JP2008112955A - 半導体装置、金属接合材料、半田付け方法及び電子機器の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】回路基板上に半導体素子等の電子部品を誘導加熱で半田付けする際に好適な金属接合材料を提供する。
【解決手段】金属接合材料11は、半田付け温度で溶融可能な接合金属12と、半田付け温度で溶融不能かつ誘導加熱可能な位置決め金属13とが混合されて構成されている。接合金属12は、シート状又はテープ状(リボン状)に形成され、位置決め金属13は、複数の粒として形成されている。粒の形状は球体、立方体、多面体等、平面上に載置された際に載置状態に拘わらず高さがほぼ一定となる形状が好ましい。位置決め金属13には、強磁性材が使用され、Ni、Fe及びCoの少なくとも1つの金属が使用されている。接合金属12には、半田やろう材を使用することができ、半田は鉛半田及び鉛フリー半田のいずれであってもよい。
【選択図】図1
【解決手段】金属接合材料11は、半田付け温度で溶融可能な接合金属12と、半田付け温度で溶融不能かつ誘導加熱可能な位置決め金属13とが混合されて構成されている。接合金属12は、シート状又はテープ状(リボン状)に形成され、位置決め金属13は、複数の粒として形成されている。粒の形状は球体、立方体、多面体等、平面上に載置された際に載置状態に拘わらず高さがほぼ一定となる形状が好ましい。位置決め金属13には、強磁性材が使用され、Ni、Fe及びCoの少なくとも1つの金属が使用されている。接合金属12には、半田やろう材を使用することができ、半田は鉛半田及び鉛フリー半田のいずれであってもよい。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体装置、金属接合材料、半田付け方法及び電子機器の製造方法に係り、詳しくは製造時における誘導加熱での半田付けに特徴を有する半導体装置、その半田付けに好適な金属接合材料、半田付け方法及び電子機器の製造方法に関する。
従来から、金属部材とセラミックス部材や、基板と電子部品とを接合する方法として、高周波誘導加熱を用いる方法が知られている(例えば、特許文献1参照。)。特許文献1には、複数の熱電素子と基板とを接合して熱電変換モジュールを製作する接合装置が提案されている。この接合装置は、図12(a)に示すように、台51と、基板52に一端面を接し同基板52を加圧する加圧治具(錘)53と、同加圧治具53の周りに設けられる高周波加熱コイル54とを備える。そして、台51上に順次カーボンシート55、熱電素子56、基板52を配置するとともに、加圧治具53により基板52を加圧した状態で誘導加熱(高周波加熱)により加圧治具53を加熱する。すると、加圧治具53の熱が基板52に伝わり、熱電素子56が基板52に接合される。また、接合対象間に半田やロウ材を配置しておけば半田付けやロウ付けが行える。
また、リフロー半田付け法によるチップ部品をプリント基板に実装する場合において、クリーム半田に、表面に半田濡れ性を有しリフロー半田付け時の熱によって溶融しないスペーサ球体(好ましくは樹脂コア半田ボール)を含ませて、チップ部品をプリント基板に実装する方法が提案されている(例えば、特許文献2参照。)。半田付け後のチップ部品と基板面との間隔を端子パッドの厚み分(例えば、25μm)より大きくするため、スペーサ球は直径が、例えば200μm程度に形成される。この実装方法を行うことにより、リフロー半田付け法によってチップ部品をプリント基板に実装する場合において、半田付け後の特にチップ部品と基板面との間に存在するフラックスを容易に除去することが可能になる。
また、セラミック基板に接合材を介して金属部材を接合した複合基板において、接合材の内部に該接合材よりも高融点の内蔵金属部材が内蔵された複合基板が提案されている(例えば、特許文献3参照。)。この複合基板は、図12(b)に示すように、セラミック基板61と金属部材62とが接合材63を介して接合され、接合材63の内部にはセラミック基板61及び金属部材62にそれぞれ接触するように内蔵金属部材64が設けられている。図12(c),(d)に示すように、内蔵金属部材64は金属線を略円形あるいは四角形に屈曲して形成されている。そして、複合基板を製造する際は、セラミック基板61と金属部材62で接合材63と内蔵金属部材64を挟持する状態にし、金属部材62の上に重しをのせるなどして、接合面に垂直な方向に加圧しながら接合材63の溶融温度以上の還元雰囲気で加熱処理して接合する。
実開平5−13660号公報。
特開2005−353962号公報
特開2004−356309号公報
ところが、特許文献1に記載の方法のように錘(加圧治具)を加熱して、錘から接合対象に熱を伝える方法では、熱容量が相応にある錘を加熱するため、必要なエネルギーが多く、時間が掛かる。また、図13に示すように、基板71に形成された導体パターン72上に半導体チップ(半導体素子)73を半田付けする場合、半導体チップ73あるいは錘と溶けた半田74の表面張力とのバランスにより、溶けた半田74上で半導体チップ73が傾く虞がある。このような現象が生じると、大型の基板にベアチップ等の電子部品を半田付けで複数実装した後、ワイヤボンディングで配線を行って各電子部品間及び電子部品と配線との間を接続すると、ワイヤボンディングに支障を来す場合がある。
また、特許文献2には、半田ペーストにリフロー半田時の熱によって溶融しないスペーサ球を含ませることは開示されている。しかし、スペーサ球を含ませる目的は、半田付け後、チップ部品と基板面との間に存在するフラックスを容易に除去可能とすることであり、スペーサ球を半田の加熱に利用することに関しては何ら記載がない。
また、特許文献3の方法は、接合材63として特に半田を対象にしたものではなく、特許文献1と同様に、内蔵金属部材64の誘導加熱を利用して半田を溶融させることに関しては何ら記載されておらず、電子部品を誘導加熱で効率良く半田付けすることはできない。
本発明は前記従来の問題に鑑みてなされたものであって、その目的は、回路基板上の接合部に半導体素子が半田付けされた半導体装置を提供することと、回路基板上に半導体素子等の電子部品を誘導加熱で半田付けする際に好適な金属接合材料を提供することにある。また、別の目的は、回路基板上に半導体素子等の電子部品を誘導加熱で効率良く半田付けすることができる半田付け方法及び電子機器の製造方法を提供することにある。
前記の目的を達成するため請求項1に記載の発明は、半導体素子と回路基板とを備える半導体装置であって、前記回路基板上の接合部と前記半導体素子との間に接合金属層を備え、前記接合金属層は半田付け温度で溶融可能な接合金属と、半田付け温度で溶融不能かつ誘導加熱可能な位置決め金属とを含む。この発明の半導体装置は、半導体素子を回路基板上の接合部(パッド)に接合している接合金属層が半田付け温度で溶融可能な接合金属のみから構成されるのではなく、半田付け温度で溶融不能かつ誘導加熱可能な位置決め金属を含んでいる。そのため、半導体装置の製造工程において、回路基板上の接合部に半導体素子を接合する際、誘導加熱で効率良く半田付けすることができる。また、溶融状態の接合金属上で半導体素子が後工程に支障を来す状態となるまで傾いて接合されることが回避される。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記位置決め金属は、環状に形成されている。この発明の半導体装置は、半導体装置の製造工程において、位置決め金属が粒状の場合に比較して、誘導加熱が効率良く行われる。
請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の発明において、前記位置決め金属は、温度計測部を備えている。半導体装置の製造工程において、位置決め金属を誘導加熱で加熱して接合金属を溶融させる場合、加熱時の温度により接合金属層におけるボイドの発生状態が異なる。この発明の半導体装置は、位置決め金属が温度計測部を備えているため、半導体装置の製造工程において、位置決め金属の温度を測定することにより、最適の温度条件で接合金属を溶融させることができる。
請求項4に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記位置決め金属は、複数の粒として形成されている。位置決め金属の使用重量が同じ場合、位置決め金属を線材に加工して使用する場合に比較して、位置決め金属と接合金属との接触面積が大きくなる。
請求項5に記載の発明は、請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載の発明において、前記位置決め金属として、強磁性材が使用されている。この発明では、半導体装置の製造工程において、位置決め金属が高周波誘導加熱で効率良く加熱される。
請求項6に記載の発明は、半田付け温度で溶融可能な接合金属と、半田付け温度で溶融不能かつ誘導加熱可能な位置決め金属とが混合されている。ここで、「混合されている」とは、接合金属と位置決め金属とが合金を形成せずに位置決め金属が接合金属に埋設された状態や、接合金属の粒がフラックスで練られたペースト中に位置決め金属の粒等が存在している状態を意味する。
この発明の金属接合材料を半田付けの半田として使用する場合、回路基板に設けられた接合部(パッド)上に金属接合材料を介して電子部品を配置し、高周波誘導加熱を行う。すると、位置決め金属が誘導加熱で発熱してその熱で接合金属が溶融する。接合金属が溶融しても位置決め金属は溶融しないため、溶融状態の半田上で電子部品が後工程に支障を来す状態となるまで傾いて半田付けされることが回避される。したがって、この発明の金属接合材料は、回路基板上に半導体素子等の電子部品を誘導加熱で半田付けする際に好適である。
請求項7に記載の発明は、請求項6に記載の発明において、前記位置決め金属として、強磁性材が使用されている。この発明では、位置決め金属が高周波誘導加熱で効率良く加熱される。
請求項8に記載の発明は、請求項7に記載の発明において、前記強磁性材として、ニッケル(Ni)、鉄(Fe)及びコバルト(Co)の少なくとも1つの金属が使用されている。この発明では、効率良く加熱される位置決め金属を入手し易い。また、Ni、Fe及びCoの熱伝導率は、一般の鉛半田の主成分である錫(Sn)及び鉛(Pb)の熱伝導率より大幅に大きいため、半田付けが完了した後、半田層の熱抵抗が低くなる。
請求項9に記載の発明は、請求項6〜請求項8のいずれか一項に記載の発明において、前記位置決め金属は、複数の粒として形成されている。ここで、「粒」とは、球体、立方体等、平面上に載置された際に載置状態に拘わらず高さがほぼ一定のものを意味する。この発明では、位置決め金属の使用重量が同じ場合、位置決め金属を線材に加工して使用する場合に比較して、位置決め金属と接合金属との接触面積が大きくなる。
請求項10に記載の発明は、請求項6〜請求項8のいずれか一項に記載の発明において、前記位置決め金属は、環状に形成されている。この発明では、接合金属の使用重量が同じ場合、位置決め金属を直線状の線材に加工して使用する場合に比較して、位置決め金属を接合金属中の適正な位置に配置し易い。「適正な位置」とは、半田付けに使用された際、誘導加熱された位置決め金属の熱を接合金属に伝え易く、半田付けされる電子部品の傾きを抑制し易い位置を意味する。
請求項11に記載の発明は、請求項9又は請求項10に記載の発明において、前記接合金属は、シート状又はテープ状に形成され、前記位置決め金属は、一層で半田付け後の半田層の厚さを規定する高さに形成されている。ここで、「一層で」とは、粒状や環状の位置決め金属が接合金属の厚さ方向に複数存在しないことを意味する。この発明では、位置決め金属が接合金属の厚さ方向に複数存在する場合に比較して金属接合材料の製造が容易になる。
請求項12に記載の発明は、回路基板上に設けられた接合部に電子部品を半田付けする半田付け方法である。そして、前記接合部上に請求項6〜請求項11のいずれか一項に記載の金属接合材料を介して電子部品を配置するとともに、前記金属接合材料を磁束が通過するように高周波誘導加熱を行って前記金属接合材料の接合金属を溶融させて前記接合部と前記電子部品との半田付けを行う。この発明では、加圧治具を誘導加熱で加熱して、その熱を半田に伝達して半田付けを行う半田付け方法に比較して、半田が効率良く加熱溶融し、かつ溶融状態の半田上で電子部品が後工程に支障を来す状態となるまで傾いて半田付けされることが回避される。したがって、回路基板上に半導体素子等の電子部品を誘導加熱で効率良く半田付けすることができる。
請求項13に記載の発明は、回路基板上に設けられた接合部に半導体素子を半田付けする半田付け方法である。そして、前記回路基板上に環状でかつ誘導加熱可能な位置決め金属を配置し、前記位置決め金属の内側に半田付け温度で溶融可能な接合金属を、溶融した際に一部が前記位置決め金属の外側に流れ出す状態に配置し、前記接合金属の上に半導体素子を載置した状態で、高周波誘導加熱を行って前記接合金属を溶融させて前記接合部と前記半導体素子との半田付けを行う。この発明では、接合金属は、環状の位置決め金属の内側において溶融され、溶融した状態で一部が位置決め金属の外側に流れ出し、半導体素子と接合部とを接合する。したがって、シート状の半田を接合部と半導体素子との間に配置して、半田が周囲から溶融される場合に比較して、接合金属層にボイド部が発生し難い。また、位置決め金属が粒状の場合に比較して、誘導加熱が効率良く行われる。
請求項14に記載の発明は、請求項13に記載の発明において、前記位置決め金属には温度計測部が設けられ、前記位置決め金属の温度計測を行って予め設定された温度変化となるように前記高周波誘導加熱を行う。電子部品としての半導体素子の半田付けを行う場合、位置決め金属を誘導加熱で加熱して接合金属(半田)を溶融させる場合、加熱時の温度により接合金属層におけるボイドの発生状態が異なる。この発明では、位置決め金属が温度計測部を備えているため、電子部品の半田付けにおいて、位置決め金属の温度を測定することにより、最適の温度条件で接合金属を溶融させることができる。
請求項15に記載の発明の電子機器の製造方法では、請求項12〜請求項14のいずれか一項に記載の半田付け方法を半田付け工程に使用する。この発明では、回路基板上に半導体素子等の電子部品を誘導加熱で効率良く半田付けすることができる。
請求項1〜請求項5に記載の発明によれば、半導体装置の製造工程において、回路基板上の接合部に半導体素子を接合する際、誘導加熱で効率良く半田付けすることができる。また、溶融状態の接合金属上で半導体素子が後工程に支障を来す状態となるまで傾いて接合されることが回避される。請求項6〜請求項11に記載の発明によれば、回路基板上に半導体素子等の電子部品を誘導加熱で半田付けする際に好適な金属接合材料を提供することができる。また、請求項12〜請求項15に記載の発明によれば、回路基板上に半導体素子等の電子部品を誘導加熱で効率良く半田付けすることができる。
(第1の実施形態)
以下、本発明を具体化した第1の実施形態を図1〜図4にしたがって説明する。
図1に示すように、金属接合材料11は、半田付け温度で溶融可能な接合金属12と、半田付け温度で溶融不能かつ誘導加熱可能な位置決め金属13とが混合されて構成されている。接合金属12は、シート状又はテープ状(リボン状)に形成され、位置決め金属13は、複数の粒として形成されている。粒の形状は球体、立方体、多面体等、平面上に載置された際に載置状態に拘わらず高さがほぼ一定となる形状が好ましい。図では、位置決め金属13は球体として表している。
以下、本発明を具体化した第1の実施形態を図1〜図4にしたがって説明する。
図1に示すように、金属接合材料11は、半田付け温度で溶融可能な接合金属12と、半田付け温度で溶融不能かつ誘導加熱可能な位置決め金属13とが混合されて構成されている。接合金属12は、シート状又はテープ状(リボン状)に形成され、位置決め金属13は、複数の粒として形成されている。粒の形状は球体、立方体、多面体等、平面上に載置された際に載置状態に拘わらず高さがほぼ一定となる形状が好ましい。図では、位置決め金属13は球体として表している。
位置決め金属13は、一層で半田付け後の半田層の厚さを規定する高さ、具体的には半田付けを行う際に溶融状態の半田上で電子部品が後工程に支障を来す状態となるまで傾いて半田付けされることが回避される高さ(粒径)に形成されている。粒径は、半田付けに必要な半田層の厚さにもよるが、例えば、半田層の厚さが100μm程度の場合、50〜100μmが好ましく、粒径が接合金属12の厚さとほぼ同じに形成され、各位置決め金属13が接合金属12に完全に埋設された状態に形成されているのがより好ましい。粒が立方体の場合には、粒径は平行な二面の距離を意味する。金属接合材料11に占める位置決め金属13の割合は、5〜60%が望ましい。
位置決め金属13は、誘導加熱可能な金属であればよく、この実施形態では強磁性材が位置決め金属13に使用されている。強磁性材として、ニッケル(Ni)、鉄(Fe)及びコバルト(Co)の少なくとも1つの金属が使用されている。即ち、位置決め金属13として、Niで形成されたもののみ、Feで形成されたもののみ、あるいはCoで形成されたもののみが接合金属12に混合されていてもよい。また、Niで形成されたものとFeで形成されたもの、Feで形成されたものとCoで形成されたもの、あるいはCoで形成されたものとFeで形成されたものの2種類が混合されていても、Niで形成されたもの、Feで形成されたもの及びCoで形成されたものの3種類が混合されていてもよい。
接合金属12は、半田付け温度で溶融可能な金属であればよく、例えば、半田やろう材を使用することができる。半田は鉛半田及び鉛フリー半田のいずれであってもよい。
金属接合材料11は、粒状の位置決め金属13を準備し、シート半田やリボン半田を製造する際に粒状の位置決め金属13を半田材料に混合することで製造される。
金属接合材料11は、粒状の位置決め金属13を準備し、シート半田やリボン半田を製造する際に粒状の位置決め金属13を半田材料に混合することで製造される。
次に電子機器の部品となる半導体モジュールの製造方法の一工程である半導体素子の半田付けに、前記の金属接合材料11を使用して行う半田付け方法について説明する。
図2(a),(b)に示すように、半導体装置としての半導体モジュール20は、回路基板21と、回路基板21上に半田付けにより接合された電子部品としての複数の半導体素子22とを備えている。回路基板21は、表面に金属回路23を有する絶縁体としてのセラミック基板24が金属製のヒートシンク25と金属板26を介して一体化された冷却回路基板(ヒートシンク付き基板)である。ヒートシンク25は冷却媒体が流れる冷媒流路25aを備えている。金属板26は、セラミック基板24とヒートシンク25とを接合する接合層として機能し、例えば、アルミニウムや銅等で形成されている。
図2(a),(b)に示すように、半導体装置としての半導体モジュール20は、回路基板21と、回路基板21上に半田付けにより接合された電子部品としての複数の半導体素子22とを備えている。回路基板21は、表面に金属回路23を有する絶縁体としてのセラミック基板24が金属製のヒートシンク25と金属板26を介して一体化された冷却回路基板(ヒートシンク付き基板)である。ヒートシンク25は冷却媒体が流れる冷媒流路25aを備えている。金属板26は、セラミック基板24とヒートシンク25とを接合する接合層として機能し、例えば、アルミニウムや銅等で形成されている。
金属回路23は、例えば、アルミニウムや銅等で形成されている。セラミック基板24は、例えば、窒化アルミニウム、アルミナ、窒化ケイ素等により形成されている。半導体素子22は、金属回路23に接合(半田付け)されている。即ち、金属回路23は半導体素子22を回路基板21上に接合するための接合部を構成する。図2(a)における符号「H」は、半田層を示している。半導体素子22としては、例えば、IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor )やダイオードが用いられている。
図3に示すように、半導体モジュール20の製造に使用する半田付け装置HKは、密閉可能な容器(チャンバ)27を備え、当該容器27は開口部28aを有する箱型の本体28と、当該本体28の開口部28aを開放及び閉鎖する蓋体29とから構成されている。本体28には、半導体モジュール20を位置決めして支持する支持台30が設置されている。また、本体28には、蓋体29の装着部位にパッキン31が配設されている。
蓋体29は、本体28の開口部28aを閉鎖可能な大きさで形成されており、本体28に蓋体29を装着することにより容器27内には密閉空間Sが形成されるようになっている。また、蓋体29において、密閉空間Sと対向する部位は、磁力線(磁束)を通す電気的絶縁材で形成されている。この実施形態では、電気的絶縁材としてガラスが用いられており、蓋体29にはガラス板32が組み付けられている。
また、本体28には、容器27内に還元性ガス(この実施形態では水素)を供給するための還元ガス供給部33が接続されている。還元ガス供給部33は、配管33aと、当該配管33aの開閉バルブ33bと、水素タンク33cとを備えている。また、本体28には、容器27内に不活性ガス(この実施形態では窒素)を供給するための不活性ガス供給部34が接続されている。不活性ガス供給部34は、配管34aと、当該配管34aの開閉バルブ34bと、窒素タンク34cとを備えている。また、本体28には、容器27内に充満したガスを外部に排出するためのガス排出部35が接続されている。ガス排出部35は、配管35aと、当該配管35aの開閉バルブ35bと、真空ポンプ35cとを備えている。半田付け装置HKは、還元ガス供給部33、不活性ガス供給部34及びガス排出部35を備えることにより、密閉空間S内の圧力を調整可能な構成とされており、密閉空間S内の圧力は、圧力調整によって加圧されたり、減圧されたりする。
また、本体28には、半田付け後の容器27内に熱媒体(冷却用ガス)を供給するための供給手段としての熱媒供給部(図示せず)が接続されている。
半田付け装置HKの上部(蓋体29の上部)には、高周波加熱コイル36が設置されている。この実施形態の高周波加熱コイル36は、1枚のセラミック基板24を覆う大きさに形成されている。高周波加熱コイル36は、渦巻き状(角形渦巻き状)に形成されており、平面的に展開されている。また、高周波加熱コイル36は、蓋体29(ガラス板32の装着部位)に対向するように配置されている。高周波加熱コイル36は、半田付け装置HKが備える高周波発生装置37に電気的に接続されているとともに、容器27内に設置された温度センサ(図示せず)の計測結果に基づき、高周波発生装置37の出力が制御されるようになっている。また、高周波加熱コイル36には、コイル内部に冷却水を通すための冷却路38が形成されているとともに、半田付け装置HKが備える冷却水タンク39に接続されている。
半田付け装置HKの上部(蓋体29の上部)には、高周波加熱コイル36が設置されている。この実施形態の高周波加熱コイル36は、1枚のセラミック基板24を覆う大きさに形成されている。高周波加熱コイル36は、渦巻き状(角形渦巻き状)に形成されており、平面的に展開されている。また、高周波加熱コイル36は、蓋体29(ガラス板32の装着部位)に対向するように配置されている。高周波加熱コイル36は、半田付け装置HKが備える高周波発生装置37に電気的に接続されているとともに、容器27内に設置された温度センサ(図示せず)の計測結果に基づき、高周波発生装置37の出力が制御されるようになっている。また、高周波加熱コイル36には、コイル内部に冷却水を通すための冷却路38が形成されているとともに、半田付け装置HKが備える冷却水タンク39に接続されている。
次に、前記半田付け装置HKを用いて半導体モジュール20の製造方法の一工程である半田付け工程において、回路基板21に対する半導体素子22の半田付けを行う方法について説明する。なお、この実施形態の半田付け装置HKを用いて半田付けを行うのに先立って、金属回路23を有するセラミック基板24をヒートシンク25と一体化した回路基板21を予め作製しておく。
半田付けを行う際には、最初に、本体28から蓋体29を外し、開口部28aを開放する。そして、図3に示すように本体28の支持台30上に回路基板21を置き、位置決めする。次に、回路基板21のセラミック基板24上に治具40を置き、治具40の各孔40a内において、金属回路23上に金属接合材料11を介して半導体素子22を配置する。
次に蓋体29を本体28に取り付け、開口部28aを閉鎖して、容器27内に密閉空間Sを形成する。この状態では、高周波加熱コイル36は、蓋体29に組み付けられたガラス板32を挟んで半導体素子22及び治具40と対向する状態に配置される。
次に、ガス排出部35を操作して容器27内を真空引きするとともに、不活性ガス供給部34を操作して容器27内に窒素を供給し、密閉空間S内を不活性ガスで充満させる。この真空引きと窒素の供給を数回繰り返した後、還元ガス供給部33を操作して容器27内に水素を供給し、密閉空間S内を還元ガス雰囲気とする。
次に、高周波発生装置37を作動させ、高周波加熱コイル36に高周波電流を流す。すると、高周波加熱コイル36には、対応する半導体素子22及び金属接合材料11等を通る高周波の磁束が発生する。図4に示すように磁束Fは金属接合材料11を構成する位置決め金属13も通過する。位置決め金属13には磁束Fの通過によって渦電流が発生する。即ち、高周波加熱コイル36の磁束F内に置かれた位置決め金属13は、電磁誘導作用によって発熱し、その熱が接合金属12を加熱する。そして、回路基板21の各接合部上に載置された金属接合材料11の接合金属12が、その溶融温度以上の温度に加熱されることにより溶融する。
接合金属12が溶融すると、溶融した接合金属12の表面張力と半導体素子22の重心とのバランスによっては、半導体素子22が傾こうとする場合がある。しかし、金属接合材料11には接合金属12の溶融温度では溶融しない位置決め金属13が存在するため、半導体素子22が傾くのを抑制し、仮に傾いても、傾きが小さな状態で半田付けされる。その結果、例えば、後工程においてワイヤボンディングで配線を行って回路基板21上の各半導体素子22(電子部品)間及び半導体素子22と配線との間を接続する際に、ワイヤボンディングに支障を来すことが回避される。
接合金属12が完全に溶融した後、高周波発生装置37を停止させる。なお、容器27内に設置した温度センサ(図示せず)の検出結果に基づき、高周波加熱コイル36に流れる高周波電流の大きさが制御される。また、容器27内(密閉空間S)の圧力は、半田付け作業の進行状況に合わせて加圧及び減圧され、雰囲気調整が行われる。
そして、接合金属12が完全に溶融した後、冷却用の熱媒供給部を操作して容器27内に冷却用ガスを供給する。冷却用ガスは、ヒートシンク25の冷媒流路25aの入口又は出口に向かって吹き込まれるとともに、容器27内に供給された冷却用ガスは、冷媒流路25a及びヒートシンク25の周囲を流れて、半田付け対象物(半導体モジュール20)を冷却する。この結果、溶融した接合金属12(半田)は、溶融温度未満に冷却されることによって凝固し、金属回路23と半導体素子22とを接合する。この状態において、半田付けが終了し、半導体モジュール20が完成する。そして、蓋体29を本体28から取り外し、容器27内から半導体モジュール20を取り出す。
半導体モジュール20を構成する半導体素子22と金属回路23とを接合する半田層Hに位置決め金属13としてNi、Fe及びCoの少なくとも1つの金属が使用されている。Niの熱伝導率は約90W/(m・K)、Feの熱伝導率は約80W/(m・K)、Coの熱伝導率は約100W/(m・K)であるのに対して、一般的な半田の材料である錫(Sn)の熱伝導率は約64W/(m・K)、鉛(Pb)の熱伝導率は約35W/(m・K)である。したがって、接合金属12として一般的な鉛半田を使用した場合、位置決め金属13にNi、Fe及びCoの少なくとも1つの金属を使用すると、半導体モジュール20の半田層H(接合層)の熱伝導率が向上し、半田層Hの熱抵抗を下げることができる。
この実施形態によれば、以下に示す効果を得ることができる。
(1)金属接合材料11は、半田付け温度で溶融可能な接合金属12と、半田付け温度で溶融不能かつ誘導加熱可能な位置決め金属13とが混合されている。したがって、この金属接合材料11を半田付けの半田として使用するとともに、高周波誘導加熱で金属接合材料11の加熱を行うと、接合金属12が効率良く加熱される。また、接合金属12が溶融しても位置決め金属13は溶融しないため、溶融状態の半田上で電子部品が後工程に支障を来す状態となるまで傾いて半田付けされることが回避される。即ち、金属接合材料11は、回路基板21上に半導体素子22等の電子部品を誘導加熱で半田付けする際に好適である。
(1)金属接合材料11は、半田付け温度で溶融可能な接合金属12と、半田付け温度で溶融不能かつ誘導加熱可能な位置決め金属13とが混合されている。したがって、この金属接合材料11を半田付けの半田として使用するとともに、高周波誘導加熱で金属接合材料11の加熱を行うと、接合金属12が効率良く加熱される。また、接合金属12が溶融しても位置決め金属13は溶融しないため、溶融状態の半田上で電子部品が後工程に支障を来す状態となるまで傾いて半田付けされることが回避される。即ち、金属接合材料11は、回路基板21上に半導体素子22等の電子部品を誘導加熱で半田付けする際に好適である。
(2)位置決め金属13として、強磁性材が使用されているため、高周波誘導加熱で位置決め金属13が効率良く加熱される。
(3)位置決め金属13として、ニッケル(Ni)、鉄(Fe)及びコバルト(Co)の少なくとも1つの金属が使用されている。したがって、高周波誘導加熱で効率良く加熱される位置決め金属13を入手し易い。また、接合金属12として一般的な鉛半田である錫(Sn)と鉛(Pb)の合金を使用した場合、位置決め金属13の材質であるNi、Fe、Coの熱伝導率は、それらの熱伝導率より大幅に大きいため、半田付けが完了した半導体モジュール20の半田層Hの熱抵抗を下げることができる。
(3)位置決め金属13として、ニッケル(Ni)、鉄(Fe)及びコバルト(Co)の少なくとも1つの金属が使用されている。したがって、高周波誘導加熱で効率良く加熱される位置決め金属13を入手し易い。また、接合金属12として一般的な鉛半田である錫(Sn)と鉛(Pb)の合金を使用した場合、位置決め金属13の材質であるNi、Fe、Coの熱伝導率は、それらの熱伝導率より大幅に大きいため、半田付けが完了した半導体モジュール20の半田層Hの熱抵抗を下げることができる。
(4)位置決め金属13は、複数の粒(球体、立方体等)として形成されている。したがって、位置決め金属13の使用重量が同じ場合、位置決め金属13を線材に加工して使用する場合に比較して、位置決め金属13と接合金属12との接触面積が大きくなる。
(5)接合金属12は、シート状又はテープ状に形成され、位置決め金属13は、一層で半田付け後の半田層Hの厚さを規定する高さに形成されている。したがって、位置決め金属13が接合金属12の厚さ方向に複数存在する場合に比較して、金属接合材料11の製造が容易になる。
(6)接合金属12をシート状又はテープ状に形成し、位置決め金属13を立方体に形成するとともにその高さを接合金属12の厚さとほぼ等しくすると、半田付け完了時に、位置決め金属13は対向する面が金属回路23及び半導体素子22に接触した状態になる。仮に接触した状態にならなくても、位置決め金属13と金属回路23及び半導体素子22との間に存在する接合金属12の層が薄くなる。したがって、半導体素子22の熱が金属回路23に伝達され易くなる。
(7)回路基板21に設けられた金属回路23(接合部)上に、前記構成の金属接合材料11を介して半導体素子22(電子部品)を配置するとともに、金属接合材料11を磁束が通過するように高周波誘導加熱を行って金属接合材料11の接合金属12を溶融させて金属回路23と半導体素子22との半田付けを行う。したがって、加圧治具を誘導加熱で加熱して、その熱を半田に伝達して半田付けを行う半田付け方法に比較して、半田が効率良く加熱溶融し、かつ溶融状態の半田上で半導体素子22が後工程に支障を来す状態となるまで傾いて半田付けされることが回避される。即ち、回路基板21上に半導体素子22等の電子部品を誘導加熱で効率良く半田付けすることができる。
(8)電子機器の部品となる半導体モジュール20の製造方法の一工程である半導体素子の半田付けに前記構成の金属接合材料11を使用するとともに、前記の方法で半田付けを行っている。したがって、電子機器の製造方法において、回路基板21上に半導体素子22等の電子部品を誘導加熱で効率良く半田付けすることができる。
(第2の実施形態)
次に、本発明を具体化した第2の実施形態を図5を参照しながら説明する。なお、第2の実施形態は、半田付けを行う際に、半導体素子22の上に錘を載置する点が異なりその他の構成は第1の実施形態と基本的に同様であるため、同様の部分についてはその詳細な説明を省略する。
次に、本発明を具体化した第2の実施形態を図5を参照しながら説明する。なお、第2の実施形態は、半田付けを行う際に、半導体素子22の上に錘を載置する点が異なりその他の構成は第1の実施形態と基本的に同様であるため、同様の部分についてはその詳細な説明を省略する。
図5に示すように、半田付け装置HKの容器27の本体28は、錘41を半導体素子22上に載置した状態において蓋体29が錘41と干渉しないように、壁28bの高さが前記第1の実施形態の場合より高く形成されている。錘41は、誘導加熱され難い材質で形成されている。例えば、錘41の材質としては、絶縁材やアルミニウム等の非磁性材が使用される。
この実施形態では、半田付けを行う場合、先ず第1の実施形態と同様に、本体28から蓋体29を外して開口部28aを開放し、本体28の支持台30に回路基板21を置いて位置決めする。次に、回路基板21のセラミック基板24上に治具40を置き、治具40の各孔40a内に金属接合材料11と半導体素子22を配置し、さらに半導体素子22の上に錘41を載置する。その後、蓋体29を本体28に取り付け、開口部28aを閉鎖した後、第1の実施形態と同様にして高周波加熱コイル36に高周波電流を流して誘導加熱を行う。
高周波加熱コイル36に高周波電流を流すと、高周波加熱コイル36から発生する磁束は錘41を通過した後、半導体素子22及び金属接合材料11等を通る。錘41は絶縁材や非磁性材で形成されているため、磁束は錘41でエネルギーを殆ど消費せずに錘41を通過する。そして、第1の実施形態と同様に金属接合材料11中の位置決め金属13を誘導加熱する。
したがって、この実施形態によれば、第1の実施形態における(1)〜(8)と同様の効果の他に次の効果を得ることができる。
(9)接合金属12の溶融時に、錘41が半導体素子22を金属回路23側に押圧するため、半導体素子22が溶融状態の接合金属12から浮き上がるのが抑制され、半導体素子22がより傾き難くなる。
(9)接合金属12の溶融時に、錘41が半導体素子22を金属回路23側に押圧するため、半導体素子22が溶融状態の接合金属12から浮き上がるのが抑制され、半導体素子22がより傾き難くなる。
(10)錘41が絶縁材又は非磁性材で形成されているため、高周波加熱コイル36に高周波電流を流した際に発生した磁束Fは、錘41をエネルギーロスが殆ど無い状態で通過する。したがって、錘41を使用しても位置決め金属13の誘導加熱に悪影響を及ぼさない。
(11)金属接合材料11の状態で位置決め金属13の高さが接合金属12の厚さとほぼ同じ場合、位置決め金属13が半導体素子22及び金属回路23に接触する状態で半田付けされる。したがって、位置決め金属13と半導体素子22及び金属回路23との間に接合金属12が存在する状態で半田付けされた場合に比較して熱抵抗が低くなる。
(第3の実施形態)
次に、本発明を具体化した第3の実施形態を図6,7を参照しながら説明する。なお、この実施形態は、半田付けを行う際に、半田付け温度で溶融可能な接合金属と、半田付け温度で溶融不能かつ誘導加熱可能な位置決め金属とが混合された金属接合材料を使用しない点が、前記第1及び第2の実施形態と大きく異なっている。具体的には、位置決め金属と接合金属とは別体に形成され、誘導加熱で位置決め金属が加熱されてその熱で溶融された接合金属が位置決め金属を覆う状態で回路基板上に設けられた接合部に電子部品としての半導体素子を半田付けする。半田付け時に使用される半導体素子、回路基板及び半田付け装置は前記実施形態と基本的に同様であるため、同様の部分は同じ符号を用いて説明し、その詳細な説明や一部の図示を省略する。
次に、本発明を具体化した第3の実施形態を図6,7を参照しながら説明する。なお、この実施形態は、半田付けを行う際に、半田付け温度で溶融可能な接合金属と、半田付け温度で溶融不能かつ誘導加熱可能な位置決め金属とが混合された金属接合材料を使用しない点が、前記第1及び第2の実施形態と大きく異なっている。具体的には、位置決め金属と接合金属とは別体に形成され、誘導加熱で位置決め金属が加熱されてその熱で溶融された接合金属が位置決め金属を覆う状態で回路基板上に設けられた接合部に電子部品としての半導体素子を半田付けする。半田付け時に使用される半導体素子、回路基板及び半田付け装置は前記実施形態と基本的に同様であるため、同様の部分は同じ符号を用いて説明し、その詳細な説明や一部の図示を省略する。
半田付けを行う場合、半田付け装置HKの支持台30に回路基板21を置いて位置決めする。次に、図6(a)に示すように、回路基板21の金属回路23上に環状でかつ誘導加熱可能な位置決め金属45を配置する。この実施形態では位置決め金属45は強磁性体で円環状に形成されている。強磁性体としてNi、Fe及びCoのいずれか1つの金属が使用されている。位置決め金属45の内側に半田付け温度で溶融可能な接合金属としての半田46を配置する。半田46は、溶融した際に一部が位置決め金属45の外側に流れ出す状態に配置される。具体的には、半田46は円柱状で、高さ(厚さ)が位置決め金属45より高く(厚く)、かつ溶融した状態で半導体素子22の底面全体に接合可能な量となる大きさに形成されている。そして、半田46の上に半導体素子22を載置する。
次に、半田付け装置HKの蓋体29を本体28に取り付け、開口部28aを閉鎖する。この状態では、図6(b)に示すように、半田46の上に載置された半導体素子22の上方に高周波加熱コイル36が配置される。そして、前記各実施形態と同様にして容器27内が還元ガス雰囲気にされた後、高周波加熱コイル36に高周波電流を流して位置決め金属45の誘導加熱を行う。すると、位置決め金属45を通る高周波の磁束が発生し、位置決め金属45には磁束の通過によって渦電流が発生して発熱する。その熱が半田46に伝わり、半田46が加熱されて溶融温度以上の温度になることにより溶融する。
半田46は、環状の位置決め金属45の内側において溶融され、溶融した際に一部が位置決め金属45の外側に流れ出し、半導体素子22と金属回路23とを接合する。位置決め金属45は半導体素子22の外形より小さな円環状であるが、溶融状態の半田46がその表面張力で半導体素子22の底面の形状に倣った状態に広がり、半導体素子22と金属回路23とを接合する。そして、図6(c)に示すように、半導体素子22が接合金属層としての半田層Hにより金属回路23に接合された半導体モジュール(半導体装置)20が製造される。位置決め金属45の発熱により、半田46は、位置決め金属45に近い外周側から溶融するが、外形が半導体素子22の外形よりずっと小さいため、半導体素子22の外形と同等以上の面積のシート状の半田が周囲から溶融される場合に比較して、雰囲気ガスのトラップが抑制され、接合完了後の半田層(接合金属層)Hにボイド部が発生し難い。
したがって、この実施形態によれば、第1の実施形態における(2),(3)と同様の効果の他に次の効果を得ることができる。
(12)半導体装置は、半導体素子22を金属回路23に接合している半田層(接合金属層)Hが半田付け温度で溶融可能な半田46(接合金属)のみから構成されるのではなく、半田付け温度で溶融不能かつ誘導加熱可能な環状の位置決め金属45を含んでいる。そのため、半導体装置の製造工程において、回路基板21上の導体(金属回路23)に半導体素子22を接合する際、誘導加熱で効率良く半田付けすることができる。また、溶融状態の半田46上で半導体素子22が後工程に支障を来す状態となるまで傾いて接合されることが回避される。また、位置決め金属45が粒状の場合に比較して、誘導加熱が効率良く行われる。
(12)半導体装置は、半導体素子22を金属回路23に接合している半田層(接合金属層)Hが半田付け温度で溶融可能な半田46(接合金属)のみから構成されるのではなく、半田付け温度で溶融不能かつ誘導加熱可能な環状の位置決め金属45を含んでいる。そのため、半導体装置の製造工程において、回路基板21上の導体(金属回路23)に半導体素子22を接合する際、誘導加熱で効率良く半田付けすることができる。また、溶融状態の半田46上で半導体素子22が後工程に支障を来す状態となるまで傾いて接合されることが回避される。また、位置決め金属45が粒状の場合に比較して、誘導加熱が効率良く行われる。
(13)回路基板21上に設けられた金属回路23(接合部)に半導体素子22を半田付けする半田付け方法において、回路基板21上に環状でかつ誘導加熱可能な位置決め金属45を配置し、位置決め金属45の内側に半田付け温度で溶融可能な半田46(接合金属)を、溶融した際に一部が位置決め金属45の外側に流れ出す状態に配置する。そして、半田46の上に半導体素子22を載置し、高周波誘導加熱を行って半田46を溶融させて金属回路23と半導体素子22との半田付けを行う。したがって、半導体素子22と同じ外形のシート状の半田を金属回路23と半導体素子22との間に配置して、半田が周囲から溶融される場合に比較して、半田層(接合金属層)Hにボイド部が発生し難い。その結果、設計値どおりの電気抵抗及び熱伝導率を有する半田層Hが得られ、半田付け工程での歩留まりが向上する。
(14)別々に製造された位置決め金属45と半田46とを金属回路23上に別々に配置して使用するため、前記実施形態の金属接合材料11のように接合金属12と位置決め金属13とを一体化する必要がない。
(第4の実施形態)
次に、本発明を具体化した第4の実施形態を図7を参照しながら説明する。なお、この実施形態は、位置決め金属が温度計測部を備えている点が、前記第3の実施形態と異なっている。そして、半田付けを行う際には、位置決め金属の温度計測を行って予め設定された温度変化となるように高周波誘導加熱を行う。その他の構成は第3の実施形態と基本的に同様であるため、同様の部分についてはその詳細な説明を省略する。
次に、本発明を具体化した第4の実施形態を図7を参照しながら説明する。なお、この実施形態は、位置決め金属が温度計測部を備えている点が、前記第3の実施形態と異なっている。そして、半田付けを行う際には、位置決め金属の温度計測を行って予め設定された温度変化となるように高周波誘導加熱を行う。その他の構成は第3の実施形態と基本的に同様であるため、同様の部分についてはその詳細な説明を省略する。
図7(a)に示すように、位置決め金属45には温度計測部47が設けられている。温度計測部47は環状の位置決め金属45と一体に形成されるとともに、図7(b)に示すように、半導体素子22の半田付けが完了した状態において、温度計測部47の一部が半導体素子22の外形部より外側に突出する長さに形成されている。
半田付けを行う際には、第3の実施形態と同様に、図7(a)に示すように、位置決め金属45を回路基板21の金属回路23上に配置し、位置決め金属45の内側に半田46を配置する。そして、半田46の上に半導体素子22を載置した状態で、位置決め金属45の高周波誘導加熱を行う。
温度計測部47には図示しない温度センサが接続され、温度センサの検出信号が図示しない制御装置に出力され。制御装置は、予め試験により設定された温度変化となるように高周波加熱コイル36に流れる高周波電流量を制御して高周波誘導加熱を行う。半導体素子22の半田付けを行う場合、位置決め金属45を誘導加熱で加熱して半田46(接合金属)を溶融させる場合、加熱時の温度により半田層(接合金属層)Hにおけるボイドの発生状態が異なる。この実施形態では、予め試験によりボイドが発生し難いことが確認された誘導加熱条件により、半田付けを行う際の適切な(最適な)温度変化状態となるように誘導加熱が行われる。
したがって、この実施形態によれば、第3の実施形態と同様の効果の他に次の効果を得ることができる。
(15)位置決め金属45は、温度計測部47を備えている。したがって、半田付けの際に温度計測部47の温度を検出することにより、半田付け部の温度を検出することができる。
(15)位置決め金属45は、温度計測部47を備えている。したがって、半田付けの際に温度計測部47の温度を検出することにより、半田付け部の温度を検出することができる。
(16)半田付けの際、位置決め金属45の温度計測を行って予め設定された温度変化となるように位置決め金属45の高周波誘導加熱を行う。したがって、最適の温度条件で接合金属を溶融させることができ、ボイドの発生がより少ない状態で半田付けを行うことができる。その結果、半田付け工程での歩留まりがより向上する。
実施形態は前記に限定されるものではなく、例えば、次のように具体化してもよい。
○ 回路基板21はヒートシンク25を備えたヒートシンク付き基板に限らない。例えば、図8(a)に示すように、セラミック基板24の片面に金属回路23(導体パターン)が形成され、他方の面に金属回路23と同等の線膨張係数の層42が形成された構成としたり、図8(b)に示すように、エポキシ樹脂やフェノール樹脂等の樹脂製の樹脂基板43の片面に金属回路23が形成された構成としたりしてもよい。樹脂基板43の場合、ガラス繊維等で強化されたものが好ましい。また、基板は必ずしも絶縁材で形成される必要はなく、図8(c)に示すように、アルミニウムや銅などの金属基板44の上にエポキシ樹脂等で形成された絶縁層44aを設け、絶縁層44a上に金属回路23を形成した構成としてもよい。
○ 回路基板21はヒートシンク25を備えたヒートシンク付き基板に限らない。例えば、図8(a)に示すように、セラミック基板24の片面に金属回路23(導体パターン)が形成され、他方の面に金属回路23と同等の線膨張係数の層42が形成された構成としたり、図8(b)に示すように、エポキシ樹脂やフェノール樹脂等の樹脂製の樹脂基板43の片面に金属回路23が形成された構成としたりしてもよい。樹脂基板43の場合、ガラス繊維等で強化されたものが好ましい。また、基板は必ずしも絶縁材で形成される必要はなく、図8(c)に示すように、アルミニウムや銅などの金属基板44の上にエポキシ樹脂等で形成された絶縁層44aを設け、絶縁層44a上に金属回路23を形成した構成としてもよい。
○ 接合金属12と位置決め金属13とが一体に形成された金属接合材料11における位置決め金属13の形状は粒状に限らず、例えば、図9(a),(c)に示すような円環状(リング状)や図9(b)に示すような四角環状等の多角環状(枠状)を含む環状に形成したり、あるいは波板状や格子状等に形成したりしてもよい。これらの場合、粒状の位置決め金属13に比べて、位置決め金属13を接合金属12中の所望の位置に混合(配置)し易い。
○ 位置決め金属13を環状に形成する場合、その大きさは、金属接合材料11を接合部に載置する大きさに切断した場合、図9(a),(b)に示すように、位置決め金属13が1個のみ接合金属12に埋設可能な大きさに限らず、図9(c)に示すように、複数個埋設可能な大きさであってもよい。
○ 接合金属12と位置決め金属13とが一体に形成された金属接合材料11において、位置決め金属13に一部が接合金属12から突出する状態で温度計測部47を設ける。例えば、図9(a),(b)に示す位置決め金属13に温度計測部47を設けたり、図9(c)に示すように複数の位置決め金属13を有する場合に、一つの位置決め金属13に温度計測部47を設けたりする。そして、半田付けの際に温度計測部47の温度を検出するとともに、予め設定された温度変化となるように高周波誘導加熱を行うようにしてもよい。
○ 第3及び第4の実施形態で使用される環状の位置決め金属45において、「環状」とは、必ずしも完全に閉じた状態の環状に限らない。例えば、図10(a)に示すように、スリット48を有し、一部で切れたほぼ環状の位置決め金属45としてもよい。具体的には、位置決め金属45の内側に半田46を配置するとともに、位置決め金属45を誘導加熱で発熱させた場合、その熱で溶融した半田46がスリット48から位置決め金属45の外側に流れ出さずに、位置決め金属45の上側を乗り越えて外側に流れ出す形状であれば、スリット48により一部が切断された環状であってもよい。
○ 環状とは1個の環状部を有する形状に限らない。例えば、図10(b)に示すように、複数(図では3個)の環状部45aが連続する形状であってもよい。
○ 第3及び第4の実施形態で使用される位置決め金属45は、円環状に限らず、三角環状、四角環状等の多角環状であってもよい。また、多角形(例えば四角形)の環状部45aが連続する形状、例えば、図11(b)に示すように、四角環状の環状部45aが連続する形状としてもよい。
○ 第3及び第4の実施形態で使用される位置決め金属45は、円環状に限らず、三角環状、四角環状等の多角環状であってもよい。また、多角形(例えば四角形)の環状部45aが連続する形状、例えば、図11(b)に示すように、四角環状の環状部45aが連続する形状としてもよい。
○ 環状の位置決め金属45を使用するとともに、その内側に半田46(接合金属)を配置して半導体素子22の半田付けを行う場合、図11(a)に示すように、四角環状部の内側に向かって延びる突起45bを備えた形状として、突起45bで区画された各領域に対応する形状の半田46を配置してもよい。突起45bの数は4個に限らず、3個以下でも5個以上でもよい。円環状の位置決め金属45に、内側に向かって延びる突起45bを設けてもよい。
○ 温度計測部47を有する位置決め金属45においても、位置決め金属45の形状を単純な円環状に限らず、前記実施形態のような環状としてもよい。
○ 環状の位置決め金属45を用いて半田付けを行う場合、位置決め金属45の数は1個に限らず、複数個使用してもよい。第4の実施形態のように温度計測部47を有する位置決め金属45を使用する場合、温度計測部47を有する位置決め金属45と温度計測部47を有しない位置決め金属45とを混合して使用してもよい。
○ 環状の位置決め金属45を用いて半田付けを行う場合、位置決め金属45の数は1個に限らず、複数個使用してもよい。第4の実施形態のように温度計測部47を有する位置決め金属45を使用する場合、温度計測部47を有する位置決め金属45と温度計測部47を有しない位置決め金属45とを混合して使用してもよい。
○ 位置決め金属13の材料となる強磁性材は、Ni,Fe,Coのような単体の金属に限らず、合金でもよい。強磁性材の合金として、例えば、パーマロイ等の鉄ニッケル合金が挙げられる。
○ 金属接合材料11は、接合金属12及び位置決め金属13のみから成る構成に限らず、クリーム半田のようにフラックスを含んでもよい。
○ 回路基板21上に設けられた接合部(金属回路23)に接合される電子部品は、接合部と対向する面全体が接合されるものに限らず、チップ抵抗やチップコンデンサ等のように電子部品の両端に端子を有し、各端子が異なる接合部に接合されるものであってもよい。
○ 回路基板21上に設けられた接合部(金属回路23)に接合される電子部品は、接合部と対向する面全体が接合されるものに限らず、チップ抵抗やチップコンデンサ等のように電子部品の両端に端子を有し、各端子が異なる接合部に接合されるものであってもよい。
○ 錘41を、積層鋼板で形成し、鋼板の積層面が磁束に沿う状態で使用してもよい。また、錘41を銅、銀などの良導体で形成してもよい。これらの場合、金属接合材料11を誘導加熱する際に磁束が41を通っても、錘41の発熱が少なくなる。
○ 高周波加熱コイル36を、容器27(密閉空間S)内に配置してもよい。
以下の技術的思想(発明)は前記実施形態から把握できる。
(1)請求項12に記載の発明において、前記電子部品の上に絶縁材又は非磁性材で形成された錘を載置して、前記電子部品を加圧した状態で半田付けを行う半田付け方法。
以下の技術的思想(発明)は前記実施形態から把握できる。
(1)請求項12に記載の発明において、前記電子部品の上に絶縁材又は非磁性材で形成された錘を載置して、前記電子部品を加圧した状態で半田付けを行う半田付け方法。
F…磁束、H…半田層、11…金属接合材料、12…接合金属、13,45…位置決め金属、21…回路基板、22…電子部品としての半導体素子、23…接合部を構成する金属回路、46…接合金属としての半田、47…温度計測部。
Claims (15)
- 半導体素子と回路基板とを備える半導体装置であって、
前記回路基板上の接合部と前記半導体素子との間に接合金属層を備え、
前記接合金属層は半田付け温度で溶融可能な接合金属と、半田付け温度で溶融不能かつ誘導加熱可能な位置決め金属とを含むことを特徴とする半導体装置。 - 前記位置決め金属は、環状に形成されている請求項1に記載の半導体装置。
- 前記位置決め金属は、温度計測部を備えている請求項2に記載の半導体装置。
- 前記位置決め金属は、複数の粒として形成されている請求項1に記載の半導体装置。
- 前記位置決め金属として、強磁性材が使用されている請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載の半導体装置。
- 半田付け温度で溶融可能な接合金属と、半田付け温度で溶融不能かつ誘導加熱可能な位置決め金属とが混合されていることを特徴とする金属接合材料。
- 前記位置決め金属として、強磁性材が使用されている請求項6記載の金属接合材料。
- 前記強磁性材として、ニッケル(Ni)、鉄(Fe)及びコバルト(Co)の少なくとも1つの金属が使用されている請求項7に記載の金属接合材料。
- 前記位置決め金属は、複数の粒として形成されている請求項6〜請求項8のいずれか一項に記載の金属接合材料。
- 前記位置決め金属は、環状に形成されている請求項6〜請求項8のいずれか一項に記載の金属接合材料。
- 前記接合金属は、シート状又はテープ状に形成され、前記位置決め金属は、一層で半田付け後の半田層の厚さを規定する高さに形成されている請求項9又は請求項10に記載の金属接合材料。
- 回路基板上に設けられた接合部に電子部品を半田付けする半田付け方法であって、
前記接合部上に請求項6〜請求項11のいずれか一項に記載の金属接合材料を介して電子部品を配置するとともに、前記金属接合材料を磁束が通過するように高周波誘導加熱を行って前記金属接合材料の接合金属を溶融させて前記接合部と前記電子部品との半田付けを行う半田付け方法。 - 回路基板上に設けられた接合部に半導体素子を半田付けする半田付け方法であって、
前記回路基板上に環状でかつ誘導加熱可能な位置決め金属を配置し、前記位置決め金属の内側に半田付け温度で溶融可能な接合金属を、溶融した際に一部が前記位置決め金属の外側に流れ出す状態に配置し、前記接合金属の上に半導体素子を載置した状態で高周波誘導加熱を行って前記接合金属を溶融させて前記接合部と前記半導体素子との半田付けを行う半田付け方法。 - 前記位置決め金属には温度計測部が設けられ、前記位置決め金属の温度計測を行って予め設定された温度変化となるように前記高周波誘導加熱を行う請求項13に記載の半田付け方法。
- 請求項12〜請求項14のいずれか一項に記載の半田付け方法を半田付け工程に使用する電子機器の製造方法。
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2007
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