatment method of a decorative article of the present invention includes a step of performing a hardening treatment by nitriding treatment or carburizing treatment on at least a portion of a base material at least part of which is mainly composed of Ti and / or stainless steel,
Forming a film made of a material containing Ti and / or Cr on the base material subjected to the curing treatment by dry plating.
As a result, it is possible to provide a decorative article that can maintain excellent hardness and aesthetic appearance over a long period of time.
本発明の装飾品の表面処理方法は、少なくとも表面付近の一部が主としてTiおよび/またはステンレス鋼で構成された基材の少なくとも一部に、窒化処理または浸炭処理による硬化処理を施す工程と、
前記硬化処理が施された前記基材上に、少なくとも1層の下地層を形成する工程と、
前記下地層上に、乾式めっきにより、Tiおよび/またはCrを含む材料で構成された被膜を形成する工程とを有することを特徴とする。
これにより、長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供することができる。また、下地層を形成することで、基材と被膜との密着性を向上させ、基材表面の凹凸をより効果的に緩和することができる。また、当該方法により得られる装飾品は、打痕等の凹みを特に生じ難いものとなる。
The surface treatment method of a decorative article of the present invention includes a step of performing a hardening treatment by nitriding treatment or carburizing treatment on at least a portion of a base material at least part of which is mainly composed of Ti and / or stainless steel,
Forming at least one underlayer on the base material subjected to the curing treatment;
Forming a film made of a material containing Ti and / or Cr on the underlayer by dry plating.
As a result, it is possible to provide a decorative article that can maintain excellent hardness and aesthetic appearance over a long period of time. Moreover, by forming the base layer, it is possible to improve the adhesion between the base material and the coating film, and to more effectively relieve the unevenness of the base material surface. In addition, the decorative article obtained by this method is particularly difficult to produce a dent such as a dent.
本発明の装飾品の表面処理方法では、前記下地層を形成する工程と、前記被膜を形成する工程とを繰り返し行い、前記下地層と前記被膜とを複数回積層することが好ましい。
これにより、得られる装飾品は、より長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができるものとなる。また、当該方法により得られる装飾品は、打痕等の凹みを特に生じ難いものとなる。
In the decorative article surface treatment method of the present invention, it is preferable that the step of forming the base layer and the step of forming the coating are repeated, and the base layer and the coating are laminated a plurality of times.
Thereby, the obtained decorative article can maintain excellent hardness and aesthetic appearance for a longer period of time. In addition, the decorative article obtained by this method is particularly difficult to produce a dent such as a dent.
本発明の装飾品の表面処理方法では、前記下地層のうち少なくとも1層は、前記基材の表面の凹凸を緩和するレベリング層であることが好ましい。
これにより、基材の表面粗さが比較的大きい場合であっても、得られる装飾品の表面粗さを十分に小さくすることができる。
本発明の装飾品の表面処理方法では、前記下地層は、乾式めっきにより形成されることが好ましい。
これにより、下地層は、基材との密着性に特に優れたものとなる。
In the decorative article surface treatment method of the present invention, it is preferable that at least one of the base layers is a leveling layer that relaxes irregularities on the surface of the substrate.
Thereby, even if it is a case where the surface roughness of a base material is comparatively large, the surface roughness of the ornament obtained can be made small enough.
In the decorative article surface treatment method of the present invention, the underlayer is preferably formed by dry plating.
Thereby, a foundation layer becomes a thing especially excellent in adhesiveness with a base material.
本発明の装飾品の表面処理方法では、前記下地層は、Ti、Crまたはこれらのうち少なくとも1種を含む合金から構成されることが好ましい。
これにより、下地層は、基材との密着性に特に優れたものとなる。また、当該方法により得られる装飾品は、打痕等の凹みを特に生じ難いものとなる。
本発明の装飾品の表面処理方法では、前記基材は、その表面の少なくとも一部に、鏡面加工、スジ目加工、梨地加工から選択される表面加工が施されたものであることが好ましい。
これにより、被膜のギラツキ等が抑制され、得られる装飾品は、特に美的外観に優れたものとなる。
In the decorative article surface treatment method of the present invention, the underlayer is preferably composed of Ti, Cr, or an alloy containing at least one of them.
Thereby, a foundation layer becomes a thing especially excellent in adhesiveness with a base material. In addition, the decorative article obtained by this method is particularly difficult to produce a dent such as a dent.
In the decorative article surface treatment method of the present invention, it is preferable that the base material is subjected to surface processing selected from mirror processing, streak processing, and satin processing on at least a part of the surface thereof.
Thereby, the glare of a film, etc. are suppressed, and the obtained decorative article is particularly excellent in aesthetic appearance.
本発明の装飾品の表面処理方法では、前記基材は、基部と、該基部上に設けられた表面層とを有するものであることが好ましい。
これにより、基部の構成材料の選択により、例えば、基材の成形の自由度を増すことができ、より複雑な形状の装飾品であっても、比較的容易に製造することができる。
本発明の装飾品の表面処理方法では、前記表面層の厚さは、0.1〜50μmであることが好ましい。
これにより、硬化処理後における基材の強度を特に優れたものとすることができ、得られる装飾品は、傷等が特に付き難いものとなる。
In the decorative article surface treatment method of the present invention, the base material preferably has a base portion and a surface layer provided on the base portion.
Thereby, by selecting the constituent material of the base portion, for example, the degree of freedom of molding of the base material can be increased, and even a more complicated shaped ornament can be manufactured relatively easily.
In the decorative article surface treatment method of the present invention, the thickness of the surface layer is preferably 0.1 to 50 μm.
Thereby, the intensity | strength of the base material after a hardening process can be made especially excellent, and the obtained decorative article becomes a thing with a crack etc. especially difficult to attach.
本発明の装飾品の表面処理方法では、前記窒化処理は、前記基材を300〜500℃の温度に保持し、アンモニアガスと水素ガスとを含む雰囲気中でグロー放電を行うイオン窒化であることが好ましい。
これにより、窒化処理後における基材の強度を特に優れたものとすることができるとともに、基材の表面粗さを比較的小さいものとすることができる。その結果、得られる装飾品は、より長期間にわたって特に優れた硬度および美的外観を保持することができるものとなる。
本発明の装飾品の表面処理方法では、前記窒化処理により形成される窒化層の厚さが、0.1〜200μmであることが好ましい。
これにより、基材の硬度を特に優れたものにするとともに、鏡面光沢をより長時間保つことができる。
In the decorative article surface treatment method of the present invention, the nitriding treatment is ion nitriding in which the substrate is held at a temperature of 300 to 500 ° C. and glow discharge is performed in an atmosphere containing ammonia gas and hydrogen gas. Is preferred.
Thereby, the strength of the base material after nitriding can be made particularly excellent, and the surface roughness of the base material can be made relatively small. As a result, the resulting decorative article can maintain a particularly excellent hardness and aesthetic appearance over a longer period of time.
In the decorative article surface treatment method of the present invention, the nitride layer formed by the nitriding treatment preferably has a thickness of 0.1 to 200 μm.
Thereby, the hardness of the substrate can be made particularly excellent, and the specular gloss can be maintained for a longer time.
本発明の装飾品の表面処理方法では、前記浸炭処理は、10〜700Paの炭化水素系ガスを含み、かつ、温度が400〜900℃の雰囲気中で行うプラズマ浸炭処理であることが好ましい。
これにより、浸炭処理後における基材の強度を特に優れたものとすることができるとともに、基材の表面粗さを比較的小さいものとすることができる。その結果、得られる装飾品は、より長期間にわたって特に優れた硬度および美的外観を保持することができるものとなる。
本発明の装飾品の表面処理方法では、前記浸炭処理により形成される浸炭層の厚さが、0.1〜200μmであることが好ましい。
これにより、基材の硬度を特に優れたものにするとともに、鏡面光沢をより長時間保つことができる。
In the decorative article surface treatment method of the present invention, the carburizing treatment is preferably a plasma carburizing treatment that is performed in an atmosphere containing a hydrocarbon-based gas of 10 to 700 Pa and a temperature of 400 to 900 ° C.
Thereby, the strength of the base material after the carburizing treatment can be made particularly excellent, and the surface roughness of the base material can be made relatively small. As a result, the resulting decorative article can maintain a particularly excellent hardness and aesthetic appearance over a longer period of time.
In the decorative article surface treatment method of the present invention, the thickness of the carburized layer formed by the carburizing treatment is preferably 0.1 to 200 μm.
Thereby, the hardness of the substrate can be made particularly excellent, and the specular gloss can be maintained for a longer time.
本発明の装飾品の表面処理方法では、前記被膜をイオンプレーティング法により形成することが好ましい。
これにより、より均質で、かつ、基材や下地層との密着性が特に優れた被膜を比較的容易に形成することができる。その結果、得られる装飾品の耐久性は、特に優れたものとなる。また、イオンプレーティング法を用いることにより、特に高密度の被膜を形成することが可能となり、得られる装飾品は、長期間にわたって特に優れた美的外観を保持できるものとなる。
In the decorative article surface treatment method of the present invention, the coating is preferably formed by an ion plating method.
Thereby, it is possible to relatively easily form a film that is more homogeneous and has particularly excellent adhesion to the substrate and the base layer. As a result, the durability of the resulting decorative article is particularly excellent. Further, by using the ion plating method, a particularly high-density coating can be formed, and the resulting decorative article can maintain a particularly excellent aesthetic appearance over a long period of time.
本発明の装飾品の表面処理方法では、前記イオンプレーティング時におけるイオン化電圧が、15〜200Vであることが好ましい。
これにより、基材や下地層との密着性に優れた被膜を形成することができる。
本発明の装飾品の表面処理方法では、前記イオンプレーティング時におけるイオン化電流が、5〜150Aであることが好ましい。
これにより、基材や下地層との密着性に優れた被膜を形成することができる。
本発明の装飾品の表面処理方法では、前記イオンプレーティング時における雰囲気の圧力が、1×10−3〜1.5Paであることが好ましい。
これにより、基材や下地層との密着性に優れた被膜を形成することができる。
In the decorative article surface treatment method of the present invention, the ionization voltage during the ion plating is preferably 15 to 200V.
Thereby, the film excellent in adhesiveness with a base material or a base layer can be formed.
In the decorative article surface treatment method of the present invention, the ionization current during the ion plating is preferably 5 to 150 A.
Thereby, the film excellent in adhesiveness with a base material or a base layer can be formed.
In the decorative article surface treatment method of the present invention, the pressure of the atmosphere during the ion plating is preferably 1 × 10 −3 to 1.5 Pa.
Thereby, the film excellent in adhesiveness with a base material or a base layer can be formed.
本発明の装飾品の表面処理方法では、前記被膜は、TiN、TiC、TiCN、TiO、CrN、CrC、CrCNおよびCrOよりなる群から選択される少なくとも1種を含む材料で構成されたものであることが好ましい。
これにより、得られる装飾品の美的外観を特に優れたものとすることができるとともに、装飾品全体としての強度(傷等の付き難さ)を特に優れたものとすることができる。
本発明の装飾品の表面処理方法では、前記被膜の厚さは、2〜10μmであることが好ましい。
これにより、被膜は、より優れた美的外観と耐擦傷性とを有するものとなる。
In the decorative article surface treatment method of the present invention, the coating film is made of a material containing at least one selected from the group consisting of TiN, TiC, TiCN, TiO, CrN, CrC, CrCN, and CrO. It is preferable.
Thereby, the aesthetic appearance of the obtained decorative article can be made particularly excellent, and the strength (difficulty of scratches etc.) of the entire decorative article can be made particularly excellent.
In the decorative article surface treatment method of the present invention, the thickness of the coating is preferably 2 to 10 μm.
Thereby, the film has a more excellent aesthetic appearance and scratch resistance.
本発明の装飾品は、本発明の装飾品の表面処理方法を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供することができる。
本発明の装飾品は、窒化処理または浸炭処理により形成された硬化層を有する基材と、
前記基材上に乾式めっきにより形成され、かつ、Tiおよび/またはCrを含む材料で構成された被膜とを有することを特徴とする。
これにより、長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供することができる。
The decorative article of the present invention is manufactured using the surface treatment method for a decorative article of the present invention.
As a result, it is possible to provide a decorative article that can maintain excellent hardness and aesthetic appearance over a long period of time.
The decorative article of the present invention includes a substrate having a hardened layer formed by nitriding or carburizing,
And a coating film formed by dry plating on the substrate and made of a material containing Ti and / or Cr.
As a result, it is possible to provide a decorative article that can maintain excellent hardness and aesthetic appearance over a long period of time.
本発明の装飾品は、窒化処理または浸炭処理により形成された硬化層を有する基材と、
前記硬化層上に形成された、少なくとも1層の下地層と、
前記下地層上に乾式めっきにより形成され、かつ、Tiおよび/またはCrを含む材料で構成された被膜とを有することを特徴とする。
これにより、より長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供することができる。また、下地層を形成することで、基材と被膜との密着性を向上させ、基材表面の凹凸をより効果的に緩和することができる。また、これにより、打痕等の凹みが生じ難いものとなる。
The decorative article of the present invention includes a substrate having a hardened layer formed by nitriding or carburizing,
At least one underlayer formed on the cured layer;
And a film formed by dry plating on the underlayer and made of a material containing Ti and / or Cr.
As a result, it is possible to provide a decorative article that can maintain excellent hardness and aesthetic appearance over a longer period of time. Moreover, by forming the base layer, it is possible to improve the adhesion between the base material and the coating film, and to more effectively relieve the unevenness of the base material surface. This also makes it difficult for dents and the like to be formed.
本発明の装飾品は、窒化処理または浸炭処理により形成された硬化層を有する基材と、
複数の下地層と、
乾式めっきにより形成され、かつ、Tiおよび/またはCrを含む材料で構成された、複数の被膜とを有する装飾品であって、
複数の前記下地層と前記被膜とが交互に積層されていることを特徴とする。
これにより、より長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供することができる。また、下地層を形成することで、基材と被膜との密着性を向上させ、基材表面の凹凸をより効果的に緩和することができる。また、これにより、打痕等の凹みが特に生じ難いものとなる。
The decorative article of the present invention includes a substrate having a hardened layer formed by nitriding or carburizing,
Multiple underlayers;
A decorative article formed by dry plating and having a plurality of coatings made of a material containing Ti and / or Cr,
A plurality of the foundation layers and the coating films are alternately laminated.
As a result, it is possible to provide a decorative article that can maintain excellent hardness and aesthetic appearance over a longer period of time. Moreover, by forming the base layer, it is possible to improve the adhesion between the base material and the coating film, and to more effectively relieve the unevenness of the base material surface. This also makes it difficult for dents and other dents to occur.
