JP2008124465A - ライン幅粗さおよびレジストパターン不良を予測する方法、プログラム、および装置、ならびにそのリソグラフィシミュレーションプロセスでの使用 - Google Patents
ライン幅粗さおよびレジストパターン不良を予測する方法、プログラム、および装置、ならびにそのリソグラフィシミュレーションプロセスでの使用 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008124465A JP2008124465A JP2007289845A JP2007289845A JP2008124465A JP 2008124465 A JP2008124465 A JP 2008124465A JP 2007289845 A JP2007289845 A JP 2007289845A JP 2007289845 A JP2007289845 A JP 2007289845A JP 2008124465 A JP2008124465 A JP 2008124465A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- model
- defining
- latent image
- slope
- feature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 125
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims abstract description 70
- 238000004088 simulation Methods 0.000 title claims description 45
- 238000001459 lithography Methods 0.000 title description 9
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 54
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 42
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 claims description 28
- 238000004590 computer program Methods 0.000 claims 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 17
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 22
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 19
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 16
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 15
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 12
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 8
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 238000013461 design Methods 0.000 description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000011960 computer-aided design Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000005477 standard model Effects 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001015 X-ray lithography Methods 0.000 description 1
- 206010000210 abortion Diseases 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000001010 compromised effect Effects 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 238000001739 density measurement Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000001900 extreme ultraviolet lithography Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 238000007620 mathematical function Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70605—Workpiece metrology
- G03F7/70653—Metrology techniques
- G03F7/70675—Latent image, i.e. measuring the image of the exposed resist prior to development
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
- G03F7/705—Modelling or simulating from physical phenomena up to complete wafer processes or whole workflow in wafer productions
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70605—Workpiece metrology
- G03F7/70616—Monitoring the printed patterns
- G03F7/70625—Dimensions, e.g. line width, critical dimension [CD], profile, sidewall angle or edge roughness
Abstract
