JP2008084566A - 有機機能性素子の製造方法 - Google Patents
有機機能性素子の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008084566A JP2008084566A JP2006260316A JP2006260316A JP2008084566A JP 2008084566 A JP2008084566 A JP 2008084566A JP 2006260316 A JP2006260316 A JP 2006260316A JP 2006260316 A JP2006260316 A JP 2006260316A JP 2008084566 A JP2008084566 A JP 2008084566A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organic functional
- solvent
- substrate
- chamber
- getter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【解決手段】チャンバー内を減圧する工程と、前記基板を前記溶媒の沸点以上に加熱する工程と、冷却したゲッターに溶媒を吸着する工程とを少なくとも含むことを特徴とする乾燥方法を用いる。
【選択図】図1
Description
本発明の乾燥装置はチャンバー101内に基板ホルダー106を有し、基板ホルダーに基板105が設置される。基板ホルダー106としてホットプレートを用いた場合には、基板105は有機機能性材料が塗布された面の裏面をホットプレートに接触させるように基板ホルダー上に設置される。基板ホルダー106としてホットプレートを用いる事で、ゲッター108の加熱を最小限におさえ、基板105を優先して加熱することが可能となる。
次に上記乾燥装置を用いた乾燥方法について説明する。
以下、本発明による有機機能性薄膜を有する有機機能性素子の製造方法について、有機エレクトロルミネッセンス素子を例として、図2に基づいて説明する。
などの低分子も用いることができるが、ポリアニリン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール(PVK)誘導体、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸との混合物等の高分子材料が成膜性の点から好ましい。また、ポリパラフェニレン(PPP)等のポリアリーレン系、ポリフェニレンビニレン(PPV)等のポリアリーレンビニレン系等の導電性高分子若しくはポリスチレン(PS)等の高分子に、アリールアミン類、カルバゾール誘導体、アリールスルフィド類、チオフェン誘導体、フタロシアニン誘導体等の低分子の正孔輸送性、電子ブロック性を示す材料を混合した物を用いても良い。
ITO付きガラス基板を用意し、そのITOを所定のパターンにエッチングした。次いで、エッチングした透明導電層上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸との混合物を水に分散させた液を、スピンコート法によりITOパターン上に塗布した。この基板を200℃にて3min、大気下にて乾燥させ、さらに10Pa窒素雰囲気下にて10min乾燥させた。乾燥後の厚さは50nmであった。
ゲッター108及び冷却器101として、クライオポンプを用いた事以外は実施例1と同様の工程で有機EL素子を作製した。
ゲッター107及び冷却機109を有さないこと以外は図1と同様な装置を用い、実施例1と同様に有機EL素子を作製した。得られた有機EL素子に9Vの電圧を印可したところ、100cd/m2のパターン化された発光を示した。また、初期輝度100cd/m2にて定電流駆動時の輝度半減時間を測定したところ、輝度半減寿命は100hrであった。
Claims (8)
- 有機機能性材料を溶媒に溶解若しくは分散させた有機機能性インキを、ウエットプロセス法を用いて基板上に塗布し、その基板上の有機機能層の塗布膜を、ゲッターを備えたチャンバー内で乾燥させる乾燥方法において、
前記基板を前記溶媒の沸点以上に加熱する工程と、
冷却した前記ゲッターに溶媒を吸着する工程と、
を少なくとも含むことを特徴とする乾燥方法。 - 有機機能性材料を溶媒に溶解若しくは分散させた有機機能性インキを、ウエットプロセス法を用いて基板上に塗布し、その基板上の有機機能層の塗布膜を、ゲッターを備えたチャンバー内で乾燥させる乾燥方法において、
前記チャンバー内を減圧する工程と、
前記基板を前記溶媒の沸点以上に加熱する工程と、
冷却した前記ゲッターに溶媒を吸着する工程と、
を少なくとも含むことを特徴とする乾燥方法。 - 前記チャンバー内において、ゲッターの温度が前記溶媒の沸点以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の乾燥方法。
- 前記チャンバー内において、ゲッターの温度が前記溶媒の凝固点以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の乾燥方法。
- 前記チャンバー内を減圧する工程において、1分あたりのチャンバー内の圧力の変化率|ΔLog10P|が0.5を超えないことを特徴とする請求項1から4に記載の乾燥方法。
- 有機機能性材料を溶媒に溶解若しくは分散させた有機機能性インキを、ウエットプロセス法を用いて基板上に塗布し、その基板上の有機機能層の塗布膜を乾燥させる乾燥装置であって、
密閉されたチャンバーと、
前記チャンバー内に前記溶媒を吸着するゲッターと、
前記チャンバー内に前記基板を加熱する加熱装置と、
前記ゲッターを冷却するための冷却装置と、
前記チャンバー内を減圧するための排気装置と、
を少なくとも有することを特徴とする乾燥装置。 - 前記ゲッターが無機多孔質若しくは綿状の無機物であることを特徴とする請求項6に記載の乾燥装置。
- 少なくとも第一電極と、第一電極に対向する第二電極と、両電極に挟持された有機機能層とを備えた有機機能性素子を製造する方法であって、
前記有機機能層のうち少なくとも一層が、
基板上に有機機能性材料を溶媒に溶解若しくは分散させた有機機能性インキをウエットプロセス法を用いて塗布する工程と、
次にその基板を乾燥する工程と、
を有する工程よって形成され、
前記乾燥する工程に請求項1から5のいずれかに記載の乾燥方法を用いることを特徴とする、有機機能性素子製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006260316A JP4940857B2 (ja) | 2006-09-26 | 2006-09-26 | 有機機能性素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006260316A JP4940857B2 (ja) | 2006-09-26 | 2006-09-26 | 有機機能性素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008084566A true JP2008084566A (ja) | 2008-04-10 |
JP4940857B2 JP4940857B2 (ja) | 2012-05-30 |
Family
ID=39355219
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006260316A Expired - Fee Related JP4940857B2 (ja) | 2006-09-26 | 2006-09-26 | 有機機能性素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4940857B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011165504A (ja) * | 2010-02-10 | 2011-08-25 | Toshiba Corp | 乾燥用冶具、乾燥装置、および乾燥方法 |
US20110300657A1 (en) * | 2009-03-09 | 2011-12-08 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Process for forming an electroactive layer |
JP2012519950A (ja) * | 2009-03-09 | 2012-08-30 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 電気活性層の形成方法 |
US8778708B2 (en) | 2009-03-06 | 2014-07-15 | E I Du Pont De Nemours And Company | Process for forming an electroactive layer |
CN104051674A (zh) * | 2013-03-14 | 2014-09-17 | 东京毅力科创株式会社 | 干燥装置及干燥处理方法 |
JP2014199806A (ja) * | 2013-03-14 | 2014-10-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 乾燥装置及び乾燥処理方法 |
KR20180036593A (ko) * | 2016-09-30 | 2018-04-09 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 감압 건조 장치 |
WO2018073366A1 (en) * | 2016-10-20 | 2018-04-26 | Flexenable Limited | Improving stability of thin film transistors |
WO2018203625A1 (ko) * | 2017-05-02 | 2018-11-08 | 주식회사 엘지화학 | 유기 태양 전지의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 유기 태양 전지 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07102087A (ja) * | 1993-10-04 | 1995-04-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 高複屈折ポリイミドフィルムの製造方法 |
JPH10195641A (ja) * | 1997-01-09 | 1998-07-28 | Ulvac Japan Ltd | 有機薄膜形成装置 |
JP2002246183A (ja) * | 2000-12-12 | 2002-08-30 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置及びその作製方法。 |
JP2003025549A (ja) * | 2001-07-23 | 2003-01-29 | Toppan Printing Co Ltd | 乾燥装置及び乾燥方法 |
JP2005016799A (ja) * | 2003-06-24 | 2005-01-20 | Dainippon Printing Co Ltd | 乾燥装置 |
JP2006252838A (ja) * | 2005-03-09 | 2006-09-21 | Seiko Epson Corp | 有機el装置、有機el装置の製造方法及び電子機器 |
-
2006
- 2006-09-26 JP JP2006260316A patent/JP4940857B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07102087A (ja) * | 1993-10-04 | 1995-04-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 高複屈折ポリイミドフィルムの製造方法 |
JPH10195641A (ja) * | 1997-01-09 | 1998-07-28 | Ulvac Japan Ltd | 有機薄膜形成装置 |
JP2002246183A (ja) * | 2000-12-12 | 2002-08-30 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置及びその作製方法。 |
JP2003025549A (ja) * | 2001-07-23 | 2003-01-29 | Toppan Printing Co Ltd | 乾燥装置及び乾燥方法 |
JP2005016799A (ja) * | 2003-06-24 | 2005-01-20 | Dainippon Printing Co Ltd | 乾燥装置 |
JP2006252838A (ja) * | 2005-03-09 | 2006-09-21 | Seiko Epson Corp | 有機el装置、有機el装置の製造方法及び電子機器 |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8778708B2 (en) | 2009-03-06 | 2014-07-15 | E I Du Pont De Nemours And Company | Process for forming an electroactive layer |
US9209397B2 (en) * | 2009-03-09 | 2015-12-08 | Dupont Displays Inc | Process for forming an electroactive layer |
JP2012519981A (ja) * | 2009-03-09 | 2012-08-30 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 電気活性層の形成方法 |
US20110300657A1 (en) * | 2009-03-09 | 2011-12-08 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Process for forming an electroactive layer |
JP2012519950A (ja) * | 2009-03-09 | 2012-08-30 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 電気活性層の形成方法 |
US9209398B2 (en) | 2009-03-09 | 2015-12-08 | E I Du Pont De Nemours And Company Dupont Displays Inc | Process for forming an electroactive layer |
JP2011165504A (ja) * | 2010-02-10 | 2011-08-25 | Toshiba Corp | 乾燥用冶具、乾燥装置、および乾燥方法 |
TWI657225B (zh) * | 2013-03-14 | 2019-04-21 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 乾燥裝置及乾燥處理方法(一) |
CN104051674A (zh) * | 2013-03-14 | 2014-09-17 | 东京毅力科创株式会社 | 干燥装置及干燥处理方法 |
JP2014199806A (ja) * | 2013-03-14 | 2014-10-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 乾燥装置及び乾燥処理方法 |
KR20180036593A (ko) * | 2016-09-30 | 2018-04-09 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 감압 건조 장치 |
KR102023817B1 (ko) | 2016-09-30 | 2019-11-04 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 감압 건조 장치 |
WO2018073366A1 (en) * | 2016-10-20 | 2018-04-26 | Flexenable Limited | Improving stability of thin film transistors |
CN109863613A (zh) * | 2016-10-20 | 2019-06-07 | 弗莱克因艾伯勒有限公司 | 改进薄膜晶体管的稳定性 |
CN109863613B (zh) * | 2016-10-20 | 2023-09-12 | 弗莱克英纳宝技术有限公司 | 从未封装堆叠层去除水的方法 |
WO2018203625A1 (ko) * | 2017-05-02 | 2018-11-08 | 주식회사 엘지화학 | 유기 태양 전지의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 유기 태양 전지 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4940857B2 (ja) | 2012-05-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4940857B2 (ja) | 有機機能性素子の製造方法 | |
JP4616596B2 (ja) | 電子装置の製造方法 | |
JP2009090637A (ja) | 有機機能層及び有機機能性素子の製造方法並びに有機機能性素子製造装置 | |
JP5417279B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子用溶液 | |
JP4882508B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
JP4992432B2 (ja) | 有機機能層及び有機機能性素子の製造方法並びに有機機能性素子製造装置 | |
JP2007273093A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法および有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
JP2007095343A (ja) | 印刷物の製造方法および印刷物 | |
JP4978133B2 (ja) | 有機el素子の製造方法 | |
US9209397B2 (en) | Process for forming an electroactive layer | |
KR20160021897A (ko) | 전기활성 층을 형성하기 위한 방법 | |
JP2010056364A (ja) | 有機発光素子 | |
JP2008226642A (ja) | 有機機能性薄膜熱処理装置および有機機能性素子の製造方法 | |
JP2008071608A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
JP2012204202A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンスパネル及びその製造方法 | |
JP4106953B2 (ja) | 有機el素子 | |
JP4984560B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
JP2007242816A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンスデバイス及びその製造方法 | |
JP2009277917A (ja) | 有機発光素子 | |
JP4788370B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
JP2009129567A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法および有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
JP4775118B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
JP6455126B2 (ja) | 有機el素子およびその製造方法 | |
JP6724294B2 (ja) | 有機電界発光素子用組成物、有機電界発光素子、表示装置及び照明装置 | |
KR20070070650A (ko) | 유기 발광 소자 및 이를 구비한 평판 표시 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090825 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100825 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110420 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110426 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110623 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110920 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111118 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120131 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120213 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150309 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |