JP2008117998A - Resin sealing mold and semiconductor package manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は樹脂封止金型及び半導体パッケージの製造方法に関する。詳しくは、半導体パッケージ部品の製造における封止工程で用いられる樹脂封止金型及び半導体パッケージの製造方法に係るものである。 The present invention relates to a resin sealing mold and a method for manufacturing a semiconductor package. Specifically, the present invention relates to a resin sealing mold used in a sealing process in manufacturing a semiconductor package component and a method for manufacturing a semiconductor package.
一般に半導体パッケージ部品は、リードフレーム上に搭載された半導体チップを、エポキシ樹脂を主成分とする熱硬化性樹脂を用いて封止することで製品化されている(例えば、特許文献1参照。)。 In general, a semiconductor package component is manufactured by sealing a semiconductor chip mounted on a lead frame with a thermosetting resin whose main component is an epoxy resin (see, for example, Patent Document 1). .
ここで、半導体パッケージ部品の製造にはモールド装置と称される樹脂封止装置が用いられており、上下一対の成形用金型(樹脂封止金型)の間にリードフレームを位置決め配置した後に、これら一対の金型を型締めして内部に形成されるキャビティに溶融樹脂を注入することでリードフレーム上の半導体チップを封止している。 Here, a resin sealing device called a molding device is used for manufacturing semiconductor package components, and after positioning and arranging the lead frame between a pair of upper and lower molding dies (resin sealing dies). The semiconductor chip on the lead frame is sealed by closing the pair of molds and injecting molten resin into the cavity formed inside.
以下、従来の樹脂封止金型について図面を用いて説明を行なう。
図4は従来の樹脂封止金型を説明するための模式図であり、ここで示す樹脂封止金型101は上型102と下型103とから成り、図中符合aで示す上型の合わせ面側には、複数のカル104が1列に形成されると共に(図4では図示の都合上2つのカルを図示)、カルの両側には4つの上側キャビティ105(105a,105b,105c,105d)及び上型ダミーキャビティ110が形成されている(図4では図示の都合上カルの片側のみに上側キャビティ及び上側ダミーキャビティを図示)。また、図中符合bで示す下型の合わせ面側には、各カルに対応する位置にポット106が形成され、各上型キャビティに対応する位置に下型キャビティ107(107a,107b,107c,107d)が形成され、上型ダミーキャビティに対応する位置に下型ダミーキャビティ111が形成されている。
Hereinafter, a conventional resin-sealed mold will be described with reference to the drawings.
FIG. 4 is a schematic diagram for explaining a conventional resin-sealed mold. The resin-sealed
ここで、ポット、下型キャビティ及び下型ダミーキャビティはゲート108(108a,108b,108c,108d,108e)を介して連続的に形成されている。具体的には、ポットはゲート(1)108aを介して1段目の下型キャビティ107aと連通しており、1段目の下型キャビティはゲート(2)108bを介して2段目の下型キャビティ107bと連通しており、2段目の下型キャビティはゲート(3)108cを介して3段目の下型キャビティ107cと連通しており、3段目の下型キャビティはゲート(4)108dを介して4段目の下型キャビティ107dと連通しており、4段目の下型キャビティはゲート(5)108eを介して下型ダミーキャビティと連通している。
Here, the pot, the lower mold cavity and the lower mold dummy cavity are continuously formed through the gates 108 (108a, 108b, 108c, 108d, 108e). Specifically, the pot communicates with the first-stage
また、下型ダミーキャビティには、上型と下型とを合わせた際に、カル、ポット、ゲート、上型キャビティ、下型キャビティ、上型ダミーキャビティ及び下型ダミーキャビティの内部に存在する空気を外部に逃がすためのエアベント112が設けられている。
In addition, when the upper mold and the lower mold are combined, the lower mold dummy cavity has air that is present inside the cull, pot, gate, upper mold cavity, lower mold cavity, upper mold dummy cavity, and lower mold dummy cavity. An
上記の様に構成された従来の樹脂封止金型では、ポットにタブレット状の樹脂が投入されて上型が閉じられ型締めされた後、予熱された金型(上型及び下型)の熱を受けて樹脂が溶融する。そして、ポットの下方に位置するプランジャ(図示せず)により溶融した樹脂が押圧されてゲートを介して1段目のキャビティ、2段目のキャビティ、3段目のキャビティ、4段目のキャビティ、ダミーキャビティの順に注入されることとなる。 In the conventional resin-sealed mold configured as described above, the tablet-shaped resin is put into the pot, the upper mold is closed and the mold is clamped, and then the preheated mold (upper mold and lower mold) is used. The resin melts upon receiving heat. The molten resin is pressed by a plunger (not shown) located below the pot, and the first-stage cavity, the second-stage cavity, the third-stage cavity, the fourth-stage cavity, The dummy cavities are injected in this order.