【解決手段】この方法は、光学結像システムおよび該光学結像システムが利用するプロセスを定義するステップ、光学結像システムおよびプロセスの結像性能を表す第1のモデルを定義するステップ、および該モデルをキャリブレーションするステップを含み、第1のモデルは潜像傾きに対応する値を生成する。この方法はさらに、結像するフィーチャの線幅粗さを推定する第2のモデルを定義するステップを含み、第2のモデルは潜像傾き値を利用して線幅粗さを推定する。
【選択図】図18
Description
・プログラマブルミラーアレイ。このようなデバイスの一例は、粘弾性制御層および反射面を有するマトリックスアドレス可能面である。このような装置の背後にある基本原理は、(例えば)反射面のアドレスされた領域が入射光を回折光として反射するのに対して、アドレスされない領域は入射光を非回折光として反射するというものである。適切なフィルターを使用して、反射ビームから上記非回折光を濾波して除去し、回折光のみを後に残すことができ、このようにして、ビームは、マトリックスアドレス可能面のアドレッシングパターンに従ってパターン化される。必要なマトリックスアドレッシングは、適した電子工学手段を使用して行うことができる。このようなミラーアレイについてのより多くの情報は、例えば、米国特許第5,296,891号および第5,523,193号から集めることができ、これらを参照により本明細書に援用する。
・プログラマブルLCDアレイ。このような構造物の一例は米国特許第5,229,872号に提供されており、これを参照により本明細書に援用する。
LWR=a・(LIslope)b+c
式中、a、b、およびcは、式により生成されるLWR数が、予め規定されるある誤差基準で実験/実際のLWR結果に合致するように定数を実際の実験データにあてはめることにより得られる実験定数である。
1.CD>CDmin
2.LIslope>LIslope min
3.(CD-CDmin)*( LIslope-LIslope min)>Cct *CDmin(3パラメータモデル)
の場合に良好である(すなわち、リソグラフィシミュレータにより予測されたCDを有し、フィーチャをウェーハ上で実際に測定できる)。3パラメータモデルの3つのフィッティング定数は、CDmin、LIslope min、およびCctである。これらパラメータの物理的な解釈は以下である。1)CDが小さすぎる(<CDmin)場合、フィーチャは倒れ込み、現像ステップにおいてウェーハから洗い落とされ、2)化学コントラストが低すぎる(LIslope min)場合、シミュレータの数学が、フィーチャがはっきりと現像されると予測する場合であってもフィーチャははっきりと現像されず、3)限界CDまたは最小LIslopeに近い場合、2つの間に相互作用すなわち交差が生じ、個々の基準が大丈夫な場合であっても実際にはパターンは不良になる。Cct *CDminはこの交差の係数である。LWRモデルの定数を求めるのと同様に、上記パラメータCDmin、LIslope min、およびCctは、パターン不良予測基準が実験データに実際に合致するこれら定数の値を求めることにより得られる。
1.CD>CDmin
2.LIslope>LIslope min(CDline>CDspaceの場合)
3.(CD-CDmin)*(LIslope-LIslope min)>Cct *CDmin
4.ピッチ-CD>Spacemin
5.LIslope>LIslope min2(CDspace>CDlineの場合)(5パラメータモデル)
の場合に良好である。2つの追加のフィッティング定数は、SpaceminおよびLIslope min2であり、この場合、モデルは、ラインの倒れのみならず、スペースクロージング(space closing)(すなわちスカミング)に関連するパターン不良も検出する。これは、スペースとラインのサイズが同程度であり、パターン不良がラインの倒れ込みまたはスペースの時期尚早的な詰めのいずれかから発生し得る密度の高いフィーチャに対して特に有用である。
LWR=90.9・(LIslope)-0.85
になる。
1.CD>CDmin
2.LIslope>LIslope min
3.(CD-CDmin)*(LIslope-LIslope min)>Cct*CDmin(3パラメータモデル)
1.CD>CDmin
2.LIslope>LIslope min(CDline>CDspaceの場合)
3.(CD-CDmin)*(LIslope-LIslope min)>Cct *CDmin
4.ピッチ-CD>Spacemin
5.LIslope>LIslope min2(CDspace>CDlineの場合)(5パラメータモデル)
になる。ここでも、モデルCDmin、LIslope min、Cct、Spacemin、およびLIslope min2の値は、実験データとモデル予測とを比較して、シミュレーション結果が誤差(パターン不良が発生していない箇所でパターン不良を予測し、またはこの逆を予測すること)数最小で実験データに最もよく合致するようにパラメータ値を決めることにより決まる。
メトリック=(S+E-+E+S-)+|S+E--E+S-|
であり、式中、S+E−は、パターンがシミュレーションでは良好であるが、実験結果では不良であることを示し、E+S−は、パターンが実験結果では良好であるが、シミュレーションでは不良であることを示す。このメトリックの目的は、モデルのパラメータを実験データにあてはめるときに、2つのタイプの発生し得る誤差のバランスをとることである。
−放射の投影ビームPBを供給する放射システムEx、IL。この特定の場合では、放射システムは放射源LAも含む。
−マスクMA(例えば、レチクル)を保持するマスクホルダが設けられ、マスクをアイテムPLに対して正確に位置決めするための第1の位置決め手段に接続された第1のオブジェクトテーブル(マスクテーブル)MT。
−基板W(例えば、レジストコートシリコンウェーハ)を保持する基板ホルダが設けられ、基板をアイテムPLに対して正確に位置決めするための第2の位置決め手段に接続された第2のオブジェクトテーブル(基板テーブル)WT。
−マスクMAの放射された部分を基板Wのターゲット部分C(例えば、1つまたは複数のダイを含む)に結合するための投影システム(「レンズ」)PL(例えば、屈折、カトプトリックまたはカタディオプトリック光学系)
−ステップモードでは、マスクテーブルMTは本質的に静止したままであり、マスク像全体が1度に(すなわち、1回の「フラッシュ」で)ターゲット部分C上に投影される。次に、基板テーブルWTが、異なるターゲット部分CをビームPBで照射できるようにxおよび/またはy方向にシフトされる。
