JP2008091441A - Varistor - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a varistor capable of obtaining desired varistor characteristics by preventing generation of varistor characteristics on a portion other than a portion between internal electrodes. <P>SOLUTION: Li is dispersed on a varistor element body 11 of a stacked chip varistor 1 from its external surface side. A region where Li is dispersed near the external surface of the varistor element body 11 has a very high electric resistance. Accordingly, a varistor voltage of a region between the two terminal electrodes 51 in the varistor element body 11 and a varistor voltage of a region between the two connection conductors 41 in the varistor element body 11 are extremely higher than a varistor voltage of a region between the first and second internal electrodes 23, 33 in the varistor element body 11. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、バリスタ、特に、ZnOを主成分とし、電圧非直線特性を発現する焼結体を備えるバリスタに関する。   The present invention relates to a varistor, and more particularly, to a varistor including a sintered body mainly composed of ZnO and exhibiting voltage nonlinear characteristics.

この種のバリスタとして、ZnOを主成分とし、電圧非直線特性を発現する焼結体と、所定の間隔を隔てて互いに対向するように焼結体内に配置された一対の内部電極と、焼結体の外表面に配置されると共に複数の内部電極のうち対応する内部電極にそれぞれ電気的に接続される一対の端子電極と、を備えるものが知られている(例えば、特許文献1参照)。
特開2002−246207号公報
As this type of varistor, a sintered body mainly composed of ZnO and exhibiting a voltage non-linear characteristic, a pair of internal electrodes disposed in the sintered body so as to face each other at a predetermined interval, and sintered A device including a pair of terminal electrodes that are arranged on the outer surface of the body and electrically connected to corresponding internal electrodes among a plurality of internal electrodes is known (for example, see Patent Document 1).
JP 2002-246207 A

本発明は、複数の内部電極間の領域以外で電圧非直線特性(以下、バリスタ特性と称する)が生じるのを抑制して、所望のバリスタ特性を得ることが可能なバリスタを提供することを課題とする。   It is an object of the present invention to provide a varistor capable of obtaining desired varistor characteristics by suppressing occurrence of voltage non-linear characteristics (hereinafter referred to as varistor characteristics) except in a region between a plurality of internal electrodes. And

近年、DSC(Digital Still Camera)、DVC(DigitalVideo Camera)、PDA(Personal Digital Assistant)、ノートパソコンあるいは携帯電話等の電子機器の小型化に伴い、バリスタを始めとする電子部品の高密度実装に対する要求が厳しくなっている。この高密度実装に対する要求を満足するために、電子部品のパッケージをボールグリッドアレイパッケージ(以下、単にBGAパッケージという)とすることが考えられている。BGAパッケージには、その裏面にはんだバンプが格子状に多数並設されている。BGAパッケージは、各はんだバンプを実装基板の対応するパッドに重ねた状態でリフローすることにより実装基板に実装される。   In recent years, with the miniaturization of electronic devices such as DSC (Digital Still Camera), DVC (Digital Video Camera), PDA (Personal Digital Assistant), notebook personal computers or mobile phones, there is a demand for high-density mounting of electronic components such as varistors. Is getting tougher. In order to satisfy the demand for high-density mounting, it is considered that the electronic component package is a ball grid array package (hereinafter simply referred to as a BGA package). The BGA package has a large number of solder bumps arranged in parallel on the back surface thereof. The BGA package is mounted on the mounting substrate by reflowing each solder bump in a state of being superimposed on the corresponding pad of the mounting substrate.

バリスタをBGAパッケージに対応させた構成として、はんだバンプや端子電極が実装基板に対向する裏面側に配置された構成が考えられる。しかしながら、はんだバンプや端子電極を実装基板に対向する裏面側に配置した場合には、バリスタの実装方向が識別し難くなる。バリスタは、その実装方向が誤った状態で実装されると、正常に機能しなくなってしまう。   As a configuration in which the varistor is made to correspond to the BGA package, a configuration in which solder bumps and terminal electrodes are arranged on the back side facing the mounting substrate is conceivable. However, when the solder bumps and terminal electrodes are arranged on the back side facing the mounting substrate, it is difficult to identify the mounting direction of the varistor. If the varistor is mounted with its mounting direction being incorrect, it will not function properly.

そこで、本発明に係るバリスタは、ZnOを主成分とし電圧非直線特性を発現すると共に、互いに対向する第1及び第2の主面を有する焼結体と、少なくともその一部同士が互いに対向するように焼結体内に配された第1及び第2の内部電極を有する複数の内部電極対と、複数の内部電極対のうちの所定の内部電極対の第1の内部電極同士を電気的に接続するように第1の主面に形成された複数の接続導体と、複数の内部電極対の各第2の内部電極に対応して設けられ、該第2の内部電極に電気的に接続されるように第2の主面に形成された複数の端子電極と、を備え、複数の接続導体間には、焼結体における複数の内部電極対間の領域のバリスタ電圧よりも高いバリスタ電圧を有する領域が第1の主面側から形成されており、複数の端子電極間には、焼結体における複数の内部電極対間の領域のバリスタ電圧よりも高いバリスタ電圧を有する領域が第2の主面側から形成されていることを特徴とする。   Therefore, the varistor according to the present invention has ZnO as a main component and develops voltage nonlinear characteristics, and has a sintered body having first and second principal surfaces facing each other, and at least some of them face each other. In this way, the plurality of internal electrode pairs having the first and second internal electrodes arranged in the sintered body and the first internal electrodes of the predetermined internal electrode pair among the plurality of internal electrode pairs are electrically connected to each other. A plurality of connection conductors formed on the first main surface so as to be connected to each second internal electrode of the plurality of internal electrode pairs, and electrically connected to the second internal electrode A plurality of terminal electrodes formed on the second main surface, and a varistor voltage higher than a varistor voltage in a region between the plurality of internal electrode pairs in the sintered body is provided between the plurality of connection conductors. The region having the first main surface side is formed with a plurality of terminal currents. Between, wherein the region having a high varistor voltage than the varistor voltage of the region between the plurality of internal electrode pairs in the sintered body is formed from the second major surface side.

本発明に係るバリスタでは、複数の端子電極が第2の主面に形成されているので、該第2の主面を実装部品(例えば、電子部品や実装基板等)に対向させた状態でバリスタを実装させることができ、BGAパッケージに対応させた構成が実現されることとなる。接続導体が複数の内部電極対のうちの所定の内部電極対の第1の内部電極同士を電気的に接続するように第1の主面に形成されているので、接続導体に対応する位置にバリスタとして機能する領域が存在することとなる。したがって、接続導体がバリスタの実装方向を識別するためのマークとして機能することとなり、バリスタを適切且つ容易に実装することができる。また、本発明によれば、バリスタの実装方向を識別するためのマークを新たに設ける必要がなく、バリスタの製造コストが嵩むことはない。   In the varistor according to the present invention, since the plurality of terminal electrodes are formed on the second main surface, the varistor is in a state in which the second main surface is opposed to a mounting component (for example, an electronic component or a mounting substrate). Thus, a configuration corresponding to the BGA package is realized. Since the connection conductor is formed on the first main surface so as to electrically connect the first internal electrodes of the predetermined internal electrode pair among the plurality of internal electrode pairs, the connection conductor is formed at a position corresponding to the connection conductor. There will be a region that functions as a varistor. Therefore, the connection conductor functions as a mark for identifying the mounting direction of the varistor, and the varistor can be mounted appropriately and easily. Further, according to the present invention, it is not necessary to newly provide a mark for identifying the mounting direction of the varistor, and the manufacturing cost of the varistor does not increase.

ところで、本発明者等は、複数の端子電極がZnOを主成分とする焼結体の第2の主面に配置された構成のバリスタを作製し、その電気的特性を調べたところ、このようなバリスタでは、複数の内部電極対間の領域だけではなく、複数の端子電極間の領域にもバリスタ特性が生じてしまうという新たな事実を見出すに至った。   By the way, the present inventors made a varistor having a configuration in which a plurality of terminal electrodes are arranged on the second main surface of a sintered body mainly composed of ZnO, and examined the electrical characteristics thereof. In such varistors, a new fact has been found that varistor characteristics occur not only in a region between a plurality of internal electrode pairs but also in a region between a plurality of terminal electrodes.

複数の端子電極間にバリスタ特性が生じてしまうという事象は、以下の理由に因るものと考えられる。複数の端子電極間に電位差が生じると、複数の端子電極間に電界が発生する。この電界における電気力線は、焼結体における複数の端子電極が形成された外表面近傍を通るため、焼結体における複数の端子電極間の領域にバリスタ特性が生じることとなる。   The phenomenon that varistor characteristics occur between a plurality of terminal electrodes is considered to be due to the following reason. When a potential difference occurs between the plurality of terminal electrodes, an electric field is generated between the plurality of terminal electrodes. Since the electric lines of force in this electric field pass through the vicinity of the outer surface of the sintered body on which the plurality of terminal electrodes are formed, varistor characteristics occur in the region between the plurality of terminal electrodes in the sintered body.

焼結体の外表面近傍は、焼結体の内部に比して、焼成雰囲気や熱の影響を受け易く、酸素の拡散やZnOの結晶成長にばらつきが生じ易い。また、焼結体の外表面近傍は、焼結体の内部に比して、熱や酸素拡散によりZnOの結晶成長が促進され、バリスタ電圧が低くなり易い。このため、焼結体における複数の端子電極間の領域に生じるバリスタ特性は、ばらつきを有すると共に、焼結体における複数の内部電極間の領域に生じるバリスタ特性に対して無視できず、バリスタとしてのバリスタ特性に影響を及ぼすこととなる。   The vicinity of the outer surface of the sintered body is more susceptible to the firing atmosphere and heat than the inside of the sintered body, and variations in oxygen diffusion and ZnO crystal growth are likely to occur. Further, in the vicinity of the outer surface of the sintered body, ZnO crystal growth is promoted by heat and oxygen diffusion, and the varistor voltage tends to be lower than in the inside of the sintered body. For this reason, the varistor characteristics generated in the region between the plurality of terminal electrodes in the sintered body have variations and cannot be ignored with respect to the varistor characteristics generated in the region between the plurality of internal electrodes in the sintered body. The varistor characteristics will be affected.

通常、積層型チップバリスタでは、各端子電極は焼結体の端部に配置されているため、端子電極間の間隔が比較的大きい。このため、焼結体における複数の端子電極間の領域に生じるバリスタ特性は生じ難く、また、バリスタ特性が生じたとしても焼結体における複数の内部電極間の領域に生じるバリスタ特性に対して無視できる。   Usually, in the multilayer chip varistor, each terminal electrode is disposed at the end of the sintered body, and therefore the distance between the terminal electrodes is relatively large. Therefore, varistor characteristics that occur in the region between the plurality of terminal electrodes in the sintered body are unlikely to occur, and even if varistor characteristics occur, the varistor characteristics that occur in the region between the plurality of internal electrodes in the sintered body are ignored. it can.

しかしながら、上述したように、電子部品の小型化の要請から、バリスタをBGAパッケージに対応させた構成とする場合、同一の外表面上に配置された複数の端子電極間の間隔は極めて小さくなってしまう。このため、焼結体における複数の端子電極間の領域に生じるバリスタ特性の影響はますます大きくなってしまう。なお、焼結体における複数の端子電極間の領域にバリスタ特性が生じるのと同じ理由から、焼結体における複数の接続導体間の領域にもバリスタ特性が生じる。   However, as described above, due to the demand for downsizing of electronic components, when the varistor is configured to correspond to the BGA package, the interval between the plurality of terminal electrodes arranged on the same outer surface becomes extremely small. End up. For this reason, the influence of the varistor characteristics generated in the region between the plurality of terminal electrodes in the sintered body becomes larger. Note that, for the same reason that varistor characteristics occur in the region between the plurality of terminal electrodes in the sintered body, varistor characteristics also occur in the region between the plurality of connection conductors in the sintered body.

これに対して、本発明に係るバリスタでは、焼結体における複数の接続導体間の領域のバリスタ電圧が、焼結体における複数の内部電極間の領域のバリスタ電圧よりも高くなっている。そのため、焼結体における複数の接続導体間の領域にバリスタ特性が生じ難くなり、該領域にバリスタ特性が生じたとしても、そのバリスタ特性は、焼結体における複数の内部電極間の領域に生じるバリスタ特性に対して無視できる。また、本発明に係るバリスタでは、焼結体における複数の端子電極間の領域のバリスタ電圧が、焼結体における複数の内部電極間の領域のバリスタ電圧よりも高くなる。そのため、焼結体における複数の端子電極間の領域にバリスタ特性が生じ難くなり、該領域にバリスタ特性が生じたとしても、そのバリスタ特性は、焼結体における複数の内部電極間の領域に生じるバリスタ特性に対して無視できる。これらの結果、複数の内部電極の間の領域以外においてバリスタ特性が生じてしまうのが抑制されることとなり、所望のバリスタ特性を得ることができる。   On the other hand, in the varistor according to the present invention, the varistor voltage in the region between the plurality of connection conductors in the sintered body is higher than the varistor voltage in the region between the plurality of internal electrodes in the sintered body. Therefore, it is difficult for varistor characteristics to occur in the region between the plurality of connecting conductors in the sintered body, and even if varistor characteristics occur in the region, the varistor characteristics occur in the region between the plurality of internal electrodes in the sintered body. Negligible for varistor characteristics. In the varistor according to the present invention, the varistor voltage in the region between the plurality of terminal electrodes in the sintered body is higher than the varistor voltage in the region between the plurality of internal electrodes in the sintered body. Therefore, varistor characteristics hardly occur in the region between the plurality of terminal electrodes in the sintered body, and even if varistor characteristics occur in the region, the varistor characteristics occur in the region between the plurality of internal electrodes in the sintered body. Negligible for varistor characteristics. As a result, the occurrence of varistor characteristics outside the region between the plurality of internal electrodes is suppressed, and desired varistor characteristics can be obtained.