しかしながら、上記した従来の樹脂封止金型では、全てのゲートが略同一の断面積となる様に構成されているために、ダミーキャビティに空気と共に多くの樹脂材料が流れ込んでしまい、キャビティ(1段目のキャビティ、2段目のキャビティ、3段目のキャビティ及び4段目のキャビティ)内に空気が残存しやすい。 However, in the conventional resin-sealed mold described above, since all the gates are configured to have substantially the same cross-sectional area, a large amount of resin material flows into the dummy cavity together with air, and the cavity (1 Air tends to remain in the second-stage cavity, second-stage cavity, third-stage cavity, and fourth-stage cavity).
即ち、半導体パッケージ部品(製品)のボイドの低減を目的としてダミーキャビティを設けているのであるが、4段目(最終段)のキャビティとダミーキャビティとを連通するゲートが他のゲート(1段目のキャビティと2段目のキャビティを連通するゲート、2段目のキャビティと3段目のキャビティを連通するゲート、3段目のキャビティと4段目のキャビティを連通するゲート)と略同一の断面積となる様に構成されているために、換言すると、4段目のキャビティとダミーキャビティとを連通するゲートが他のゲートと同様に樹脂材料が流れやすいために、4段目のキャビティからダミーキャビティへと向かう樹脂材料の流動性が良く、エアーと同時にダミーキャビティに多くの樹脂材料が流れ込むことによって、キャビティ内に空気が残存しやすくなるのである。 That is, dummy cavities are provided for the purpose of reducing voids in semiconductor package components (products), but the gate that communicates the fourth (final) cavity with the dummy cavity is the other gate (first tier). The gate that communicates the second cavity and the second cavity, the gate that communicates the second cavity and the third cavity, and the gate that communicates the third cavity and the fourth cavity). In other words, since the resin material flows easily in the gate connecting the fourth-stage cavity and the dummy cavity as in the case of other gates because the area is configured to be an area, the dummy is removed from the fourth-stage cavity. The fluidity of the resin material toward the cavity is good, and a large amount of resin material flows into the dummy cavity simultaneously with the air, so that it is empty in the cavity. There is the more likely to remain.
本発明は以上の点に鑑みて創案されたものであって、キャビティ内の空気の残存を減少させることでボイドの発生を抑制し、高品質な樹脂封止製品を得ることができる樹脂封止金型を提供することを目的とするものである。また、キャビティ内の空気の残存を減少させることでボイドの発生を抑制し、高品質な樹脂封止製品を得ることができる半導体パッケージの製造方法を提供することを目的とするものである。 The present invention was devised in view of the above points, and it is possible to suppress the generation of voids by reducing the residual air in the cavity, and to obtain a high-quality resin-sealed product. The purpose is to provide a mold. It is another object of the present invention to provide a method for manufacturing a semiconductor package capable of suppressing the generation of voids by reducing the residual air in the cavity and obtaining a high-quality resin-encapsulated product.
上記の目的を達成するために、本発明に係る樹脂封止金型は、第1のゲートを介して連続的に形成された複数のキャビティと、最終段の前記キャビティと第2のゲートを介して連続的に形成されたダミーキャビティと、該ダミーキャビティより外部に通じるエアベントが設けられた樹脂封止金型において、前記第2のゲートの断面積は、前記第1のゲートの断面積よりも小さく形成されている。 In order to achieve the above object, a resin-sealed mold according to the present invention includes a plurality of cavities formed continuously via a first gate, and the cavity and the second gate at the final stage. In the resin-sealed mold provided with a continuously formed dummy cavity and an air vent leading to the outside from the dummy cavity, the cross-sectional area of the second gate is larger than the cross-sectional area of the first gate. It is formed small.
ここで、第2のゲートの断面積が、第1のゲートの断面積よりも小さく形成されたことによって(例えば、第2のゲートの高さを第1のゲートの高さよりも低く形成することで第2のゲートの断面積が第1のゲートの断面積よりも小さく形成されたことによって)、即ち、最終段のキャビティとダミーキャビティとを連通する第2のゲートがキャビティ同士を連通する第1のゲートと比較して樹脂材料の流動性が悪いことによって、キャビティ内の圧力を高めることができる。 Here, the cross-sectional area of the second gate is made smaller than the cross-sectional area of the first gate (for example, the height of the second gate is made lower than the height of the first gate). The second gate has a smaller cross-sectional area than that of the first gate), that is, the second gate that connects the final cavity and the dummy cavity communicates with each other. The pressure in the cavity can be increased due to the poor fluidity of the resin material compared to the gate of 1.
また、上記の目的を達成するために、本発明に係る半導体パッケージの製造方法は、第1のゲートを介して連続的に形成された複数のキャビティと、最終段の前記キャビティと第2のゲートを介して連続的に形成されたダミーキャビティと、該ダミーキャビティより外部に通じるエアベントが設けられた樹脂封止金型内にリードフレームを配置する工程と、リードフレームを配置した前記樹脂封止金型に封止樹脂を注入する工程とを備える半導体パッケージの製造方法において、前記第2のゲートの断面積が前記第1のゲートの断面積よりも小さな状態で前記封止樹脂を前記樹脂封止金型に注入している。 In order to achieve the above object, a method of manufacturing a semiconductor package according to the present invention includes a plurality of cavities formed continuously through a first gate, the cavity in the final stage, and a second gate. A step of disposing a lead frame in a resin-sealing mold provided with a dummy cavity continuously formed through the air, and an air vent leading to the outside from the dummy cavity, and the resin-sealing die including the lead frame And a step of injecting a sealing resin into a mold, wherein the sealing resin is sealed with the sealing resin in a state in which a cross-sectional area of the second gate is smaller than a cross-sectional area of the first gate. Injection into the mold.
ここで、第2のゲートの断面積が前記第1のゲートの断面積よりも小さな状態(例えば、第2のゲートの高さが第1のゲートの高さよりも低い状態)で封止樹脂を樹脂封止金型に注入することで、即ち、最終段のキャビティとダミーキャビティとを連通する第2のゲートがキャビティ同士を連通する第1のゲートと比較して樹脂材料の流動性が悪いことによって、キャビティ内の圧力を高めることができる。 Here, the sealing resin is applied in a state where the cross-sectional area of the second gate is smaller than the cross-sectional area of the first gate (for example, the height of the second gate is lower than the height of the first gate). By injecting into the resin-sealed mold, that is, the fluidity of the resin material is poor in the second gate connecting the final cavity and the dummy cavity compared to the first gate connecting the cavities. The pressure in the cavity can be increased.
上記した本発明の樹脂封止金型及び半導体パッケージの製造方法では、キャビティ内の圧力を高めることができ、ダミーキャビティ側への空気の排出を効率的に行なうことが可能となり、キャビティ内の空気の残存を低減することができる。 In the resin-sealed mold and semiconductor package manufacturing method of the present invention described above, the pressure in the cavity can be increased, air can be efficiently discharged to the dummy cavity side, and the air in the cavity can be efficiently discharged. Can be reduced.
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明し、本発明の理解に供する。
図1は本発明を適用した樹脂封止金型の一例を説明するための模式図であり、ここで示す樹脂封止金型1は、上記した従来の樹脂封止金型と同様に、上型2と下型3とから成り、図中符合cで示す上型の合わせ面側には、複数のカル4が1列に形成されると共に(図1では図示の都合上2つのカルを図示)、カルの両側には複数の上型キャビティ5(5a、5b、5c、5d)及び上型ダミーキャビティ10が形成されている(図1では図示の都合上カルの片側のみに上側キャビティ及び上側ダミーキャビティを図示)。また、図中符合dで示す下型の合わせ面側には、各カルに対応する位置にポット6が形成され、各上型キャビティに対応する位置に下型キャビティ7(7a、7b、7c、7d)が形成され、上型ダミーキャビティに対応する位置に下型ダミーキャビティ11が形成されている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings to facilitate understanding of the present invention.
FIG. 1 is a schematic diagram for explaining an example of a resin-sealed mold to which the present invention is applied. The resin-sealed mold 1 shown here is the same as the above-described conventional resin-sealed mold. A plurality of culls 4 are formed in one row on the mating surface side of the upper mold, which is composed of a
ここで、ポット、下型キャビティは第1のゲート8(8a、8b、8c、8d)を介して連続的に形成されており、4段目の下型キャビティと下型ダミーキャビティは第2のゲート13を介して連続的に形成されている。具体的には、ポットは第1のゲート(1)8aを介して1段目の下型キャビティ7aと連通しており、1段目の下型キャビティは第1のゲート(2)8bを介して2段目の下型キャビティ7bと連通しており、2段目の下型キャビティは第1のゲート(3)8cを介して3段目の下型キャビティ7cと連通しており、3段目の下型キャビティは第1のゲート(4)8dを介して4段目の下型キャビティ7dと連通しており、4段目の下型キャビティは第2のゲートを介してダミーキャビティと連通している。
Here, the pot and the lower mold cavity are formed continuously via the first gate 8 (8a, 8b, 8c, 8d), and the lower mold cavity and the lower mold dummy cavity in the fourth stage are the
また、下型ダミーキャビティには、上型と下型とを合わせた際に、カル、ポット、第1のゲート、第2のゲート、上型キャビティ、下型キャビティ、上型ダミーキャビティ及び下型ダミーキャビティの内部に存在する空気を外部に逃がすためのエアベント12が設けられている。
In addition, when the upper mold and the lower mold are combined, the lower mold dummy cavity includes a cull, a pot, a first gate, a second gate, an upper mold cavity, a lower mold cavity, an upper mold cavity, and a lower mold. An
具体的に本実施例の樹脂封止金型では、キャビティは図中符合Aで示す幅(キャビティの幅)が3mm、図中符合Bで示す奥行き(キャビティの奥行き)が4mm、図中符合Cで示す高さ(キャビティの高さ)が1.125mmとなる様に構成され、第1のゲートは図中符合Dで示す幅(第1のゲートの幅)が1.3mmであり、図中符合Eで示す高さ(第1のゲートの高さ)が0.4mmとなる様に構成され、第2のゲートは図中符合Fで示す幅(第2のゲートの幅)が2.5mmであり、図中符合Gで示す高さ(第2のゲートの高さ)が0.015mmとなる様に構成されている。また、エアベントは図中符合Hで示す幅(エアベントの幅)が2.5mmであり、図中符合Iで示す高さ(エアベントの高さ)が0.015mmとなる様に構成されている。 Specifically, in the resin-sealed mold of the present embodiment, the cavity has a width (cavity width) indicated by symbol A in the figure of 3 mm, a depth indicated by symbol B in the figure (cavity depth) is 4 mm, and symbol C in the figure. The height indicated by (cavity height) is 1.125 mm, and the first gate has a width indicated by the symbol D in the figure (the width of the first gate) is 1.3 mm. The height indicated by the symbol E (the height of the first gate) is 0.4 mm, and the second gate has a width indicated by the symbol F in the drawing (the width of the second gate) of 2.5 mm. The height indicated by the symbol G in the drawing (the height of the second gate) is 0.015 mm. Further, the air vent is configured such that the width indicated by the symbol H in the figure (the width of the air vent) is 2.5 mm, and the height indicated by the symbol I in the figure (the height of the air vent) is 0.015 mm.
図2は本発明を適用した樹脂封止金型の他の一例を説明するための模式図であり、ここで示す樹脂封止金型1は、上記した本発明を適用した樹脂封止金型の一例と同様に、上型2と下型3とから成り、図中符合cで示す上型の合わせ面側には、複数のカル4が一列に形成されると共に(図2では図示の都合上2つのカルを図示)、カルの両側には複数の上型キャビティ5(5a、5b、5c、5d)及び上型ダミーキャビティ10が形成されている(図2では図示の都合上カルの片側のみに上側キャビティ及び上側ダミーキャビティを図示)。また、図中符合dで示す下型の合わせ面側には、各カルに対応する位置にポット6が形成され、各上型キャビティに対応する位置に下型キャビティ7(7a、7b、7c、7d)が形成され、上型ダミーキャビティに対応する位置に下型ダミーキャビティ11が形成されている。
FIG. 2 is a schematic view for explaining another example of a resin-sealed mold to which the present invention is applied. The resin-sealed mold 1 shown here is a resin-sealed mold to which the present invention is applied. As shown in FIG. 2, the
ここで、カル、上型キャビティは第1のゲート8(8a、8b、8c、8d)を介して連続的に形成されており、4段目の上型キャビティと上型ダミーキャビティは第2のゲート13を介して連続的に形成されている。具体的には、カルは第1のゲート(1)8aを介して1段目の上型キャビティ5aと連通しており、1段目の上型キャビティは第1のゲート(2)8bを介して2段目の上型キャビティ5bと連通しており、2段目の上型キャビティは第1のゲート(3)8cを介して3段目の上型キャビティ5cと連通しており、3段目の上型キャビティは第1のゲート(4)8dを介して4段目の上型キャビティ5dと連通しており、4段目の上型キャビティは第2のゲートを介してダミーキャビティと連通している。
Here, the cull and upper mold cavities are continuously formed through the first gate 8 (8a, 8b, 8c, 8d), and the fourth stage upper mold cavity and the upper mold cavity are the second mold cavity. It is formed continuously through the
また、上型ダミーキャビティには、上型と下型とを合わせた際に、カル、ポット、第1のゲート、第2のゲート、上型キャビティ、下型キャビティ、上型ダミーキャビティ及び下型ダミーキャビティの内部に存在する空気を外部に逃がすためのエアベント12が設けられている。
In addition, when the upper mold and the lower mold are combined, the upper mold dummy cavity includes a cull, a pot, a first gate, a second gate, an upper mold cavity, a lower mold cavity, an upper mold cavity, and a lower mold. An
具体的に本実施例の樹脂封止金型では、キャビティは図中符合Jで示す幅(キャビティの幅)が3mm、図中符合Kで示す奥行き(キャビティの奥行き)が4mm、図中符合Lで示す高さ(キャビティの高さ)が1.125mmとなる様に構成され、第1のゲートは図中符合Mで示す幅(第1のゲートの幅)が1.3mmであり、図中符合Nで示す高さ(第1のゲートの高さ)が0.4mmとなる様に構成され、第2のゲートは図中符合Oで示す幅(第2のゲートの幅)が2.5mmであり、図中符合Pで示す高さ(第2のゲートの高さ)が0.015mmとなる様に構成されている。また、エアベントは図中符合Qで示す幅(エアベントの幅)が2.5mmであり、図中符合Rで示す高さ(エアベントの高さ)が0.015mmとなる様に構成されている。 Specifically, in the resin-sealed mold of the present embodiment, the cavity has a width indicated by the symbol J (cavity width) in the drawing of 3 mm, a depth indicated by the symbol K in the drawing (cavity depth) is 4 mm, and the symbol L in the drawing. The height (cavity height) indicated by is configured to be 1.125 mm, and the first gate has a width indicated by the symbol M in the figure (the width of the first gate) is 1.3 mm. The height indicated by the symbol N (the height of the first gate) is configured to be 0.4 mm, and the second gate has a width indicated by the symbol O in the drawing (the width of the second gate) is 2.5 mm. And the height indicated by the symbol P in the drawing (the height of the second gate) is 0.015 mm. Further, the air vent is configured such that the width indicated by the symbol Q in the figure (the width of the air vent) is 2.5 mm, and the height indicated by the symbol R in the figure is the height of 0.015 mm.
上記した本発明を適用した樹脂封止金型の一例及び他の一例では、第2のゲートの断面積(2.5mm×0.015mm)が、第1のゲートの断面積(1.3mm×0.4mm)よりも小さく構成され、第2のゲートが第1のゲートと比較して樹脂材料の流動性が悪いことによって、上型キャビティと下型キャビティにより形成されるキャビティ内の圧力を高めることができる。そして、キャビティ内の圧力が高められると、粘度のある樹脂材料よりも空気の方が流れやすいために、上型ダミーキャビティと下型ダミーキャビティにより形成されるダミーキャビティ側に空気の排出を効率的に行なうことができ、その結果としてキャビティ内の空気の残存を低減することができ、高品質の半導体パッケージ部品を製造することができる。 In one example and another example of the resin-sealed mold to which the present invention described above is applied, the cross-sectional area of the second gate (2.5 mm × 0.015 mm) is equal to the cross-sectional area of the first gate (1.3 mm × 0.4 mm), and the second gate increases the pressure in the cavity formed by the upper mold cavity and the lower mold cavity due to the poor fluidity of the resin material compared to the first gate. be able to. When the pressure in the cavity is increased, air flows more easily than the resin material with viscosity. Therefore, air is efficiently discharged to the dummy cavity formed by the upper and lower dummy cavities. As a result, the remaining air in the cavity can be reduced, and a high-quality semiconductor package component can be manufactured.
また、エアベントと第2のゲートの高さが同一となる様に構成されているために、エアベントと第2のゲートを同一工程(例えば、同一の研摩工程)により形成することが容易となる。即ち、エアベントと第2のゲートの高さが異なる場合には、(1)第1のゲートを形成する工程、(2)第2のゲートを形成する工程、(3)エアベントを形成する工程の3工程が必要になると考えられるが、エアベントと第2のゲートの高さが同一となる様に構成することによって、エアベントと第2のゲートとを同一工程で形成することができ、(1)第1のゲートを形成する工程、(2)エアベント及び第2のゲートを形成する工程の2工程で済むこととなる。 Further, since the air vent and the second gate are configured to have the same height, it is easy to form the air vent and the second gate by the same process (for example, the same polishing process). That is, when the heights of the air vent and the second gate are different, (1) the step of forming the first gate, (2) the step of forming the second gate, and (3) the step of forming the air vent. It is considered that three steps are required. By configuring the air vent and the second gate to have the same height, the air vent and the second gate can be formed in the same step. (1) The two steps of forming the first gate and (2) forming the air vent and the second gate are sufficient.
以下、上記した本発明を適用した樹脂封止金型の一例を使用した半導体パッケージの製造方法について説明を行なう。即ち、本発明を適用した半導体パッケージの製造方法の一例について説明を行なう。
図3(a)は本発明を適用した半導体パッケージの製造方法に使用するリードフレームを説明するための模式図であり、ここで示すリードフレーム21は、Cu(銅)からなるリードフレーム基材(厚さ約200μm)22の全面を被覆したNi(ニッケル)層(厚さ約2μm)23を下地層として、Pd(パラジウム)層(厚さ約0.15μm)24が全面に形成され、その上からAu(金)の蒸着層(厚さ約0.01μm)25を形成してなるものである。
Hereinafter, a method for manufacturing a semiconductor package using an example of a resin-sealed mold to which the present invention is applied will be described. That is, an example of a semiconductor package manufacturing method to which the present invention is applied will be described.
FIG. 3A is a schematic view for explaining a lead frame used in a method for manufacturing a semiconductor package to which the present invention is applied. A
本発明を適用した半導体パッケージの製造方法では、上記の様に構成されたリードフレームのダイパッド部21aに半導体チップ26を搭載した状態で同リードフレームを下型3に位置決め配置し、下型に対して上型2を型締めした後(図3(b)参照。)、エポキシ樹脂系の封止用溶融樹脂27をキャビティ内へ注入することで、半導体チップ26を封止する。即ち、上記した本発明を適用した樹脂封止金型の一例では、第1のゲートの幅が1.3mm、第1のゲートの高さが0.4mm、第2のゲートの幅が2.5mm、第2のゲートの高さが0.015mmとなる様に構成され、第2のゲートの断面積が第1のゲートの断面積よりも小さな状態でエポキシ樹脂系の封止用溶融樹脂をキャビティ内へ注入することで半導体チップ26の封止を行なう。
In the method of manufacturing a semiconductor package to which the present invention is applied, the lead frame is positioned and arranged on the
上記した本発明を適用した半導体パッケージの製造方法の一例では、第2のゲートの断面積が第1のゲートの断面積よりも小さな状態、即ち、第2のゲートが第1のゲートと比較して樹脂材料の流動性が悪い状態で封止用溶融樹脂をキャビティ内に注入しており、上型キャビティと下型キャビティにより形成されるキャビティ内の圧力を高めることができ、上型ダミーキャビティと下型ダミーキャビティにより形成されるダミーキャビティ側に空気の排出を効率的に行なうことができ、キャビティ内の空気の残存を低減することができ、高品質の半導体パッケージ部品を製造することができる。 In an example of the semiconductor package manufacturing method to which the present invention is applied, the second gate has a cross-sectional area smaller than that of the first gate, that is, the second gate is compared with the first gate. The molten resin for sealing is injected into the cavity in a state where the fluidity of the resin material is poor, and the pressure in the cavity formed by the upper mold cavity and the lower mold cavity can be increased. Air can be efficiently discharged to the dummy cavity side formed by the lower mold cavity, the remaining air in the cavity can be reduced, and a high-quality semiconductor package component can be manufactured.
なお、金型の型締圧力が294KN(30ton)、樹脂(半導体製造用透明樹脂、熱硬化性透明樹脂、熱硬化性樹脂等)の射出圧力が12.74MPa(130kgf/cm2)、樹脂の射出時間が25sec、温度が155℃の条件で、(1)従来の樹脂封止金型(図3参照)と(2)本発明を適用した樹脂封止金型の一例(図1参照)を用いて3mm×4mm×1.125mm(幅×奥行×高さ)の半導体パッケージ部品を樹脂封止した場合におけるボイドの発生率を示している。 The mold clamping pressure is 294 KN (30 ton), the injection pressure of resin (transparent resin for semiconductor production, thermosetting transparent resin, thermosetting resin, etc.) is 12.74 MPa (130 kgf / cm 2 ), (1) A conventional resin-sealed mold (see FIG. 3) and (2) an example of a resin-sealed mold to which the present invention is applied (see FIG. 1) under conditions of an injection time of 25 seconds and a temperature of 155 ° C. It shows the void generation rate when a 3 mm × 4 mm × 1.125 mm (width × depth × height) semiconductor package component is resin-sealed.
上記した表1から、本発明を適用した樹脂封止金型では、従来の樹脂封止金型と比較するとボイドの発生率を低減できていることが分かる。 From Table 1 described above, it can be seen that the resin-sealed mold to which the present invention is applied can reduce the void generation rate as compared with the conventional resin-sealed mold.
1 樹脂封止金型
2 上型
3 下型
4 カル
5 上型キャビティ
6 ポット
7 下型キャビティ
8 第1のゲート
10 上型ダミーキャビティ
11 下型ダミーキャビティ
12 エアベント
13 第2のゲート
21 リードフレーム
21a ダイパッド部
22 リードフレーム基材
23 Ni層
24 Pd層
25 蒸着層
26 半導体チップ
27 封止用溶融樹脂
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Resin sealing
Claims (5)
最終段の前記キャビティと第2のゲートを介して連続的に形成されたダミーキャビティと、
該ダミーキャビティより外部に通じるエアベントが設けられた樹脂封止金型において、
前記第2のゲートの断面積は、前記第1のゲートの断面積よりも小さく形成された
ことを特徴とする樹脂封止金型。 A plurality of cavities formed continuously through the first gate;
A dummy cavity formed continuously through the cavity of the final stage and the second gate;
In the resin-sealed mold provided with an air vent leading to the outside from the dummy cavity,
The resin-sealed mold, wherein a cross-sectional area of the second gate is formed smaller than a cross-sectional area of the first gate.
ことを特徴とする請求項1に記載の樹脂封止金型。 The resin-sealed mold according to claim 1, wherein a height of the second gate is formed lower than a height of the first gate.
ことを特徴とする請求項1に記載の樹脂封止金型。 The resin-sealed mold according to claim 1, wherein the height of the second gate is formed substantially the same as the height of the air vent.
リードフレームを配置した前記樹脂封止金型に封止樹脂を注入する工程とを備える半導体パッケージの製造方法において、
前記第2のゲートの断面積が前記第1のゲートの断面積よりも小さな状態で前記封止樹脂を前記樹脂封止金型に注入する
ことを特徴とする半導体パッケージの製造方法。 A plurality of cavities continuously formed through the first gate, a dummy cavity formed continuously through the final stage cavity and the second gate, and an air vent leading to the outside from the dummy cavity. Placing the lead frame in the provided resin-sealed mold; and
In a method for manufacturing a semiconductor package comprising a step of injecting a sealing resin into the resin-sealed mold in which a lead frame is disposed,
A method for manufacturing a semiconductor package, comprising injecting the sealing resin into the resin sealing mold in a state in which a cross-sectional area of the second gate is smaller than a cross-sectional area of the first gate.
ことを特徴とする請求項4に記載の半導体パッケージの製造方法。 The manufacturing method of a semiconductor package according to claim 4, wherein the sealing resin is injected into the resin sealing mold in a state where the height of the second gate is lower than the height of the first gate. Method.
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2607040A1 (en) * | 2011-12-22 | 2013-06-26 | Elast Kunststoffverarbeitungs-GmbH & Co. KEG | Method for the preparation of a plurality of injection molded parts |
AT512318A3 (en) * | 2011-12-22 | 2016-03-15 | Elast Kunststoffverarbeitungs Gmbh & Co Keg | METHOD OF MANUFACTURING INJECTION MOLDED COMPONENTS AND DEVICE FOR CARRYING OUT THIS METHOD |
JP2017164987A (en) * | 2016-03-16 | 2017-09-21 | 東芝メモリ株式会社 | Mold and transfer molding device |
CN109698132A (en) * | 2017-10-24 | 2019-04-30 | 瑞萨电子株式会社 | The manufacturing method and lead frame of semiconductor devices |
CN110544637A (en) * | 2019-08-28 | 2019-12-06 | 深圳赛意法微电子有限公司 | semiconductor device molding method and packaging mold used for same |
-
2006
- 2006-11-07 JP JP2006301260A patent/JP2008117998A/en active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2607040A1 (en) * | 2011-12-22 | 2013-06-26 | Elast Kunststoffverarbeitungs-GmbH & Co. KEG | Method for the preparation of a plurality of injection molded parts |
AT512318A3 (en) * | 2011-12-22 | 2016-03-15 | Elast Kunststoffverarbeitungs Gmbh & Co Keg | METHOD OF MANUFACTURING INJECTION MOLDED COMPONENTS AND DEVICE FOR CARRYING OUT THIS METHOD |
AT512318B1 (en) * | 2011-12-22 | 2016-06-15 | Elast Kunststoffverarbeitungs-Gmbh & Co Keg | METHOD OF MANUFACTURING INJECTION MOLDED COMPONENTS AND DEVICE FOR CARRYING OUT THIS METHOD |
JP2017164987A (en) * | 2016-03-16 | 2017-09-21 | 東芝メモリ株式会社 | Mold and transfer molding device |
US11114322B2 (en) | 2016-03-16 | 2021-09-07 | Toshiba Memory Corporation | Mold and transfer molding apparatus |
US11605548B2 (en) | 2016-03-16 | 2023-03-14 | Kioxia Corporation | Transfer molding method with sensor and shut-off pin |
CN109698132A (en) * | 2017-10-24 | 2019-04-30 | 瑞萨电子株式会社 | The manufacturing method and lead frame of semiconductor devices |
CN109698132B (en) * | 2017-10-24 | 2023-10-20 | 瑞萨电子株式会社 | Method for manufacturing semiconductor device and lead frame |
CN110544637A (en) * | 2019-08-28 | 2019-12-06 | 深圳赛意法微电子有限公司 | semiconductor device molding method and packaging mold used for same |
CN110544637B (en) * | 2019-08-28 | 2022-07-05 | 深圳赛意法微电子有限公司 | Semiconductor device molding method and packaging mold used for same |
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