JP2008114324A - 研磨パッドおよびガラス基板研磨方法 - Google Patents
研磨パッドおよびガラス基板研磨方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】ガラス基板の研磨に用いられ、ガラス面と接触すべき表層1、中間層2および基層3がこの順で積層された研磨パッドであって、基層3の圧縮率が中間層2の圧縮率よりも大きく、表層1は孔を有し、中間層2は孔を有しない、または中間層2が孔を有する場合はその孔径が表層1の孔径よりも小さい研磨パッド。表層1の孔の径が50μm以下である前記研磨パッド。表層1の厚みが10〜300μm、中間層2の厚みが100〜700μm、基層3の厚みが100〜700μmである前記研磨パッド。
【選択図】図1
Description
このような磁気ディスク用ガラス基板の研磨に用いられる研磨パッドはたとえば特許文献1に開示されている。
また、研磨パッド内に含まれる孔がすべて小径である研磨パッドを用いると、基層側も高剛性になってしまうため、研磨系の動的コンプライアンスが低くなり、研磨過程において研磨パッドの局所変形を起因とする研磨品質の悪化が生じやすくなる。
本発明は、研磨パッド表層の小径化の効果をより発揮することができる研磨パッドの提供を目的とする。
また、ガラス基板を前記研磨パッドを用いて研磨するガラス基板研磨方法を提供する。
また、中間層が孔を有する場合にその孔径を表層の孔径よりも小さいものとしているので、表層の小径化の効果発揮を損なうおそれが減少する。
さらに、中間層の圧縮率は基層の圧縮率よりも小さいので、研磨系の動的コンプライアンスの低下、したがって研磨パッドの局所変形が防止され、研磨性能の維持を図ることが可能となる。
中間層2の孔径は表層1の孔径よりも小さい。なお、図1の中間層2には孔が存在するが、中間層における孔の存在は必須ではない。
基層3は、その圧縮率が中間層2の圧縮率よりも大きいものとされる。
このような構成からなる研磨パッドは、高品位な平坦度を要求される磁気ディスク用ガラス基板の鏡面研磨において好ましく用いることができる。
中間層2に孔が存在しない場合としては、中間層2にPET樹脂フィルムのような無発泡層を用いる場合が例示される。
研磨対象であるガラス基板には、酸化物換算の質量%で表示した組成が、SiO2:56%、B2O3:6%、Al2O3:11%、Fe2O3:0.05%、Na2O:0.1%、MgO:2%、CaO:3%、BaO:15%、SrO:6.5%からなり、外径65mm、厚さ0.9mmの円形ガラス基板を用意する。
エッチング処理後、両面研磨機を用いて平均粒径1.2μmの酸化セリウム砥粒含有スラリーを使用して、研磨しろを約40μmとする鏡面研磨を続けて行い、本発明の研磨パッドと従来研磨パッドによる研磨試験用に5枚ずつガラス基板を作製した。
仕上げ研磨後の各ガラス基板5枚(サンプル1〜5)の微小うねり(カットオフ波長:0.05mm〜1.0mm)をZYGO社製レーザ干渉式表面測定機を用いて測定すると表1のようになる(単位:nm)。本発明の研磨パッドを用いることにより微小うねりを低減させることができる。
2:中間層
3:基層
Claims (6)
- ガラス基板の研磨に用いられ、ガラス面と接触すべき表層、中間層および基層がこの順で積層された研磨パッドであって、基層の圧縮率が中間層の圧縮率よりも大きく、表層は孔を有し、中間層は孔を有しない、または中間層が孔を有する場合はその孔径が表層の孔径よりも小さい研磨パッド。
- 表層の孔の径が50μm以下である請求項1の研磨パッド。
- 表層の厚みが10〜300μm、中間層の厚みが100〜700μm、基層の厚みが100〜700μmである請求項1または2の研磨パッド。
- ガラス基板が磁気ディスク用ガラス基板、液晶用ガラス基板およびフォトマスク用ガラス基板のいずれかである請求項1、2または3の研磨パッド。
- ガラス基板を請求項1、2または3の研磨パッドを用いて研磨するガラス基板研磨方法。
- ガラス基板が磁気ディスク用ガラス基板、液晶用ガラス基板およびフォトマスク用ガラス基板のいずれかである請求項5のガラス基板研磨方法。
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Citations (5)
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