−スキャンモードでは、あるターゲット部分Cが1回の「フラッシュ」で露光されないことを除き、本質的に同じシナリオが当てはまる。1回のフラッシュに代えて、マスクテーブルMTは速度vである方向(いわゆる「スキャン方向」、例えばy方向)に可動であり、それにより、投影ビームPBをマスク像にわたってスキャンさせ、同時に、基板テーブルWTが同時に速度V=Mvで同じまたは逆の方向に移動する。但し、MはレンズPLの倍率である(通常、M=1/4または1/5である)。このように、分解能を損なう必要なく、比較的大きなターゲット部分Cを露光することができる。
Claims (22)
- 光学結像システムの結像性能をシミュレーションするモデルを生成する方法であって、
前記光学結像システムおよび前記光学結像システムが利用するプロセスを定義するステップ、
前記光学結像システムおよび前記プロセスの結像性能を表す第1のモデルを定義し、該モデルをキャリブレーションするステップであって、該第1のモデルは現像像寸法および潜像傾きに対応する値を生成する、該ステップ、および
結像するフィーチャのライン幅粗さを推定する第2のモデルを定義するステップであって、該第2のモデルは前記潜像傾き値を利用して前記ライン幅粗さを推定する、該ステップ、
を含む方法。 - 前記第2のモデルは、実験結像データを前記第1のモデルにより生成されるシミュレーション結像データと比較すること、および前記第2のモデルが所定誤差許容差で前記実験データの前記ライン幅粗さデータに対応するライン幅粗さ推定を生成するように前記第2のモデルに含まれるパラメータの値を選択することによりキャリブレーションされる、請求項1に記載の方法。
- 前記第2のモデルは、
LWR=a・(LIslope)b+c,但しa, b, cは前記パラメータに対応
として定義される、請求項3に記載の方法。 - 光学結像システムの結像性能をシミュレーションする方法であって、
前記光学結像システムおよび前記光学結像システムが利用するプロセスを定義するステップ、
前記光学結像システムおよび前記プロセスの結像性能を表す第1のモデルを定義し、該モデルをキャリブレーションするステップであって、該第1のモデルは現像像寸法および潜像傾きに対応する値を生成する、該ステップ、および
結像するフィーチャのライン幅粗さを推定する第2のモデルを定義するステップであって、該第2のモデルは前記潜像傾き値を利用して前記ライン幅粗さを推定する、該ステップ、
を含む方法。 - 前記第2のモデルは、実験結像データを前記第1のモデルにより生成されるシミュレーション結像データと比較すること、および前記第2のモデルが所定誤差許容差で前記実験データの前記ライン幅粗さデータに対応するライン幅粗さ推定を生成するように前記第2のモデルに含まれるパラメータの値を選択することによりキャリブレーションされる、請求項4に記載の方法。
- 前記第2のモデルは、
LWR=a・(LIslope)b+c,但しa, b, cは前記パラメータに対応
として定義される、請求項5に記載の方法。 - 光学結像システムの結像性能をシミュレーションするモデルを生成するコンピュータプログラムを記憶したコンピュータ読取可能媒体であって、前記コンピュータプログラムは、実行されると、コンピュータに、
前記光学結像システムおよび前記光学結像システムが利用するプロセスを定義するステップ、
前記光学結像システムおよび前記プロセスの結像性能を表す第1のモデルを定義し、該モデルをキャリブレーションするステップであって、該第1のモデルは現像像寸法および潜像傾きに対応する値を生成する、該ステップ、および
結像するフィーチャのライン幅粗さを推定する第2のモデルを定義するステップであって、該第2のモデルは前記潜像傾き値を利用して前記ライン幅粗さを推定する、該ステップ、
を実行させる、コンピュータ読取可能媒体。 - 前記第2のモデルは、実験結像データを前記第1のモデルにより生成されるシミュレーション結像データと比較すること、および前記第2のモデルが所定誤差許容差で前記実験データの前記ライン幅粗さデータに対応するライン幅粗さ推定を生成するように前記第2のモデルに含まれるパラメータの値を選択することによりキャリブレーションされる、請求項7に記載のコンピュータ読取可能媒体。
- 前記第2のモデルは、
LWR=a・(LIslope)b+c,但しa, b, cは前記パラメータに対応
として定義される、請求項8に記載のコンピュータ読取可能媒体。 - 光学結像システムの結像性能をシミュレーションするモデルを生成する方法であって、
前記光学結像システムおよび前記光学結像システムが利用するプロセスを定義するステップ、
前記光学結像システムおよび前記プロセスの結像性能を表す第1のモデルを定義し、該モデルをキャリブレーションするステップであって、該第1のモデルは現像像寸法および潜像傾きに対応する値を生成する、該ステップ、および
結像するフィーチャに関するパターン不良を推定する第2のモデルを定義するステップであって、該第2のモデルは前記潜像傾き値を利用してあるフィーチャのパターン不良の発生を推定するパラメータを定義する、該ステップ、
を含む方法。 - 前記第2のモデルは、実験結像データを前記第1のモデルにより生成されるシミュレーション結像データと比較すること、および前記第2のモデルに含まれるパラメータの値を、該パラメータがあるフィーチャにパターン不良が発生するか否かを該あるフィーチャに関連する該パラメータ値に基づいて示すように選択することによりキャリブレーションされる、請求項10に記載の方法。
- 前記パラメータは、
CDmin、LIslope min、およびCct
を含み、CDminは、あるプロセスの許容可能な最小クリティカルディメンションであり、LIslope minは、前記あるプロセスの許容可能な最小コントラストであり、Cctは、CDmin、LIslope minの両方が容認可能最小値よりも上であるが、該容認可能最小値に近いときの不良条件を示す交差項である、請求項11に記載の方法。 - 前記パラメータは、
SpaceminおよびLIslope min2
をさらに含み、Spaceminは、フィーチャ間の最小スペース要件に対応し、LIslope min2は、フィーチャ間の前記最小スペース要件に関連する前記潜像値に対応する、請求項12に記載の方法。 - 光学結像システムの結像性能をシミュレーションする方法びであって、
前記光学結像システムおよび前記光学結像システムが利用するプロセスを定義するステップ、