好ましくは、複数の接続導体間に位置する、焼結体における複数の内部電極対間の領域のバリスタ電圧よりも高いバリスタ電圧を有する領域は、第1の主面側からアルカリ金属が拡散されることにより形成され、複数の端子電極間に位置する、焼結体における複数の内部電極対間の領域のバリスタ電圧よりも高いバリスタ電圧を有する領域は、第2の主面側からアルカリ金属が拡散されることにより形成されている。この場合、焼結体における複数の接続導体間の領域、及び、焼結体における複数の端子電極間の領域が、実質的に電気的に絶縁された状態となる。これにより、焼結体における複数の接続導体間の領域のバリスタ電圧、及び、焼結体における複数の端子電極間の領域のバリスタ電圧を、焼結体における複数の内部電極間の領域のバリスタ電圧よりも容易に高くすることができる。   Preferably, in the region having a varistor voltage higher than the varistor voltage in the region between the plurality of internal electrode pairs in the sintered body located between the plurality of connection conductors, the alkali metal is diffused from the first main surface side. The region having a varistor voltage higher than the varistor voltage in the region between the plurality of internal electrode pairs in the sintered body, which is formed between the plurality of terminal electrodes, diffuses alkali metal from the second main surface side. Is formed. In this case, the region between the plurality of connection conductors in the sintered body and the region between the plurality of terminal electrodes in the sintered body are substantially electrically insulated. Thus, the varistor voltage in the region between the plurality of connecting conductors in the sintered body and the varistor voltage in the region between the plurality of terminal electrodes in the sintered body are changed to the varistor voltage in the region between the plurality of internal electrodes in the sintered body. Can be made higher than that.

また、本発明に係るバリスタは、ZnOを主成分とし電圧非直線特性を発現すると共に、互いに対向する第1及び第2の主面を有する焼結体と、少なくともその一部同士が互いに対向するように焼結体内に配された第1及び第2の内部電極を有する複数の内部電極対と、焼結体内に配された複数の内部導体と、内部電極対における第1の内部電極と内部導体とを電気的に接続するように第1の主面に形成された複数の接続導体と、第2の内部電極と電気的に接続されるように第2の主面に形成された第1の端子電極と、内部導体と電気的に接続されるように第2の主面に形成された第2の端子電極とを備え、複数の接続導体間には、焼結体における複数の内部電極対間の領域のバリスタ電圧よりも高いバリスタ電圧を有する領域が第1の主面側から形成されており、第1の端子電極と第2の端子電極との間には、焼結体における複数の内部電極対間の領域のバリスタ電圧よりも高いバリスタ電圧を有する領域が第2の主面側から形成されていることを特徴とする。   In addition, the varistor according to the present invention has ZnO as a main component and develops voltage non-linear characteristics, and has a sintered body having first and second main surfaces facing each other, and at least some of them face each other. In this way, a plurality of internal electrode pairs having first and second internal electrodes arranged in the sintered body, a plurality of internal conductors arranged in the sintered body, and the first internal electrode and the internal in the internal electrode pair A plurality of connection conductors formed on the first main surface so as to be electrically connected to the conductor, and a first formed on the second main surface so as to be electrically connected to the second internal electrode. Terminal electrodes and a second terminal electrode formed on the second main surface so as to be electrically connected to the internal conductor, and a plurality of internal electrodes in the sintered body between the plurality of connection conductors. A region having a varistor voltage higher than the varistor voltage in the region between the pair is the first main surface. Between the first terminal electrode and the second terminal electrode, a region having a varistor voltage higher than the varistor voltage in the region between the plurality of internal electrode pairs in the sintered body is the second terminal electrode. It is formed from the main surface side.

本発明に係るバリスタでは、第1及び第2の端子電極が第2の主面に形成されているので、第2の主面を実装部品(例えば、電子部品や実装基板等)に対向させた状態でバリスタを実装させることができ、BGAパッケージに対応させた構成が実現されることとなる。また、本発明に係るバリスタでは、接続導体が、内部電極対における第1の内部電極と内部導体とを電気的に接続するように第1の主面に形成されているので、接続導体に対応する位置にバリスタとして機能する領域が存在することとなる。従って、接続導体がバリスタの実装方向を識別するためのマークとして機能することとなり、バリスタを適切且つ容易に実装することができる。また、本発明によれば、バリスタの実装方向を識別するためのマークを新たに設ける必要がなく、バリスタの製造コストが嵩むことがなくなる。   In the varistor according to the present invention, since the first and second terminal electrodes are formed on the second main surface, the second main surface is made to face a mounting component (for example, an electronic component or a mounting substrate). The varistor can be mounted in a state, and a configuration corresponding to the BGA package is realized. In the varistor according to the present invention, since the connection conductor is formed on the first main surface so as to electrically connect the first internal electrode and the internal conductor in the internal electrode pair, it corresponds to the connection conductor. A region functioning as a varistor will be present at the position. Therefore, the connection conductor functions as a mark for identifying the mounting direction of the varistor, and the varistor can be mounted appropriately and easily. Further, according to the present invention, it is not necessary to newly provide a mark for identifying the mounting direction of the varistor, and the manufacturing cost of the varistor does not increase.

更に、本発明に係るバリスタでは、焼結体における複数の接続導体間の領域のバリスタ電圧が、焼結体における複数の内部電極間の領域のバリスタ電圧よりも高くなる。そのため、焼結体における複数の接続導体間の領域にバリスタ特性が生じ難くなり、該領域にバリスタ特性が生じたとしても、そのバリスタ特性は、焼結体における複数の内部電極間の領域に生じるバリスタ特性に対して無視できる。また、本発明に係るバリスタでは、焼結体における第1の端子電極と第2の端子電極との間の領域のバリスタ電圧が、焼結体における複数の内部電極間の領域のバリスタ電圧よりも高くなる。そのため、焼結体における第1の端子電極と第2の端子電極との間の領域にバリスタ特性が生じ難くなり、該領域にバリスタ特性が生じたとしても、そのバリスタ特性は、焼結体における複数の内部電極間の領域に生じるバリスタ特性に対して無視できる。これらの結果、複数の内部電極の間の領域以外においてバリスタ特性が生じてしまうのが抑制されることとなり、所望のバリスタ特性を得ることができる。   Furthermore, in the varistor according to the present invention, the varistor voltage in the region between the plurality of connection conductors in the sintered body is higher than the varistor voltage in the region between the plurality of internal electrodes in the sintered body. Therefore, it is difficult for varistor characteristics to occur in the region between the plurality of connecting conductors in the sintered body, and even if varistor characteristics occur in the region, the varistor characteristics occur in the region between the plurality of internal electrodes in the sintered body. Negligible for varistor characteristics. In the varistor according to the present invention, the varistor voltage in the region between the first terminal electrode and the second terminal electrode in the sintered body is larger than the varistor voltage in the region between the plurality of internal electrodes in the sintered body. Get higher. Therefore, varistor characteristics hardly occur in a region between the first terminal electrode and the second terminal electrode in the sintered body, and even if varistor characteristics occur in the region, the varistor characteristics are The varistor characteristics generated in the region between the plurality of internal electrodes can be ignored. As a result, the occurrence of varistor characteristics outside the region between the plurality of internal electrodes is suppressed, and desired varistor characteristics can be obtained.

好ましくは、複数の接続導体間に位置する、焼結体における複数の内部電極対間の領域のバリスタ電圧よりも高いバリスタ電圧を有する領域は、第1の主面側からアルカリ金属が拡散されることにより形成され、第1の端子電極と第2の端子電極との間に位置する、焼結体における複数の内部電極対間の領域のバリスタ電圧よりも高いバリスタ電圧を有する領域は、第2の主面側からアルカリ金属が拡散されることにより形成されている。この場合、焼結体における複数の接続導体間の領域、及び、焼結体における第1の端子電極と第2の端子電極との間の領域が、実質的に電気的に絶縁された状態となる。これにより、焼結体における複数の接続導体間の領域のバリスタ電圧、及び、焼結体における第1の端子電極と第2の端子電極との間の領域のバリスタ電圧を、焼結体における複数の内部電極間の領域のバリスタ電圧よりも容易に高くすることができる。   Preferably, in the region having a varistor voltage higher than the varistor voltage in the region between the plurality of internal electrode pairs in the sintered body located between the plurality of connection conductors, the alkali metal is diffused from the first main surface side. The region having a varistor voltage higher than the varistor voltage of the region between the plurality of internal electrode pairs in the sintered body, which is formed between the first terminal electrode and the second terminal electrode. It is formed by diffusing alkali metal from the main surface side. In this case, the region between the plurality of connection conductors in the sintered body and the region between the first terminal electrode and the second terminal electrode in the sintered body are substantially electrically insulated. Become. Thereby, the varistor voltage in the region between the connection conductors in the sintered body and the varistor voltage in the region between the first terminal electrode and the second terminal electrode in the sintered body It can be easily made higher than the varistor voltage in the region between the internal electrodes.

好ましくは、上記アルカリ金属が、Liである。Liは、イオン半径が比較的小さく、ZnOの結晶内に固溶し易い。このため、確実に、焼結体における複数の接続導体間の領域や焼結体における複数の端子電極間の領域、あるいは焼結体における第1の端子電極と第2の端子電極との間の領域を、実質的に電気的に絶縁された状態とすることができる。   Preferably, the alkali metal is Li. Li has a relatively small ionic radius and is liable to be dissolved in ZnO crystals. For this reason, it is ensured that the region between the plurality of connecting conductors in the sintered body, the region between the plurality of terminal electrodes in the sintered body, or between the first terminal electrode and the second terminal electrode in the sintered body. The region can be substantially electrically isolated.

好ましくは、焼結体が、バリスタ特性を発現するための副成分として希土類金属を含んでいる。希土類金属を含むと、焼結体は緻密化された組織体となる。このため、アルカリ金属は、焼結体の上記一の外表面から深い部分まで拡散し難く、焼結体における複数の内部電極間の領域にまで至ることはない。この結果、拡散されたアルカリ金属が、焼結体における複数の内部電極間の領域に生じるバリスタ特性に対して影響を及ぼしてしまうのを防ぐことができる。より好ましくは、上記希土類金属が、Prである。   Preferably, the sintered body contains a rare earth metal as an auxiliary component for developing varistor characteristics. When the rare earth metal is included, the sintered body becomes a densified structure. For this reason, the alkali metal hardly diffuses from the one outer surface of the sintered body to a deep portion, and does not reach the region between the plurality of internal electrodes in the sintered body. As a result, it is possible to prevent the diffused alkali metal from affecting the varistor characteristics generated in the region between the plurality of internal electrodes in the sintered body. More preferably, the rare earth metal is Pr.

本発明によれば、複数の内部電極間の領域以外でバリスタ特性が生じるのを抑制して、所望のバリスタ特性を得ることが可能なバリスタを提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a varistor capable of suppressing desired varistor characteristics from being generated outside the region between the plurality of internal electrodes and obtaining desired varistor characteristics.

以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description, the same reference numerals are used for the same elements or elements having the same function, and redundant description is omitted.

(第1実施形態)
図1〜図5を参照して、第1実施形態に係る積層型チップバリスタ1の構成を説明する。図1は、第1実施形態に係る積層型チップバリスタを示す、バリスタ素体の第1の主面側から見た斜視図である。図2は、第1実施形態に係る積層型チップバリスタを示す、バリスタ素体の第2の主面側から見た斜視図である。図3は、図1のIII−III線に沿った断面構成を説明するための図である。図4は、図3のIV−IV線に沿った断面構成を説明するための図である。図5は、図4のV−V線に沿った断面構成を説明するための図である。
(First embodiment)
The configuration of the multilayer chip varistor 1 according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a perspective view showing the multilayer chip varistor according to the first embodiment as viewed from the first main surface side of the varistor element body. FIG. 2 is a perspective view showing the multilayer chip varistor according to the first embodiment, as viewed from the second main surface side of the varistor element body. FIG. 3 is a diagram for explaining a cross-sectional configuration along the line III-III in FIG. 1. FIG. 4 is a diagram for explaining a cross-sectional configuration along the line IV-IV in FIG. 3. FIG. 5 is a diagram for explaining a cross-sectional configuration along the line V-V in FIG. 4.

積層型チップバリスタ1は、図1〜図5に示されるように、バリスタ素体11と、複数(本実施形態においては、2つ)の接続導体41と、複数(本実施形態においては、4つ)の端子電極51とを備えている。   As shown in FIGS. 1 to 5, the multilayer chip varistor 1 includes a varistor element body 11, a plurality (two in the present embodiment) of connection conductors 41, and a plurality (four in the present embodiment). ) Terminal electrode 51.

バリスタ素体11は、略矩形板状である。バリスタ素体11は、例えば、その縦が1mm程度に設定され、その横が1mm程度に設定され、その厚みが0.5mm程度に設定されている。バリスタ素体11は、互いに対向する第1の主面13及び第2の主面15を有する。第1の主面13及び第2の主面15は、正方形状である。すなわち、バリスタ素体11は、第1の主面13及び第2の主面15に垂直な方向から見て、正方形状を呈している。   The varistor element body 11 has a substantially rectangular plate shape. For example, the varistor element body 11 is set to have a length of about 1 mm, a width of about 1 mm, and a thickness of about 0.5 mm. The varistor element body 11 has a first main surface 13 and a second main surface 15 that face each other. The first main surface 13 and the second main surface 15 have a square shape. That is, the varistor element body 11 has a square shape when viewed from a direction perpendicular to the first main surface 13 and the second main surface 15.

バリスタ素体11は、バリスタ特性を発現する焼結体であり、複数のバリスタ層が積層された積層体として構成されている。実際の積層型チップバリスタ1では、複数のバリスタ層は、互いの間の境界が視認できない程度に一体化されている。バリスタ層は、ZnO(酸化亜鉛)を主成分として含むと共に、副成分として希土類金属元素、Co、IIIb族元素(B、Al、Ga、In)、Si、Cr、Mo、アルカリ金属元素(K、Rb、Cs)及びアルカリ土類金属元素(Mg、Ca、Sr、Ba)等の金属単体やこれらの酸化物を含む素体からなる。本実施形態において、バリスタ層は、副成分としてPr、Co、Cr、Ca、Si、K、Al等を含んでいる。   The varistor element body 11 is a sintered body that exhibits varistor characteristics, and is configured as a laminated body in which a plurality of varistor layers are laminated. In the actual multilayer chip varistor 1, the plurality of varistor layers are integrated so that the boundary between them cannot be visually recognized. The varistor layer contains ZnO (zinc oxide) as a main component and also includes rare earth metal elements, Co, group IIIb elements (B, Al, Ga, In), Si, Cr, Mo, alkali metal elements (K, K) as subcomponents. Rb, Cs) and simple earth metals such as alkaline earth metal elements (Mg, Ca, Sr, Ba) and element bodies containing these oxides. In the present embodiment, the varistor layer contains Pr, Co, Cr, Ca, Si, K, Al, and the like as subcomponents.

本実施形態では、希土類金属として、Prを用いている。Prは、バリスタ特性を発現させるための材料となる。Prを用いる理由は、電圧非直線性に優れ、また、量産時での特性ばらつきが少ないためである。   In the present embodiment, Pr is used as the rare earth metal. Pr is a material for expressing varistor characteristics. The reason for using Pr is that voltage non-linearity is excellent and characteristic variation during mass production is small.

本実施形態では、アルカリ土類金属元素として、Caを用いている。Caは、ZnO系バリスタ材料の焼結性を制御する、及び、耐湿性を向上するための材料となる。Caを用いる理由は、電圧非直線性を改善するためである。   In the present embodiment, Ca is used as the alkaline earth metal element. Ca becomes a material for controlling the sinterability of the ZnO-based varistor material and improving the moisture resistance. The reason for using Ca is to improve voltage nonlinearity.

バリスタ層におけるZnOの含有量は、特に限定されないが、バリスタ層を構成する全体の材料を100質量%とした場合に、通常、99.8〜69.0質量%である。バリスタ層の厚みは、例えば5〜60μm程度である。   Although content of ZnO in a varistor layer is not specifically limited, When the whole material which comprises a varistor layer is 100 mass%, it is 99.8-69.0 mass% normally. The thickness of the varistor layer is, for example, about 5 to 60 μm.

バリスタ素体11は、外表面側からアルカリ金属が拡散されており、バリスタ素体11の外表面近傍の高抵抗化が図られている。バリスタ素体11の外表面側からアルカリ金属が拡散されると、拡散されたアルカリ金属は、ZnOの結晶内に固溶することとなる。これにより、n型半導体としての性質を示すZnOは、アルカリ金属によりドナーが減ぜられて、電気抵抗が大きくなる。また、アルカリ金属がZnOの結晶粒界に存在することによっても、電気抵抗が大きくなると考えられる。本実施形態では、バリスタ素体11に拡散させるアルカリ金属として、Liを用いている。   In the varistor element body 11, alkali metal is diffused from the outer surface side, and high resistance in the vicinity of the outer surface of the varistor element body 11 is achieved. When the alkali metal is diffused from the outer surface side of the varistor element body 11, the diffused alkali metal is dissolved in the ZnO crystal. As a result, ZnO, which exhibits properties as an n-type semiconductor, has donors reduced by alkali metal and increases electrical resistance. It is also considered that the electrical resistance is increased by the presence of an alkali metal at the grain boundary of ZnO. In this embodiment, Li is used as the alkali metal diffused in the varistor element body 11.

バリスタ素体11には、それぞれ複数(本実施形態においては、2層ずつ)の第1の内部電極層21及び第2の内部電極層31が配置されている。第1の内部電極層21と第2の内部電極層31とは、互いの間に少なくとも一層のバリスタ層が介在するように配置されている。   In the varistor element body 11, a plurality of (in this embodiment, two layers) first internal electrode layers 21 and second internal electrode layers 31 are disposed. The first internal electrode layer 21 and the second internal electrode layer 31 are arranged so that at least one varistor layer is interposed between them.

各第1の内部電極層21は、図3〜図5に示されるように、複数(本実施形態においては、2つ)の第1の内部電極23をそれぞれ含んでいる。各第1の内部電極23は、略矩形状を呈している。一の第1の内部電極23は、バリスタ層を挟んで、少なくともその一部が後述する一の第2の内部電極33と対向している。同じ第1の内部電極層21に含まれる第1の内部電極23は、バリスタ層の積層方向(以下、単に「積層方向」と称する。)に平行な側面から所定の間隔を有すると共に、互いに電気的に絶縁されるように所定の間隔を有してそれぞれ位置する。各第1の内部電極23は、その一端が第1の主面13に臨むように該第1の主面13に引き出されている。   Each first internal electrode layer 21 includes a plurality of (in the present embodiment, two) first internal electrodes 23 as shown in FIGS. 3 to 5. Each first internal electrode 23 has a substantially rectangular shape. One first internal electrode 23 is opposed to one second internal electrode 33, which will be described later, with at least a part thereof sandwiching the varistor layer. The first internal electrodes 23 included in the same first internal electrode layer 21 have a predetermined interval from a side surface parallel to the stacking direction of the varistor layers (hereinafter simply referred to as “stacking direction”) and are electrically connected to each other. Are located at predetermined intervals so as to be electrically insulated. Each first internal electrode 23 is drawn out to the first main surface 13 so that one end thereof faces the first main surface 13.

各第2の内部電極層31は、図3〜図5に示されるように、複数(本実施形態においては、2つ)の第2の内部電極33をそれぞれ含んでいる。各第2の内部電極33は、略矩形状を呈している。一の第2の内部電極33は、バリスタ層を挟んで、少なくともその一部が一の第1の内部電極23と対向している。同じ第2の内部電極層31に含まれる第2の内部電極33は、第1の内部電極23と同様に、積層方向に平行な側面から所定の間隔を有すると共に、互いに電気的に絶縁されるように所定の間隔を有してそれぞれ位置する。各第2の内部電極33は、その一端が第2の主面15に臨むように該第2の主面15に引き出されている。   As shown in FIGS. 3 to 5, each second internal electrode layer 31 includes a plurality (two in the present embodiment) of second internal electrodes 33. Each second internal electrode 33 has a substantially rectangular shape. One second internal electrode 33 faces at least a part of the first internal electrode 23 across the varistor layer. Similar to the first internal electrode 23, the second internal electrodes 33 included in the same second internal electrode layer 31 have a predetermined interval from the side surface parallel to the stacking direction and are electrically insulated from each other. In this way, they are located at predetermined intervals. Each second internal electrode 33 is drawn out to the second main surface 15 so that one end thereof faces the second main surface 15.

第1の内部電極23と第2の内部電極33とは、上述したように、少なくともその一部同士が互いに対向するようにバリスタ素体11内に配置されている。これにより、積層型チップバリスタ1では、少なくともその一部同士が互いに対向するようにバリスタ素体11内に配置された第1及び第2の内部電極23,33を含む内部電極対が複数(本実施形態においては、4つ)備えられることとなる。   As described above, the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 are arranged in the varistor element body 11 so that at least some of them face each other. Thereby, in the multilayer chip varistor 1, a plurality of (internal) pairs of internal electrodes including the first and second internal electrodes 23 and 33 disposed in the varistor element body 11 so that at least some of them are opposed to each other are provided. In the embodiment, four) are provided.

第1の内部電極23及び第2の内部電極33は、導電材を含んでいる。第1の内部電極23及び第2の内部電極33に含まれる導電材としては、特に限定されないが、Pd又はAg−Pd合金又はAgからなることが好ましい。第1の内部電極23及び第2の内部電極33の厚みは、例えば0.5〜5μm程度である。   The first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 include a conductive material. Although it does not specifically limit as a electrically conductive material contained in the 1st internal electrode 23 and the 2nd internal electrode 33, It is preferable to consist of Pd, an Ag-Pd alloy, or Ag. The thickness of the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 is, for example, about 0.5 to 5 μm.

第1の主面13及び第2の主面15は、積層方向に平行な方向で且つ第1及び第2の内部電極23,33に垂直な方向に伸びている。なお、積層方向は、第1の内部電極23と第2の内部電極33との対向方向と平行な方向であり、第1及び第2の内部電極23,33に垂直な方向である。   The first main surface 13 and the second main surface 15 extend in a direction parallel to the stacking direction and perpendicular to the first and second inner electrodes 23 and 33. The stacking direction is a direction parallel to the facing direction of the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33, and is a direction perpendicular to the first and second internal electrodes 23 and 33.

各接続導体41は、図3及び図5にも示されるように、4つの内部電極対のうち、積層方向に並んで位置する2つの内部電極対に含まれる各第1の内部電極23の第1の主面13に引き出される部分を覆うように、第1の主面13上に配置されている。第1の内部電極23の第1の主面13に引き出される部分は、対応する接続導体41に物理的且つ電気的に接続されている。これにより、接続導体41は、積層方向に並んで位置する2つの内部電極対に含まれる各第1の内部電極23同士を電気的に接続することとなる。   As shown in FIGS. 3 and 5, each of the connection conductors 41 includes the first inner electrode 23 included in the two internal electrode pairs positioned in the stacking direction among the four internal electrode pairs. It arrange | positions on the 1st main surface 13 so that the part pulled out by 1 main surface 13 may be covered. A portion of the first internal electrode 23 drawn out to the first main surface 13 is physically and electrically connected to the corresponding connection conductor 41. As a result, the connection conductor 41 electrically connects the first internal electrodes 23 included in the two internal electrode pairs positioned side by side in the stacking direction.

各接続導体41は、略矩形状(本実施形態では、略長方形状)を呈している。接続導体41は、例えば、その長辺の長さが0.8mm程度に設定され、その短辺の長さが0.4mm程度に設定され、その厚みが2μm程度に設定されている。接続導体41の長辺方向は、積層方向に平行である。   Each connection conductor 41 has a substantially rectangular shape (in this embodiment, a substantially rectangular shape). For example, the connecting conductor 41 has a long side length of about 0.8 mm, a short side length of about 0.4 mm, and a thickness of about 2 μm. The long side direction of the connection conductor 41 is parallel to the stacking direction.

接続導体41は、Ptを含んでいる。接続導体41は、後述するように導電性ペーストが焼き付けられることにより形成されている。導電性ペーストには、Pt粒子を主成分とする金属粉末に、ガラスフリット、有機バインダ及び有機溶剤を混合したものが用いられている。   The connection conductor 41 includes Pt. The connection conductor 41 is formed by baking a conductive paste as will be described later. As the conductive paste, a mixture of metal powder containing Pt particles as a main component and glass frit, an organic binder, and an organic solvent is used.

各端子電極51は、図2及び図4に示されるように、第2の主面15上に、各第2の内部電極33に対応して設けられており、n行n列(パラメータnは、2以上の偶数とする)に二次元配列されている。本実施形態では、端子電極51は2行2列に2次元配列されている。端子電極51は、略矩形状(本実施形態では、略正方形状)を呈している。端子電極51は、例えば、各一辺の長さが0.4mm程度に設定され、厚みが2μm程度に設定されている。   As shown in FIGS. 2 and 4, each terminal electrode 51 is provided on the second main surface 15 in correspondence with each second internal electrode 33, and has n rows and n columns (parameter n is equal to n). 2 is an even number of 2 or more). In the present embodiment, the terminal electrodes 51 are two-dimensionally arranged in 2 rows and 2 columns. The terminal electrode 51 has a substantially rectangular shape (in the present embodiment, a substantially square shape). In the terminal electrode 51, for example, the length of each side is set to about 0.4 mm, and the thickness is set to about 2 μm.

各端子電極51は、図3及び図5にも示されるように、対応する第2の内部電極33の第2の主面15に引き出される部分を覆うように、第2の主面15上に配置されている。第2の内部電極33の第2の主面15に引き出される部分は、対応する端子電極51に物理的且つ電気的に接続されている。これにより、端子電極51は、対応する第2の内部電極33にそれぞれ電気的に接続されることとなる。   As shown in FIGS. 3 and 5, each terminal electrode 51 is formed on the second main surface 15 so as to cover a portion drawn out to the second main surface 15 of the corresponding second internal electrode 33. Has been placed. The portion of the second internal electrode 33 that is drawn out to the second main surface 15 is physically and electrically connected to the corresponding terminal electrode 51. As a result, the terminal electrode 51 is electrically connected to the corresponding second internal electrode 33.

端子電極51は、Ptを含んでいる。端子電極51は、後述するように導電性ペーストが焼き付けられることにより形成されている。導電性ペーストには、Pt粒子を主成分とする金属粉末に、ガラスフリット、有機バインダ及び有機溶剤を混合したものが用いられている。各端子電極51には、はんだパンプ53が配置されている。   The terminal electrode 51 contains Pt. The terminal electrode 51 is formed by baking a conductive paste as will be described later. As the conductive paste, a mixture of metal powder containing Pt particles as a main component and glass frit, an organic binder, and an organic solvent is used. Each terminal electrode 51 is provided with a solder bump 53.

第1の内部電極23と第2の内部電極33とは、上述したように、積層方向から見て少なくともその一部同士が互いに対向して、重なるように位置している。したがって、バリスタ層における第1の内部電極23と第2の内部電極33とに重なる領域、すなわち、バリスタ素体11における第1の内部電極23と第2の内部電極33との間の領域がバリスタ特性を発現する領域として機能する。   As described above, the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 are positioned so that at least some of them face each other and overlap each other when viewed from the stacking direction. Therefore, a region that overlaps the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 in the varistor layer, that is, a region between the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 in the varistor element body 11 is a varistor. It functions as a region that develops characteristics.

上述した構成を有する積層型チップバリスタ1においては、図6に示されるように、直列接続される二つのバリスタBが、二組含まれることとなる。各バリスタBは、第1の内部電極23と、第2の内部電極33と、バリスタ層における第1及び第2の内部電極23,33に重なる領域とにより構成される。   In the multilayer chip varistor 1 having the above-described configuration, as shown in FIG. 6, two sets of two varistors B connected in series are included. Each varistor B is composed of a first internal electrode 23, a second internal electrode 33, and a region overlapping the first and second internal electrodes 23, 33 in the varistor layer.

接続導体41の長辺方向は、上述したように、積層方向に略平行である、すなわち、接続導体41は積層方向に伸びるように配置されている。また、直列接続される二つのバリスタBの一方の端子電極51と他方の端子電極51とは、積層方向に並置されている。したがって、接続導体41の長辺方向に並置されることとなる一対の端子電極51の間に、直列接続された2つのバリスタBが存在することとなる。   As described above, the long side direction of the connection conductor 41 is substantially parallel to the stacking direction, that is, the connection conductor 41 is arranged to extend in the stacking direction. One terminal electrode 51 and the other terminal electrode 51 of two varistors B connected in series are juxtaposed in the stacking direction. Therefore, two varistors B connected in series exist between the pair of terminal electrodes 51 that are juxtaposed in the long side direction of the connection conductor 41.

続いて、図7及び図8を参照して、上述した構成を有する積層型チップバリスタ1の製造過程について説明する。図7は、第1実施形態に係る積層型チップバリスタの製造過程を説明するためのフロー図である。図8は、第1実施形態に係る積層型チップバリスタの製造過程を説明するための図である。   Subsequently, a manufacturing process of the multilayer chip varistor 1 having the above-described configuration will be described with reference to FIGS. FIG. 7 is a flowchart for explaining the manufacturing process of the multilayer chip varistor according to the first embodiment. FIG. 8 is a view for explaining the manufacturing process of the multilayer chip varistor according to the first embodiment.

まず、バリスタ層を構成する主成分であるZnOと、Pr、Co、Cr、Ca、Si、K及びAlの金属又は酸化物等の微量添加物とを所定の割合となるように各々秤量した後、各成分を混合してバリスタ材料を調整する(ステップS101)。その後、このバリスタ材料に有機バインダ、有機溶剤、有機可塑剤等を加えて、ボールミル等を用いて20時間程度混合・粉砕を行ってスラリーを得る。   First, after weighing ZnO, which is a main component constituting the varistor layer, and trace additives such as Pr, Co, Cr, Ca, Si, K, and Al metals or oxides so as to have a predetermined ratio. The varistor material is adjusted by mixing the components (step S101). Then, an organic binder, an organic solvent, an organic plasticizer, etc. are added to this varistor material, and it mixes and grinds for about 20 hours using a ball mill etc., A slurry is obtained.

このスラリーを、ドクターブレード法等の公知の方法により、例えばポリエチレンテレフタレートからなるフィルム上に塗布した後、乾燥して厚さ30μm程度の膜を形成する。こうして得られた膜をフィルムから剥離してグリーンシートを得る(ステップS103)。   The slurry is applied onto a film made of, for example, polyethylene terephthalate by a known method such as a doctor blade method, and then dried to form a film having a thickness of about 30 μm. The film thus obtained is peeled from the film to obtain a green sheet (step S103).

次に、グリーンシートに、第1の内部電極23に対応する電極部分を複数(後述する分割チップ数に対応する数)形成する(ステップS105)。同様にして、異なるグリーンシートに、第2の内部電極33に対応する電極部分を複数(後述する分割チップ数に対応する数)形成する(ステップS105)。第1及び第2の内部電極23,33に対応する電極部分は、Pd粒子を主成分とする金属粉末、有機バインダ及び有機溶剤を混合した導電性ペーストをスクリーン印刷等の印刷法にて印刷し、乾燥させることにより形成する。   Next, a plurality of electrode portions (numbers corresponding to the number of divided chips described later) corresponding to the first internal electrodes 23 are formed on the green sheet (step S105). Similarly, a plurality of electrode portions corresponding to the second internal electrode 33 (a number corresponding to the number of divided chips described later) are formed on different green sheets (step S105). The electrode portions corresponding to the first and second internal electrodes 23 and 33 are printed by a printing method such as screen printing with a conductive paste in which a metal powder mainly composed of Pd particles, an organic binder, and an organic solvent is mixed. It is formed by drying.

次に、電極部分が形成された各グリーンシートと、電極部分が形成されていないグリーンシートとを所定の順序で重ねてシート積層体を形成する(ステップS107)。こうして得られたシート積層体を、例えば、チップ単位に切断して、分割された複数のグリーン体LS1(図8参照)を得る(ステップS109)。得られたグリーン体LS1では、第1の内部電極23に対応する電極部分EL1が形成されたグリーンシートGS1と、第2の内部電極33に対応する電極部分EL2が形成されたグリーンシートGS2と、電極部分EL1,EL2が形成されていないグリーンシートGS3とが順次積層されている。なお、電極部分EL1,EL2が形成されていないグリーンシートGS3は、必要に応じて、それぞれの箇所において複数枚ずつ積層してもよい。   Next, a sheet laminate is formed by stacking each green sheet on which electrode portions are formed and a green sheet on which electrode portions are not formed in a predetermined order (step S107). The sheet laminate thus obtained is cut into, for example, chips, to obtain a plurality of divided green bodies LS1 (see FIG. 8) (step S109). In the obtained green body LS1, a green sheet GS1 in which an electrode portion EL1 corresponding to the first internal electrode 23 is formed, a green sheet GS2 in which an electrode portion EL2 corresponding to the second internal electrode 33 is formed, A green sheet GS3 on which the electrode portions EL1 and EL2 are not formed is sequentially laminated. In addition, you may laminate | stack the green sheet GS3 in which electrode part EL1, EL2 is not formed in each part as needed.

次に、グリーン体LS1に、180〜400℃、0.5〜24時間程度の加熱処理を実施して脱バインダを行った後、さらに、850〜1400℃、0.5〜8時間程度の焼成を行い(ステップS111)、バリスタ素体11を得る。この焼成によって、グリーン体LS1におけるグリーンシートGS1〜GS3はバリスタ層となる。電極部分EL1は、第1の内部電極23となる。電極部分EL2は、第2の内部電極33となる。   Next, the green body LS1 is subjected to heat treatment at 180 to 400 ° C. for about 0.5 to 24 hours to remove the binder, and then further fired at 850 to 1400 ° C. for about 0.5 to 8 hours. (Step S111) to obtain the varistor element body 11. By this firing, the green sheets GS1 to GS3 in the green body LS1 become varistor layers. The electrode portion EL <b> 1 becomes the first internal electrode 23. The electrode portion EL <b> 2 becomes the second internal electrode 33.

次に、バリスタ素体11の外表面からLiを拡散させる(ステップS113)。ここでは、まず、得られたバリスタ素体11の表面にLi化合物を付着させる。Li化合物の付着には、密閉回転ポットを用いることができる。Li化合物としては、特に限定されないが、熱処理することにより、Liがバリスタ素体11の外表面から内部に拡散できる化合物であり、Liの酸化物、水酸化物、塩化物、硝酸塩、硼酸塩、炭酸塩及び蓚酸塩等が用いられる。   Next, Li is diffused from the outer surface of the varistor element body 11 (step S113). Here, first, a Li compound is attached to the surface of the obtained varistor element body 11. A sealed rotating pot can be used for adhesion of the Li compound. Although it does not specifically limit as a Li compound, Li is a compound in which Li can be diffused from the outer surface of the varistor element body 11 by heat treatment, and Li oxide, hydroxide, chloride, nitrate, borate, Carbonates and oxalates are used.

そして、このLi化合物が付着しているバリスタ素体11を電気炉で、所定の温度及び時間で熱処理する。この結果、Li化合物からLiがバリスタ素体11の外表面からバリスタ素体11内に拡散する。好ましい熱処理温度は、700〜1100℃であり、熱処理雰囲気は大気である。また、熱処理時間(保持時間)は、好ましくは10分〜4時間である。   Then, the varistor element body 11 to which the Li compound is adhered is heat-treated in an electric furnace at a predetermined temperature and time. As a result, Li diffuses from the outer surface of the varistor element body 11 into the varistor element body 11 from the Li compound. A preferable heat treatment temperature is 700 to 1100 ° C., and the heat treatment atmosphere is air. The heat treatment time (holding time) is preferably 10 minutes to 4 hours.

次に、バリスタ素体11の外表面に、接続導体41及び端子電極51を形成する(ステップS115)。ここでは、バリスタ素体11の第1の主面13上に、対応する第1の内部電極23に接するように導電性ペーストをスクリーン印刷工法にて印刷した後、乾燥させることによって、接続導体41に対応する導体部分を形成する。また、バリスタ素体11の第2の主面15上に、対応する第2の内部電極33に接するように導電性ペーストをスクリーン印刷工法にて印刷した後、乾燥させることによって、端子電極51に対応する電極部分を形成する。そして、形成した電極部分(導電性ペースト)を電極材質に応じて500〜1100℃で焼き付けて、接続導体41及び端子電極51が形成されたバリスタ素体11を得る。接続導体41及び端子電極51用の導電性ペーストには、上述したように、Pt粒子を主成分とする金属粉末に、ガラスフリット、有機バインダ及び有機溶剤を混合したものを用いることができる。接続導体41及び端子電極51用の導電性ペーストに用いられるガラスフリットは、B、Bi、Al、Si、Sr、Ba、Pr、Zn等を少なくとも1種以上含む。   Next, the connection conductor 41 and the terminal electrode 51 are formed on the outer surface of the varistor element body 11 (step S115). Here, a conductive paste is printed on the first main surface 13 of the varistor element body 11 so as to be in contact with the corresponding first internal electrode 23 by a screen printing method, and then dried, thereby connecting conductors 41. A conductor portion corresponding to is formed. In addition, the conductive paste is printed on the second main surface 15 of the varistor element body 11 so as to be in contact with the corresponding second internal electrode 33 by a screen printing method, and then dried, whereby the terminal electrode 51 is formed. Corresponding electrode portions are formed. Then, the formed electrode portion (conductive paste) is baked at 500 to 1100 ° C. according to the electrode material to obtain the varistor element body 11 in which the connection conductor 41 and the terminal electrode 51 are formed. As described above, the conductive paste for the connection conductor 41 and the terminal electrode 51 may be a mixture of a metal powder containing Pt particles as a main component and a glass frit, an organic binder, and an organic solvent. The glass frit used for the conductive paste for the connection conductor 41 and the terminal electrode 51 contains at least one or more of B, Bi, Al, Si, Sr, Ba, Pr, Zn and the like.

上述した過程を経ることにより、積層型チップバリスタ1が得られる。なお、はんだパンプ53の形成方法については、既存の形成方法を利用することができ、ここでの説明を省略する。   Through the process described above, the multilayer chip varistor 1 is obtained. In addition, about the formation method of the solder bump 53, the existing formation method can be utilized and description here is abbreviate | omitted.

シート積層体の形成方法については、本出願による先願である特願2005−201963号の明細書に記載された集合基板の製造方法を用いるようにしてもよい。この場合、シート積層体(集合基板)を複数のグリーン体LS2に分割して焼成することなく、接続導体41及び端子電極51用の導電性ペーストを付与することができる。   As a method for forming the sheet laminate, a method for manufacturing an aggregate substrate described in the specification of Japanese Patent Application No. 2005-201963, which is a prior application of the present application, may be used. In this case, the conductive paste for the connection conductor 41 and the terminal electrode 51 can be applied without dividing and baking the sheet laminate (aggregate substrate) into a plurality of green bodies LS2.

以上のように、第1実施形態によれば、複数の端子電極51がバリスタ素体11の第2の主面15に配置されているので、該第2の主面15を実装部品(例えば、電子部品や実装基板等)に対向させた状態で積層型チップバリスタ1を実装させることができ、BGAパッケージに対応させた構成が実現されることとなる。接続導体41が、積層方向に並んで位置する2つの内部電極対に含まれる各第1の内部電極23同士を電気的に接続するように第1の主面15に配置されているので、バリスタ素体11には、接続導体41に対応する位置にバリスタBとして機能する領域が存在することとなる。したがって、接続導体41が積層型チップバリスタ1の実装方向を識別するためのマークとして機能することとなり、積層型チップバリスタ1を適切且つ容易に実装することができる。   As described above, according to the first embodiment, since the plurality of terminal electrodes 51 are arranged on the second main surface 15 of the varistor element body 11, the second main surface 15 is mounted on a mounting component (for example, The multilayer chip varistor 1 can be mounted in a state of being opposed to an electronic component, a mounting substrate, etc., and a configuration corresponding to the BGA package is realized. Since the connection conductor 41 is disposed on the first main surface 15 so as to electrically connect the first internal electrodes 23 included in the two internal electrode pairs positioned side by side in the stacking direction, In the element body 11, a region functioning as the varistor B exists at a position corresponding to the connection conductor 41. Therefore, the connection conductor 41 functions as a mark for identifying the mounting direction of the multilayer chip varistor 1, and the multilayer chip varistor 1 can be mounted appropriately and easily.

バリスタ素体11が、第1及び第2の主面13,15に垂直な方向から見て、正方形状である場合、バリスタ素体11の外形形状に基づいて該積層型チップバリスタ1の実装方向を識別することは困難であるので、特に効果的である。   When the varistor element body 11 is square when viewed from the direction perpendicular to the first and second main surfaces 13 and 15, the mounting direction of the multilayer chip varistor 1 is based on the outer shape of the varistor element body 11. Is particularly effective because it is difficult to identify.

また、本実施形態によれば、積層型チップバリスタ1の実装方向を識別するためのマークをバリスタ素体11に新たに設ける必要がなく、積層型チップバリスタ1の製造コストが嵩むことはない。   Further, according to the present embodiment, it is not necessary to newly provide a mark for identifying the mounting direction of the multilayer chip varistor 1 on the varistor element body 11, and the manufacturing cost of the multilayer chip varistor 1 does not increase.

ところで、積層型チップバリスタ1では、バリスタ素体11の外表面からLiが拡散されているので、図9に示されるように、バリスタ素体11の外表面近傍のLiが拡散された領域11aは、電気抵抗が極めて高く、実質的に電気的に絶縁された状態となる。すなわち、バリスタ素体11における隣り合う二つの端子電極51間の領域が、実質的に電気的に絶縁された状態となり、該領域にはバリスタ特性が生じ難い。このため、バリスタ素体11における隣り合う二つの端子電極51間の領域のバリスタ電圧が、バリスタ素体11における第1の内部電極23と第2の内部電極33との間の領域のバリスタ電圧よりも極めて高くなる。   By the way, in the multilayer chip varistor 1, since Li is diffused from the outer surface of the varistor element body 11, as shown in FIG. 9, the region 11a in the vicinity of the outer surface of the varistor element body 11 is diffused. , The electrical resistance is extremely high, and it is in a substantially electrically insulated state. That is, the region between the two adjacent terminal electrodes 51 in the varistor element body 11 is substantially electrically insulated, and varistor characteristics are unlikely to occur in the region. Therefore, the varistor voltage in the region between two adjacent terminal electrodes 51 in the varistor element body 11 is larger than the varistor voltage in the region between the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 in the varistor element body 11. Is also extremely high.