本発明の装飾品では、少なくともその一部が皮膚に接触して用いられることが好ましい。
皮膚に接触して用いられる装飾品では、装飾品として外観の美しさが要求されるとともに、実用品として、耐久性、耐食性、耐擦傷性、耐摩耗性や、優れた触感等が要求されるが、本発明によればこれらの要件を全て満足することができる。
本発明の装飾品は、時計用外装部品であることが好ましい。
時計用外装部品は、一般に、外部からの衝撃を受け易い装飾品であり、装飾品として外観の美しさが要求されるとともに、実用品として、耐久性、耐食性、耐擦傷性、耐摩耗性等が求められるが、本発明によればこれらの要件を全て満足することができる。
In the decorative article of the present invention, it is preferable that at least a part thereof is used in contact with the skin.
Decorative products used in contact with the skin are required to have a beautiful appearance as decorative products, and as practical products, durability, corrosion resistance, scratch resistance, wear resistance, excellent tactile sensation, etc. are required. However, according to the present invention, all of these requirements can be satisfied.
The decorative article of the present invention is preferably a watch exterior part.
Watch exterior parts are generally decorative items that are susceptible to external impacts, and are required to have a beautiful appearance as decorative items, and as practical products, such as durability, corrosion resistance, scratch resistance, and wear resistance. However, according to the present invention, all of these requirements can be satisfied.
以下、本発明の装飾品の表面処理方法および装飾品の好適な実施形態について、添付図面を参照しつつ説明する。
図1は、本発明の表面処理方法の第1実施形態を示す断面図である。
図1に示すように、本実施形態の表面処理方法は、基材2の少なくとも一部(1a)に、窒化処理または浸炭処理よる硬化処理を施す工程(1b)と、硬化処理が施された基材2上の少なくとも一部にイオンプレーティング法により被膜30を形成する工程(1c)とを有する。
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of a decorative article surface treatment method and a decorative article of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a first embodiment of the surface treatment method of the present invention.
As shown in FIG. 1, in the surface treatment method of the present embodiment, at least a part (1a) of the
[基材]
基材(金属基材)2は、少なくとも表面付近の一部が、主としてTiおよび/またはステンレス鋼で構成されたものである。主としてTiで構成される材料としては、例えば、Ti(単体としてのTi)、Ti合金等が挙げられる。また、ステンレス鋼としては、例えば、Fe−Cr系合金、Fe−Cr−Ni系合金等が挙げられ、より具体的には、SUS405、SUS430、SUS434、SUS444、SUS429、SUS430F等、SUS304、SUS303、SUS316、SUS316L、SUS316J1、SUS316J1L等が挙げられる。なお、窒化処理または浸炭処理が可能な材料としては、上記のようなTiおよび/またはステンレス鋼で構成されたもの以外の材料も挙げられるが、このような材料(主としてTiおよび/またはステンレス鋼で構成された材料)を用いた場合には、最終的に得られる装飾品の硬度を十分に高めることが困難である。また、主としてTiおよび/またはステンレス鋼で構成された材料を用いなかった場合、最終的に得られる装飾品において、十分長期間にわたって優れた美的外観(特に、時計用外装部品等の装飾品において求められる美的外観)を保持するのが困難となる。
[Base material]
The base material (metal base material) 2 is at least partly composed of mainly Ti and / or stainless steel near the surface. Examples of the material mainly composed of Ti include Ti (Ti as a simple substance), Ti alloy, and the like. Examples of the stainless steel include Fe-Cr alloys, Fe-Cr-Ni alloys, and more specifically, SUS405, SUS430, SUS434, SUS444, SUS429, SUS430F, etc., SUS304, SUS303, SUS316, SUS316L, SUS316J1, SUS316J1L, etc. are mentioned. Examples of materials that can be nitrided or carburized include materials other than those composed of Ti and / or stainless steel as described above, but such materials (mainly Ti and / or stainless steel). In the case of using a configured material), it is difficult to sufficiently increase the hardness of the finally obtained decorative article. In addition, when a material mainly composed of Ti and / or stainless steel is not used, the final decorative product has an excellent aesthetic appearance for a sufficiently long period of time (especially in decorative products such as watch exterior parts). It is difficult to maintain an aesthetic appearance).
また、基材2は、各部位でその組成が実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、部位によって組成の異なるものであってもよい。例えば、基材2は、基部と、該基部上に設けられた表面層を有するものであってもよい。基材2がこのような構成のものであると、基部の構成材料の選択により、例えば、基材2の成形の自由度を増すことができ、より複雑な形状の装飾品1Aであっても、比較的容易に製造することができる。基材2が基部と表面層とを有するものである場合、表面層の厚さ(平均値)は、特に限定されないが、0.1〜50μmであるのが好ましく、1.0〜10μmであるのがより好ましい。表面層の厚さが前記範囲内の値であると、硬化処理後における基材2の強度を特に優れたものとすることができるとともに、表面層の基部からの不本意な剥離等をより確実に防止することができる。
Moreover, the
基材2が基部と表面層とを有するものである場合、表面層の構成材料としては、例えば、前述したような材料を好適に用いることができる。また、基部の構成材料としては、例えば、金属材料、非金属材料等を用いることができる。
基部が金属材料で構成される場合、特に優れた強度特性を有する装飾品1Aを提供することができる。
When the
When the base is made of a metal material, it is possible to provide the
また、基部が金属材料で構成される場合、基部の表面粗さが比較的大きい場合であっても、表面層や、後述する被膜30等を形成する際のレベリング効果により、得られる装飾品1Aの表面粗さを小さくすることができる。例えば、基部の表面に対する切削加工、研磨加工などによる機械加工を省略しても、鏡面仕上げを行うことが可能となったり、基部がMIM法により成形されたもので、その表面が梨地面である場合でも、容易に鏡面にすることができる。これにより、光沢に優れた装飾品を得ることができる。
Further, when the base is made of a metal material, even if the surface roughness of the base is relatively large, the
基部が非金属材料で構成される場合、比較的軽量で携帯し易く、かつ、重厚な外観を有する装飾品1Aを提供することができる。
また、基部が非金属材料で構成される場合、比較的容易に、所望の形状に成形することができる。
また、基部が非金属材料で構成される場合、電磁ノイズを遮蔽する効果も得られる。
When the base is made of a nonmetallic material, it is possible to provide the
Further, when the base is made of a non-metallic material, it can be formed into a desired shape relatively easily.
Further, when the base is made of a nonmetallic material, an effect of shielding electromagnetic noise can be obtained.
基部を構成する金属材料としては、例えば、Fe、Cu、Zn、Ni、Mg、Cr、Mn、Mo、Nb、Al、V、Zr、Sn、Au、Pd、Pt、Ag等の各種金属や、これらのうち少なくとも1種を含む合金等が挙げられる。この中でも特に、Cu、Zn、Ni、Ti、Alまたはこれらのうち少なくとも1種を含む合金が好ましい。基部が前述したような材料で構成されることにより、基部と、表面層との密着性を特に優れたものとすることができるとともに、基部の加工性が向上し、基材2全体としての成形の自由度がさらに増す。
As the metal material constituting the base, for example, various metals such as Fe, Cu, Zn, Ni, Mg, Cr, Mn, Mo, Nb, Al, V, Zr, Sn, Au, Pd, Pt, Ag, An alloy containing at least one of these may be used. Among these, Cu, Zn, Ni, Ti, Al or an alloy containing at least one of these is preferable. When the base is composed of the material as described above, the adhesion between the base and the surface layer can be made particularly excellent, the workability of the base is improved, and the
また、基部を構成する非金属材料としては、例えば、セラミックス、プラスチック(特に耐熱性プラスチック)、石材、木材等が挙げられる。
セラミックスとしては、例えば、Al2O3、SiO2、TiO2、Ti2O3、ZrO2、Y2O3、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム等の酸化物系セラミックス、AlN、Si3N4、SiN、TiN、BN、ZrN、HfN、VN、TaN、NbN、CrN、Cr2N等の窒化物系セラミックス、グラファイト、SiC、ZrC、Al4C3、CaC2、WC、TiC、HfC、VC、TaC、NbC等の炭化物系のセラミックス、ZrB2、MoB等のホウ化物系のセラミックス、あるいは、これらのうちの2以上を任意に組み合わせた複合セラミックスが挙げられる。
基部が前記のようなセラミックスで構成される場合、特に優れた強度、硬度を有する装飾品1Aを得ることができる。
Moreover, as a nonmetallic material which comprises a base, ceramics, a plastics (especially heat resistant plastic), a stone material, wood, etc. are mentioned, for example.
As ceramics, for example, Al 2 O 3 , SiO 2 , TiO 2 , Ti 2 O 3 , ZrO 2 , Y 2 O 3 , oxide-based ceramics such as barium titanate and strontium titanate, AlN, Si 3 N 4 , SiN, TiN, BN, ZrN, HfN, VN, TaN, NbN, CrN, Cr 2 N, and other nitride ceramics, graphite, SiC, ZrC, Al 4 C 3 , CaC 2 , WC, TiC, HfC, VC , Carbide ceramics such as TaC and NbC, boride ceramics such as ZrB 2 and MoB, or composite ceramics in which two or more of these are arbitrarily combined.
When the base is made of the ceramic as described above, a
基材2の製造方法は、特に限定されない。
基材2が実質的に均一な組成を有する材料で構成される場合(または、前述したような表面層を有さない場合)、その製造方法としては、例えば、プレス加工、切削加工、鍛造加工、鋳造加工、粉末冶金焼結、金属粉末射出成形(MIM)、ロストワックス法等が挙げられるが、この中でも特に、鋳造加工または金属粉末射出成形(MIM)が好ましい。鋳造加工、金属粉末射出成形(MIM)は、特に、加工性に優れている。このため、これらの方法を用いた場合、複雑な形状の基材2を比較的容易に得ることができる。
The manufacturing method of the
When the
金属粉末射出成形(MIM)は、通常、以下のようにして行われる。
まず、金属粉と有機バインダーとを含む材料を混合、混練して混練物を得る。
次に、この混練物を射出成形することにより成形体を形成する。
その後、この成形体に対して、脱脂処理(脱バインダー処理)を施し、脱脂体を得る。この脱脂処理は、通常、減圧条件下で、加熱することにより行われる。
さらに、得られた脱脂体を焼結することにより、焼結体を得る。この焼結処理は、通常、前記脱脂処理より高温で加熱することにより行われる。
Metal powder injection molding (MIM) is usually performed as follows.
First, a material containing metal powder and an organic binder is mixed and kneaded to obtain a kneaded product.
Next, the kneaded product is injection molded to form a molded body.
Thereafter, the molded body is subjected to a degreasing process (debinding process) to obtain a degreased body. This degreasing treatment is usually performed by heating under reduced pressure conditions.
Furthermore, a sintered body is obtained by sintering the obtained degreased body. This sintering process is usually performed by heating at a higher temperature than the degreasing process.
本発明では、以上のようにして得られる焼結体を基材として用いることができる。
また、基材2が前述したような基部と表面層とを有するものである場合、基材2は、以下のようにして製造することができる。すなわち、前述したような方法により製造した基部上に、表面層を形成することにより基材2を得ることができる。表面層の形成方法としては、例えば、ディッピング、刷毛塗り、噴霧塗装、静電塗装、電着塗装等の塗装、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法、熱CVD、プラズマCVD、レーザーCVD等の化学蒸着法(CVD)、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の乾式めっき法、溶射等が挙げられる。
In the present invention, the sintered body obtained as described above can be used as a base material.
Moreover, when the
また、基材2の表面に対しては、例えば、鏡面加工、スジ目加工、梨地加工等の表面加工が施されてもよい。これにより、得られる装飾品1Aの表面の光沢具合にバリエーションを持たせることが可能となり、得られる装飾品1Aの装飾性をさらに向上させることができる。鏡面加工は、例えば、周知の研磨方法を用いて行うことができ、例えば、バフ(羽布)研磨、バレル研磨、その他の機械研磨等を採用することができる。
The surface of the
また、このような表面加工を施した基材1を用いて製造される装飾品1Aは、後述する被膜30に対して前記表面加工を直接施すことにより得られるものに比べて、被膜30のギラツキ等が抑制されたものとなり、特に美的外観に優れたものとなる。また、後に詳述するように、被膜30が硬質材料で構成されているため、被膜30に対して表面加工を直接施す場合には、当該表面加工を施す際に被膜30にカケ等の欠陥を生じ易く、装飾品1A製造の歩留りが著しく低下する場合があるが、基材2に対して表面処理を行うことにより、このような問題の発生も効果的に防止することができる。また、基材2に対する表面処理は、被膜30に対する表面加工に比べて、温和な条件で容易に行うことができる。
Moreover, the
[窒化処理、浸炭処理]
基材2に、窒化処理または浸炭処理による硬化処理を施す(1b)。基材2に対して、窒化処理、浸炭処理を施すことにより、基材2の表面付近に硬度の高い硬化層(窒化層、浸炭層)を形成することができる。
以下、これらの方法について説明する。
[Nitriding and carburizing]
The
Hereinafter, these methods will be described.
(浸炭処理)
まず、浸炭処理の方法について説明する。なお、ここでは、浸炭処理の一例として、プラズマ浸炭処理について説明するが、浸炭処理の方法はこれに限定されるものではない。
プラズマ浸炭処理を行うには、例えば、加熱炉内にグラファイトファイバー等の断熱材で囲まれた処理室を形成し、この処理室内をロッドグラファイトからなる発熱体で加熱すると共に、処理室内の上部に直流グロー放電の正極を接続し、かつ処理品の載置台に陰極を接続し、また処理室内の要所にはガスマニホールドを設置して炭化水素、窒素、アルゴン、水素などのプロセスガスまたはクリーニング用ガスを適宜分散させながら導入するようにした公知の浸炭処理装置(例えば日本電子工業社製)を用いることができる。
(Carburization treatment)
First, a carburizing method will be described. In addition, although plasma carburizing process is demonstrated here as an example of carburizing process, the method of carburizing process is not limited to this.
In order to perform the plasma carburizing process, for example, a processing chamber surrounded by a heat insulating material such as graphite fiber is formed in a heating furnace, and this processing chamber is heated by a heating element made of rod graphite, and at the top of the processing chamber. Connect the positive electrode of the direct current glow discharge, connect the cathode to the stage where the processed products are placed, and install gas manifolds at key points in the processing chamber to clean process gases such as hydrocarbons, nitrogen, argon, hydrogen, etc. A known carburizing apparatus (for example, manufactured by JEOL Ltd.) that is introduced while appropriately dispersing the gas can be used.
プラズマ浸炭処理の操作をより詳細に説明すると、先ず、処理室に基材2を装入して排気した後、ヒータにより400〜900℃にまで加熱し、例えば、アルゴンガスなどの不活性ガスからなるクリーニング用ガスを導入し、200〜1500Vの直流高電圧を印加して10〜60分保持する。
このとき、導入されたガスはプラズマ化するが、プラズマ中の電位は陽極から陰極までの大部分でほぼ一様であり、陰極付近で急激に電位が低下する。このため、プラズマ中のアルゴンイオンAr+などの不活性ガスは、陰極降下によって加速され、基材表面に衝突して表面の付着物を跳ね飛ばして基材2表面をクリーニングする。クリーニング時間は長いほうが後の浸炭は効率よく行われることになり浸炭層の硬度は上昇するが、処理時間が長すぎると、クリーニング処理による効果が飽和するばかりでなく、基材2の表面付近を必要以上に荒らすこととなる。また、長時間の処理は経済的にも不利になる。
The operation of the plasma carburizing process will be described in more detail. First, the
At this time, the introduced gas is turned into plasma, but the potential in the plasma is almost uniform from the anode to the cathode, and the potential drops rapidly in the vicinity of the cathode. For this reason, the inert gas such as argon ions Ar + in the plasma is accelerated by the cathode fall, and collides with the surface of the base material to jump off deposits on the surface to clean the surface of the
次に、炭化水素系ガスを圧力10〜700Paの範囲で導入する。これにより、プラズマガス中には、イオン化した活性炭素(C+)が発生し、これが基材2の表面に付着し、かつ基材2の内部に拡散する。炭化水素系ガスとしては、例えば、鎖式炭化水素、環式炭化水素等が挙げられる。鎖式炭化水素の代表例としては、一般式CnH2n+2で示されるメタン系炭化水素の他、エチレン系炭化水素(一般式CnH2n)、アセチレン系炭化水素(一般式CnH2n−2)が挙げられ、直鎖状のものであっても、側鎖を有するものであってもよい。特に、常温で気体のメタン、エタン、プロパン、ブタンは、使用に際して気化設備が不要であるので、好ましいものであるといえる。また、環式炭化水素としては、芳香族炭化水素、脂環式炭化水素等が挙げられる。芳香族炭化水素の代表例としては、ベンゼン(C6 H6 )が挙げられる。
基材2が主としてTiで構成されるものである場合、上記のような処理により、活性炭素の一部は炭素固溶チタンとして浸炭層中に存在するようになり、残りは基材材料と化合して炭化物となる。
Next, a hydrocarbon-based gas is introduced in a pressure range of 10 to 700 Pa. As a result, ionized activated carbon (C + ) is generated in the plasma gas, which adheres to the surface of the
When the
ところで、プラズマ浸炭処理では、炭化水素系ガスに水素ガス(H2)等を混合して用いてもよい。例えば、炭化水素系ガスを水素ガスで希釈した場合、H2の還元性により、生成する活性炭素の量を調整したり、炉内のガス圧を上げることにより電流の流れを良くすること等ができる。
炭化水素系ガスを単独で用いる場合(炭化水素系ガス以外のガスと混合して用いない場合)、その圧力は、10〜700Paであるのが好ましく、50〜300Paであるのがより好ましい。炭化水素系ガスと水素ガス等の希釈用ガスとの混合ガスを使用する場合には、炭化水素系ガスの分圧を10〜700Paの範囲に調整する。具体例を挙げると、炭化水素系ガスと水素ガスとの混合ガスを用いる場合には、炭化水素系ガスの分圧を10〜700Paとし、水素ガスの分圧を20〜2000Paとし、混合ガスの全圧力を30〜2700Paとするのが好ましい。
炭化水素系ガスの圧力(分圧)が前記下限値未満であると、浸炭層の炭化物および炭素の固溶が生成され難く、浸炭層が十分に深く形成できない可能性がある。一方、炭化水素系ガスの圧力(分圧)が前記上限値を越えると、基材2の表面にカーボン膜が形成され、内部への炭素の拡散が起こり難くなる可能性がある。
By the way, in the plasma carburizing process, hydrogen gas (H 2 ) or the like may be mixed with the hydrocarbon gas. For example, when a hydrocarbon-based gas is diluted with hydrogen gas, the amount of activated carbon produced can be adjusted due to the reducibility of H 2 or the current flow can be improved by increasing the gas pressure in the furnace. it can.
When the hydrocarbon gas is used alone (when not mixed with a gas other than the hydrocarbon gas), the pressure is preferably 10 to 700 Pa, and more preferably 50 to 300 Pa. When using the mixed gas of hydrocarbon gas and dilution gas, such as hydrogen gas, the partial pressure of hydrocarbon gas is adjusted to the range of 10-700 Pa. Specifically, when using a mixed gas of hydrocarbon gas and hydrogen gas, the partial pressure of the hydrocarbon gas is 10 to 700 Pa, the partial pressure of the hydrogen gas is 20 to 2000 Pa, The total pressure is preferably 30 to 2700 Pa.
If the pressure (partial pressure) of the hydrocarbon-based gas is less than the lower limit, it is difficult to form a solid solution of carbide and carbon in the carburized layer, and the carburized layer may not be formed sufficiently deep. On the other hand, if the pressure (partial pressure) of the hydrocarbon-based gas exceeds the upper limit, a carbon film is formed on the surface of the
プラズマ浸炭処理時の雰囲気温度は、特に限定されないが、400〜900℃であるのが好ましい。雰囲気温度が前記下限値未満であると、スーティングの発生が起こりやすくなり、そのために希釈用ガスの分圧を高める必要があり、浸炭反応が起こり難くなる場合がある。一方、雰囲気温度が前記上限値を越えると、基材2の構成材料によっては、該構成材料が変態し、基材2の強度や寸法精度が低下する可能性がある。
以上のようにして、基材2に浸炭処理が施されて、浸炭層(硬化層)21が形成される。
The atmospheric temperature during the plasma carburizing treatment is not particularly limited, but is preferably 400 to 900 ° C. When the atmospheric temperature is less than the lower limit, sooting is likely to occur, and therefore the partial pressure of the dilution gas needs to be increased, and the carburization reaction may be difficult to occur. On the other hand, when the ambient temperature exceeds the upper limit, depending on the constituent material of the
As described above, the carburizing process is performed on the
このようにして形成される浸炭層21の厚さ(平均値)は、特に限定されないが、0.1〜200μmであるのが好ましく、1.0〜50μmであるのがより好ましい。浸炭層21の厚さが前記範囲内の値であると、基材2の硬度を特に優れたものにするとともに、鏡面光沢を長時間保つことができる。これにより、例えば、得られる装飾品1Aは、打痕、傷等が特に付き難く、より長期間にわたって、優れた美的外観を保持することができる。
The thickness (average value) of the carburized
また、基材2と被膜30との密着性の向上等を目的として、後述する被膜30の形成に先立ち(上述した窒化処理、浸炭処理の前または後に)、基材2に対して、前処理を施してもよい。前処理としては、例えば、ブラスト処理、アルカリ洗浄、酸洗浄、水洗、有機溶剤洗浄、ボンバード処理等の清浄化処理、エッチング処理等が挙げられるが、この中でも特に、清浄化処理が好ましい。基材2の表面に、清浄化処理を施すことにより、基材2と被膜30との密着性が特に優れたものとなる。
Further, for the purpose of improving the adhesion between the
(窒化処理)
次に、窒化処理の方法について説明する。なお、ここでは、窒化処理の一例として、イオン窒化(ラジカル窒化)処理について説明するが、窒化処理の方法はこれに限定されるものではない。
この方法では、アンモニアガスと水素ガスとを含む雰囲気中でグロー放電を行い、基材2の表面付近をイオン窒化する。アンモニアガスと水素ガスとを含む雰囲気中でグロー放電を行うことで、窒素原子、窒素イオンが、基材2の表面付近により侵入しやすくなる。
(Nitriding treatment)
Next, a nitriding method will be described. Here, ion nitriding (radical nitriding) processing will be described as an example of nitriding processing, but the method of nitriding processing is not limited to this.
In this method, glow discharge is performed in an atmosphere containing ammonia gas and hydrogen gas, and the vicinity of the surface of the
このとき、基材2の温度を300〜500℃の範囲に保持することが好ましい。基材2の温度を前記範囲内の値とすることで、イオン窒化を好適に行うことができる。これに対し、基材の温度が前記下限値未満では、イオン窒化が進行し難くなり、装飾品1Aの生産効率が低下する。また、基材2の温度が極端に低い場合には、装飾品1Aを実質的に製造できなくなる場合もある。一方、基材の温度が前記上限値を超えると、硬化後の基材2の耐食性が低下する傾向を示す。
At this time, it is preferable to maintain the temperature of the
また、グロー放電の電流密度は、0.001〜2mA/cm2であるのが好ましい。グロー放電の電流密度を前記範囲内の値とすることで、イオン窒化を好適に行うことが可能となる。
以上のようにして、基材2に窒化処理が施されて、窒化層(硬化層)22が形成される。
The current density of glow discharge is preferably 0.001 to 2 mA / cm 2 . By setting the current density of the glow discharge to a value within the above range, ion nitriding can be suitably performed.
As described above, the
このようにして形成される窒化層22の厚さ(平均値)は、特に限定されないが、0.1〜200μmであるのが好ましく、1.0〜50μmであるのがより好ましい。窒化層22の厚さが前記範囲内の値であると、基材2の硬度を特に優れたものにするとともに、鏡面光沢を長時間保つことができる。これにより、例えば、得られる装飾品1Aは、打痕、傷等が特に付き難く、より長期間にわたって、優れた美的外観を保持することができる。
以上の説明では、基材2に対して、窒化処理、浸炭処理の一方のみを行うものとして説明したが、窒化処理と浸炭処理との両方を施してもよい。
The thickness (average value) of the
In the above description, the
[被膜の形成]
上記のようにして硬化処理(窒化処理、浸炭処理)が施された基材2の表面に、Tiおよび/またはCrを含む材料で構成された被膜30を形成する(1c)。
本発明では、被膜30を乾式めっき法により形成する。これにより、均質で、かつ基材2との密着性(後述する実施形態においては、下地層との密着性)が特に優れた被膜30を比較的容易に形成することができる。その結果、得られる装飾品1Aの耐久性は、さらに向上する。また、乾式めっき法を用いることにより、特に高密度の被膜30を形成することが可能となる。その結果、装飾品1Aは、長期間にわたって特に優れた美的外観を保持できるものとなる。
[Formation of film]
A
In the present invention, the
被膜30は、Ti(Ti元素)および/またはCr(Cr元素)を含む材料で構成されたものであればいかなるものであってもよいが、Ti化合物および/またはCr化合物を含む材料で構成されたものであるのが好ましく、TiN、TiC、TiCN、TiO、CrN、CrC、CrCNおよびCrOよりなる群から選択される少なくとも1種を含む材料で構成されたものであるのがより好ましい。被膜30が上記のような材料で構成されたものであると、得られる装飾品1Aの美的外観を特に優れたものとすることができるとともに、装飾品1A全体としての強度(傷等の付き難さ)を特に優れたものとすることができる。また、上記のような材料(TiN、TiC、TiCN、TiO、CrN、CrC、CrCNおよびCrO)を適宜選択することにより、被膜30の色を好適に調整することができる。例えば、被膜30をTiNで構成した場合、被膜30は金色を有するものとなり、被膜30をTiCで構成した場合、被膜30は濃グレーを有するものとなり、被膜30をTiCNで構成した場合、被膜30は淡グレーを有するものとなり、被膜30をTiOで構成した場合、被膜30は青色を有するものとなり、被膜30をCrNで構成した場合、被膜30は明るい銀色を有するものとなり、被膜30をCrCで構成した場合、被膜30は、濃〜淡グレー色を有するものとなり、被膜30をCrCNで構成した場合、被膜30は重厚な銀色を有するものとなり、被膜30をCrOで構成した場合、被膜30は重厚な銀色を有するものとなる。上記の材料を2種以上組み合わせて用い、これらの配合比を適宜調整することにより、微妙な色合いも比較的容易に表現することができる。その結果、最終的に得られる装飾品1Aを、例えば、従来では製造するのが困難であった、重厚な金属光沢を有するものとすることができる。
また、被膜30の構成材料は、基材2を構成する材料(被膜30が形成される部位の構成材料)のうち少なくとも1種を含むものであるのが好ましい。言い換えると、被膜30と基材2とは、互いに共通の元素を含む材料で構成されたものであるのが好ましい。これにより、基材2と被膜30との密着性がさらに向上する。
The
Moreover, it is preferable that the constituent material of the
被膜30の形成に適用する乾式めっき法としては、例えば、熱CVD、プラズマCVD、レーザーCVD等の化学蒸着法(CVD)、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等が挙げられるが、中でも、イオンプレーティングが好ましい。これにより、より均質で、かつ、基材や下地層との密着性が特に優れた被膜を比較的容易に形成することができる。その結果、得られる装飾品の耐久性は、特に優れたものとなる。また、イオンプレーティング法を用いることにより、特に高密度の被膜を形成することが可能となり、得られる装飾品は、長期間にわたって特に優れた美的外観を保持できるものとなる。
Examples of the dry plating method applied to the formation of the
イオンプレーティングは、例えば、以下のような条件で行うのが好ましい。
イオンプレーティング時におけるイオン化電圧は、例えば、15〜200Vであるのが好ましく、20〜130Vであるのがより好ましい。イオン化電圧が前記範囲内の値であると、基材2との密着性に優れた被膜30を形成することができる。また、形成される被膜30は、各部位における膜厚のバラツキが小さいものとなり、内部応力が小さく、クラックが発生し難いものとなる。
For example, the ion plating is preferably performed under the following conditions.
The ionization voltage at the time of ion plating is, for example, preferably 15 to 200 V, and more preferably 20 to 130 V. When the ionization voltage is a value within the above range, it is possible to form the
イオンプレーティング時におけるイオン化電流は、例えば、5〜150Aであるのが好ましく、10〜30Aであるのがより好ましい。イオン化電流が前記範囲内の値であると、基材2との密着性に優れた被膜30を形成することができる。また、形成される被膜30は、各部位における膜厚のバラツキが小さいものとなり、内部応力が小さく、クラックが発生し難いものとなる。
For example, the ionization current during ion plating is preferably 5 to 150 A, and more preferably 10 to 30 A. When the ionization current is a value within the above range, the
被膜30の組成は、イオンプレーティング時における雰囲気ガスの組成等を調整することにより制御することができる。
例えば、前述のようなイオンプレーティングを、酸素を含む雰囲気ガス中で行うことにより、チタンやクロムの酸化物で構成される被膜30を形成することができる。同様に、イオンプレーティングを、窒素を含む雰囲気ガス中で行うことにより、チタンやクロムの窒化物で構成される被膜30を形成することができ、また、アセチレン等の炭化水素を含む雰囲気ガス中で行うことにより、チタンやクロムの炭化物で構成される被膜30を形成することができる。
このように、イオンプレーティングにおいては、雰囲気ガスの組成を適宜選択することにより、容易に、所望の組成を有する被膜30を形成することができる。このように、被膜30の組成を容易に調整することにより、被膜30の特性(例えば、色、光沢度、硬度等)を調整することが可能となる。
The composition of the
For example, the
Thus, in ion plating, the
イオンプレーティング時における雰囲気の圧力は、特に限定されないが、1×10−2〜5×10−1Pa程度であるのが好ましく、1×10−1〜3×10−1Pa程度であるのが好ましい。
イオンプレーティング法により形成される被膜30の厚さ(平均値)は、2〜10μmであるのが好ましく、2〜5μmであるのがより好ましい。被膜30の厚さが前記範囲内の値であると、被膜30は、特に優れた光沢と耐擦傷性とを有するものとなる。その結果、より長期間にわたって優れた美的外観を有する装飾品1Aを得ることができる。
The pressure of the atmosphere at the time of ion plating is not particularly limited, but is preferably about 1 × 10 −2 to 5 × 10 −1 Pa, preferably about 1 × 10 −1 to 3 × 10 −1 Pa. Is preferred.
The thickness (average value) of the
一方、被膜30の厚さが前記下限値未満であると、被膜30の効果が十分に得られなくなる。また、被膜30にピンホールが発生し易くなり、得られる装飾品1Aの美的外観が低下する。また、被膜30の厚さが前記上限値を超えると、被膜30の内部応力が高くなり、被膜30と基材2との密着性が低下したり、クラックが発生し易くなる。その結果、装飾品1Aの耐久性が低下し、安定した美的外観が得られなくなる。
On the other hand, when the thickness of the
また、被膜30は、ビッカース硬度Hvが、1500以上であるのが好ましく、1800以上であるのがより好ましく、2100以上であるのがさらに好ましい。被膜30のビッカース硬度Hvが前記下限値未満であると、装飾品1Aの用途によっては、十分な耐擦傷性が得られない可能性がある。
また、被膜30の表面の摩耗係数(耐鋼)は、装飾品1Aの用途等により異なるが、0.8以下であるのが好ましく、0.75以下であるのが好ましく、0.7以下であるのがさらに好ましい。被膜30の表面の摩耗係数が前記のような値であると、装飾品1Aの滑り性が向上し、ザラツキ感を軽減、防止することができ、装飾品1Aが皮膚等に接触したときの違和感、不快感を軽減、防止することができる。
Further, the
Further, the wear coefficient (steel resistance) of the surface of the
なお、被膜30の各部位における組成は、一定であっても、一定でなくてもよい。例えば、被膜30は、その厚さ方向に沿って、組成が順次変化するもの(傾斜材料)であってもよいし、複数の層からなる積層体であってもよい。
また、被膜30は、図示の構成では基材2の全面に形成されているが、基材2の表面の少なくとも一部に形成されるものであればよい。
In addition, the composition in each part of the
Further, the
[装飾品]
以上説明したような表面処理方法により、装飾品1Aが得られる。
装飾品1Aは、装飾性を備えた物品であればいかなるものでもよいが、例えば、置物等のインテリア、エクステリア用品、宝飾品、時計ケース(胴、裏蓋等)、時計バンド(バンド中留、バンド・バングル着脱機構等を含む)、文字盤、時計用針、ベゼル(例えば、回転ベゼル等)、りゅうず(例えば、ネジロック式りゅうず等)、ボタン等の時計用外装部品、ムーブメントの地板、歯車、輪列受け、回転錘等の時計用内装部品、メガネ、ネクタイピン、カフスボタン、指輪、ネックレス、ブレスレット、アンクレット、ブローチ、ペンダント、イヤリング、ピアス等の装身具、ライターまたはそのケース、自動車のホイール、ゴルフクラブ等のスポーツ用品、銘板、パネル、賞杯、その他ハウジング等を含む各種機器部品、各種容器等が挙げられる。この中でも特に、少なくともその一部が皮膚に接触して用いられるものが好ましく、時計用外装部品がより好ましい。時計用外装部品は、装飾品として外観の美しさが要求されるとともに、実用品として、耐久性、耐食性、耐擦傷性、耐摩耗性や、優れた触感等が要求されるが、本発明によればこれらの要件を全て満足することができる。
[Decoration]
The
The
次に、本発明の表面処理方法および装飾品の第2実施形態について説明する。
図2は、本発明の表面処理方法の第2実施形態を示す断面図である。
以下、第2実施形態の表面処理方法および該方法を用いて製造される第2実施形態の装飾品について、前記第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項の説明については、その説明を省略する。
Next, a second embodiment of the surface treatment method and decorative article of the present invention will be described.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a second embodiment of the surface treatment method of the present invention.
Hereinafter, the surface treatment method according to the second embodiment and the decorative article according to the second embodiment manufactured using the method will be described with a focus on differences from the first embodiment, and the description of similar matters will be described. The description is omitted.
図2に示すように、本実施形態の表面処理方法は、基材2の少なくとも一部(2a)に、窒化処理または浸炭処理による効果処理を施す工程(2b)と、硬化処理が施された基材2上の少なくとも一部に下地層40を形成する工程(2c)と、下地層40上の少なくとも一部に乾式めっき法により被膜30を形成する工程(2d)とを有する。
すなわち、被膜30の形成に先立ち、基材2上の少なくとも一部に、下地層40を形成する以外は、前述した第1実施形態と同様である。
As shown in FIG. 2, in the surface treatment method of the present embodiment, at least a part (2a) of the
That is, it is the same as in the first embodiment described above except that the
以下、下地層40について詳細に説明する。
[下地層]
下地層40は、例えば、基材2と被膜30との密着性を向上させる機能密着(密着向上層としての機能)や、基材2の孔、キズ等をレベリング(ならし)により補修する機能(レベリング層としての機能)、得られる装飾品において、外部からの衝撃を緩和する機能(クッション層としての機能)等、いかなる機能を有するものであってもよい。
Hereinafter, the
[Underlayer]
The
下地層40の形成方法としては、例えば、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法、熱CVD、プラズマCVD、レーザーCVD等の化学蒸着法(CVD)、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の乾式めっき法、溶射、金属箔の接合等が挙げられるが、この中でも特に、乾式めっき法が好ましい。
下地層40の形成方法として、乾式めっき法を用いることにより、形成される下地層40は、基材2との密着性に特に優れたものとなる。その結果、得られる装飾品1Bの長期耐久性は、特に優れたものとなる。
Examples of the method for forming the
By using a dry plating method as the formation method of the
下地層40の構成材料は、特に限定されず、例えば、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Alやこれらのうち少なくとも1種を含む合金等の金属材料、または、前記金属材料の窒化物、炭窒化物、炭化物、炭酸窒化物、炭酸化物、酸化物等が挙げられるが、Ti、Crまたはこれらのうち少なくとも1種を含む合金であるのが好ましい。下地層40がこのような材料で構成されたものであると、下地層40と基材2との密着性が特に優れたものとなるとともに、基材2の表面の凹凸を緩和するレベリング層としての機能がより顕著に発揮される。また、下地層40が前記のような材料で構成されたものであると、得られる装飾品1Bにおいて、下地層40が外部からの衝撃を緩和するクッション層としてより効果的に機能し、その結果、装飾品1Bは、打痕等の凹みが特に生じ難いものとなる。
The constituent material of the
また、下地層40の構成材料は、基材2を構成する材料(被膜30が形成される部位の構成材料)または被膜30を構成する材料のうち少なくとも1種を含むものであるのが好ましい。言い換えると、被膜30は、基材2の構成材料中に含まれる元素または被膜30の構成材料中に含まれる元素と、共通の元素を含む材料で構成されたものであるのが好ましい。これにより、下地層40は、基材2、被膜30との密着性が特に優れたものとなる。また、下地層40と被膜30とが、互いに共通の元素(金属元素)を含む材料で構成されたものである場合、金属源および反応ガスを制御することにより、同一装置を用いて連続的に、下地層40と被膜30とを順次形成することができる。これにより、プロセスの効率化を図ることができる。
In addition, the constituent material of the
下地層40の厚さ(平均値)は、特に限定されないが、例えば、0.1〜30μmであるのが好ましく、1.0〜10μmであるのがより好ましい。下地層40の平均厚さが前記下限値未満であると、前述したような下地層40の効果が十分に発揮されない可能性がある。一方、下地層40の平均厚さが前記上限値を超えると、下地層40の各部位における膜厚のバラツキが大きくなる傾向を示す。また、下地層40の内部応力が高くなり、クラックが発生し易くなる。
The thickness (average value) of the
なお、上記のような下地層40の形成に先立ち、硬化処理(窒化処理、浸炭処理)が施された基材2に対して、前処理を施してもよい。前処理としては、例えば、ブラスト処理、アルカリ洗浄、酸洗浄、水洗、有機溶剤洗浄、ボンバード処理等の清浄化処理、エッチング処理等が挙げられるが、この中でも特に、清浄化処理が好ましい。基材2の表面に、清浄化処理を施すことにより、基材2と下地層40との密着性を特に優れたものとすることができる。
Prior to the formation of the
以上説明したように、下地層40を形成することにより、例えば、基材2と被膜30との密着性や装飾品1Bの耐食性を高めたり、外部からの衝撃に対する安定性を向上させること等ができる。その結果、装飾品1Bは、より長期間にわたって優れた美的外観を保持することができるものとなる。
なお、下地層40は、図示の構成では基材2の全面に形成されているが、基材2の表面の少なくとも一部に形成されるものであればよい。
As described above, by forming the
The
また、下地層40の各部位における組成は、一定であっても、一定でなくてもよい。例えば、下地層40は、その厚さ方向に沿って、組成が順次変化するもの(傾斜材料)であってもよい。また、図示の構成では、下地層が1層のみ形成された構成について説明したが、下地層が2層以上設けられていてもよい(下地層40が2層以上の積層体であってもよい)。
Moreover, the composition in each part of the
また、下地層40は、上記のような機能を有するものに限定されない。例えば、下地層40は、基材2と被膜30との電位差を緩和する緩衝層として機能や、保管時(被膜30の形成の工程までの間)等に腐食が発生するのを防止する機能等を有するものであってもよい。
また、下地層に対して、前記実施形態で説明したような処理(窒化処理、浸炭処理)を施してもよい。
The
Moreover, you may perform a process (nitriding process, carburizing process) as demonstrated in the said embodiment with respect to a base layer.
次に、本発明の表面処理方法および装飾品の第3実施形態について説明する。
図3、図4、図5は、本発明の表面処理方法の第3実施形態を示す断面図である。
以下、第3実施形態の表面処理方法および該方法を用いて製造される第3実施形態の装飾品について、前記第1および第2実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項の説明については、その説明を省略する。
Next, a third embodiment of the surface treatment method and decorative article of the present invention will be described.
3, 4 and 5 are sectional views showing a third embodiment of the surface treatment method of the present invention.
Hereinafter, the surface treatment method according to the third embodiment and the decorative article according to the third embodiment manufactured using the method will be described with a focus on differences from the first and second embodiments. The explanation is omitted here.
図3〜図5に示すように、本実施形態の表面処理方法は、基材2の少なくとも一部(3a)に、窒化処理または浸炭処理による硬化処理を施す工程(3b)と、硬化処理が施された基材2上の少なくとも一部に第1の下地層41を形成する工程(3c)と、第1の下地層41上の少なくとも一部に乾式めっき法により第1の被膜31を形成する工程(3d)と、第1の被膜31上の少なくとも一部に第2の下地層42を形成する工程(3e)と、第2の下地層42上の少なくとも一部に乾式めっき法により第2の被膜32を形成する工程(3f)と、第2の被膜32上の少なくとも一部に第3の下地層43を形成する工程(3g)と、第3の下地層43上の少なくとも一部に乾式めっき法により第3の被膜33を形成する工程(3h)と、第3の被膜33上の少なくとも一部に第4の下地層44を形成する工程(3i)と、第4の下地層44上の少なくとも一部に乾式めっき法により第4の被膜34を形成する工程(3j)とを有する。
すなわち、下地層(前記第2実施形態での下地層40に対応する第1の下地層41)上に形成された被膜(前記第2実施形態での被膜30に対応する第1の被膜31)上に、下地層と被膜とを、この順で繰り返し積層し、下地層−下地層間に被膜が設けられ、かつ、被膜−被膜間に下地層が設けられた構成とした以外は、前記第2実施形態と同様である。
As shown in FIGS. 3 to 5, the surface treatment method of the present embodiment includes a step (3b) of performing a curing treatment by nitriding treatment or carburizing treatment on at least a part (3a) of the
That is, the film (the
以下、第1の下地層41、第2の下地層42、第3の下地層43、第4の下地層44、第1の被膜31、第2の被膜32、第3の被膜33、第4の被膜34について説明する。
[第1の下地層、第2の下地層、第3の下地層、第4の下地層]
第1の下地層41、第2の下地層42、第3の下地層43、第4の下地層44(以下、これらをまとめて、単に「下地層」とも言う)は、いずれも、前述した下地層40と同様の機能を有するものである。
Hereinafter, the
[First ground layer, second ground layer, third ground layer, fourth ground layer]
The
下地層の形成方法は、前述した下地層40の形成方法と同様であるのが好ましい。ただし、各下地層について、形成方法、形成条件は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
また、下地層の構成材料についても、前述した下地層40の構成材料と同様であるのが好ましい。ただし、各下地層について、構成材料は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
The formation method of the underlayer is preferably the same as the formation method of the
Also, the constituent material of the underlayer is preferably the same as the constituent material of the
ところで、本実施形態においては、複数の下地層(第1の下地層41、第2の下地層42、第3の下地層43および第4の下地層44)が、被膜(第1の被膜31、第2の被膜32および第3の被膜33)を介して積層された構成となっている。
このような構成を有することにより、各下地層の厚さが比較的薄いものであっても、前記第2実施形態で説明した下地層の機能(下地層40の機能)を十分に発揮することができる。また、各下地層の厚さを比較的薄いものとすることにより、各層内において内部応力が高くなるのをより効果的に防止することができ、その結果、得られる装飾品1Cはクラック等の欠陥を特に生じ難いものとなる。
By the way, in the present embodiment, a plurality of underlayers (
By having such a configuration, even if the thickness of each foundation layer is relatively thin, the function of the foundation layer (function of the foundation layer 40) described in the second embodiment is sufficiently exhibited. Can do. Further, by making the thickness of each underlayer relatively thin, it is possible to more effectively prevent the internal stress from being increased in each layer, and as a result, the resulting decorative article 1C has cracks and the like. Defects are particularly unlikely to occur.
具体的には、各下地層(第1の下地層41、第2の下地層42、第3の下地層43、第4の下地層44)の厚さは、特に限定されないが、例えば、0.1〜5.0μmであるのが好ましく、0.1〜3.0μmであるのがより好ましい。
また、本実施形態のように複数の下地層を有する場合、各下地層の厚さの和は、0.1〜30μmであるのが好ましく、1〜10μmであるのがより好ましい。
Specifically, the thickness of each base layer (the
Moreover, when it has a several base layer like this embodiment, it is preferable that the sum of the thickness of each base layer is 0.1-30 micrometers, and it is more preferable that it is 1-10 micrometers.
[第1の被膜、第2の被膜、第3の被膜、第4の被膜]
第1の被膜31、第2の被膜32、第3の被膜33、第4の被膜34(以下、これらをまとめて、単に「被膜」とも言う)は、いずれも、前述した被膜30と同様の機能を有するものである。
被膜の形成方法、形成条件は、前述した被膜30の形成方法、形成条件と同様であるのが好ましい。ただし、各被膜について、形成方法、形成条件は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
また、被膜の構成材料についても、前述した被膜30の構成材料と同様であるのが好ましい。ただし、各被膜について、構成材料は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
[First coating, second coating, third coating, fourth coating]
The
The formation method and formation conditions of the coating are preferably the same as the formation method and formation conditions of the
Also, the constituent material of the coating is preferably the same as the constituent material of the
ところで、本実施形態においては、複数の被膜(第1の被膜31、第2の被膜32、第3の被膜33および第4の被膜34)が、被膜(第2の被膜32、第3の被膜33および第4の被膜34)を介して積層された構成となっている。
このような構成を有することにより、各被膜の厚さが比較的薄いものであっても、前記第1実施形態で説明した被膜の機能(被膜30の機能)を十分に発揮することができる。また、各被膜の厚さを比較的薄いものとすることにより、各層内において内部応力が高くなるのをより効果的に防止することができ、その結果、得られる装飾品1Cはクラック等の欠陥を特に生じ難いものとなる。
具体的には、被膜(第1の被膜31、第2の被膜32、第3の被膜33、第4の被膜34)の厚さは、特に限定されないが、例えば、0.1〜50μmであるのが好ましく、1〜10μmであるのがより好ましい。
By the way, in the present embodiment, a plurality of coatings (
By having such a configuration, even if the thickness of each coating is relatively thin, the function of the coating described in the first embodiment (the function of the coating 30) can be sufficiently exhibited. Further, by making the thickness of each coating relatively thin, it is possible to more effectively prevent the internal stress from being increased in each layer, and as a result, the resulting decorative article 1C has defects such as cracks. This is particularly difficult to occur.
Specifically, the thickness of the coating (the
上記のように、本実施形態では、下地層と被膜とが交互に設けられている。このように、下地層と被膜とが交互に設けられることにより、各層(下地層、被膜)の厚さを比較的薄いものとしても、十分な硬度を有し、外部からの衝撃による変形等を生じ難く、また、優れた美的外観を有するものとなる。特に、各下地層が、Ti、Crまたはこれらのうち少なくとも1種を含む合金で構成されたものであると、上述したクッション層としての機能がより顕著に発揮される。すなわち、各下地層が、前述したような材料で構成されたものであると、装飾品1Cは、外部からの衝撃等を受けた場合であっても、打痕等の凹みが特に生じ難いものとなる。これにより、装飾品は(特に、ダイバー用ウォッチや登山用ウォッチのように、身に付けて使用し、外部からの衝撃を受け易い装飾品であっても)、より長期間にわたって、優れた美的外観を維持することができるものとなる。 As described above, in the present embodiment, the base layer and the coating are provided alternately. Thus, by providing the underlayer and the coating alternately, even if the thickness of each layer (underlayer, coating) is relatively thin, it has sufficient hardness and can be deformed by an impact from the outside. It is difficult to occur and has an excellent aesthetic appearance. In particular, when each underlayer is made of Ti, Cr, or an alloy containing at least one of these, the above-described function as a cushion layer is more remarkably exhibited. That is, if each underlayer is made of the material as described above, the decorative article 1C is particularly difficult to cause a dent such as a dent even when subjected to an external impact or the like. It becomes. As a result, ornaments (especially ornaments that are worn on the surface and are susceptible to external impacts, such as diver watches and mountaineering watches), have excellent aesthetics over a longer period of time. Appearance can be maintained.
なお、隣接する2つの層(下地層または被膜)は、互いに共通の元素を含む材料で構成されたものであるのが好ましい。これにより、当該隣接する層同士の密着性がさらに向上する。また、隣接する層(下地層または被膜)が、互いに共通の元素(金属元素)を含む材料で構成されたものである場合、金属源および反応ガスを制御することにより、同一装置を用いて連続的に、下地層と被膜とを順次形成することができる。これにより、プロセスの効率化を図ることができる。 In addition, it is preferable that two adjacent layers (underlayer or film) are made of a material containing a common element. Thereby, the adhesiveness between the adjacent layers is further improved. When adjacent layers (underlayers or coatings) are composed of materials containing elements common to each other (metal elements), the same apparatus can be used continuously by controlling the metal source and the reaction gas. Thus, the underlayer and the coating can be formed sequentially. Thereby, process efficiency can be improved.
以上、本発明の表面処理方法および装飾品の好適な実施形態について説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、本発明の装飾品の表面処理方法では、必要に応じて、任意の目的の工程を追加することもできる。
また、前述した第3実施形態においては、4層の下地層(第1の下地層41、第2の下地層42、第3の下地層43および第4の下地層44)と、4層の被膜(第1の被膜31、第2の被膜32、第3の被膜33および第4の被膜34)とが交互に積層された構成のものについて説明したが、例えば、下地層、被膜が、それぞれ、2層ずつ設けられたものであってもよいし、3層ずつ設けられたものであってもよいし、5層以上ずつ設けられたものであってもよい。
The preferred embodiments of the surface treatment method and decorative article of the present invention have been described above, but the present invention is not limited to these.
For example, in the decorative article surface treatment method of the present invention, an optional process can be added as necessary.
In the above-described third embodiment, the four underlayers (the
また、被膜は2層以上の積層体で構成されたものであってもよい。
また、下地層は2層以上の積層体で構成されたものであってもよい。
また、基材が前述したような基部と表面層とを有するものである場合、基部と下地層との間に少なくとも1層の中間層が形成されていてもよい。
また、基材は、複数の層からなる積層体であってもよい。
また、装飾品の表面の少なくとも一部には、耐食性、耐候性、耐水性、耐油性、耐擦傷性、耐摩耗性、耐変色性等を付与し、防錆、防汚、防曇、防傷等の効果を向上する保護層等が形成されていてもよい。
Moreover, the film may be composed of a laminate of two or more layers.
The underlayer may be composed of a laminate of two or more layers.
Moreover, when the base material has the base and the surface layer as described above, at least one intermediate layer may be formed between the base and the base layer.
Further, the substrate may be a laminate composed of a plurality of layers.
In addition, at least a part of the surface of the decorative article is given corrosion resistance, weather resistance, water resistance, oil resistance, scratch resistance, abrasion resistance, discoloration resistance, etc. A protective layer or the like that improves the effect of scratches or the like may be formed.
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
1.装飾品の製造
(実施例1)
以下に示すような表面処理を施すことにより、装飾品(腕時計ケース(裏蓋))を製造した。
Next, specific examples of the present invention will be described.
1. Manufacture of decorative products (Example 1)
A decorative article (watch case (back cover)) was manufactured by performing the following surface treatment.
まず、ステンレス鋼(SUS444)を用いて、鋳造により、腕時計ケース(裏蓋)の形状を有する基材を作製し、その後、必要箇所を切削、研磨した。
次に、この基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を30秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を30秒間行った。その後、中和を10秒間、水洗を10秒間、純水洗浄を10秒間行った。
このようにして洗浄を行った基材の表面に、浸炭処理を行った。
First, a base material having the shape of a watch case (back cover) was produced by casting using stainless steel (SUS444), and then necessary portions were cut and polished.
Next, this base material was washed. As the cleaning of the substrate, first, alkaline electrolytic degreasing was performed for 30 seconds, and then alkaline immersion degreasing was performed for 30 seconds. Thereafter, neutralization was performed for 10 seconds, washing with water for 10 seconds, and washing with pure water for 10 seconds.
Carburizing treatment was performed on the surface of the substrate thus cleaned.
浸炭処理は、以下に説明するようなプラズマ浸炭処理により行った。
すなわち、加熱炉内にグラファイトファイバー等の断熱材で囲まれた処理室を有し、この処理室内をロッドグラファイトからなる発熱体で加熱すると共に、処理室内の上部に直流グロー放電の正極を接続し、かつ処理品の載置台に陰極を接続し、また処理室内の要所にガスマニホールドを設置して炭化水素、窒素、アルゴン、水素などのプロセスガス(浸炭用ガスおよび希釈用ガス)を適宜導入するようにした浸炭処理装置を用意した。
The carburizing process was performed by a plasma carburizing process as described below.
That is, it has a processing chamber surrounded by a heat insulating material such as graphite fiber in a heating furnace, the processing chamber is heated by a heating element made of rod graphite, and a positive electrode of a direct current glow discharge is connected to the upper portion of the processing chamber. In addition, a cathode is connected to the processing table and a gas manifold is installed at a key point in the processing chamber to introduce hydrocarbons, nitrogen, argon, hydrogen and other process gases (carburizing gas and dilution gas) as appropriate. A carburizing apparatus was prepared.
そして、まず、浸炭処理装置の処理室内に基材を設置し、処理室内を1.3Paまで減圧した。このように、処理室内が減圧された状態で、ヒータにより、基材を約300℃に加熱した。
その後、クリーニング用アルゴンガスを処理室内に導入して5分間のクリーニング処理を行った。クリーニング処理は、350Vの直流電圧を印加することにより行った。
And first, the base material was installed in the processing chamber of the carburizing apparatus, and the processing chamber was depressurized to 1.3 Pa. In this way, the substrate was heated to about 300 ° C. by the heater while the processing chamber was decompressed.
Thereafter, a cleaning argon gas was introduced into the processing chamber to perform a cleaning process for 5 minutes. The cleaning process was performed by applying a DC voltage of 350V.
その後、処理室内にプロパンガスを導入することにより、処理室内のガス組成をほぼ100%プロパンガスとし、ガス圧力を53Paとし、400Vの直流電圧を印加して90〜180分保持することにより、プラズマ浸炭処理を行った。その後、アルゴンガスおよび窒素ガスを処理室内に圧入して基材を常温にまで冷却した。このような浸炭処理により、約15μmの厚さの浸炭層が形成された。 Thereafter, by introducing propane gas into the processing chamber, the gas composition in the processing chamber is almost 100% propane gas, the gas pressure is 53 Pa, a DC voltage of 400 V is applied, and the plasma is held for 90 to 180 minutes. Carburizing treatment was performed. Thereafter, argon gas and nitrogen gas were injected into the processing chamber to cool the substrate to room temperature. By such a carburizing process, a carburized layer having a thickness of about 15 μm was formed.
次に、上記のようにして浸炭処理を行った基材に対して、イオンプレーティング装置を用いて、以下のようにしてクロム化合物で構成される被膜を形成した。
まず、イオンプレーティング装置の処理室内を予熱しながら、処理室内を3×10−3Paまで排気(減圧)した。
次に、クリーニング用アルゴンガスを処理室内に導入して、5分間のクリーニング処理を行った。クリーニング処理は、350Vの直流電圧を印加することにより行った。
Next, a coating composed of a chromium compound was formed on the base material that had been carburized as described above using an ion plating apparatus as follows.
First, while preheating the processing chamber of the ion plating apparatus, the processing chamber was evacuated (depressurized) to 3 × 10 −3 Pa.
Next, a cleaning argon gas was introduced into the processing chamber, and a cleaning process was performed for 5 minutes. The cleaning process was performed by applying a DC voltage of 350V.
その後、処理室内に窒素ガスを、ガス圧力を53Paで導入し、400Vの直流電圧を印加して30〜60分保持した。このような状態で、ターゲットとしてCrを用い、イオン化電圧:30V、イオン化電流:140Aに設定することにより、CrNで構成される被膜を形成し、装飾品を得た。形成された被膜の平均厚さは、3μmであった。被膜の厚さは、JIS H 5821の顕微鏡断面試験方法により測定した。 Thereafter, nitrogen gas was introduced into the treatment chamber at a gas pressure of 53 Pa, and a DC voltage of 400 V was applied and held for 30 to 60 minutes. In such a state, Cr was used as a target, and the ionization voltage was set to 30 V and the ionization current was set to 140 A, thereby forming a film composed of CrN and obtaining an ornament. The average thickness of the formed film was 3 μm. The thickness of the coating was measured by the microscope cross-sectional test method of JIS H5821.
(実施例2)
以下に示すような表面処理を施すことにより、装飾品(腕時計ケース(胴))を製造した。
まず、金属粉末射出成形(MIM)により、腕時計ケース(胴)の形状を有するTi製の基材を作製した。
(Example 2)
A decorative article (watch case (body)) was manufactured by performing the following surface treatment.
First, a Ti base material having the shape of a watch case (body) was produced by metal powder injection molding (MIM).
Ti製の基材は、以下のようにして作製した。
まず、ガスアトマイズ法により製造された平均粒径52μmのTi粉末を用意した。
このTi粉末:75vol%と、ポリエチレン:8vol%と、ポリプロピレン:7vol%と、パラフィンワックス:10vol%とからなる材料を混練した。前記材料の混練には、ニーダーを用いた。また、混練時における材料温度は60℃であった。
The substrate made of Ti was produced as follows.
First, a Ti powder having an average particle diameter of 52 μm manufactured by a gas atomization method was prepared.
A material composed of Ti powder: 75 vol%, polyethylene: 8 vol%, polypropylene: 7 vol%, and paraffin wax: 10 vol% was kneaded. A kneader was used for kneading the materials. Moreover, the material temperature at the time of kneading | mixing was 60 degreeC.
次に、得られた混練物を粉砕、分級して平均粒径3mmのペレットとした。このペレットを用いて、射出形成機にて金属粉末射出成形(MIM)し、腕時計ケースの形状を有する成形体を製造した。このとき成形体は、脱バインダー処理、焼結時での収縮を考慮して成形した。射出成形時における成形条件は、金型温度40℃、射出圧力80kgf/cm2、射出時間20秒、冷却時間40秒であった。 Next, the obtained kneaded material was pulverized and classified into pellets having an average particle diameter of 3 mm. Using these pellets, metal powder injection molding (MIM) was performed with an injection molding machine to produce a molded body having the shape of a watch case. At this time, the molded body was molded in consideration of debinding treatment and shrinkage during sintering. The molding conditions at the time of injection molding were a mold temperature of 40 ° C., an injection pressure of 80 kgf / cm 2 , an injection time of 20 seconds, and a cooling time of 40 seconds.
次に、前記成形体に対して、脱脂炉を用いた脱バインダー処理を施し、脱脂体を得た。この脱バインダー処理は、1.0×10−1Paのアルゴンガス雰囲気中、80℃で1時間、次いで、10℃/時間の速度で400℃まで昇温した。熱処理時におけるサンプルの重さを測定し、重量低下がなくなった時点を脱バインダー終了時点とした。
次に、このようにして得られた脱脂体に対し、焼結炉を用いて焼結を行い、基材を得た。この焼結は、1.3×10−3〜1.3×10−4Paのアルゴンガス雰囲気中で、900〜1100℃×6時間の熱処理を施すことにより行った。
Next, the molded body was subjected to a debinding process using a degreasing furnace to obtain a degreased body. This binder removal treatment was performed in an argon gas atmosphere of 1.0 × 10 −1 Pa at 80 ° C. for 1 hour and then at a rate of 10 ° C./hour up to 400 ° C. The weight of the sample at the time of heat treatment was measured, and the point at which the weight reduction disappeared was defined as the end of debinding.
Next, the degreased body thus obtained was sintered using a sintering furnace to obtain a base material. This sintering was performed by performing a heat treatment at 900 to 1100 ° C. for 6 hours in an argon gas atmosphere of 1.3 × 10 −3 to 1.3 × 10 −4 Pa.
以上のようにして得られた基材について、その必要箇所を切削、研磨した後、この基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を30秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を30秒間行った。その後、中和を10秒間、水洗を10秒間、純水洗浄を10秒間行った。
このようにして洗浄を行った基材の表面に、窒化処理を行った。
About the base material obtained by making it above, after cutting the necessary part and grinding | polishing, this base material was wash | cleaned. As the cleaning of the substrate, first, alkaline electrolytic degreasing was performed for 30 seconds, and then alkaline immersion degreasing was performed for 30 seconds. Thereafter, neutralization was performed for 10 seconds, washing with water for 10 seconds, and washing with pure water for 10 seconds.
Nitriding treatment was performed on the surface of the substrate thus cleaned.
窒化処理は、以下に説明するようなイオン窒化処理により行った。
まず、イオン窒化処理装置の処理室内に基材を設置し、処理室内を1.3×10−3Paまで減圧した。このように、処理室内が減圧された状態で、ヒータにより基材を300℃に加熱した。
次に、処理室内に水素ガスとアンモニアガスとを導入した。導入後における、処理室内での水素ガスの分圧は、1.3×10−4Pa、アンモニアガスの分圧は、1.2×10−4Paであった。
その後、400Vの直流電圧を印加し、温度300に加熱して8時間保持しながら、グロー放電を行い、窒化処理を行い約15μmの厚さの窒化層を形成した。
The nitriding treatment was performed by an ion nitriding treatment as described below.
First, the base material was installed in the processing chamber of the ion nitriding apparatus, and the processing chamber was depressurized to 1.3 × 10 −3 Pa. In this way, the substrate was heated to 300 ° C. by the heater while the processing chamber was decompressed.
Next, hydrogen gas and ammonia gas were introduced into the treatment chamber. After the introduction, the partial pressure of hydrogen gas in the processing chamber was 1.3 × 10 −4 Pa, and the partial pressure of ammonia gas was 1.2 × 10 −4 Pa.
Thereafter, a DC voltage of 400 V was applied, heated to a temperature of 300 and maintained for 8 hours, glow discharge was performed, and nitriding was performed to form a nitride layer having a thickness of about 15 μm.
次に、上記のようにして窒化処理を行った基材に対して、イオンプレーティング装置を用いて、以下のようにしてチタン化合物で構成される被膜を形成した。
まず、イオンプレーティング装置の処理室内を予熱しながら、処理室内を3×10−3Paまで排気(減圧)した。
次に、クリーニング用アルゴンガスを処理室内に導入して、5分間のクリーニング処理を行った。クリーニング処理は、350Vの直流電圧を印加することにより行った。
Next, a film composed of a titanium compound was formed on the base material subjected to the nitriding treatment as described above using an ion plating apparatus as follows.
First, while preheating the processing chamber of the ion plating apparatus, the processing chamber was evacuated (depressurized) to 3 × 10 −3 Pa.
Next, a cleaning argon gas was introduced into the processing chamber, and a cleaning process was performed for 5 minutes. The cleaning process was performed by applying a DC voltage of 350V.
その後、処理室内に窒素ガスを、ガス圧力を53Paで導入し、400Vの直流電圧を印加して30〜60分保持した。このような状態で、ターゲットとしてTiを用い、イオン化電圧:30V、イオン化電流:140Aに設定し、4時間保持することにより、TiNで構成される被膜を形成し、装飾品を得た。形成された被膜の平均厚さは、3μmであった。被膜の厚さは、JIS H 5821の顕微鏡断面試験方法により測定した。 Thereafter, nitrogen gas was introduced into the treatment chamber at a gas pressure of 53 Pa, and a DC voltage of 400 V was applied and held for 30 to 60 minutes. In such a state, using Ti as a target, setting the ionization voltage: 30 V, the ionization current: 140 A, and holding for 4 hours, a film composed of TiN was formed, and a decorative article was obtained. The average thickness of the formed film was 3 μm. The thickness of the coating was measured by the microscope cross-sectional test method of JIS H5821.
(実施例3)
以下に示すような表面処理を施すことにより、装飾品(腕時計ケース(裏蓋))を製造した。
まず、ステンレス鋼(SUS444)を用いて、鋳造により、腕時計ケース(裏蓋)の形状を有する基材を作製し、その後、必要箇所を切削、研磨した。
(Example 3)
A decorative article (watch case (back cover)) was manufactured by performing the following surface treatment.
First, a base material having the shape of a watch case (back cover) was produced by casting using stainless steel (SUS444), and then necessary portions were cut and polished.
次に、この基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を30秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を30秒間行った。その後、中和を10秒間、水洗を10秒間、純水洗浄を10秒間行った。
このようにして洗浄を行った基材の表面に、前記実施例2と同様の条件で窒化処理を行った。
Next, this base material was washed. As the cleaning of the substrate, first, alkaline electrolytic degreasing was performed for 30 seconds, and then alkaline immersion degreasing was performed for 30 seconds. Thereafter, neutralization was performed for 10 seconds, washing with water for 10 seconds, and washing with pure water for 10 seconds.
The surface of the substrate thus cleaned was subjected to nitriding treatment under the same conditions as in Example 2.
次に、窒化処理を行った基材に対して、イオンプレーティング装置を用いて、以下のようにしてTiで構成される下地層を形成した。
まず、イオンプレーティング装置の処理室内を予熱しながら、処理室内を3×10−3Paまで排気(減圧)した。
次に、クリーニング用アルゴンガスを処理室内に導入して、5分間のクリーニング処理を行った。クリーニング処理は、350Vの直流電圧を印加することにより行った。
Next, a base layer composed of Ti was formed on the base material subjected to nitriding treatment using an ion plating apparatus as follows.
First, while preheating the processing chamber of the ion plating apparatus, the processing chamber was evacuated (depressurized) to 3 × 10 −3 Pa.
Next, a cleaning argon gas was introduced into the processing chamber, and a cleaning process was performed for 5 minutes. The cleaning process was performed by applying a DC voltage of 350V.
その後、処理室内にアルゴンガスを、ガス圧力を53Paで導入し、400Vの直流電圧を印加して30〜60分保持した。このような状態で、ターゲットとしてTiを用い、イオン化電圧:30V、イオン化電流:140Aに設定し、1時間保持することにより、Tiで構成される下地層を形成した。形成された下地層の平均厚さは、2.0μmであった。 Thereafter, argon gas was introduced into the processing chamber at a gas pressure of 53 Pa, and a DC voltage of 400 V was applied and held for 30 to 60 minutes. In such a state, using Ti as a target, setting the ionization voltage: 30 V, ionization current: 140 A, and holding for 1 hour, an underlayer composed of Ti was formed. The average thickness of the formed underlayer was 2.0 μm.
次に、下地層が形成された基材に対して、引き続き、上記のイオンプレーティングを用いて、以下のようにしてチタン化合物で構成される被膜を形成した。
まず、処理室内を予熱しながら、処理室内を3×10−3Paまで排気(減圧)した。
次に、アルゴンガス流量100ml/分で、ボンバード処理を3分間行った。ボンバード処理における処理室内の圧力は、9×10−2Paであった。
Next, a film composed of a titanium compound was formed on the base material on which the underlayer was formed using the above ion plating as follows.
First, while preheating the processing chamber, the processing chamber was evacuated (depressurized) to 3 × 10 −3 Pa.
Next, bombarding was performed for 3 minutes at an argon gas flow rate of 100 ml / min. The pressure in the processing chamber in the bombarding process was 9 × 10 −2 Pa.
次に、処理室内を2×10−3Paまで排気(減圧)した後、窒素ガス、アセチレンガスを、それぞれ、160ml/分、160ml/分の流量で導入し、処理室内の圧力を3×10−1Paとした。このような状態で、ターゲットとしてTiを用い、イオン化電圧:30V、イオン化電流:140Aに設定することにより、TiCNで構成される被膜を形成し、装飾品を得た。形成された被膜の平均厚さは、3μmであった。
下地層、被膜の厚さは、JIS H 5821の顕微鏡断面試験方法により測定した。
Next, after exhausting (reducing pressure) the processing chamber to 2 × 10 −3 Pa, nitrogen gas and acetylene gas were introduced at flow rates of 160 ml / min and 160 ml / min, respectively, and the pressure in the processing chamber was set to 3 × 10. −1 Pa. In such a state, using Ti as a target and setting the ionization voltage: 30 V and the ionization current: 140 A, a film composed of TiCN was formed, and an ornament was obtained. The average thickness of the formed film was 3 μm.
The thickness of the underlayer and the coating was measured by the microscope cross-sectional test method of JIS H 5821.
(実施例4)
以下に示すような表面処理を施すことにより、装飾品(腕時計ケース(裏蓋))を製造した。
まず、金属粉末射出成形(MIM)により、腕時計ケース(裏蓋)の形状を有するTi製の基材を作製した。金属粉末射出成形(MIM)は、前記実施例2と同様の条件で行った。
Example 4
A decorative article (watch case (back cover)) was manufactured by performing the following surface treatment.
First, a Ti base material having the shape of a watch case (back cover) was produced by metal powder injection molding (MIM). Metal powder injection molding (MIM) was performed under the same conditions as in Example 2.
その後、得られた基材について、必要箇所を切削、研磨した後、この基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を30秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を30秒間行った。その後、中和を10秒間、水洗を10秒間、純水洗浄を10秒間行った。
このようにして洗浄を行った基材の表面に、前記実施例1と同様の条件で浸炭処理を行った。
Thereafter, necessary portions of the obtained base material were cut and polished, and then the base material was washed. As the cleaning of the substrate, first, alkaline electrolytic degreasing was performed for 30 seconds, and then alkaline immersion degreasing was performed for 30 seconds. Thereafter, neutralization was performed for 10 seconds, washing with water for 10 seconds, and washing with pure water for 10 seconds.
The surface of the substrate thus cleaned was carburized under the same conditions as in Example 1.
次に、浸炭処理を行った基材に対して、イオンプレーティング装置を用いて、以下のようにしてZrで構成される下地層を形成した。
まず、イオンプレーティング装置の処理室内を予熱しながら、処理室内を3×10−3Paまで排気(減圧)した。
次に、クリーニング用アルゴンガスを処理室内に導入して、5分間のクリーニング処理を行った。クリーニング処理は、350Vの直流電圧を印加することにより行った。
Next, a base layer composed of Zr was formed on the base material that had been subjected to carburizing treatment using an ion plating apparatus as follows.
First, while preheating the processing chamber of the ion plating apparatus, the processing chamber was evacuated (depressurized) to 3 × 10 −3 Pa.
Next, a cleaning argon gas was introduced into the processing chamber, and a cleaning process was performed for 5 minutes. The cleaning process was performed by applying a DC voltage of 350V.
その後、処理室内にアルゴンガスを、ガス圧力を53Paで導入し、400Vの直流電圧を印加して30〜60分保持した。このような状態で、ターゲットとしてZrを用い、イオン化電圧:30V、イオン化電流:140Aに設定し、1時間保持することにより、Zrで構成される下地層を形成した。形成された下地層の平均厚さは、2.0μmであった。 Thereafter, argon gas was introduced into the processing chamber at a gas pressure of 53 Pa, and a DC voltage of 400 V was applied and held for 30 to 60 minutes. In such a state, using Zr as a target, setting the ionization voltage: 30 V, ionization current: 140 A, and holding for 1 hour, an underlayer composed of Zr was formed. The average thickness of the formed underlayer was 2.0 μm.
次に、下地層が形成された基材に対して、引き続き、上記のイオンプレーティングを用いて、以下のようにしてクロム化合物で構成される被膜を形成した。
まず、処理室内を予熱しながら、処理室内を3×10−3Paまで排気(減圧)した。
次に、アルゴンガス流量100ml/分で、ボンバード処理を3分間行った。ボンバード処理における処理室内の圧力は、9×10−2Paであった。
Next, a film composed of a chromium compound was formed on the base material on which the underlayer was formed using the above ion plating as follows.
First, while preheating the processing chamber, the processing chamber was evacuated (depressurized) to 3 × 10 −3 Pa.
Next, bombarding was performed for 3 minutes at an argon gas flow rate of 100 ml / min. The pressure in the processing chamber in the bombarding process was 9 × 10 −2 Pa.
次に、処理室内を2×10−3Paまで排気(減圧)した後、窒素ガス、アセチレンガスを、それぞれ、160ml/分、160ml/分の流量で導入し、処理室内の圧力を3×10−1Paとした。このような状態で、ターゲットとしてCrを用い、イオン化電圧:30V、イオン化電流:140Aに設定することにより、CrCNで構成される被膜を形成し、装飾品を得た。形成された被膜の平均厚さは、3μmであった。
下地層、被膜の厚さは、JIS H 5821の顕微鏡断面試験方法により測定した。
Next, after exhausting (reducing pressure) the processing chamber to 2 × 10 −3 Pa, nitrogen gas and acetylene gas were introduced at flow rates of 160 ml / min and 160 ml / min, respectively, and the pressure in the processing chamber was set to 3 × 10. −1 Pa. In such a state, Cr was used as a target, and the ionization voltage was set to 30 V and the ionization current was set to 140 A, thereby forming a film composed of CrCN and obtaining an ornament. The average thickness of the formed film was 3 μm.
The thickness of the underlayer and the coating was measured by the microscope cross-sectional test method of JIS H 5821.
(実施例5)
以下に示すような表面処理を施すことにより、装飾品(腕時計ケース(胴))を製造した。
まず、アルミナ(Al2O3)粉末を用いて、粉末冶金焼結により、腕時計ケース(胴)の形状を有する部材(基部)を作製し、その後、必要箇所を切削、研磨した。
(Example 5)
A decorative article (watch case (body)) was manufactured by performing the following surface treatment.
First, an alumina (Al 2 O 3 ) powder was used to produce a member (base) having the shape of a watch case (body) by powder metallurgy sintering, and then necessary portions were cut and polished.
次に、この部材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を30秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を30秒間行った。その後、中和を10秒間、水洗を10秒間、純水洗浄を10秒間行った。
このようにして洗浄処理を行った部材の表面に、Tiで構成される表面層を形成し、基部と表面層とを有する基材を得た。
Next, this member was cleaned. As the cleaning of the substrate, first, alkaline electrolytic degreasing was performed for 30 seconds, and then alkaline immersion degreasing was performed for 30 seconds. Thereafter, neutralization was performed for 10 seconds, washing with water for 10 seconds, and washing with pure water for 10 seconds.
A surface layer composed of Ti was formed on the surface of the member thus cleaned, and a base material having a base portion and a surface layer was obtained.
表面層は、イオンプレーティング装置を用いて、以下のようにして形成した。
まず、イオンプレーティング装置の処理室内を予熱しながら、処理室内を3×10−3Paまで排気(減圧)した。
次に、クリーニング用アルゴンガスを処理室内に導入して、5分間のクリーニング処理を行った。クリーニング処理は、350Vの直流電圧を印加することにより行った。
The surface layer was formed as follows using an ion plating apparatus.
First, while preheating the processing chamber of the ion plating apparatus, the processing chamber was evacuated (depressurized) to 3 × 10 −3 Pa.
Next, a cleaning argon gas was introduced into the processing chamber, and a cleaning process was performed for 5 minutes. The cleaning process was performed by applying a DC voltage of 350V.
その後、処理室内にアルゴンガスを、ガス圧力を53Paで導入し、400Vの直流電圧を印加して30〜60分保持した。このような状態で、ターゲットとしてTiを用い、イオン化電圧:30V、イオン化電流:140Aに設定し、1時間保持することにより、Tiで構成される表面層を形成した。形成された表面層の平均厚さは、2.0μmであった。 Thereafter, argon gas was introduced into the processing chamber at a gas pressure of 53 Pa, and a DC voltage of 400 V was applied and held for 30 to 60 minutes. In such a state, using Ti as a target, setting the ionization voltage: 30 V, ionization current: 140 A, and holding for 1 hour, a surface layer composed of Ti was formed. The average thickness of the formed surface layer was 2.0 μm.
次に、上記のようにして製造された基材を洗浄した。この洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を30秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を30秒間行った。その後、中和を10秒間、水洗を10秒間、純水洗浄を10秒間行った。
このようにして洗浄を行った基材の表面に、前記実施例2と同様の条件で窒化処理を行った。
次に、窒化処理を行った基材に対して、イオンプレーティング装置を用いて、前記実施例3と同様の条件で、Tiで構成される下地層を形成した。
Next, the base material manufactured as described above was washed. As this cleaning, first, alkaline electrolytic degreasing was performed for 30 seconds, and then alkaline immersion degreasing was performed for 30 seconds. Thereafter, neutralization was performed for 10 seconds, washing with water for 10 seconds, and washing with pure water for 10 seconds.
The surface of the substrate thus cleaned was subjected to nitriding treatment under the same conditions as in Example 2.
Next, a base layer composed of Ti was formed on the base material subjected to nitriding treatment under the same conditions as in Example 3 using an ion plating apparatus.
次に、下地層が形成された基材に対して、引き続き、上記の窒化処理装置を用いたイオンプレーティングにより、以下のようにしてチタン化合物で構成される被膜を形成した。
まず、処理室内を予熱しながら、処理室内を3×10−3Paまで排気(減圧)した。
次に、アルゴンガス流量100ml/分で、ボンバード処理を3分間行った。ボンバード処理における処理室内の圧力は、9×10−2Paであった。
Next, a film composed of a titanium compound was formed on the base material on which the base layer was formed by ion plating using the above nitriding apparatus as follows.
First, while preheating the processing chamber, the processing chamber was evacuated (depressurized) to 3 × 10 −3 Pa.
Next, bombarding was performed for 3 minutes at an argon gas flow rate of 100 ml / min. The pressure in the processing chamber in the bombarding process was 9 × 10 −2 Pa.
次に、処理室内を2×10−3Paまで排気(減圧)した後、酸素ガスを導入し、処理室内の圧力を1×10−1Paとした。このような状態で、ターゲットとしてTiを用い、イオン化電圧:25V、イオン化電流:110Aに設定することにより、TiOで構成される被膜を形成し、装飾品を得た。形成された被膜の平均厚さは、10μmであった。
表面層、下地層、被膜の厚さは、JIS H 5821の顕微鏡断面試験方法により測定した。
Next, after exhausting (reducing pressure) the processing chamber to 2 × 10 −3 Pa, oxygen gas was introduced to set the pressure in the processing chamber to 1 × 10 −1 Pa. In such a state, Ti was used as a target, and an ionization voltage: 25 V and an ionization current: 110 A were set to form a coating film made of TiO to obtain a decorative article. The average thickness of the formed film was 10 μm.
The thickness of the surface layer, the underlayer, and the coating was measured by a microscope cross-sectional test method of JIS H5821.
(実施例6)
以下に示すような表面処理を施すことにより、装飾品(腕時計ケース(裏蓋))を製造した。
まず、ステンレス鋼(SUS444)を用いて、鋳造により、腕時計ケース(裏蓋)の形状を有する基材を作製し、その後、必要箇所を切削、研磨した。
(Example 6)
A decorative article (watch case (back cover)) was manufactured by performing the following surface treatment.
First, a base material having the shape of a watch case (back cover) was produced by casting using stainless steel (SUS444), and then necessary portions were cut and polished.
次に、この基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を30秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を30秒間行った。その後、中和を10秒間、水洗を10秒間、純水洗浄を10秒間行った。
このようにして洗浄を行った基材の表面に、前記実施例2と同様の条件で窒化処理を行った。
Next, this base material was washed. As the cleaning of the substrate, first, alkaline electrolytic degreasing was performed for 30 seconds, and then alkaline immersion degreasing was performed for 30 seconds. Thereafter, neutralization was performed for 10 seconds, washing with water for 10 seconds, and washing with pure water for 10 seconds.
The surface of the substrate thus cleaned was subjected to nitriding treatment under the same conditions as in Example 2.
次に、窒化処理を行った基材に対して、イオンプレーティング装置を用いて、以下のようにしてCrで構成される第1の下地層を形成した。
まず、イオンプレーティング装置の処理室内を予熱しながら、処理室内を3×10−3Paまで排気(減圧)した。
次に、クリーニング用アルゴンガスを処理室内に導入して、5分間のクリーニング処理を行った。クリーニング処理は、350Vの直流電圧を印加することにより行った。
Next, a first underlayer composed of Cr was formed on the base material subjected to nitriding treatment using an ion plating apparatus as follows.
First, while preheating the processing chamber of the ion plating apparatus, the processing chamber was evacuated (depressurized) to 3 × 10 −3 Pa.
Next, a cleaning argon gas was introduced into the processing chamber, and a cleaning process was performed for 5 minutes. The cleaning process was performed by applying a DC voltage of 350V.
その後、処理室内にアルゴンガスを、ガス圧力を53Paで導入し、400Vの直流電圧を印加して30〜60分保持した。このような状態で、ターゲットとしてCrを用い、イオン化電圧:30V、イオン化電流:140Aに設定し、1時間保持することにより、Crで構成される第1の下地層を形成した。形成された第1の下地層の平均厚さは、2.0μmであった。 Thereafter, argon gas was introduced into the processing chamber at a gas pressure of 53 Pa, and a DC voltage of 400 V was applied and held for 30 to 60 minutes. In this state, using Cr as a target, setting the ionization voltage: 30 V, ionization current: 140 A, and holding for 1 hour, the first underlayer composed of Cr was formed. The average thickness of the formed first underlayer was 2.0 μm.
次に、第1の下地層が形成された基材に対して、引き続き、上記のイオンプレーティングを用いて、以下のようにしてクロム化合物で構成される第1の被膜を形成した。
まず、処理室内を予熱しながら、処理室内を3×10−3Paまで排気(減圧)した。
次に、アルゴンガス流量100ml/分で、ボンバード処理を3分間行った。ボンバード処理における処理室内の圧力は、9×10−2Paであった。
Next, a first film composed of a chromium compound was formed on the base material on which the first underlayer was formed using the above ion plating as follows.
First, while preheating the processing chamber, the processing chamber was evacuated (depressurized) to 3 × 10 −3 Pa.
Next, bombarding was performed for 3 minutes at an argon gas flow rate of 100 ml / min. The pressure in the processing chamber in the bombarding process was 9 × 10 −2 Pa.
次に、処理室内を2×10−3Paまで排気(減圧)した後、アセチレンガスを45ml/分の流量で導入し、処理室内の圧力を3×10−1Paとした。このような状態で、ターゲットとしてCrを用い、イオン化電圧:30V、イオン化電流:140Aに設定することにより、CrCで構成される第1の被膜を形成した。形成された第1の被膜の平均厚さは、5μmであった。
その後、第1の下地層、第1の被膜が積層された基材に対して、引き続き、上記の窒化処理装置を用いて、第2の下地層、第2の被膜、第3の下地層、第3の被膜、第4の下地層、第4の被膜を順次形成した。
Next, after exhausting (reducing pressure) the processing chamber to 2 × 10 −3 Pa, acetylene gas was introduced at a flow rate of 45 ml / min, and the pressure in the processing chamber was set to 3 × 10 −1 Pa. In this state, Cr was used as a target, and an ionization voltage: 30 V and an ionization current: 140 A were set to form a first film made of CrC. The average thickness of the formed first film was 5 μm.
After that, the second base layer, the second film, the third base layer, and the base material on which the first base layer and the first film are laminated, using the above nitriding apparatus, A third coating, a fourth underlayer, and a fourth coating were sequentially formed.
第2の下地層は、ターゲットとして、Alを用いた以外は、前記第1の下地層と同様にイオンプレーティングにより形成した。また、第3の下地層および第4の下地層は、ターゲットとして、Tiを用いた以外は、前記第1の下地層と同様にイオンプレーティングにより形成した。形成された第2の下地層、第3の下地層、第4の下地層の平均厚さは、それぞれ、1.0μm、1.0μm、1.0μmであった。
また、第2の被膜、第3の被膜および第4の被膜は、イオンプレーティング時におけるターゲットおよび雰囲気ガスの組成を変更した以外は、前記第1の被膜と同様にイオンプレーティングにより形成した。
The second underlayer was formed by ion plating in the same manner as the first underlayer except that Al was used as a target. The third underlayer and the fourth underlayer were formed by ion plating in the same manner as the first underlayer except that Ti was used as a target. The average thicknesses of the formed second underlayer, third underlayer, and fourth underlayer were 1.0 μm, 1.0 μm, and 1.0 μm, respectively.
The second coating, the third coating, and the fourth coating were formed by ion plating in the same manner as the first coating except that the composition of the target and the atmosphere gas during ion plating was changed.
すなわち、第2の被膜は、処理室内を2×10−3Paまで排気(減圧)した後、窒素ガス、アセチレンガスを、それぞれ、160ml/分、160ml/分の流量で導入し、処理室内の圧力を3×10−1Paとし、このような状態で、ターゲットとしてCrを用いてイオンプレーティングを行うことにより、CrCNで構成される膜として形成した。また、第3の被膜は、処理室内を2×10−3Paまで排気(減圧)した後、窒素ガス、アセチレンガスを、それぞれ、160ml/分、160ml/分の流量で導入し、処理室内の圧力を3×10−1Paとし、このような状態で、ターゲットとしてTiを用いてイオンプレーティングを行うことにより、TiCNで構成される膜として形成した。また、第4の被膜は、処理室内を2×10−3Paまで排気(減圧)した後、窒素ガスを50ml/分の流量で導入し、処理室内の圧力を3×10−1Paとし、このような状態で、ターゲットとしてTiを用いてイオンプレーティングを行うことにより、TiNで構成される膜として形成した。形成された第2の被膜、第3の被膜、第4の被膜の平均厚さは、それぞれ、1.0μm、1.0μm、1.0μmであった。
下地層(第1の下地層、第2の下地層、第3の下地層および第4の下地層)、被膜(第1の被膜、第2の被膜、第3の被膜および第4の被膜)の厚さは、JIS H 5821の顕微鏡断面試験方法により測定した。
That is, the second coating is evacuated (depressurized) to 2 × 10 −3 Pa in the processing chamber, and then introduced with nitrogen gas and acetylene gas at flow rates of 160 ml / min and 160 ml / min, respectively. The film was formed as CrCN by performing ion plating using Cr as a target in such a state at a pressure of 3 × 10 −1 Pa. The third coating is evacuated (depressurized) to 2 × 10 −3 Pa in the processing chamber, and then introduced with nitrogen gas and acetylene gas at flow rates of 160 ml / min and 160 ml / min, respectively. The pressure was set to 3 × 10 −1 Pa, and in this state, the film was formed as TiCN by performing ion plating using Ti as a target. Moreover, after exhausting (reducing pressure) the processing chamber to 2 × 10 −3 Pa, the fourth film is introduced with nitrogen gas at a flow rate of 50 ml / min, and the pressure in the processing chamber is set to 3 × 10 −1 Pa. In this state, a film composed of TiN was formed by performing ion plating using Ti as a target. The average thicknesses of the formed second film, third film, and fourth film were 1.0 μm, 1.0 μm, and 1.0 μm, respectively.
Base layer (first base layer, second base layer, third base layer and fourth base layer), coating (first coating, second coating, third coating and fourth coating) The thickness of was measured by the microscope cross-sectional test method of JIS H 5821.
(実施例7)
以下に示すような表面処理を施すことにより、装飾品(腕時計ケース(裏蓋))を製造した。
まず、金属粉末射出成形(MIM)により、腕時計ケース(裏蓋)の形状を有するTi製の基材を作製した。金属粉末射出成形(MIM)は、前記実施例2と同様の条件で行った。
(Example 7)
A decorative article (watch case (back cover)) was manufactured by performing the following surface treatment.
First, a Ti base material having the shape of a watch case (back cover) was produced by metal powder injection molding (MIM). Metal powder injection molding (MIM) was performed under the same conditions as in Example 2.
その後、得られた基材について、必要箇所を切削、研磨した後、この基材を洗浄した。基材の洗浄としては、まず、アルカリ電解脱脂を30秒間行い、次いで、アルカリ浸漬脱脂を30秒間行った。その後、中和を10秒間、水洗を10秒間、純水洗浄を10秒間行った。
このようにして洗浄を行った基材の表面に、前記実施例1と同様の条件で浸炭処理を行った。
Thereafter, necessary portions of the obtained base material were cut and polished, and then the base material was washed. As the cleaning of the substrate, first, alkaline electrolytic degreasing was performed for 30 seconds, and then alkaline immersion degreasing was performed for 30 seconds. Thereafter, neutralization was performed for 10 seconds, washing with water for 10 seconds, and washing with pure water for 10 seconds.
The surface of the substrate thus cleaned was carburized under the same conditions as in Example 1.
次に、浸炭処理を行った基材に対して、イオンプレーティング装置を用いて、前記実施例3での下地層の形成条件と同様の条件で、Tiで構成される第1の下地層を形成した。
次に、第1の下地層が形成された基材に対して、引き続き、上記のイオンプレーティング装置を用いて、以下のようにしてチタン化合物で構成される第1の被膜を形成した。
まず、処理室内を予熱しながら、処理室内を3×10−3Paまで排気(減圧)した。
Next, with respect to the base material that has been subjected to carburizing treatment, an ion plating apparatus is used to form a first base layer made of Ti under the same conditions as the base layer formation conditions in Example 3. Formed.
Next, a first film composed of a titanium compound was formed on the base material on which the first underlayer was formed using the ion plating apparatus as described below.
First, while preheating the processing chamber, the processing chamber was evacuated (depressurized) to 3 × 10 −3 Pa.
次に、アルゴンガス流量100ml/分で、ボンバード処理を3分間行った。ボンバード処理における処理室内の圧力は、9×10−2Paであった。
次に、処理室内を2×10−3Paまで排気(減圧)した後、窒素ガス、アセチレンガスを、それぞれ、160ml/分、160ml/分の流量で導入し、処理室内の圧力を3×10−1Paとした。このような状態で、ターゲットとしてTiを用い、イオン化電圧:30V、イオン化電流:140Aに設定することにより、TiCNで構成される第1の被膜を形成した。形成された第1の被膜の平均厚さは、4μmであった。
Next, bombarding was performed for 3 minutes at an argon gas flow rate of 100 ml / min. The pressure in the processing chamber in the bombarding process was 9 × 10 −2 Pa.
Next, after exhausting (reducing pressure) the processing chamber to 2 × 10 −3 Pa, nitrogen gas and acetylene gas were introduced at flow rates of 160 ml / min and 160 ml / min, respectively, and the pressure in the processing chamber was set to 3 × 10. −1 Pa. In such a state, Ti was used as a target, and an ionization voltage: 30 V and an ionization current: 140 A were set, thereby forming a first film made of TiCN. The average thickness of the formed first film was 4 μm.
その後、第1の下地層、第1の被膜が積層された基材に対して、引き続き、上記の浸炭処理装置を用いて、第2の下地層、第2の被膜、第3の下地層、第3の被膜、第4の下地層、第4の被膜を順次形成した。
第2の下地層、第3の下地層および第4の下地層は、前記第1の下地層と同様にイオンプレーティングにより形成した。形成された第2の下地層、第3の下地層、第4の下地層の平均厚さは、それぞれ、1.0μm、2.0μm、3.0μmであった。
また、第2の被膜、第3の被膜および第4の被膜は、イオンプレーティング時における雰囲気ガスの組成を変更した以外は、前記第1の被膜と同様にイオンプレーティングにより形成した。
Thereafter, for the base material on which the first underlayer and the first film are laminated, the second underlayer, the second film, the third underlayer, A third coating, a fourth underlayer, and a fourth coating were sequentially formed.
The second underlayer, the third underlayer, and the fourth underlayer were formed by ion plating in the same manner as the first underlayer. The average thicknesses of the formed second underlayer, third underlayer, and fourth underlayer were 1.0 μm, 2.0 μm, and 3.0 μm, respectively.
The second coating, the third coating, and the fourth coating were formed by ion plating in the same manner as the first coating except that the composition of the atmospheric gas at the time of ion plating was changed.
すなわち、第2の被膜は、処理室内を2×10−3Paまで排気(減圧)した後、アセチレンガスを45ml/分の流量で導入し、処理室内の圧力を3×10−1Paとし、このような状態で、ターゲットとしてTiを用いてイオンプレーティングを行うことにより、TiCで構成される膜として形成した。また、第3の被膜は、処理室内を2×10−3Paまで排気(減圧)した後、窒素ガス、アセチレンガスを、それぞれ、160ml/分、160ml/分の流量で導入し、処理室内の圧力を3×10−1Paとし、このような状態で、ターゲットとしてTiを用いてイオンプレーティングを行うことにより、TiCNで構成される膜として形成した。また、第4の被膜は、処理室内を2×10−3Paまで排気(減圧)した後、窒素ガスを50ml/分の流量で導入し、処理室内の圧力を3×10−1Paとし、このような状態で、ターゲットとしてTiを用いてイオンプレーティングを行うことにより、TiNで構成される膜として形成した。形成された第2の被膜、第3の被膜、第4の被膜の平均厚さは、それぞれ、2.0μm、2.0μm、2.0μmであった。
下地層(第1の下地層、第2の下地層、第3の下地層および第4の下地層)、被膜(第1の被膜、第2の被膜、第3の被膜および第4の被膜)の厚さは、JIS H 5821の顕微鏡断面試験方法により測定した。
That is, the second coating is evacuated (depressurized) to 2 × 10 −3 Pa in the processing chamber, and then introduced with acetylene gas at a flow rate of 45 ml / min, and the pressure in the processing chamber is set to 3 × 10 −1 Pa. In this state, a film composed of TiC was formed by performing ion plating using Ti as a target. The third coating is evacuated (depressurized) to 2 × 10 −3 Pa in the processing chamber, and then introduced with nitrogen gas and acetylene gas at flow rates of 160 ml / min and 160 ml / min, respectively. The pressure was set to 3 × 10 −1 Pa, and in this state, the film was formed as TiCN by performing ion plating using Ti as a target. Moreover, after exhausting (reducing pressure) the processing chamber to 2 × 10 −3 Pa, the fourth film is introduced with nitrogen gas at a flow rate of 50 ml / min, and the pressure in the processing chamber is set to 3 × 10 −1 Pa. In this state, a film composed of TiN was formed by performing ion plating using Ti as a target. The average thicknesses of the formed second film, third film, and fourth film were 2.0 μm, 2.0 μm, and 2.0 μm, respectively.
Base layer (first base layer, second base layer, third base layer and fourth base layer), coating (first coating, second coating, third coating and fourth coating) The thickness of was measured by the microscope cross-sectional test method of JIS H 5821.
(比較例1)
浸炭処理後に、被膜を形成しなかった以外は、前記実施例1と同様にして装飾品(腕時計ケース(裏蓋))を製造した。
(比較例2)
窒化処理後に、被膜を形成しなかった以外は、前記実施例2と同様にして装飾品(腕時計ケース(胴))を製造した。
(Comparative Example 1)
A decorative article (watch case (back cover)) was produced in the same manner as in Example 1 except that no coating was formed after the carburizing treatment.
(Comparative Example 2)
A decorative article (watch case (body)) was produced in the same manner as in Example 2 except that no film was formed after the nitriding treatment.
(比較例3)
浸炭処理を施さずに、基材の表面に直接被膜を形成した以外は、前記実施例1と同様にして装飾品(腕時計ケース(裏蓋))を製造した。
(比較例4)
窒化処理を施さずに、基材の表面に直接被膜を形成した以外は、前記実施例2と同様にして装飾品(腕時計ケース(胴))を製造した。
各実施例および各比較例の表面処理方法の条件を表1にまとめて示す。
(Comparative Example 3)
A decorative article (watch case (back cover)) was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the coating was directly formed on the surface of the base material without carburizing.
(Comparative Example 4)
A decorative article (watch case (body)) was produced in the same manner as in Example 2 except that the film was formed directly on the surface of the substrate without performing nitriding.
Table 1 summarizes the conditions of the surface treatment method of each example and each comparative example.
2.装飾品の外観評価
前記実施例1〜7および比較例1〜4で製造した各装飾品について、目視および顕微鏡による観察を行い、これらの外観を以下の4段階の基準に従い、評価した。
◎:外観優良(光沢度大)。
○:外観良(光沢度中)。
△:外観やや不良(光沢度やや小、または表面の荒れあり)。
×:外観不良(光沢度小、または表面の荒れ顕著)。
2. Appearance evaluation of ornaments The ornaments manufactured in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4 were observed visually and with a microscope, and the appearance was evaluated according to the following four criteria.
A: Excellent appearance (high glossiness).
○: Appearance is good (medium gloss).
Δ: Slightly poor appearance (slight glossiness or rough surface)
X: Appearance defect (low gloss or remarkable surface roughness).
3.被膜の耐擦傷性評価
前記実施例1〜7および比較例1〜4で製造した各装飾品について、以下に示すような試験を行い、耐擦傷性を評価した。
ステンレス製のブラシを、各装飾品の表面上に押し付け、50往復摺動させた。このときの押し付け荷重は、0.2kgfであった。
3. Evaluation of Scratch Resistance of Films Each decorative article manufactured in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4 was subjected to the following tests to evaluate the scratch resistance.
A stainless steel brush was pressed onto the surface of each decorative article and slid 50 times. The pressing load at this time was 0.2 kgf.
その後、装飾品表面を目視により観察し、これらの外観を以下の4段階の基準に従い、評価した。
◎:被膜の表面に、傷の発生が全く認められない。
○:被膜の表面に、傷の発生がほとんど認められない。
△:被膜の表面に、傷の発生がわずかに認められる。
×:被膜の表面に、傷の発生が顕著に認められる。
Thereafter, the surface of the decorative article was visually observed, and the appearance was evaluated according to the following four criteria.
A: No scratches are observed on the surface of the coating.
○: Scratches are hardly observed on the surface of the coating.
Δ: Slight scratches are observed on the surface of the coating.
X: Scratches are significantly observed on the surface of the coating.
4.装飾品の対打痕性評価
前記実施例1〜7および比較例1〜4で製造した各装飾品について、以下に示すような試験を行うことにより、耐打痕性を評価した。
SUS鉱製の球(径1cm)を、各装飾品の上方で高さ50cmの位置から落下させて、装飾品表面の凹み大きさ(凹み痕の直径)の測定を行い、以下の4段階の基準に従い、評価した。
4). Evaluation of anti-scratch property of decorative article About each decorative article manufactured in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4, the test as shown below was performed to evaluate the anti-scratch resistance.
A SUS ore ball (diameter 1 cm) is dropped from a position 50 cm high above each ornament, and the size of the dent on the surface of the ornament (the diameter of the dent mark) is measured. Evaluation was made according to the criteria.
◎:凹み痕の直径が1mm未満、または、凹み痕が求められない。
○:凹み痕の直径が1mm以上2mm未満。
△:凹み痕の直径が2mm以上3mm未満。
×:凹み痕の直径が3mm以上。
これらの結果を、被膜の色、ビッカース硬度Hvとともに表2に示す。なお、ビッカース硬度Hvとしては、各装飾品の被膜表面について、測定荷重100gfにて測定した値を示す。
(Double-circle): The diameter of a dent mark is less than 1 mm, or a dent mark is not calculated | required.
○: The diameter of the dent mark is 1 mm or more and less than 2 mm.
(Triangle | delta): The diameter of a dent mark is 2 mm or more and less than 3 mm.
X: The diameter of a dent mark is 3 mm or more.
These results are shown in Table 2 together with the color of the coating and the Vickers hardness Hv. In addition, as Vickers hardness Hv, the value measured with the measurement load of 100 gf about the coating film surface of each ornament is shown.
表2から明らかなように、本発明の表面処理方法を用いて製造された装飾品は、いずれも優れた美的外観を有しており、耐擦傷性にも優れていた。
また、本発明の表面処理方法を用いて製造された装飾品は、耐打痕性にも優れていた。これらの結果から、本発明の装飾品は、長期間にわたって優れた美的外観を保持することができるものであることがわかる。また、下地層を有する装飾品は、表面が平滑化され、特に優れた美的外観を有していた。また、下地層と被膜とを複数回積層して得られた装飾品(実施例7および8の装飾品)では、特に優れた結果が得られた。
また、本発明の表面処理方法を用いて製造された装飾品は、いずれも、ザラツキ感のない、優れた触感を有していた。
また、実施例1〜7においては、イオンプレーティング時の雰囲気組成を適宜選択することにより、容易に、所望の組成、特性を有する被膜を形成することができた。
As is clear from Table 2, all the decorative articles produced using the surface treatment method of the present invention had an excellent aesthetic appearance and excellent scratch resistance.
Moreover, the decorative article manufactured using the surface treatment method of the present invention was also excellent in dent resistance. From these results, it can be seen that the decorative article of the present invention can maintain an excellent aesthetic appearance over a long period of time. In addition, the decorative article having the base layer has a smooth surface and a particularly excellent aesthetic appearance. Moreover, in the decorative article obtained by laminating the base layer and the coating several times (decorative articles of Examples 7 and 8), particularly excellent results were obtained.
Moreover, all the decorative articles manufactured using the surface treatment method of the present invention had an excellent tactile sensation with no roughness.
Moreover, in Examples 1-7, the film which has a desired composition and characteristic was able to be formed easily by selecting suitably the atmospheric composition at the time of ion plating.
1A、1B、1C…装飾品 2…基材 21…浸炭層 22…窒化層 30…被膜 31…第1の被膜 32…第2の被膜 33…第3の被膜 34…第4の被膜 40…下地層 41…第1の下地層 42…第2の下地層 43…第3の下地層 44…第4の下地層
DESCRIPTION OF
Claims (25)
前記硬化処理が施された前記基材上に、乾式めっきにより、Tiおよび/またはCrを含む材料で構成された被膜を形成する工程とを有することを特徴とする装飾品の表面処理方法。 Applying at least a part of the base material mainly composed of Ti and / or stainless steel at least near the surface to a hardening treatment by nitriding or carburizing;
And a step of forming a film made of a material containing Ti and / or Cr on the base material subjected to the curing treatment by dry plating.
前記硬化処理が施された前記基材上に、少なくとも1層の下地層を形成する工程と、
前記下地層上に、乾式めっきにより、Tiおよび/またはCrを含む材料で構成された被膜を形成する工程とを有することを特徴とする装飾品の表面処理方法。 Applying at least a part of the base material mainly composed of Ti and / or stainless steel at least near the surface to a hardening treatment by nitriding or carburizing;
Forming at least one underlayer on the base material subjected to the curing treatment;
And a step of forming a film made of a material containing Ti and / or Cr on the underlayer by dry plating.
前記基材上に乾式めっきにより形成され、かつ、Tiおよび/またはCrを含む材料で構成された被膜とを有することを特徴とする装飾品。 A substrate having a hardened layer formed by nitriding or carburizing;
A decorative article comprising: a coating formed of a material containing Ti and / or Cr on the substrate by dry plating.
前記硬化層上に形成された、少なくとも1層の下地層と、
前記下地層上に乾式めっきにより形成され、かつ、Tiおよび/またはCrを含む材料で構成された被膜とを有することを特徴とする装飾品。 A substrate having a hardened layer formed by nitriding or carburizing;
At least one underlayer formed on the cured layer;
A decorative article comprising: a coating formed of a material containing Ti and / or Cr on the underlayer by dry plating.
複数の下地層と、
乾式めっきにより形成され、かつ、Tiおよび/またはCrを含む材料で構成された、複数の被膜とを有する装飾品であって、
複数の前記下地層と前記被膜とが交互に積層されていることを特徴とする装飾品。 A substrate having a hardened layer formed by nitriding or carburizing;
Multiple underlayers;
A decorative article formed by dry plating and having a plurality of coatings made of a material containing Ti and / or Cr,
A decorative article, wherein a plurality of the base layers and the coating films are alternately laminated.
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