前記光学結像システムおよび前記プロセスの結像性能を表す第1のモデルを定義し、該モデルをキャリブレーションするステップであって、該第1のモデルは現像像寸法および潜像傾きに対応する値を生成する、該ステップ、および
結像するフィーチャに関するパターン不良を推定する第2のモデルを定義するステップであって、該第2のモデルは前記潜像傾き値を利用してあるフィーチャのパターン不良の発生を推定するパラメータを定義する、該ステップ、
を含む方法。 - 前記第2のモデルは、実験結像データを前記第1のモデルにより生成されるシミュレーション結像データと比較すること、および前記第2のモデルに含まれるパラメータの値を、該パラメータがあるフィーチャにパターン不良が発生するか否かを該あるフィーチャに関連する該パラメータ値に基づいて示すように選択することによりキャリブレーションされる、請求項14に記載の方法。
- 前記パラメータは、
CDmin、LIslope min、およびCct
を含み、CDminは、あるプロセスの許容可能な最小クリティカルディメンションであり、LIslope minは、前記あるプロセスの許容可能な最小コントラストであり、Cctは、CDmin、LIslope minの両方が容認可能最小値よりも上であるが、該容認可能最小値に近いときの不良条件を示す交差項である、請求項15に記載の方法。 - 前記パラメータは、
SpaceminおよびLIslope min2
をさらに含み、Spaceminは、フィーチャ間の最小スペース要件に対応し、LIslope min2は、フィーチャ間の前記最小スペース要件に関連する前記潜像値に対応する、請求項16に記載の方法。 - 前記潜像傾きは前記フィーチャのエッジで求められる、請求項1に記載の方法。
- 前記潜像傾きは前記フィーチャのエッジで求められる、請求項4に記載の方法。
- 前記潜像傾きは前記フィーチャのエッジで求められる、請求項7に記載のコンピュータ読取可能媒体。
- 前記潜像傾きは前記フィーチャのエッジで求められる、請求項10に記載の方法。
- 前記潜像傾きは前記フィーチャのエッジで求められる、請求項14に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US85749506P | 2006-11-08 | 2006-11-08 | |
US60/857,495 | 2006-11-08 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008124465A true JP2008124465A (ja) | 2008-05-29 |
JP4700672B2 JP4700672B2 (ja) | 2011-06-15 |
Family
ID=39508826
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007289845A Expired - Fee Related JP4700672B2 (ja) | 2006-11-08 | 2007-11-07 | ライン幅粗さおよびレジストパターン不良を予測する方法、プログラム、および装置、ならびにそのリソグラフィシミュレーションプロセスでの使用 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8050898B2 (ja) |
JP (1) | JP4700672B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160122216A (ko) * | 2014-02-11 | 2016-10-21 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 임의 패턴의 확률적 변동을 계산하는 모델 |
KR20170024029A (ko) * | 2014-06-25 | 2017-03-06 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 에칭 변동 감내 최적화 |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4700672B2 (ja) * | 2006-11-08 | 2011-06-15 | エーエスエムエル マスクツールズ ビー.ブイ. | ライン幅粗さおよびレジストパターン不良を予測する方法、プログラム、および装置、ならびにそのリソグラフィシミュレーションプロセスでの使用 |
DE102007039981B4 (de) * | 2007-08-23 | 2009-10-22 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | Verfahren zur Bestimmung derjenigen Position eines Messobjektivs in Z-Koordinatenrichtung einer optischen Messmaschine mit grösster Reproduzierbarkeit gemessener Strukturbreiten |
US8108805B2 (en) * | 2010-03-26 | 2012-01-31 | Tokyo Electron Limited | Simplified micro-bridging and roughness analysis |
CN102172990B (zh) * | 2011-01-11 | 2013-10-30 | 哈尔滨工业大学 | 一种单点金刚石车削加工中表面粗糙度的预测方法 |
US20140236337A1 (en) * | 2013-02-15 | 2014-08-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Pattern inspection method and manufacturing control system |
US9417280B2 (en) * | 2013-04-29 | 2016-08-16 | Varian Semiconductor Associates, Inc. | System and method for analyzing voltage breakdown in electrostatic chucks |
US9946166B2 (en) * | 2014-05-02 | 2018-04-17 | Asml Netherlands B.V. | Reduction of hotspots of dense features |