また、バリスタ素体11における二つの接続導体41間の領域が、実質的に電気的に絶縁された状態となり、該領域にはバリスタ特性が生じ難い。このため、バリスタ素体11における二つの接続導体41間の領域のバリスタ電圧が、バリスタ素体11における第1の内部電極23と第2の内部電極33との間の領域のバリスタ電圧よりも極めて高くなる。   In addition, a region between the two connection conductors 41 in the varistor element body 11 is substantially electrically insulated, and varistor characteristics hardly occur in the region. For this reason, the varistor voltage in the region between the two connection conductors 41 in the varistor element body 11 is much higher than the varistor voltage in the region between the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 in the varistor element body 11. Get higher.

このように、積層型チップバリスタ1では、バリスタ素体11における隣り合う二つの端子電極51間の領域及びバリスタ素体11における二つの接続導体41間の領域にバリスタ特性が生じ難くなる。また、バリスタ素体11における隣り合う二つの端子電極51間の領域及びバリスタ素体11における二つの接続導体41間の領域にバリスタ特性が生じたとしても、そのバリスタ特性は、バリスタ素体11における第1の内部電極23と第2の内部電極33との間の領域に生じるバリスタ特性に対して無視できる。これらの結果、バリスタ素体11における第1の内部電極23と第2の内部電極33との間の領域以外においてバリスタ特性が生じてしまうのが抑制されることとなり、積層型チップバリスタ1は所望のバリスタ特性を得ることができる。   As described above, in the multilayer chip varistor 1, varistor characteristics are hardly generated in the region between the two adjacent terminal electrodes 51 in the varistor element body 11 and the region between the two connection conductors 41 in the varistor element body 11. Even if varistor characteristics occur in the region between the two adjacent terminal electrodes 51 in the varistor element body 11 and in the region between the two connection conductors 41 in the varistor element body 11, the varistor characteristics are different in the varistor element body 11. The varistor characteristics generated in the region between the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 can be ignored. As a result, the varistor characteristics are suppressed from occurring in a region other than the region between the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 in the varistor element body 11, and the multilayer chip varistor 1 is desired. Varistor characteristics can be obtained.

直列接続された二つのバリスタBの一方の端子電極51と他方の端子電極51とに着目する。バリスタ素体11における隣り合う二つの端子電極51間の領域に生じるバリスタ特性は、ばらつきを有している。このため、バリスタ素体11にLiが拡散されていない場合、このばらつきの影響をうけて、バリスタBのバリスタ特性も、ばらつくこととなる。しかしながら、バリスタ素体11にLiが拡散されることにより、上述したように、バリスタ素体11における隣り合う二つの端子電極51間の領域にはバリスタ特性が生じ難いがために、ばらつきも生じ難い。したがって、バリスタBのバリスタ特性がばらつくようなことはない。   Attention is paid to one terminal electrode 51 and the other terminal electrode 51 of two varistors B connected in series. Varistor characteristics generated in a region between two adjacent terminal electrodes 51 in the varistor element body 11 have variations. For this reason, when Li is not diffused in the varistor element body 11, the varistor characteristics of the varistor B also vary due to the influence of this variation. However, as Li is diffused in the varistor element body 11, as described above, it is difficult for varistor characteristics to occur in the region between the two adjacent terminal electrodes 51 in the varistor element body 11, so that variations do not easily occur. . Therefore, the varistor characteristics of the varistor B do not vary.

二組の、直列接続された二つのバリスタBのうち一方の組の直列接続された二つのバリスタBに、ESD(Electrostatic Discharge:静電気放電)のようなサージ電圧が印加されると、一方の組における直列接続された二つのバリスタBの端子電極51と、他方の組における直列接続された二つのバリスタBの端子電極51との間にも電位差が生じてしまう。このため、これらの端子電極51間に電界が発生する。同様にして、接続導体41間にも電界が発生する。   When a surge voltage such as ESD (Electrostatic Discharge) is applied to one set of two varistors B connected in series among two sets of varistors B connected in series, one set A potential difference also occurs between the terminal electrodes 51 of the two varistors B connected in series and the terminal electrodes 51 of the two varistors B connected in series in the other set. For this reason, an electric field is generated between these terminal electrodes 51. Similarly, an electric field is generated between the connection conductors 41.

一方の組における直列接続された二つのバリスタBの端子電極51と、他方の組における直列接続された二つのバリスタBの端子電極51とに着目する。バリスタ素体11における隣り合う二つの端子電極51間の領域に生じるバリスタ特性は、ばらつきを有すると共に、バリスタ素体11における第1の内部電極23と第2の内部電極33との間の領域に生じるバリスタ特性に対して無視できない。このため、バリスタ素体11にLiが拡散されていない場合、バリスタ素体11における上述した二つの端子電極51間の領域にバリスタ特性が生じてしまい、一方の組における直列接続された二つのバリスタBと他方の組における直列接続された二つのバリスタBとの間でクロストークが生じることとなる。しかしながら、バリスタ素体11にLiが拡散されることにより、上述したように、バリスタ素体11における上述した二つの端子電極51間の領域にはバリスタ特性が生じ難いがために、上記クロストークが生じることはない。   Attention is paid to the terminal electrodes 51 of two varistors B connected in series in one set and the terminal electrodes 51 of two varistors B connected in series in the other set. Varistor characteristics generated in a region between two adjacent terminal electrodes 51 in the varistor element body 11 have variations, and in a region between the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 in the varistor element body 11. The resulting varistor characteristics cannot be ignored. For this reason, when Li is not diffused in the varistor element body 11, a varistor characteristic occurs in the region between the two terminal electrodes 51 in the varistor element body 11, and two varistors connected in series in one set. Crosstalk occurs between B and the two varistors B connected in series in the other set. However, since Li is diffused into the varistor element body 11, as described above, the varistor characteristics hardly occur in the region between the two terminal electrodes 51 in the varistor element body 11. It does not occur.

接続導体41同士に着目する。バリスタ素体11における二つの接続導体41間の領域に生じるバリスタ特性は、ばらつきを有すると共に、バリスタ素体11における第1の内部電極23と第2の内部電極33との間の領域に生じるバリスタ特性に対して無視できない。このため、バリスタ素体11にLiが拡散されていない場合、バリスタ素体11における二つの接続導体41間の領域にバリスタ特性が生じてしまい、一方の組における直列接続された二つのバリスタBと他方の組における直列接続された二つのバリスタBとの間でクロストークが生じることとなる。しかしながら、バリスタ素体11にLiが拡散されることにより、上述したように、バリスタ素体11における二つの接続導体41間の領域にはバリスタ特性が生じ難いがために、上記クロストークが生じることはない。   Attention is paid to the connection conductors 41. Varistor characteristics generated in the region between the two connection conductors 41 in the varistor element body 11 have variations, and varistors generated in the area between the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 in the varistor element body 11. It cannot be ignored for characteristics. For this reason, when Li is not diffused in the varistor element body 11, a varistor characteristic occurs in a region between the two connection conductors 41 in the varistor element body 11, and the two varistors B connected in series in one set Crosstalk occurs between two varistors B connected in series in the other set. However, when Li is diffused into the varistor element body 11, as described above, the varistor characteristic is unlikely to occur in the region between the two connection conductors 41 in the varistor element body 11, and thus the crosstalk occurs. There is no.

これらの結果、バリスタB(積層型チップバリスタ1)は所望のバリスタ特性を得ることができる。   As a result, the varistor B (multilayer chip varistor 1) can obtain desired varistor characteristics.

第1実施形態では、上述したように、バリスタ素体11における隣り合う二つの端子電極51間の領域及びバリスタ素体11における二つの接続導体41間の領域にバリスタ特性が生じ難くなるので、積層型チップバリスタ1のESDに対する耐量、いわゆるESD耐量も大きくなる。また、バリスタ素体11の外表面近傍のLiが拡散された領域11aの電気抵抗が極めて高いことから、バリスタ素体11における隣り合う二つの端子電極51間の漏洩電流及びバリスタ素体11における二つの接続導体41間の漏洩電流が生じ難くなり、積層型チップバリスタ1の漏洩電流が減少する。   In the first embodiment, as described above, since varistor characteristics are unlikely to occur in the region between the two adjacent terminal electrodes 51 in the varistor element body 11 and the region between the two connection conductors 41 in the varistor element body 11, The tolerance of the die chip varistor 1 against ESD, so-called ESD tolerance, is also increased. In addition, since the electric resistance of the region 11 a in which Li in the vicinity of the outer surface of the varistor element body 11 is diffused is extremely high, the leakage current between two adjacent terminal electrodes 51 in the varistor element body 11 and the two in the varistor element body 11. Leakage current between the two connection conductors 41 is less likely to occur, and the leakage current of the multilayer chip varistor 1 is reduced.

第1実施形態では、バリスタ素体11における第1の内部電極23と第2の内部電極33との間の領域のバリスタ電圧よりも高いバリスタ電圧を有する領域が、外表面(第1の主面13及び第2の主面15)側からLiが拡散されることにより形成されている。これにより、バリスタ素体11における隣り合う二つの端子電極51間の領域のバリスタ電圧、及び、バリスタ素体11における二つの接続導体41間の領域のバリスタ電圧を、バリスタ素体11における第1の内部電極23と第2の内部電極33との間の領域のバリスタ電圧よりも容易に高くすることができる。   In the first embodiment, the region having a varistor voltage higher than the varistor voltage in the region between the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 in the varistor element body 11 is the outer surface (first main surface). 13 and the second main surface 15) are formed by diffusing Li from the side. As a result, the varistor voltage in the region between the two adjacent terminal electrodes 51 in the varistor element body 11 and the varistor voltage in the region between the two connection conductors 41 in the varistor element body 11 are converted into the first varistor voltage in the varistor element body 11. The varistor voltage in the region between the internal electrode 23 and the second internal electrode 33 can be easily increased.

第1実施形態では、アルカリ金属としてLiをバリスタ素体11に拡散させている。Liは、イオン半径が比較的小さく、ZnOの結晶内に固溶し易い。このため、確実に、バリスタ素体11における隣り合う二つの端子電極51間の領域を実質的に電気的に絶縁された状態とすることができる。   In the first embodiment, Li is diffused into the varistor element body 11 as an alkali metal. Li has a relatively small ionic radius and is liable to be dissolved in ZnO crystals. For this reason, the area | region between the two adjacent terminal electrodes 51 in the varistor element | base_body 11 can be reliably made into the state electrically insulated.

第1実施形態では、バリスタ素体11が、バリスタ特性を発現するための副成分として希土類金属、特にPrを含んでいる。希土類金属を含むと、バリスタ素体11は緻密化された組織体となる。このため、Liは、バリスタ素体11の外表面から深い部分まで拡散し難く、バリスタ素体11における第1の内部電極23と第2の内部電極33との間の領域にまで至ることはない。この結果、拡散されたLiが、バリスタ素体11における第1の内部電極23と第2の内部電極33との間の領域に生じるバリスタ特性に対して影響を及ぼしてしまうのを防ぐことができる。   In the first embodiment, the varistor element body 11 includes a rare earth metal, particularly Pr, as an auxiliary component for expressing varistor characteristics. When the rare earth metal is included, the varistor element body 11 becomes a dense structure. For this reason, Li hardly diffuses from the outer surface of the varistor element body 11 to a deep part, and does not reach the region between the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 in the varistor element body 11. . As a result, it is possible to prevent the diffused Li from affecting the varistor characteristics generated in the region between the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 in the varistor element body 11. .

更に、第1実施形態では、バリスタ素体11がPr及びCaを含むと共に、接続導体41及び端子電極51用の導電性ペーストがPtを含んでおり、バリスタ素体11上に接続導体41及び端子電極51用の導電性ペーストを塗布し、焼き付けることにより、接続導体41及び端子電極51を形成している。これにより、バリスタ素体11と接続導体41及び端子電極51との接合強度を向上させることができる。   Further, in the first embodiment, the varistor element body 11 includes Pr and Ca, and the conductive paste for the connection conductor 41 and the terminal electrode 51 includes Pt. The connection conductor 41 and the terminal are provided on the varistor element body 11. The connection conductor 41 and the terminal electrode 51 are formed by applying and baking a conductive paste for the electrode 51. Thereby, the joint strength of the varistor element body 11, the connection conductor 41, and the terminal electrode 51 can be improved.

バリスタ素体11と接続導体41及び端子電極51との接合強度が向上するという効果は、導電性ペーストの焼き付け時における、次のような事象に起因するものと考えられる。バリスタ素体11に導電性ペーストを焼き付ける際に、バリスタ素体11に含まれるPr及びCaがバリスタ素体11の表面近傍、すなわちバリスタ素体11と導電性ペーストとの界面近傍に移動する。そして、バリスタ素体11と導電性ペーストとの界面近傍に移動したPr及びCaと導電性ペーストに含まれるPtとが相互拡散する。Pr及びCaとPtとが相互拡散するとき、バリスタ素体11と接続導体41及び端子電極51との界面近傍(界面も含む)に、PrとPtとの化合物及びCaとPtとの化合物が形成されることがある。これらの化合物によりアンカー効果が生じ、バリスタ素体11と接続導体41及び端子電極51との接合強度が向上する。   The effect of improving the bonding strength between the varistor element body 11, the connection conductor 41, and the terminal electrode 51 is considered to be caused by the following phenomenon when baking the conductive paste. When the conductive paste is baked on the varistor element body 11, Pr and Ca contained in the varistor element body 11 move near the surface of the varistor element body 11, that is, near the interface between the varistor element body 11 and the conductive paste. And Pr and Ca which moved to the interface vicinity of the varistor element | base_body 11 and an electrically conductive paste, and Pt contained in an electrically conductive paste mutually diffuse. When Pr, Ca, and Pt are interdiffused, a compound of Pr and Pt and a compound of Ca and Pt are formed in the vicinity (including the interface) between the varistor element body 11, the connection conductor 41, and the terminal electrode 51. May be. These compounds cause an anchor effect, and the bonding strength between the varistor element body 11, the connection conductor 41, and the terminal electrode 51 is improved.

Ptを含む端子電極51は、主として積層型チップバリスタ1をはんだリフローにより外部基板等に実装する際に好適であり、耐はんだ喰われ性及びはんだ付け性を向上することができる。   The terminal electrode 51 containing Pt is suitable mainly when the multilayer chip varistor 1 is mounted on an external substrate or the like by solder reflow, and can improve solder erosion resistance and solderability.

(第2実施形態)
次に、図10〜図14を参照して、第2実施形態に係る積層型チップバリスタ2の構成を説明する。図10は、第2実施形態に係る積層型チップバリスタを示す、バリスタ素体の第1の主面側から見た斜視図である。図11は、第2実施形態に係る積層型チップバリスタを示す、バリスタ素体の第2の主面側から見た斜視図である。図12は、図10のXII−XII線に沿った断面構成を説明するための図である。図13は、図12のXIII−XIII線に沿った断面構成を説明するための断面図である。図14は、図13のXIIII−XIIII線に沿った断面構成を説明するための断面図である。
(Second Embodiment)
Next, the configuration of the multilayer chip varistor 2 according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 10 is a perspective view showing the multilayer chip varistor according to the second embodiment as viewed from the first main surface side of the varistor element body. FIG. 11 is a perspective view showing the multilayer chip varistor according to the second embodiment as viewed from the second main surface side of the varistor element body. FIG. 12 is a diagram for explaining a cross-sectional configuration along the line XII-XII in FIG. 10. 13 is a cross-sectional view for explaining a cross-sectional configuration along the line XIII-XIII in FIG. 14 is a cross-sectional view for explaining a cross-sectional configuration along the line XIIII-XIIII in FIG.

積層型チップバリスタ2は、図10〜図14に示されるように、バリスタ素体11、複数(本実施形態においては、2つ)の接続導体41、複数(本実施形態においては、4つ)の端子電極51を備えている。バリスタ素体11は、外表面側からLiが拡散されている。   As shown in FIGS. 10 to 14, the multilayer chip varistor 2 includes a varistor element body 11, a plurality (two in this embodiment) of connection conductors 41, and a plurality of (four in this embodiment). Terminal electrode 51 is provided. In the varistor element body 11, Li is diffused from the outer surface side.

バリスタ素体11には、複数(本実施形態においては、4層)の導体層120A〜120Dが配されている。導体層120Aと導体層120Bとの間には、少なくとも一層のバリスタ層が介在するように配されており、導体層120Cと導体層120Dとの間には、少なくとも一層のバリスタ層が介在するように配されている。   The varistor element body 11 is provided with a plurality (four layers in this embodiment) of conductor layers 120A to 120D. At least one varistor layer is disposed between the conductor layer 120A and the conductor layer 120B, and at least one varistor layer is disposed between the conductor layer 120C and the conductor layer 120D. It is arranged in.

導体層120A及び導体層120Cは、図12〜図14に示されるように、第1の内部電極121及び内部導体125をそれぞれ1つずつ含んでいる。導体層120A及び導体層120Cにおいては、第1の内部電極121及び内部導体125が、それぞれ積層方向に平行な側面から所定の間隔を有すると共に、互いに電気的に絶縁されるように所定の間隔を有して配置されている。   As shown in FIGS. 12 to 14, the conductor layer 120 </ b> A and the conductor layer 120 </ b> C each include one first internal electrode 121 and one internal conductor 125. In the conductor layer 120A and the conductor layer 120C, the first inner electrode 121 and the inner conductor 125 have a predetermined interval from the side surfaces parallel to the stacking direction, respectively, and have a predetermined interval so as to be electrically insulated from each other. It is arranged.

一方、導体層120B及び導体層120Dは、図12〜図14に示されるように、第2の内部電極123及び内部導体125をそれぞれ1つずつ含んでいる。導体層120B及び導体層120Dにおいては、第2の内部電極123及び内部導体125が、それぞれ積層方向に平行な側面から所定の間隔を有すると共に、互いに電気的に絶縁されるように所定の間隔を有して配置されている。   On the other hand, each of the conductor layer 120B and the conductor layer 120D includes one second internal electrode 123 and one internal conductor 125, as shown in FIGS. In the conductor layer 120B and the conductor layer 120D, the second internal electrode 123 and the internal conductor 125 have a predetermined interval from the side surfaces parallel to the stacking direction, respectively, and have a predetermined interval so as to be electrically insulated from each other. It is arranged.

なお、導体層120Aの第1の内部電極121、導体層120Bの第2の内部電極123及び導体層120C,120Dの各内部導体125は、積層方向から見たときに重なり合うように、バリスタ層上に配置されている。また、導体層120A,120Bの各内部導体125、導体層120Cの第1の内部電極121及び導体層120Dの第2の内部電極123は、積層方向から見たときに重なり合うように、バリスタ層上に配置されている。従って、後述する内部電極対131と内部導体対132とが、バリスタ素体11内において積層方向に並んで位置すると共に積層方向に対して略垂直方向に並んで位置している。   The first internal electrode 121 of the conductor layer 120A, the second internal electrode 123 of the conductor layer 120B, and the internal conductors 125 of the conductor layers 120C and 120D are arranged on the varistor layer so as to overlap when viewed from the stacking direction. Is arranged. Also, each of the inner conductors 125 of the conductor layers 120A and 120B, the first inner electrode 121 of the conductor layer 120C, and the second inner electrode 123 of the conductor layer 120D are arranged on the varistor layer so as to overlap when viewed from the stacking direction. Is arranged. Therefore, an internal electrode pair 131 and an internal conductor pair 132, which will be described later, are positioned side by side in the stacking direction in the varistor element body 11, and are positioned in a direction substantially perpendicular to the stacking direction.

各第1の内部電極121は、略矩形状を呈している。各第1の内部電極121は、その一端が第1の主面13に臨むように第1の主面13に引き出されている。導体層120Aにおける第1の内部電極121は、バリスタ層を挟んで、少なくともその一部が導体層120Bにおける第2の内部電極123と対向している。導体層120Cにおける第1の内部電極121は、バリスタ層を挟んで、少なくともその一部が導体層120Dにおける第2の内部電極123と対向している。   Each first internal electrode 121 has a substantially rectangular shape. Each first internal electrode 121 is drawn out to the first main surface 13 such that one end thereof faces the first main surface 13. The first internal electrode 121 in the conductor layer 120A is at least partially opposed to the second internal electrode 123 in the conductor layer 120B with the varistor layer interposed therebetween. The first internal electrode 121 in the conductor layer 120C is at least partially opposed to the second internal electrode 123 in the conductor layer 120D with the varistor layer interposed therebetween.

各第2の内部電極123は、略矩形状を呈している。各第2の内部電極123は、その一端が第2の主面15に臨むように第2の主面15に引き出されている。導体層120Bにおける第2の内部電極123は、バリスタ層を挟んで、少なくともその一部が導体層120Aにおける第1の内部電極121と対向しており、導体層120Dにおける第2の内部電極123は、バリスタ層を挟んで、少なくともその一部が導体層120Cにおける第1の内部電極121と対向している。   Each second internal electrode 123 has a substantially rectangular shape. Each second internal electrode 123 is drawn out to the second main surface 15 such that one end thereof faces the second main surface 15. The second internal electrode 123 in the conductor layer 120B is at least partially opposed to the first internal electrode 121 in the conductor layer 120A with the varistor layer interposed therebetween, and the second internal electrode 123 in the conductor layer 120D is At least part of the varistor layer is opposed to the first internal electrode 121 in the conductor layer 120C.

第1の内部電極121と第2の内部電極123とは、上述したように、少なくともその一部同士が互いに対向するようにバリスタ素体11内に配されている。これにより、積層型チップバリスタ2では、少なくともその一部同士が互いに対向するようにバリスタ素体11内に配された第1及び第2の内部電極121,123を含む内部電極対131が、複数(本実施形態においては、2つ)備えられることとなる。従って、バリスタ層における第1の内部電極121と第2の内部電極123とが重なる領域、すなわち、すなわち、バリスタ素体11における第1の内部電極121と第2の内部電極123との間の領域が、バリスタ特性を発現する領域として機能する。   As described above, the first internal electrode 121 and the second internal electrode 123 are arranged in the varistor element body 11 so that at least some of them face each other. Thereby, in the multilayer chip varistor 2, a plurality of internal electrode pairs 131 including the first and second internal electrodes 121 and 123 arranged in the varistor element body 11 so that at least some of them are opposed to each other are provided. (Two in this embodiment) will be provided. Therefore, a region where the first internal electrode 121 and the second internal electrode 123 overlap in the varistor layer, that is, a region between the first internal electrode 121 and the second internal electrode 123 in the varistor element body 11. However, it functions as a region that develops varistor characteristics.

各内部導体125は、略矩形状を呈している。各内部導体125は、その一端が第1の主面13に臨むように第1の主面13に引き出されており、その他端が第2の主面15に臨むように該第2の主面15に引き出されている。本実施形態においては、導体層120A,20Bにおける各内部導体125同士が互いに対向するようにバリスタ素体11内に配され、導体層120C,120Dにおける各内部導体125同士が互いに対向するようにバリスタ素体11内に配されている。これにより、積層型チップバリスタ2では、バリスタ素体11内に配された一対の内部導体125(内部導体対132)が、複数(本実施形態においては、2つ)備えられることとなる。   Each inner conductor 125 has a substantially rectangular shape. Each inner conductor 125 is drawn out to the first main surface 13 so that one end thereof faces the first main surface 13, and the second main surface so that the other end faces the second main surface 15. 15 is drawn. In the present embodiment, the varistor elements 11 are arranged in the varistor element body 11 so that the inner conductors 125 in the conductor layers 120A and 20B face each other, and the varistors so that the inner conductors 125 in the conductor layers 120C and 120D face each other. It is arranged in the element body 11. As a result, the multilayer chip varistor 2 is provided with a plurality (two in this embodiment) of a pair of internal conductors 125 (internal conductor pairs 132) disposed in the varistor element body 11.

第1及び第2の内部電極121,123並びに内部導体125は、導電材を含んでいる。第1及び第2の内部電極121,123並びに内部導体125に含まれる導電材としては、特に限定されないが、Pd又はAg−Pd合金からなることが好ましい。第1及び第2の内部電極121,123並びに内部導体125の厚みは、それぞれ例えば0.5〜5μm程度とすることができる。   The first and second internal electrodes 121 and 123 and the internal conductor 125 include a conductive material. The conductive material contained in the first and second internal electrodes 121 and 123 and the internal conductor 125 is not particularly limited, but is preferably made of Pd or an Ag—Pd alloy. The thicknesses of the first and second internal electrodes 121 and 123 and the internal conductor 125 can be set to about 0.5 to 5 μm, for example.

ここで、第1の主面13及び第2の主面15は、積層方向に沿う方向(本実施形態では、平行な方向)で且つ第1及び第2の内部電極121,123並びに内部導体125と交差する方向(本実施形態では、直交する方向)に拡がっている。なお、積層方向は、第1の内部電極121と第2の内部電極123との対向方向(内部導体125同士の対向方向)と平行な方向であり、第1及び第2の内部電極121,123並びに内部導体125と直交する方向である。   Here, the first main surface 13 and the second main surface 15 are in a direction along the stacking direction (a parallel direction in the present embodiment), and the first and second inner electrodes 121 and 123 and the inner conductor 125. Extends in the direction intersecting (in the present embodiment, the direction orthogonal). The stacking direction is a direction parallel to the opposing direction of the first internal electrode 121 and the second internal electrode 123 (the opposing direction of the internal conductors 125), and the first and second internal electrodes 121 and 123 are parallel to each other. In addition, the direction is orthogonal to the inner conductor 125.

各接続導体41は、図12及び図14にも示されるように、バリスタ素体11内において積層方向に並んで配置された内部電極対131と内部電極対132とのうち、内部電極対131に含まれる第1の内部電極121及び内部電極対132に含まれる各内部導体125の第1の主面13に引き出される各部分を覆うように、第1の主面13上にそれぞれ配置されている。第1の内部電極121及び各内部導体125の第1の主面13に引き出される各部分は、対応する接続導体41に物理的且つ電気的に接続されている。これにより、各接続導体41は、積層方向に並んで位置する第1の内部電極121及び各内部導体125を電気的に接続することとなる。   As shown in FIGS. 12 and 14, each connection conductor 41 is connected to the internal electrode pair 131 among the internal electrode pair 131 and the internal electrode pair 132 arranged in the stacking direction in the varistor element body 11. Each of the internal conductors 125 included in the first internal electrode 121 and the internal electrode pair 132 included is arranged on the first main surface 13 so as to cover each part drawn out to the first main surface 13. . Each portion led out to the first main surface 13 of the first inner electrode 121 and each inner conductor 125 is physically and electrically connected to the corresponding connecting conductor 41. As a result, each connection conductor 41 electrically connects the first internal electrode 121 and each internal conductor 125 positioned side by side in the stacking direction.

端子電極51は、本実施形態において、2つの第1の端子電極151と2つの第2の端子電極152とを有している。   In the present embodiment, the terminal electrode 51 has two first terminal electrodes 151 and two second terminal electrodes 152.

各第1の端子電極151は、図12及び図14にも示されているように、対応する第2の内部電極123の第2の主面15に引き出される部分を覆うように、第2の主面15上にそれぞれ配置されている。第2の内部電極123の第2の主面15に引き出される部分は、対応する第1の端子電極151に物理的且つ電気的に接続されている。これにより、第1の端子電極151は、対応する第2の内部電極123とそれぞれ電気的に接続されることとなる。   As shown in FIGS. 12 and 14, each first terminal electrode 151 has a second second electrode so as to cover a portion drawn out to the second main surface 15 of the corresponding second inner electrode 123. Each is arranged on the main surface 15. A portion of the second internal electrode 123 drawn to the second main surface 15 is physically and electrically connected to the corresponding first terminal electrode 151. Thus, the first terminal electrode 151 is electrically connected to the corresponding second internal electrode 123, respectively.

一方、各第2の端子電極152は、図12及び図14にも示されるように、対応する内部導体対132に含まれる各内部導体125の第2の主面15に引き出される部分を覆うように、第2の主面15上にそれぞれ配置されている。内部導体125の第2の主面15に引き出される部分は、対応する第2の端子電極152に物理的且つ電気的に接続されている。これにより、第2の端子電極152は、対応する内部導体対132に含まれる各内部導体125とそれぞれ電気的に接続されることとなる。   On the other hand, as shown in FIGS. 12 and 14, each second terminal electrode 152 covers a portion drawn out to the second main surface 15 of each internal conductor 125 included in the corresponding internal conductor pair 132. Further, they are arranged on the second main surface 15 respectively. The portion of the inner conductor 125 that is led out to the second main surface 15 is physically and electrically connected to the corresponding second terminal electrode 152. As a result, the second terminal electrode 152 is electrically connected to each internal conductor 125 included in the corresponding internal conductor pair 132.

ここで、上述したように、内部電極対131と内部導体対132とが、バリスタ素体11内において積層方向に並んで位置すると共に積層方向に対して略垂直方向に並んで位置している。そのため、内部電極対131に含まれる第2の内部電極123と電気的に接続される第1の端子電極151及び内部導体対132に含まれる各内部導体125と電気的に接続される第2の端子電極152についても、積層方向に並んで位置すると共に積層方向に対して略垂直方向に並んで位置するように第2の主面15上に配置されている。すなわち、第1及び第2の端子電極151,152が、行方向及び列方向に交互になるように配列されている。   Here, as described above, the internal electrode pair 131 and the internal conductor pair 132 are positioned side by side in the stacking direction in the varistor element body 11 and are aligned in a direction substantially perpendicular to the stacking direction. Therefore, the second terminal electrically connected to the first terminal electrode 151 electrically connected to the second internal electrode 123 included in the internal electrode pair 131 and the respective internal conductors 125 included in the internal conductor pair 132. The terminal electrodes 152 are also arranged on the second main surface 15 so as to be positioned side by side in the stacking direction and aligned in a direction substantially perpendicular to the stacking direction. That is, the first and second terminal electrodes 151 and 152 are arranged alternately in the row direction and the column direction.

上述した構成を有する積層型チップバリスタ2においては、図15に示されるように、第1の端子電極151と第2の端子電極152とを接続するバリスタBが、二組含まれることとなる。各バリスタBは、第1の内部電極121と、第2の内部電極123と、バリスタ層における第1及び第2の内部電極121,123が重なる領域とにより構成されている。なお、接続導体41が積層方向と略平行方向に延在しており、バリスタBと電気的に接続されている第1及び第2の端子電極151,152が積層方向に並置されているため、各バリスタBは、接続導体41の長辺方向に並置されることとなる一対の第1及び第2の端子電極151,152の間に存在することとなる。   In the multilayer chip varistor 2 having the above-described configuration, as shown in FIG. 15, two sets of varistors B that connect the first terminal electrode 151 and the second terminal electrode 152 are included. Each varistor B is composed of a first internal electrode 121, a second internal electrode 123, and a region where the first and second internal electrodes 121 and 123 overlap in the varistor layer. The connection conductor 41 extends in a direction substantially parallel to the stacking direction, and the first and second terminal electrodes 151 and 152 that are electrically connected to the varistor B are juxtaposed in the stacking direction. Each varistor B exists between the pair of first and second terminal electrodes 151 and 152 that are juxtaposed in the long side direction of the connection conductor 41.

上述した構成を有する積層型チップバリスタ2は、積層型チップバリスタ1と同様な手順にて製造することができるので、積層型チップバリスタ2の製造過程の説明は省略する。   Since the multilayer chip varistor 2 having the above-described configuration can be manufactured in the same procedure as the multilayer chip varistor 1, the description of the manufacturing process of the multilayer chip varistor 2 is omitted.

以上のように、第2実施形態においては、複数の第1及び第2の端子電極151,152がバリスタ素体11の第2の主面15上に配置されている。そのため、第2の主面15を実装部品(例えば、電子部品や実装基板等)に対向させた状態で積層型チップバリスタ2を実装させることができ、BGAパッケージに対応させた構成が実現されることとなる。また、本実施形態においては、接続導体41が、バリスタ素体11内において積層方向に並んで配置された内部電極対131と内部導体対132とのうち、内部電極対131に含まれる第1の内部電極121と内部導体対132に含まれる各内部導体125とを電気的に接続するように第1の主面13に配置されている。そのため、バリスタ素体11には、接続導体41に対応する位置にバリスタBとして機能する領域が存在することとなる、従って、接続導体41が積層型チップバリスタ2の実装方向を識別するためのマークとして機能することとなり、積層型チップバリスタ2を適切且つ容易に実装することが可能となる。   As described above, in the second embodiment, the plurality of first and second terminal electrodes 151 and 152 are arranged on the second main surface 15 of the varistor element body 11. Therefore, the multilayer chip varistor 2 can be mounted with the second main surface 15 facing a mounting component (for example, an electronic component or a mounting substrate), and a configuration corresponding to the BGA package is realized. It will be. Further, in the present embodiment, the connection conductor 41 is included in the internal electrode pair 131 among the internal electrode pair 131 and the internal conductor pair 132 arranged in the stacking direction in the varistor element body 11. Arranged on first main surface 13 so as to electrically connect internal electrode 121 and each internal conductor 125 included in internal conductor pair 132. Therefore, the varistor element body 11 has a region functioning as the varistor B at a position corresponding to the connection conductor 41. Therefore, the connection conductor 41 is a mark for identifying the mounting direction of the multilayer chip varistor 2. Thus, the multilayer chip varistor 2 can be mounted appropriately and easily.

ところで、積層型チップバリスタ2では、上述したように、バリスタ素体11の外表面からLiが拡散されているので、バリスタ素体11の外表面近傍の領域は、電気抵抗が極めて高く、実質的に電気的に絶縁された状態となる。すなわち、バリスタ素体11における隣り合う二つの端子電極151,152間の領域が、実質的に電気的に絶縁された状態となり、該領域にはバリスタ特性が生じ難い。このため、バリスタ素体11における隣り合う二つの端子電極151,152間の領域のバリスタ電圧が、バリスタ素体11における第1の内部電極121と第2の内部電極123との間の領域のバリスタ電圧よりも極めて高くなる。また、バリスタ素体11における二つの接続導体41間の領域のバリスタ電圧も、バリスタ素体11における第1の内部電極23と第2の内部電極33との間の領域のバリスタ電圧よりも極めて高くなる。   Incidentally, in the multilayer chip varistor 2, as described above, Li is diffused from the outer surface of the varistor element body 11, so that the region near the outer surface of the varistor element body 11 has an extremely high electric resistance and is substantially reduced. Is electrically insulated. That is, the region between the two adjacent terminal electrodes 151 and 152 in the varistor element body 11 is substantially electrically insulated, and varistor characteristics are unlikely to occur in the region. For this reason, the varistor voltage in the region between the two adjacent terminal electrodes 151 and 152 in the varistor element body 11 is the varistor in the region between the first internal electrode 121 and the second internal electrode 123 in the varistor element body 11. Extremely higher than voltage. The varistor voltage in the region between the two connection conductors 41 in the varistor element body 11 is also extremely higher than the varistor voltage in the region between the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 in the varistor element body 11. Become.

このように、積層型チップバリスタ2では、バリスタ素体11における隣り合う二つの端子電極151,152間の領域及びバリスタ素体11における二つの接続導体41間の領域にバリスタ特性が生じ難くなる。また、バリスタ素体11における隣り合う二つの端子電極151,152間の領域及びバリスタ素体11における二つの接続導体41間の領域にバリスタ特性が生じたとしても、そのバリスタ特性は、バリスタ素体11における第1の内部電極121と第2の内部電極123との間の領域に生じるバリスタ特性に対して無視できる。これらの結果、バリスタ素体11における第1の内部電極121と第2の内部電極123との間の領域以外においてバリスタ特性が生じてしまうのが抑制されることとなり、積層型チップバリスタ2は所望のバリスタ特性を得ることができる。   As described above, in the multilayer chip varistor 2, varistor characteristics are hardly generated in the region between the two adjacent terminal electrodes 151 and 152 in the varistor element body 11 and the region between the two connection conductors 41 in the varistor element body 11. Even if varistor characteristics occur in the region between the two adjacent terminal electrodes 151 and 152 in the varistor element body 11 and in the region between the two connection conductors 41 in the varistor element body 11, the varistor characteristics are as follows. 11 is negligible for the varistor characteristics generated in the region between the first internal electrode 121 and the second internal electrode 123. As a result, the varistor characteristics are suppressed from occurring in a region other than the region between the first internal electrode 121 and the second internal electrode 123 in the varistor element body 11, and the multilayer chip varistor 2 is desired. Varistor characteristics can be obtained.

以上、本発明の好適な実施形態について説明してきたが、本発明は必ずしも上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。   The preferred embodiments of the present invention have been described above. However, the present invention is not necessarily limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

本実施形態では、バリスタ素体11に拡散させるアルカリ金属としてLiを用いているが、これに限られることなく、Na、K、Rb、又はCsを用いてもよい。   In the present embodiment, Li is used as the alkali metal diffused in the varistor element body 11, but the present invention is not limited to this, and Na, K, Rb, or Cs may be used.

本実施形態では、バリスタ素体11の全ての外表面からLiを拡散させているが、これに限られることなく、外部電極(接続導体41及び端子電極51,151,152)が形成された外表面(第1の主面13及び第2の主面15)のみから、Liを拡散させてもよい。また、バリスタ素体11の外表面における隣り合う二つの外部電極間の領域からのみ、Liを拡散させてもよい。   In the present embodiment, Li is diffused from the entire outer surface of the varistor element body 11. However, the present invention is not limited to this, and the outer electrode (connection conductor 41 and terminal electrodes 51, 151, 152) formed outside is not limited to this. Li may be diffused only from the surfaces (the first main surface 13 and the second main surface 15). Further, Li may be diffused only from a region between two adjacent external electrodes on the outer surface of the varistor element body 11.

本実施形態では、外部電極(接続導体41及び端子電極51,151,152)は印刷法(導電性ペーストを塗布し、焼き付ける)により形成されているが、これに限られない。外部電極(接続導体41及び端子電極51,151,152)は、めっき法、特に真空めっき法(真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等)により形成されてもよい。   In the present embodiment, the external electrodes (the connection conductor 41 and the terminal electrodes 51, 151, and 152) are formed by a printing method (a conductive paste is applied and baked), but the present invention is not limited thereto. The external electrodes (connection conductor 41 and terminal electrodes 51, 151, 152) may be formed by a plating method, particularly a vacuum plating method (vacuum deposition method, sputtering method, ion plating method, etc.).

本実施形態では、外部電極(接続導体41及び端子電極51,151,152)を形成する前に、バリスタ素体11にLiを拡散させているが、これに限られない。外部電極(接続導体41及び端子電極51,151,152)を形成した後に、バリスタ素体11にLiを拡散させてもよい。   In the present embodiment, Li is diffused in the varistor element body 11 before forming the external electrodes (the connection conductor 41 and the terminal electrodes 51, 151, and 152). However, the present invention is not limited to this. Li may be diffused into the varistor element body 11 after the external electrodes (the connection conductor 41 and the terminal electrodes 51, 151, 152) are formed.

また、本実施形態では、端子電極51,151,152上にはガラス層が形成されており、端子電極51,151,152とはんだパンプ53とはこのガラス層を介して接続されるとしてもよい。この場合、ガラス層は端子電極51,151,152の少なくとも一部が露出するように形成される。ガラス層において、端子電極51,151,152が露出する側の縁部には、端子電極51,151,152に至る複数の貫通孔が形成されている。はんだパンプ53は、端子電極51,151,152の露出部分およびガラス層の上記縁部を覆うように位置しており、複数の貫通孔を通して端子電極51,151,152と接続される。このようにして端子電極51,151,152にはんだパンプ53を接続することにより、端子電極51,151,152とはんだパンプ53との接合強度を向上することが可能となる。   In this embodiment, a glass layer is formed on the terminal electrodes 51, 151, and 152, and the terminal electrodes 51, 151, and 152 and the solder bump 53 may be connected via the glass layer. . In this case, the glass layer is formed so that at least a part of the terminal electrodes 51, 151, 152 is exposed. In the glass layer, a plurality of through holes reaching the terminal electrodes 51, 151, and 152 are formed at the edge on the side where the terminal electrodes 51, 151, and 152 are exposed. The solder bump 53 is located so as to cover the exposed portions of the terminal electrodes 51, 151, and 152 and the edge of the glass layer, and is connected to the terminal electrodes 51, 151, and 152 through a plurality of through holes. By connecting the solder pump 53 to the terminal electrodes 51, 151, and 152 in this way, it is possible to improve the bonding strength between the terminal electrodes 51, 151, 152 and the solder pump 53.

以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited to these Examples.

本実施例では、第1実施形態に係る積層型チップバリスタ1と同じ構成である積層型チップバリスタを作製し、直列接続された二つのバリスタBの一方の端子電極51と他方の端子電極51との間でのバリスタ電圧(以下、バリスタ電圧V1lineと称する)と、一方の組における直列接続された二つのバリスタBの端子電極51と他方の組における直列接続された二つのバリスタBの端子電極51との間でのバリスタ電圧(以下、バリスタ電圧V2lineと称する)とを測定した。バリスタ電圧V1lineとバリスタ電圧V2lineとして、1mAの電流を流した場合のバリスタ電圧V1mA(単位は、V)を測定した。 In this example, a multilayer chip varistor having the same configuration as that of the multilayer chip varistor 1 according to the first embodiment is manufactured, and one terminal electrode 51 and the other terminal electrode 51 of two varistors B connected in series are formed. varistor voltage between (hereinafter, referred to as the varistor voltage V 1 LINE) and the terminal electrode of the two varistors B connected in series in the terminal electrode 51 and the other set of two varistors B connected in series in one set The varistor voltage with respect to 51 (hereinafter referred to as varistor voltage V2line ) was measured. As the varistor voltage V 1line and the varistor voltage V 2line , a varistor voltage V 1mA (unit: V) when a current of 1 mA was passed was measured.

バリスタ材料に関しては、純度99.9%のZnO(97.725モル%)に、Pr(0.5モル%)、Co(1.5モル%)、Al(0.005モル%)、K(0.05モル%)、Cr(0.1モル%)、Ca(0.1モル%)及びSi(0.02モル%)を添加して調製した。Li拡散処理に関しては、得られたバリスタ素体11を、LiCO粉末(平均粒径:3μm)とともに、密閉回転ポットに入れて混合し、1個あたり1μgのLiCOの粉末を付着させた。なお、密閉回転ポットへのLiCO粉末の投入量は、1個当り、0.01μg〜10mgの範囲とした。熱処理温度は900℃とし、熱処理時間は10分とした。 Regarding the varistor material, 99.9% purity ZnO (97.725 mol%), Pr (0.5 mol%), Co (1.5 mol%), Al (0.005 mol%), K ( 0.05 mol%), Cr (0.1 mol%), Ca (0.1 mol%) and Si (0.02 mol%) were added. Regarding the Li diffusion treatment, the obtained varistor element body 11 was mixed with Li 2 CO 3 powder (average particle size: 3 μm) in a sealed rotating pot, and 1 μg of Li 2 CO 3 powder per piece was mixed. Attached. The amount of Li 2 CO 3 powder introduced into the sealed rotating pot was in the range of 0.01 μg to 10 mg per piece. The heat treatment temperature was 900 ° C., and the heat treatment time was 10 minutes.

第1の内部電極23と第2の内部電極33との間隔Di1を40μmに設定し、54Vのバリスタ電圧V1mAが得られるように積層型チップバリスタを設計した。二つの端子電極51間の間隔De1及び二つの接続導体41間の間隔De2が、20μm、40μm、80μm、120μm、160μmにそれぞれ設定された積層型チップバリスタを、Li拡散処理を行なった場合と行なわなかった場合とでサンプルを各5個ずつ作製し、各サンプルのバリスタ電圧V1lineとバリスタ電圧V2lineとを測定した。測定結果を図16に示す。なお、図16において、“−”は、使用した測定機器(KEITHLEY2400 SOURCE METER)の測定可能範囲(200Vまで)を超えており、バリスタ電圧V2lineを適正に測定することができなかったことを示している。 The multilayer chip varistor was designed so that the distance D i1 between the first internal electrode 23 and the second internal electrode 33 was set to 40 μm, and a varistor voltage V 1 mA of 54 V was obtained. Interval D e2 between spacing D e1 and two connecting conductors 41 between the two terminal electrodes 51, 20μm, 40μm, 80μm, 120μm , a multilayer chip varistor respectively set to 160 .mu.m, when subjected to Li diffusion process In each case, five samples were prepared and the varistor voltage V 1line and varistor voltage V 2line of each sample were measured. The measurement results are shown in FIG. In FIG. 16, “-” indicates that the measurement device (KEITHLEY2400 SOURCE METER) used has exceeded the measurable range (up to 200V), and the varistor voltage V2line could not be measured properly. ing.

図16に示される測定結果において、Li拡散を行わない積層型チップバリスタでは、CV(変動係数)が5%より大きくなり、バリスタ電圧V1lineの各設計値に対するばらつきは大きい。これに対し、Li拡散処理を行なった積層型チップバリスタでは、CVが5%以下となり、バリスタ電圧V1lineの設計値に対するばらつきは極めて小さい。判断基準を5%とした理由は、ESD保護レベルが安定な回路設計および実用に適したバリスタ素子が供給できるからである。 In the measurement results shown in FIG. 16, in the multilayer chip varistor without Li diffusion, the CV (coefficient of variation) is greater than 5%, and the varistor voltage V 1line varies greatly with respect to each design value. On the other hand, in the multilayer chip varistor subjected to the Li diffusion process, the CV is 5% or less, and the variation of the varistor voltage V 1line with respect to the design value is extremely small. The reason why the criterion is 5% is that a varistor element suitable for circuit design and practical use with a stable ESD protection level can be supplied.

また、Li拡散処理を行なわない積層型チップバリスタでは、バリスタ電圧V2lineを測定することができた。この結果から、一方の組における直列接続された二つのバリスタBの端子電極51と他方の組における直列接続された二つのバリスタBの端子電極51との間の領域にバリスタ特性が生じていることが理解できる。これに対し、Li拡散処理を行なった積層型チップバリスタでは、バリスタ電圧V2lineは上記測定可能範囲を超えており、測定することができなかった。この結果から、一方の組における直列接続された二つのバリスタBの端子電極51と他方の組における直列接続された二つのバリスタBの端子電極51との間の領域にバリスタ特性が実質的に生じていないことが理解できる。 In the multilayer chip varistor that does not perform the Li diffusion treatment, the varistor voltage V2line could be measured. As a result, varistor characteristics are generated in a region between the terminal electrodes 51 of two varistors B connected in series in one set and the terminal electrodes 51 of two varistors B connected in series in the other set. Can understand. On the other hand, in the multilayer chip varistor subjected to the Li diffusion treatment, the varistor voltage V 2line exceeded the measurable range and could not be measured. As a result, varistor characteristics are substantially generated in a region between the terminal electrodes 51 of two varistors B connected in series in one set and the terminal electrodes 51 of two varistors B connected in series in the other set. I can understand that.

以上のことから、本発明の有効性が確認された。   From the above, the effectiveness of the present invention was confirmed.

第1実施形態に係る積層型チップバリスタを示す斜視図である。1 is a perspective view showing a multilayer chip varistor according to a first embodiment. 第1実施形態に係る積層型チップバリスタを示す斜視図である。1 is a perspective view showing a multilayer chip varistor according to a first embodiment. 図1のIII−III線に沿った断面構成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the cross-sectional structure along the III-III line | wire of FIG. 図3のIV−IV線に沿った断面構成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the cross-sectional structure along the IV-IV line of FIG. 図4のV−V線に沿った断面構成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the cross-sectional structure along the VV line of FIG. 第1実施形態に係る積層型チップバリスタの等価回路を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the equivalent circuit of the multilayer chip varistor which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る積層型チップバリスタの製造過程を説明するためのフロー図である。It is a flowchart for demonstrating the manufacturing process of the multilayer chip varistor which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る積層型チップバリスタの製造過程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing process of the multilayer chip varistor which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る積層型チップバリスタの構成を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the structure of the multilayer chip varistor concerning 1st Embodiment. 第2実施形態に係る積層型チップバリスタを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the multilayer chip varistor concerning 2nd Embodiment. 第2実施形態に係る積層型チップバリスタを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the multilayer chip varistor concerning 2nd Embodiment. 図10のXII−XII線に沿った断面構成を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the cross-sectional structure along the XII-XII line | wire of FIG. 図12のXIII−XIII線に沿った断面構成を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the cross-sectional structure along the XIII-XIII line | wire of FIG. 図13のXIIII−XIIII線に沿った断面構成を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the cross-sectional structure along the XIIII-XIIII line of FIG. 第2実施形態に係る積層型チップバリスタの等価回路を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the equivalent circuit of the multilayer chip varistor which concerns on 2nd Embodiment. 実施例におけるバリスタ電圧の測定結果を示す図表である。It is a graph which shows the measurement result of the varistor voltage in an Example.

符号の説明Explanation of symbols

1,2…積層型チップバリスタ、11…バリスタ素体、11a…Liが拡散された領域、13…第1の主面、15…第2の主面、23…第1の内部電極、33…第2の内部電極、41…接続導体、51…端子電極、121…第1の内部電極、123…第2の内部電極、151…第1の端子電極、152…第2の端子電極。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 2 ... Stack type chip varistor, 11 ... Varistor element | base_body, 11a ... Area | region where Li was diffused, 13 ... 1st main surface, 15 ... 2nd main surface, 23 ... 1st internal electrode, 33 ... 2nd internal electrode, 41 ... connection conductor, 51 ... terminal electrode, 121 ... 1st internal electrode, 123 ... 2nd internal electrode, 151 ... 1st terminal electrode, 152 ... 2nd terminal electrode.

Claims (7)

ZnOを主成分とし電圧非直線特性を発現すると共に、互いに対向する第1及び第2の主面を有する焼結体と、
少なくともその一部同士が互いに対向するように前記焼結体内に配された第1及び第2の内部電極を有する複数の内部電極対と、
前記複数の内部電極対のうちの所定の内部電極対の第1の内部電極同士を電気的に接続するように前記第1の主面に形成された複数の接続導体と、
前記複数の内部電極対の各第2の内部電極に対応して設けられ、該第2の内部電極に電気的に接続されるように前記第2の主面に形成された複数の端子電極と、
を備え、
前記複数の接続導体間には、前記焼結体における前記複数の内部電極対間の領域のバリスタ電圧よりも高いバリスタ電圧を有する領域が前記第1の主面側から形成されており、
前記複数の端子電極間には、前記焼結体における前記複数の内部電極対間の領域のバリスタ電圧よりも高いバリスタ電圧を有する領域が前記第2の主面側から形成されていることを特徴とするバリスタ。
A sintered body having ZnO as a main component and voltage non-linear characteristics, and having first and second main surfaces facing each other;
A plurality of internal electrode pairs having first and second internal electrodes disposed in the sintered body so that at least some of them face each other;
A plurality of connection conductors formed on the first main surface so as to electrically connect first internal electrodes of a predetermined internal electrode pair of the plurality of internal electrode pairs;
A plurality of terminal electrodes provided corresponding to the second internal electrodes of the plurality of internal electrode pairs and formed on the second main surface so as to be electrically connected to the second internal electrodes; ,
With
Between the plurality of connection conductors, a region having a varistor voltage higher than a varistor voltage of a region between the plurality of internal electrode pairs in the sintered body is formed from the first main surface side,
A region having a varistor voltage higher than a varistor voltage in a region between the plurality of internal electrode pairs in the sintered body is formed between the plurality of terminal electrodes from the second main surface side. A varistor.
前記複数の接続導体間に位置する、前記焼結体における前記複数の内部電極対間の領域のバリスタ電圧よりも高いバリスタ電圧を有する前記領域は、前記第1の主面側からアルカリ金属が拡散されることにより形成され、
前記複数の端子電極間に位置する、前記焼結体における前記複数の内部電極対間の領域のバリスタ電圧よりも高いバリスタ電圧を有する前記領域は、前記第2の主面側からアルカリ金属が拡散されることにより形成されていることを特徴とする請求項1に記載のバリスタ。
The alkali metal diffuses from the first main surface side in the region having a varistor voltage higher than the varistor voltage of the region between the plurality of internal electrode pairs in the sintered body, which is located between the plurality of connection conductors. Formed by
In the region having a varistor voltage higher than the varistor voltage of the region between the plurality of internal electrode pairs in the sintered body located between the plurality of terminal electrodes, alkali metal diffuses from the second main surface side. The varistor according to claim 1, wherein the varistor is formed.
ZnOを主成分とし電圧非直線特性を発現すると共に、互いに対向する第1及び第2の主面を有する焼結体と、
少なくともその一部同士が互いに対向するように前記焼結体内に配された第1及び第2の内部電極を有する複数の内部電極対と、
前記焼結体内に配された複数の内部導体と、
前記内部電極対における第1の内部電極と前記内部導体とを電気的に接続するように前記第1の主面に形成された複数の接続導体と、
前記第2の内部電極と電気的に接続されるように前記第2の主面に形成された第1の端子電極と、
前記内部導体と電気的に接続されるように前記第2の主面に形成された第2の端子電極とを備え、
前記複数の接続導体間には、前記焼結体における前記複数の内部電極対間の領域のバリスタ電圧よりも高いバリスタ電圧を有する領域が前記第1の主面側から形成されており、
前記第1の端子電極と前記第2の端子電極との間には、前記焼結体における前記複数の内部電極対間の領域のバリスタ電圧よりも高いバリスタ電圧を有する領域が前記第2の主面側から形成されていることを特徴とするバリスタ。
A sintered body having ZnO as a main component and voltage non-linear characteristics, and having first and second main surfaces facing each other;
A plurality of internal electrode pairs having first and second internal electrodes disposed in the sintered body so that at least some of them face each other;
A plurality of internal conductors disposed in the sintered body;
A plurality of connection conductors formed on the first main surface so as to electrically connect the first internal electrode and the internal conductor in the internal electrode pair;
A first terminal electrode formed on the second main surface so as to be electrically connected to the second internal electrode;
A second terminal electrode formed on the second main surface so as to be electrically connected to the inner conductor;
Between the plurality of connection conductors, a region having a varistor voltage higher than a varistor voltage of a region between the plurality of internal electrode pairs in the sintered body is formed from the first main surface side,
A region having a varistor voltage higher than a varistor voltage in a region between the plurality of internal electrode pairs in the sintered body is between the first terminal electrode and the second terminal electrode. A varistor formed from the surface side.
前記複数の接続導体間に位置する、前記焼結体における前記複数の内部電極対間の領域のバリスタ電圧よりも高いバリスタ電圧を有する前記領域は、前記第1の主面側からアルカリ金属が拡散されることにより形成され、
前記第1の端子電極と前記第2の端子電極との間に位置する、前記焼結体における前記複数の内部電極対間の領域のバリスタ電圧よりも高いバリスタ電圧を有する前記領域は、前記第2の主面側からアルカリ金属が拡散されることにより形成されていることを特徴とする請求項3に記載のバリスタ。
The alkali metal diffuses from the first main surface side in the region having a varistor voltage higher than the varistor voltage of the region between the plurality of internal electrode pairs in the sintered body, which is located between the plurality of connection conductors. Formed by
The region having a varistor voltage higher than a varistor voltage of the region between the plurality of internal electrode pairs in the sintered body, which is located between the first terminal electrode and the second terminal electrode, 4. The varistor according to claim 3, wherein the varistor is formed by diffusing an alkali metal from the main surface side of 2.
前記アルカリ金属が、Liであることを特徴とする請求項2又は4に記載のバリスタ。   The varistor according to claim 2, wherein the alkali metal is Li. 前記焼結体が、バリスタ特性を発現するための副成分として希土類金属を含んでいることを特徴とする請求項2,4,5のいずれか一項に記載のバリスタ。   6. The varistor according to claim 2, wherein the sintered body includes a rare earth metal as an auxiliary component for developing varistor characteristics. 前記希土類金属が、Prであることを特徴とする請求項6に記載のバリスタ。   The varistor according to claim 6, wherein the rare earth metal is Pr.
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