JP2008132097A - 岩盤浴装置 - Google Patents

Abstract

【課題】排水設備の無い場所での使用や所望の場所へ移動しての使用が可能な岩盤浴装置を提供する。
【解決手段】凹状のシンク２４が設けられ、移動可能に設置される本体２と、底板２４３に取り外し可能に載置してシンク２４に収容される岩盤４と、岩盤４を下側から加熱する加熱部３と、シンク２４と連通して設けられる排水部２５と、内側を昇温する加熱部５２、６２を有し、岩盤上に横臥する利用者を被覆可能に設けられるドーム５、６とを備える岩盤浴装置。
【選択図】図２

Description

本発明は、岩盤上に横臥する利用者の発汗を促進する岩盤浴装置に関する。

利用者を岩盤上に横臥させ、岩盤を加熱して利用者の発汗を促進する岩盤浴装置が知られている。一般的な岩盤浴装置は、岩盤の下側にヒーターを設置して構成され、使用時には岩盤上にバスタオル等を敷き、その上に利用者を横臥させ、岩盤を加熱して利用者の発汗を促進する。また、使用後には利用者が発汗して岩盤上に溜まった汗をシャワー等で水洗する（特許文献１参照）。

特開２００４−２６１５４７号公報

ところで、上記岩盤浴装置は、岩盤の汗や汗を洗い流した水は床の上にそのまま流される構成であるため、その設置場所は床に排水設備がある場所に限定され、排水設備の無い場所での使用や所望の移動しての使用は困難である。

本発明は上記課題に鑑み提案するものであって、排水設備の無い場所での使用や所望の場所へ移動しての使用が可能な岩盤浴装置を提供することを目的とする。

本発明の岩盤浴装置は、凹状のシンクが設けられ、移動可能に設置される本体と、前記シンクに収容される岩盤と、前記岩盤を加熱する加熱部と、前記シンクと連通して設けられる排水部とを備えることを特徴とする。

また、本発明の岩盤浴装置は、前記岩盤を取り外し可能に載置して前記シンクに収容することを特徴とする。

また、本発明の岩盤浴装置は、内側を昇温する加熱部を有するドームを前記岩盤上に横臥する利用者を被覆可能に設けることを特徴とする。

また、本発明の岩盤浴装置は、遠赤外線若しくは放射線若しくはその双方を放射する放射材を、前記ドームの内側と、前記岩盤若しくは前記岩盤下の底板とに設けることを特徴とする。

また、本発明の岩盤浴装置は、前記ドームと前記岩盤とで囲まれる空間内の温度を前記ドームの加熱部で７０℃以上に昇温可能であることを特徴とする。

また、本発明の岩盤浴装置は、前記岩盤上面を床面から５０〜６０ｃｍの高さに配置すると共に、前記岩盤上面を前記本体の上板よりも低い位置に配置することを特徴とする。

また、本発明の岩盤浴装置は、本体の上側に設けられる岩盤と、岩盤を加熱する加熱部と、内側を昇温する加熱部を有し、前記岩盤上に横臥する利用者を被覆可能に設けられるドームとを備えることを特徴とする。

本発明の岩盤浴装置は、岩盤に付着した汗を洗い流した水をシンク及び排水部を介して導いて排水することが可能であるから、排水設備の無い場所で使用することができると共に、設置場所を自在に移動して使用することができる。また、岩盤をシンクに収容するので、岩盤上面のみならず周囲に付着した汗をも洗い流すことができ、衛生状態を良好に保つことができる。

また、岩盤をシンクに取り外し可能に載置することで、岩盤を取り外して岩盤とシンクの全体を清掃し、衛生状態を非常に良好に保つことができると共に、非常に簡単に清掃することができる。

また、ドームで被覆し、ドームの加熱部と岩盤を加熱する加熱部の双方で利用者を暖めることにより、発汗作用を一層促進することができ、体内の老廃物・有害物質や余分の水分を排出する効果を高めることができる。また、温度上昇に要するエネルギーの効率を高めることができる。また、利用者の体温を短時間で上昇させることが可能であり、顧客回転率を向上することもできる。また、ドームで利用者の身体を被覆するので、利用者のプライバシー保護にも資する。

また、ドーム側と岩盤側の双方から遠赤外線や放射線を放射することにより、発汗作用をより一層促進し、体内の老廃物・有害物質や余分の水分を排出する効果をより高めることができると共に、微量放射線の放射により、自然治癒力を活性化するなどホルミシス効果が得られる。

また、ドームと岩盤とで囲まれる空間内の温度を略半円筒形ドームの加熱部で７０℃以上に昇温することにより、岩盤や前記空間の加熱殺菌・消毒が可能となる。

また、岩盤上面を床面から５０〜６０ｃｍの高さに配置することにより、利用者がマッサージ等の施術を併せて受ける場合に、施術者の便宜性を高めることができる。また、岩盤上面を本体上板よりも低い位置に設けることにより、岩盤４を水洗した際に水をシンク内に確実に流すことができる。

本発明の岩盤浴装置の実施形態について説明する。

本実施形態の岩盤浴装置１は、図１及び図２に示すように、ＦＲＰ等で形成された中空で略矩形の本体２を有する。本体２は下板２１に固着された支持脚２２で床面から離間するように支持され、後述の岩盤４が４０〜７０ｃｍ、好適には５０〜６０ｃｍ程度の高さに配置されており、マッサージ等を併せて施術する際の便宜性を高めている。本体２の上板２３の平面視略中央には凹状のシンク２４が設けられている。シンク２４の四方の側板２４１はそれぞれ上板２３を下方へ略直角に屈曲して形成され、側板２４１の先端は内方へ略直角に屈曲され、略水平方向に延びる支持片２４２を構成している。支持片２４２上には略長方形の底板２４３が載置され、支持片２４２に固着されており、底板２４３と支持片２４２との間は気密になっている。シンク２４には排水部２５が連通して設けられている。本実施形態の排水部２５はＬ字形パイプ状であり、その上側の開口２５１は側板２４１の所定箇所に開口して形成され、開口２５１の下面が底板２４３の上面と同一高さ若しくは底板２４３の上面より低い高さになるように配置されており、又、その下端はホース２５３への接続部２５２へと導かれている。

底板２４３の下面側には、内部に電熱線を並設して構成される平面ヒーターの加熱部３が貼着され、加熱部３は四方の支持片２４２の先端で囲まれる略矩形領域内に配置されている。加熱部３には温度センサー３１が設けられており、加熱部３の温度を温度センサー３１で検出し、後述のコントローラ７へ検出温度を伝送可能である。底板２４３の上面側には天然若しくは人工大理石等の矩形板状の岩盤４が取り外し可能に載置される。岩盤４の長さ及び幅は、岩盤４からはみ出さないように人が横臥可能な大きさであり、シンク２４の四方の側板２４１で囲まれる略矩形領域よりも僅かに小さく、岩盤４と側板２４１との間に極僅かな隙間が形成されるようになっている。岩盤４の厚さは、シンク２４の深さ、即ち、上板２３の上面と底板２４３の上面との間の長さよりも若干小さく、岩盤４の上面が本体２の上板２３上面よりも低くなっており、後述のようにシンク２４内に岩盤４を収容したまま岩盤４を水洗した際等に、水がシンク２４内に確実に流れるようになっている。

本体２の上板２３上には、後側が有底の略半円筒形である内側ドーム５と、略半円筒形の外側ドーム６とが設けられ、外側ドーム６は内側ドーム５上に重なるように配置されている。内側ドーム５、外側ドーム６の各々内側には内周面に沿って遠赤外線放射材５１、６１が設けられ、遠赤外線放射材５１の背面側には平面ヒーターの加熱部５２、６２が配設されており、加熱部５２、６２による遠赤外線放射材５１、６１の加熱でドーム５、６の内側を遠赤外線を放射しながら昇温可能である。

内側ドーム５の幅方向両側下端には前後に延びる板状のレール５３が設けられ、レール５３は内側ドーム５の外周よりも側方へ突出しており、外側ドーム６の幅方向両側下端には前後に延びる正面視略Ｌ字形のレール６３が設けられている。レール６３は、レール５３の前記突出部分の上面及び側面を囲むようにしてレール５３に係合され、幅方向の移動を規制されながらレール５３に沿って摺動可能になっており、外側ドーム６を内側ドーム５に対して前後方向へ移動可能になっている。レール５３の後端近傍には上方へ突出するストッパー（図示省略）が設けられ、前記ストッパーで、レール６３の後方への摺動を規制すると共に、後述の内側ドーム５、外側ドーム６の傾動時に於ける外側ドーム６の後方からの脱落を防止している。更に、レール６３の下方への突出部分はレール５３の厚さより突出長さが短く形成されており、前記突出部分の下端と上板２３上面との離間を確保して前記突出部分下端と上板２３上面との間に摩擦抵抗が生ずるのを防止し、レール６３のレール５３に対する滑らかな摺動を確保している。

レール５３の内側端には、前後方向の略中央位置に緩衝機能を有するガススプリング５４のシリンダ側若しくはピストン側の一端が軸着されている。ガススプリング５４は、上板２３に設けられた収納凹部２６に略全体を収容可能に配置され、そのピストン側若しくはシリンダ側の他端を収納凹部２６の後端近傍に軸着されており、ガススプリング５４のピストンを伸長して内側ドーム５、及びそれに重なる外側ドーム６を傾動し、前記ピストンを収縮して前記傾動状態から水平状態へ復帰することが可能である。

本体２の底板２１の下側には、コントローラ７が設けられており、コントローラ７は、図３に示すように、ＣＰＵ等の制御部７１、制御部７１を制御する制御プログラムを記憶するハードディスクやメモリ等の記憶部７２、ボタン等の入力部７３、温度等の情報を表示する表示部７４を有し、岩盤４を下側から加熱する加熱部３と、加熱部３に設置された温度センサー３１と、内側ドーム５の加熱部５１及び外側ドーム６の加熱部６１に接続されている。本実施形態では、入力部７３の入力で電源ＯＮにすると、制御部７１は、記憶部７２に記憶された各設定温度を認知し、前記各設定温度になるように出力制御して加熱部３、５１、６１を加熱し、電源ＯＦＦで加熱を停止する。加熱部５１、６１の加熱の設定温度はそれぞれ調整可能であり、制御部７１は、所要温度や所要温度レベルの入力に応じ、前記所要温度若しくは温度レベルに対応する温度を設定温度として記憶部７２に記憶すると共に、前記設定温度になるように出力制御して加熱部５１、６１を加熱する。また、制御部７１は、温度センサー３１から入力される加熱部３の検出温度を認知し、記憶部７２に記憶された基準温度と対比し、前記検出温度と基準温度との差が例えば±０．５℃など設定温度差を超える場合には、加熱部３の温度が基準温度に近づくように加熱出力を制御する。これにより、岩盤４の全体や表面、底板２４３、加熱部３の温度を略一定に保持することが可能である。前記基準温度は、例えば岩盤４の表面で３８〜４８℃、好ましくは４０℃程度、岩盤４の裏面で４０〜５０℃、好ましくは４５℃程度に対応する温度とするとよい。

尚、加熱部５１、６１と同様に、加熱部３の加熱温度も入力部７３からの入力で制御可能にしてもよい。また、加熱部５１、６１と加熱部３は別々のスイッチで加熱するようにしてもよい。また、制御部７１にタイマーを接続して設け、記憶部７２に設定利用時間を記憶し、制御部７１が前記タイマーの経過時間と設定利用時間とを対比して、前記経過時間が設定利用時間に達した場合に加熱部３、５１、６１の加熱を停止する構成としてもよい。

本実施形態の岩盤浴装置１を使用する際には、重ねられ、水平配置された内側ドーム５及び外側ドーム６をガススプリング５４を伸長しながら緩やかに傾動させ、後方へ向かって斜め下方に傾斜した状態とする。その状態で、利用者を枕２７側を頭に、前記傾斜したドーム５、６側を足側にして岩盤４上に横臥させる。その後、傾斜状態のドーム５、６をガススプリング５４を収縮しながら緩やかに水平状態に戻し、水平にした後、レール６３の摺動で外側ドーム６を前方に移動し、内側ドーム５及び外側ドーム６を伸長状態にして利用者を被覆する。この時に、外側ドーム６の前端にバスタオルを掛けて利用者の首周りに設ける等、ドーム５、６で囲まれる空間で開放している前方を閉塞材で閉塞するようにすることが好ましい。

その後、コントローラ７の電源ＯＮにより、加熱部３、５１、６１が加熱を開始し、昇温する。岩盤４上にはドーム５、６で閉塞された空間、或いはドーム５、６及び前記閉塞材で閉塞された略密閉空間が形成されていることから、前記加熱により、極めて短時間に岩盤４やドーム５、６内の空間を昇温させ、利用者の体温上昇を図ることが可能であり、短時間で有効な岩盤浴を行うことができる。例えば岩盤４の昇温のみによる岩盤浴では所要の発汗等の効果を得るのに約６０分程度かかるのに対し、前記加熱による岩盤浴の場合には約２０分程度の短時間で済む。そして、所要時間の岩盤浴が終了したら、コントローラ７の電源ＯＦＦで、加熱部３、５１、６１の加熱を停止し、レール６３の摺動で外側ドーム６を後方へ移動して内側ドーム５上に重ね、ドーム５、６をガススプリング５４を伸長しながら緩やかに傾動させて傾斜状態にし、利用者を岩盤４上から移動させる。

そして、岩盤浴装置１を清掃する際には、シンク２４に載置されている岩盤４に付着した利用者の汗を水洗し、更に、使用する毎に或いは所要時に、岩盤４をシンク２４から取り外して岩盤４に付着した利用者の汗を水洗すると共に、シンク２４の側板２４１の内面やその上端近傍、底板２４３の上面に付着した利用者の汗を水洗する。汗を洗い流した水は、開口２５１から排水部２５、ホース２５３を通って室内排水口等に排水される。岩盤４を取り外して清掃した後には、岩盤４をシンク２４内に戻して収容する。

尚、本明細書に開示の発明には、解決手段記載の発明の構成を変更したもの、或いは部分的な作用効果が得られる限度で削除して上位概念化したものも含み、以下のような実施形態の好適例や変形例等も包含する。

上記実施形態のシンク２４の底板２４３の上面と岩盤４の底面は双方平滑面とすると、加熱部３から岩盤４内やその表面へ伝導される熱の速さや量を増大させることができて好適であるが、底板２４３の上面に微小な凸起若しくは凸条を設けてもよく、前記凸起・凸条を設けることで、岩盤４の取り外し無しで岩盤４の底面側に付着した利用者の汗を或る程度水洗することができる。

また、アルミナなど遠赤外線放射材、若しくは天然ラジウムなど放射線放射材、若しくはその双方を放射する放射材を、岩盤４内に埋設する、若しくは岩盤４上に塗装して設ける、若しくは底板２４３の上面に塗装して設けると、微量放射線によるホルミシス効果が得られ、デトックス効果を高めることができて好ましい。前記塗装して放射材を設ける場合には、例えば放射材を微粉化して樹脂と混合して塗装するとよい。更に、ドーム５、６の内側にも、遠赤外線放射材５１、６１に代えて放射線を放射する放射材を設ける構成や、或いは遠赤外線と放射線の双方を放射する放射材を設ける構成としてもよい。更に、放射材はドーム５、６の内面、岩盤４の上面、底板２４３の上面に全体に亘って設ける構成、或いは所定間隔で設けるなどスポット的に設けてもよい。更に、放射材はマイナスイオンを発生するものとすると一層良好である。

また、ドーム５、６、岩盤４、上記閉塞材で囲まれる空間の温度は、ドーム５、６の加熱部５１、６１で７０℃以上、より好適には８０℃以上に昇温可能とすると、４０〜４５℃の雑菌が繁殖しやすい温度となる岩盤４や前記空間を加熱殺菌・消毒することが可能となって好ましい。

また、本発明のドームは、上記内側ドーム５、外側ドーム６に限定されず、岩盤４上に横臥する利用者を被覆可能に設けられるものであれば複式ドームでも単式ドームでも適宜であり、例えば内側に遠赤外線放射材や加熱部を有する単体の略半円筒形のドームとしてもよい。更に、ドームの形状は略半円筒形にも適宜であり、例えば正面視で略山形としてもよい。更に、ドームは傾動するものに限定されず、例えば上記内側ドーム５が本体２の上板２３上面に固定されたものなど、水平に固定して設けられるドームとしてもよく、又、単体のドームが傾動するものとしてもよい。

また、排水部２５はシンク２４に連通して設けられる構成であれば適宜であり、例えば図４に示すように、支持片２４２と底板２４３を貫通するようにして排水部２５を設け、シンク２４の底板２４３に開口２５１を配置するようにしてもよい。

また、底板２４３は例えば金属やＦＲＰで形成するが、岩盤４の昇温時間を短縮化するために熱伝導率の高い素材で形成することが好ましい。また、岩盤４は一枚板に限定されず、複数の板で構成されるようにしてもよい。また、支持脚２２の下端は平坦面にして床面に定置されるようにする構成に代え、支持脚２２の下端に、キャスターなど移動手段と、キャスターの転動を規制するストッパーなど規制手段を設け、岩盤浴装置１の移動を容易にしてもよい。

本発明は、岩盤浴装置として利用することができる。

実施形態の岩盤浴装置の斜視図。 実施形態の岩盤浴装置の縦断正面図。 実施形態の岩盤浴装置の制御機構を示すブロック図。 変形例の岩盤浴装置の部分縦断正面図。

符号の説明

１…岩盤浴装置
２…本体 ２１…下板 ２２…支持脚 ２３…上板 ２４…シンク ２４１…側板 ２４２…支持片 ２４３…底板 ２５…排水部 ２５１…開口 ２５２…取付口 ２５３…ホース ２６…収納凹部 ２７…枕
３…加熱部 ３１…温度センサー
４…岩盤
５…内側ドーム ６…外側ドーム ５１、６１…遠赤外線放射材 ５２、６２…加熱部 ５３、６３…レール ５４…ガススプリング
７…コントローラ ７１…制御部 ７２…記憶部 ７３…入力部 ７４…表示部

Claims (7)

1. 凹状のシンクが設けられ、移動可能に設置される本体と、
   前記シンクに収容される岩盤と、
   前記岩盤を加熱する加熱部と、
   前記シンクと連通して設けられる排水部とを備えることを特徴とする岩盤浴装置。
2. 前記岩盤を取り外し可能に載置して前記シンクに収容することを特徴とする請求項１記載の岩盤浴装置。
3. 内側を昇温する加熱部を有するドームを前記岩盤上に横臥する利用者を被覆可能に設けることを特徴とする請求項１又は２記載の岩盤浴装置。
4. 遠赤外線若しくは放射線若しくはその双方を放射する放射材を、前記ドームの内側と、前記岩盤若しくは前記岩盤下の底板とに設けることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の岩盤浴装置。
5. 前記ドームと前記岩盤とで囲まれる空間内の温度を前記ドームの加熱部で７０℃以上に昇温可能であることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の岩盤浴装置。
6. 前記岩盤上面を床面から５０〜６０ｃｍの高さに配置すると共に、前記岩盤上面を前記本体の上板よりも低い位置に配置することを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の岩盤浴装置。
7. 本体の上側に設けられる岩盤と、
   岩盤を加熱する加熱部と、
   内側を昇温する加熱部を有し、前記岩盤上に横臥する利用者を被覆可能に設けられるドームとを備えることを特徴とする岩盤浴装置。

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