US10281902B2 (en) | 2016-11-01 | 2019-05-07 | Xometry, Inc. | Methods and apparatus for machine learning predictions of manufacture processes |
US10795267B2 (en) | 2016-12-02 | 2020-10-06 | Asml Netherlands B.V. | Model for estimating stochastic variation |
US10656532B2 (en) | 2017-04-13 | 2020-05-19 | Fractilia, Llc | Edge detection system and its use for optical proximity correction |
US10176966B1 (en) | 2017-04-13 | 2019-01-08 | Fractilia, Llc | Edge detection system |
US10664955B2 (en) | 2017-04-13 | 2020-05-26 | Fractilia, Llc | Edge detection system and its use for machine learning |
US11361937B2 (en) | 2017-04-13 | 2022-06-14 | Fractilia, Llc | System and method for generating and analyzing roughness measurements and their use for process monitoring and control |
US11355306B2 (en) | 2017-04-13 | 2022-06-07 | Fractilia, Llc | System and method for generating and analyzing roughness measurements and their use for process monitoring and control |
US11380516B2 (en) | 2017-04-13 | 2022-07-05 | Fractilia, Llc | System and method for generating and analyzing roughness measurements and their use for process monitoring and control |
US10648801B2 (en) | 2017-04-13 | 2020-05-12 | Fractilia, Llc | System and method for generating and analyzing roughness measurements and their use for process monitoring and control |
US11508546B2 (en) | 2017-04-13 | 2022-11-22 | Fractilia, Llc | System and method for low-noise edge detection and its use for process monitoring and control |
US11521825B2 (en) | 2017-04-13 | 2022-12-06 | Fractilia, Llc | System and method for predicting stochastic-aware process window and yield and their use for process monitoring and control |
US10488188B2 (en) | 2017-04-13 | 2019-11-26 | Fractilia, Llc | System and method for removing noise from roughness measurements |
US10522322B2 (en) | 2017-04-13 | 2019-12-31 | Fractilia, Llc | System and method for generating and analyzing roughness measurements |
US10061300B1 (en) | 2017-09-29 | 2018-08-28 | Xometry, Inc. | Methods and apparatus for machine learning predictions and multi-objective optimization of manufacturing processes |
KR20220065769A (ko) | 2019-09-25 | 2022-05-20 | 시놉시스, 인크. | 결함 확률 분포들 및 임계 치수 변동들에 기초한 리소그래피 개선 |
WO2021062040A1 (en) * | 2019-09-25 | 2021-04-01 | Synopsys, Inc. | Lithography improvement based on defect probability distributions and critical dimension variations |
CN116522806B (zh) * | 2023-07-03 | 2023-09-19 | 泉州装备制造研究所 | 抛光工艺参数优化方法、抛光系统、电子设备及存储介质 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0943828A (ja) * | 1995-07-26 | 1997-02-14 | Toshiba Corp | 形状シミュレーション方法とマスク設計方法 |
JP2002221787A (ja) * | 2001-01-25 | 2002-08-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型感放射線性組成物 |
JP2003241386A (ja) * | 2001-12-13 | 2003-08-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型レジスト組成物 |
JP2003302214A (ja) * | 2002-04-10 | 2003-10-24 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン計測方法及びパターン計測装置、並びにパターン工程制御方法 |
JP2005221801A (ja) * | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Semiconductor Leading Edge Technologies Inc | レジストパターン形成方法 |
JP2005292827A (ja) * | 2004-03-19 | 2005-10-20 | Air Products & Chemicals Inc | 界面活性剤を含有する処理溶液 |
JP2005302800A (ja) * | 2004-04-07 | 2005-10-27 | Nec Electronics Corp | リゾグラフィの解像力判定手法 |
JP2006154245A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Toshiba Corp | パタンデータ検証方法、パタンデータ作成方法、露光用マスクの製造方法およびプログラム |
JP2007324479A (ja) * | 2006-06-02 | 2007-12-13 | Toshiba Corp | シミュレーションモデルの作成方法、プログラム及び半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5523193A (en) * | 1988-05-31 | 1996-06-04 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for patterning and imaging member |
DE59105735D1 (de) * | 1990-05-02 | 1995-07-20 | Fraunhofer Ges Forschung | Belichtungsvorrichtung. |
US5229872A (en) * | 1992-01-21 | 1993-07-20 | Hughes Aircraft Company | Exposure device including an electrically aligned electronic mask for micropatterning |
WO1997033205A1 (en) * | 1996-03-06 | 1997-09-12 | Philips Electronics N.V. | Differential interferometer system and lithographic step-and-scan apparatus provided with such a system |
EP0890136B9 (en) * | 1996-12-24 | 2003-12-10 | ASML Netherlands B.V. | Two-dimensionally balanced positioning device with two object holders, and lithographic device provided with such a positioning device |
US7488933B2 (en) * | 2005-08-05 | 2009-02-10 | Brion Technologies, Inc. | Method for lithography model calibration |
JP4700672B2 (ja) * | 2006-11-08 | 2011-06-15 | エーエスエムエル マスクツールズ ビー.ブイ. | ライン幅粗さおよびレジストパターン不良を予測する方法、プログラム、および装置、ならびにそのリソグラフィシミュレーションプロセスでの使用 |
JP4942800B2 (ja) * | 2009-08-18 | 2012-05-30 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 検査装置 |
-
2007
- 2007-11-07 JP JP2007289845A patent/JP4700672B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-11-08 US US11/979,838 patent/US8050898B2/en active Active
-
2011
- 2011-09-23 US US13/244,191 patent/US10386730B2/en active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0943828A (ja) * | 1995-07-26 | 1997-02-14 | Toshiba Corp | 形状シミュレーション方法とマスク設計方法 |
JP2002221787A (ja) * | 2001-01-25 | 2002-08-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型感放射線性組成物 |
JP2003241386A (ja) * | 2001-12-13 | 2003-08-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型レジスト組成物 |
JP2003302214A (ja) * | 2002-04-10 | 2003-10-24 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン計測方法及びパターン計測装置、並びにパターン工程制御方法 |
JP2005221801A (ja) * | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Semiconductor Leading Edge Technologies Inc | レジストパターン形成方法 |
JP2005292827A (ja) * | 2004-03-19 | 2005-10-20 | Air Products & Chemicals Inc | 界面活性剤を含有する処理溶液 |
JP2005302800A (ja) * | 2004-04-07 | 2005-10-27 | Nec Electronics Corp | リゾグラフィの解像力判定手法 |
JP2006154245A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Toshiba Corp | パタンデータ検証方法、パタンデータ作成方法、露光用マスクの製造方法およびプログラム |
JP2007324479A (ja) * | 2006-06-02 | 2007-12-13 | Toshiba Corp | シミュレーションモデルの作成方法、プログラム及び半導体装置の製造方法 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160122216A (ko) * | 2014-02-11 | 2016-10-21 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 임의 패턴의 확률적 변동을 계산하는 모델 |
JP2017505462A (ja) * | 2014-02-11 | 2017-02-16 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 任意パターンにおける確率的変動を計算するためのモデル |
KR102053152B1 (ko) * | 2014-02-11 | 2019-12-06 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 임의 패턴의 확률적 변동을 계산하는 모델 |
US10545411B2 (en) | 2014-02-11 | 2020-01-28 | Asml Netherlands, B.V. | Model for calculating a stochastic variation in an arbitrary pattern |
US11126090B2 (en) | 2014-02-11 | 2021-09-21 | Asml Netherlands B.V. | Model for calculating a stochastic variation in an arbitrary pattern |
US11835862B2 (en) | 2014-02-11 | 2023-12-05 | Asml Netherlands B.V. | Model for calculating a stochastic variation in an arbitrary pattern |
KR20170024029A (ko) * | 2014-06-25 | 2017-03-06 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 에칭 변동 감내 최적화 |
KR101939313B1 (ko) * | 2014-06-25 | 2019-01-16 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 에칭 변동 감내 최적화 |
US10191366B2 (en) | 2014-06-25 | 2019-01-29 | Asml Netherlands B.V. | Etch variation tolerant optimization |
US10712653B2 (en) | 2014-06-25 | 2020-07-14 | Asml Netherlands B.V. | Etch variation tolerant optimization |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20080183446A1 (en) | 2008-07-31 |
US20120109607A1 (en) | 2012-05-03 |
US8050898B2 (en) | 2011-11-01 |
US10386730B2 (en) | 2019-08-20 |
JP4700672B2 (ja) | 2011-06-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4700672B2 (ja) | ライン幅粗さおよびレジストパターン不良を予測する方法、プログラム、および装置、ならびにそのリソグラフィシミュレーションプロセスでの使用 | |
US11372337B2 (en) | Method of performing model-based scanner tuning | |
JP5414455B2 (ja) | リソグラフィモデル較正のためのパターン選択 | |
JP5666609B2 (ja) | 光源及びマスクの最適化のためのパターン選択方法 | |
KR101484146B1 (ko) | 다중 패터닝 공정과 리소그래피 장치 및 마스크 최적화 공정의 통합 | |
US7494753B2 (en) | Method, program product and apparatus for improving calibration of resist models used in critical dimension calculation | |
KR101527496B1 (ko) | 3d 레지스트 프로파일 시뮬레이션을 위한 리소그래피 모델 | |
JP2010118655A (ja) | 高速感度モデル計算のためのデルタtcc | |
JP2008124469A (ja) | キャリブレーションされた瞳カーネルを生成する方法、プログラム、および装置、ならびにそのリソグラフィシミュレーションプロセスでの使用 | |
TWI702467B (zh) | 用於改進抗蝕劑模型預測的系統、方法及電腦程式產品 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100902 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101004 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101222 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110202 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110304 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4700672 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |