JP2008083209A - 液晶装置及びその製造方法、並びに電子機器 - Google Patents
液晶装置及びその製造方法、並びに電子機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008083209A JP2008083209A JP2006261097A JP2006261097A JP2008083209A JP 2008083209 A JP2008083209 A JP 2008083209A JP 2006261097 A JP2006261097 A JP 2006261097A JP 2006261097 A JP2006261097 A JP 2006261097A JP 2008083209 A JP2008083209 A JP 2008083209A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- electrode
- crystal device
- substrate
- alignment film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 141
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 82
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 52
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 46
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 24
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 18
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 7
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 6
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 4
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 4
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 3
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 3
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 206010047571 Visual impairment Diseases 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
Images
Abstract
【解決手段】本発明の液晶装置は、液晶層を挟持して対向する第1基板及び第2基板と、第1基板の液晶層側に形成された第1電極と、絶縁膜13を介して第1電極上に形成された第2電極9と、絶縁膜13及び第2電極9を被覆する配向膜18とを備え、第2電極9は、基板面方向に延在するとともに延在方向の一方の端部を連結端9e、他方の端部を開放端9dとされた複数の帯状電極部9cと、複数の帯状電極部9cの各連結端9eをそれぞれ接続する連結部9aと、を有し、連結部9aに平行かつ隣接する配線6aが設けられ、連結部9aと配線6aとの間には、光が透過する領域が設けられ、配向膜18には、配線6aから連結端9eに向けた方向にラビング処理が施されている。
【選択図】図4
Description
特許文献2においては、低階調及び暗状態においてパネルに印加される電圧によって生じるラビングムラ及び残像を除去するように、偏光軸及びラビング軸の方向が所定の角度に規定された液晶装置が開示されている。
本発明の液晶装置は、液晶層を挟持して対向する第1基板及び第2基板と、前記第1基板の前記液晶層側に形成された第1電極と、絶縁膜を介して前記第1電極上に形成された前記第2電極と、前記絶縁膜及び前記第2電極を被覆する配向膜と、を備えた液晶装置であって、前記第2電極は、基板面方向に延在するとともに延在方向の一方の端部を連結端、他方の端部を開放端とされた複数の帯状電極部と、前記複数の帯状電極部の各前記連結端をそれぞれ接続する連結部と、を有し、前記連結部に平行かつ隣接する配線が設けられ、前記連結部と前記配線との間には光が透過する領域が設けられ、前記配向膜には、前記配線から前記連結端に向けた方向にラビング処理が施されていることを特徴としている。
ここで、第2電極の上面と絶縁膜の上面との間には、段差が形成されており、前記配向膜は、前記段差に倣うように形成された傾斜面を有している。
このようにすれば、連結端の近傍における配向膜の傾斜面に対して、当該傾斜面を下る方向にラビング処理が施される。この傾斜面において、液晶分子には、傾斜面から絶縁膜の上面に向けた方向(下向き方向)にプレチルトが付与される。従って、配線から電界が生じたとしても、液晶分子が立ち上がることを抑制することができる。これによって、配向不良の発生が抑制され、光漏れが防止され、高開口率化が実現された液晶装置を提供することができる。
また、本発明の液晶装置においては、前記連結部と前記配線との間は、光が透過する領域であり、換言すると、液晶装置を鉛直方向から見て連結部と配線との間の領域に重なる位置に、遮光層が形成されていない。
上記のように、連結部と配線との間においては、液晶分子が傾斜面を下る方向にラビング処理が施されていることによって、電界に起因する配向不良や光漏れが防止されている。そのため、遮光層を設ける必要がなくなり、連結部と配線との間の領域を光が透過する領域として利用することができる。そのため、遮光層を形成していない面積の分だけ、開口面積が大きくなる。従って、高開口率化を実現できることができる。
このようにすれば、所謂2ドメイン構造の液晶装置を実現できる。
このようにすれば、連結端の近傍における配向膜の傾斜面に対して、当該傾斜面を下る方向にラビング処理が施される。この傾斜面において、液晶分子には、傾斜面から絶縁膜の上面に向けた方向(下向き方向)にプレチルトが付与される。従って、配線から電界が生じたとしても、液晶分子が立ち上がることが抑制することができる。これによって、配向不良の発生が抑制され、光漏れが防止され、高開口率化が実現された液晶装置を提供することができる。
このようにすれば、ラビングロールを回転させながら、ラビングクロスを配向膜の傾斜面に確実に到達させることができ、配向膜の傾斜面にラビング処理を好適に施すことができる。
この構成によれば、高開口率化が実現された表示部を備えた電子機器を提供することができる。
以下、本発明の実施形態に係る液晶装置について図面を参照して説明する。
本実施形態の液晶装置は、液晶に対して基板面方向の電界(横電界)を作用させ、配向を制御することにより画像表示を行う横電界方式の液晶装置である。また、横電界方式の液晶装置の中でも本実施形態は、FFS(Fringe Field Switching)方式と呼ばれる方式を採用した液晶装置である。また、基板上にカラーフィルタを具備したカラー液晶装置である。このようなカラー液晶装置においては、R(赤)、G(緑)、B(青)の各色光を出射する3個のサブ画素によって1個の画素が構成されている。従って、本実施形態においては、表示を構成する最小単位となる表示領域を「サブ画素領域」と称し、一組(R,G,B)のサブ画素から構成される表示領域を「画素領域」と称する。
そして、スイッチング素子であるTFT30が走査信号G1、G2、…、Gmの入力により一定期間だけオン状態とされることで、データ線6aから供給される画像信号S1、S2、…、Snが所定のタイミングで画素電極9に書き込まれるようになっている。
画素電極9は、平面視において略櫛歯状に形成されている。共通電極19は、画素電極9と平面的に重なって配置され、紙面左右方向(X軸方向)に延在している。サブ画素領域の図示左上の端部の角部(或いは各サブ画素領域の間隙)には、TFTアレイ基板10と対向基板20とを所定間隔で離間した状態に保持するための柱状スペーサ40が立設されている。
なお、図2においては、走査線3aが延在する方向をX軸方向とし、データ線6aが延在する方向をY軸方向として定義している。
複数本の帯状電極9cは、連結部9aから、連結部9aのデータ線6a側のみ(連結部9aから+X方向の側のみ)に向けて延在している。なお、連結部9aのデータ線6aとは反対側(連結部9aから−X方向の側)には、帯状電極9cは形成されていない。
また、複数本の帯状電極9cは、図2中の走査線3aの延在方向(X軸方向)に延在する中心線(対称軸)CLに対して線対称に配置されている。
具体的に説明すると、中心線CLの走査線3a側(中心線CLから+Y方向の側)の領域に形成された複数の帯状電極9c(図示では6本)は、中心線CLに対して所定の鋭角で斜め方向に延在し、互いに平行に均等な間隔でY軸方向に配列されている。この領域に形成された複数の帯状電極9cは、本発明の第1帯状電極部群を構成している。
また、中心線CLの走査線3aとは反対側(中心線CLから−Y方向の側)の領域に形成された複数の帯状電極9c(図示では6本)は、中心線CLに対して所定の鋭角で斜め方向に延在し、互いに平行に均等な間隔でY軸方向に配列されている。この領域に形成された複数の帯状電極9cは、本発明の第2帯状電極部群を構成している。
また、画素電極9は、櫛歯状に形成されていることから、複数の帯状電極9cの各々は、櫛歯の先端に対応する開放端9dと、連結部9aに連結される連結端9eと、を有している。
連結部9aは、サブ画素領域において、データ線6aが形成されている領域の反対側の領域に形成されて、Y軸方向に延在している。また、連結部9aは、複数の帯状電極9cの連結端9eと接続されている。
このような画素電極9を有するサブ画素領域においては、中心線CLの走査線3a側(中心線CLから+Y方向の側)の領域に形成された複数の帯状電極9cは、中心線CLに対して所定の鋭角で傾斜し、延在している。また、中心線CLの走査線3aとは反対側(中心線CLから−Y方向の側)の領域に形成された複数の帯状電極9cは、中心線CLの走査線3a側の帯状電極9cとは、傾斜方向が異なるものの、同じ鋭角で傾斜して延在している。このような複数の帯状電極9cを備えるサブ画素領域は、各領域において液晶を駆動させることが可能な所謂2ドメイン構造を有している。
液晶層50は、TFTアレイ基板10と対向基板20とが対向する領域の縁端に沿って設けられたシール材(図示略)によって前記両基板10,20間に封止されている。TFTアレイ基板10の外面側(液晶層50が配置されている側の反対側)には、偏光板14が設けられ、対向基板20の外面側には偏光板24が設けられている。TFTアレイ基板10の背面側(図示下面側)には、光源と導光板91と反射板92とを具備したバックライト(照明装置)90が設けられている。
なお、CF層22は、TFTアレイ基板10側に形成してもよい。
また、CF層22及び遮光層BMを覆うようにして、ポリイミドからなる第2配向膜28が形成されている。第2配向膜28には、後述する第1配向膜18のラビング方向とは反対方向のラビング処理が施されている。即ち、第1配向膜18には、連結部9aから隣接するサブ画素のデータ線6aの側(連結部9aから−X方向の側)に向けてラビング処理が施されているのに対し、第2配向膜28には、その反対方向にラビング処理が施されている。
図4(b)に示すように、第1配向膜18は、層間絶縁膜13の上面13aと、連結部9aの上面、及び連結部9aの側面(斜面)に倣って形成されている。そのため、第1配向膜18は、連結部9aの側方に形成された傾斜面18aを有している。当該傾斜面18aは、図4(a)の符号Cに示す領域(光が透過する領域)に形成されている。
なお、図4(b)においては、層間絶縁膜13,画素電極9,第1配光膜18,及びデータ線6aのみを示している。他の構成要素は、図3の断面図に示した通りであるため、図4(b)においては省略している。
なお、傾斜面18aは、帯状電極9cの開放端9dの近傍においても形成されている。
TFTアレイ基板10側の偏光板14の透過軸と、対向基板20側の偏光板24の透過軸とが互いに直交するように配置されており、偏光板24の透過軸が、第1配向膜18のラビング方向と平行である。また、第1配向膜18のラビング方向は、画素電極9と共通電極19との間に生じる電界の主方向(帯状電極9cの延在方向と直交する方向)と略交差する方向とする。そして、初期状態ではラビング方向に沿って平行配向している液晶が、画素電極9と共通電極19との間への電圧印加によって、上記電界の主方向側へ回転して配向する。この初期配向状態と電圧印加時の配向状態との差異に基づいて明暗表示が成されるようになっている。
図4(b)に示すように、データ線6aの周辺には、符号Eに示す電界が生じる。この電界Eの発生により、第1配向膜18上の液晶分子には、プレチルト角よりも大きな角度で立ち上がる力が生じてしまう。特に、傾斜面18aのおける液晶分子は、電界Eによる影響力が大きく作用する(図6参照)。そのため、液晶分子の立ち上がりによって、配向不良が生じ、バックライト90の照明光が漏れてしまう。このような光漏れは、図4(a)の領域Cにおいて生じるため、これを防止するために遮光層を対向基板20に設ける必要があった。
そのため、傾斜面18aから液晶分子が立ち上がる角度でプレチルトが付与されている場合と比較して、データ線6aの電界Eの影響力が小さくなり、液晶分子が立ち上がってしまうことが防止される。従って、配向不良が抑制され、バックライト90の照明光の光漏れを防止することができ、高開口率化を実現することできる。
また、データ線6aの電界Eが生じても、配向不良の抑制、光漏れの防止が実現されるので、遮光層を設ける必要がなくなる。従って、領域Cを光が透過する領域として利用することができる。即ち、遮光層が不要になる面積の分だけ高開口率化を実現することできる。
次に、図5及び図6を参照して本実施形態の液晶装置の製造方法について説明する。
図5は、液晶装置100のうち、第1配向膜18をラビング処理する工程を示す断面図であって、図4(a)のB−B線に沿う部分断面図である。
図6は、本発明の実施形態とは反対方向にラビング処理を行った場合を示す図である。
図5に示すように、層間絶縁膜13上に画素電極9を形成する。画素電極9の形成方法は、層間絶縁膜13の全面にITO等の透明導電材料を成膜法によって形成した後に、公知のフォトリソグラフィ技術を用いて成膜された透明導電膜をパターニングする。これによって、画素電極9には、上記平面形状の連結部9a及び帯状電極9cが形成される。また、透明導電膜が除去された部分には、層間絶縁膜13が露出する。
なお、透明導電材料の成膜工程においては、層間絶縁膜13に対して、予め形成された画素コンタクトホール45に透明導電材料が埋設され、画素電極9のコンタクト部9bが形成される。
第1配向膜18の形成方法としては、ポリアミック酸を脱水して閉環することによりポリイミド膜を形成する方法、又は可溶性ポリイミド溶液の溶媒を蒸発させることによってポリイミド膜を形成する方法を用いることができる。具体的な形成方法として、例えば、ポリアミック酸又は可溶性ポリイミドを含む配向膜形成材料を基板上に印刷法やスピンコート法を用いて塗布した後、仮焼成工程、及び本焼成工程を経てポリイミド膜を形成する方法が挙げられる。
本実施形態では、図4(a)にて説明したように帯状電極9cの連結端9eから、連結部9aに隣接するデータ線6aに向けた方向にラビング処理を施している。また、ラビング処理の際には、ラビングロール80と第1配向膜18とが接触する位置において、ラビングロール80の回転方向61と、ラビングロール80に対するTFTアレイ基板10の相対移動方向62とを同じ方向にしている。これによって、ラビングロール80を回転させながら、ラビングクロス81の毛を第1配向膜18の傾斜面18aに確実に到達させることが可能になり、第1配向膜18の傾斜面18aにラビング処理を施すことができる。
これに対して、連結部9aに隣接するデータ線6aから帯状電極9cの連結端9eに向けた方向にラビング処理が施された場合、即ち、図6に示すように第1配向膜18に対して符号63に示す回転方向にラビング処理を施された場合では、図4(b)に示したようなプレチルトを液晶分子に付与することはできない。図6に示す場合では、第1配向膜18の傾斜面18aにおける液晶分子は、傾斜面18aの上り方向に向けてプレチルトが付与される。換言すると、傾斜面18aにおける液晶分子は、傾斜面18aから第1配向膜18の上面方向(上向き方向)にプレチルトが付与される。この場合では、データ線6aの電界Eの影響を受け易くなり、液晶分子が立ち上がってしまう。従って、配向不良が生じ、バックライト90の照明光の光漏れが生じ、高開口率化を実現することができなくなる。また、この場合では、照明光の光漏れを防止するために、遮光層を設ける必要があるが、遮光層を設ける面積の分だけ開口率が低下してしまう。
図7は、本発明に係る電子機器の一例を示す斜視図である。図7に示す携帯電話1300は、本発明の液晶装置を小サイズの表示部1301として備え、複数の操作ボタン1302、受話口1303、及び送話口1304を備えて構成されている。これにより、本発明の液晶装置により構成された表示品質に優れる表示部を具備した携帯電話1300を提供することができる。
Claims (7)
- 液晶層を挟持して対向する第1基板及び第2基板と、前記第1基板の前記液晶層側に形成された第1電極と、絶縁膜を介して前記第1電極上に形成された前記第2電極と、前記絶縁膜及び前記第2電極を被覆する配向膜と、を備えた液晶装置であって、
前記第2電極は、
基板面方向に延在するとともに延在方向の一方の端部を連結端、他方の端部を開放端とされた複数の帯状電極部と、
前記複数の帯状電極部の各前記連結端をそれぞれ接続する連結部と、を有し、
前記連結部に平行かつ隣接する配線が設けられ、
前記連結部と前記配線との間には、光が透過する領域が設けられ、
前記配向膜には、前記配線から前記連結端に向けた方向にラビング処理が施されていることを特徴とする液晶装置。 - 請求項1に記載の液晶装置であって、
前記第2電極の上面と前記絶縁膜の上面との間には、段差が形成されており、
前記配向膜は、前記段差に倣うように形成された傾斜面を有することを特徴とする液晶装置。 - 請求項1又は請求項2に記載の液晶装置であって、
前記第2電極は、平面視で線対称に配置された第1帯状電極部群及び第2帯状電極部群を有することを特徴とする液晶装置。 - 請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の液晶装置であって、
前記配向膜にラビング処理が施される方向は、
前記第1帯状電極部群及び前記第2帯状電極部群における対称軸に平行であることを特徴とする液晶装置。 - 液晶層を挟持して対向する第1基板及び第2基板と、前記第1基板の前記液晶層側に形成された第1電極と、絶縁膜を介して前記第1電極上に形成された前記第2電極と、前記絶縁膜及び前記第2電極を被覆する配向膜と、を備えた液晶装置の製造方法であって、
基板面方向に延在するとともに延在方向の一方の端部を連結端、他方の端部を開放端とされた複数の帯状電極部と、前記複数の帯状電極部の各前記連結端をそれぞれ接続する連結部とを有する第2電極を形成する工程と、
前記連結部に平行かつ隣接する位置に配線を形成することによって、前記連結部と前記配線との間に光が透過する領域を設ける工程と、
前記配向膜に対し、前記配線から前記連結端に向けた方向にラビング処理を施す工程と、
を有することを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 請求項5に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記第1基板と、前記ラビング処理に用いられるラビングロールとの接触位置において、前記第1基板の移動方向と、前記ラビングロールの回転方向とが同じであることを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006261097A JP5175043B2 (ja) | 2006-09-26 | 2006-09-26 | 液晶装置及びその製造方法、並びに電子機器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006261097A JP5175043B2 (ja) | 2006-09-26 | 2006-09-26 | 液晶装置及びその製造方法、並びに電子機器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008083209A true JP2008083209A (ja) | 2008-04-10 |
JP5175043B2 JP5175043B2 (ja) | 2013-04-03 |
Family
ID=39354176
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006261097A Active JP5175043B2 (ja) | 2006-09-26 | 2006-09-26 | 液晶装置及びその製造方法、並びに電子機器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5175043B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020082685A1 (en) * | 2018-10-25 | 2020-04-30 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Array substrate and display apparatus |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1130778A (ja) * | 1997-07-14 | 1999-02-02 | Mitsubishi Electric Corp | 液晶表示装置 |
JPH11202356A (ja) * | 1997-12-29 | 1999-07-30 | Hyundai Electron Ind Co Ltd | 高透過率と高開口率を有する液晶表示装置及びその製造 方法 |
JP2005148602A (ja) * | 2003-11-19 | 2005-06-09 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
JP2005309052A (ja) * | 2004-04-21 | 2005-11-04 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
-
2006
- 2006-09-26 JP JP2006261097A patent/JP5175043B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1130778A (ja) * | 1997-07-14 | 1999-02-02 | Mitsubishi Electric Corp | 液晶表示装置 |
JPH11202356A (ja) * | 1997-12-29 | 1999-07-30 | Hyundai Electron Ind Co Ltd | 高透過率と高開口率を有する液晶表示装置及びその製造 方法 |
JP2005148602A (ja) * | 2003-11-19 | 2005-06-09 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
JP2005309052A (ja) * | 2004-04-21 | 2005-11-04 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020082685A1 (en) * | 2018-10-25 | 2020-04-30 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Array substrate and display apparatus |
US11520192B2 (en) | 2018-10-25 | 2022-12-06 | Chongqing Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Array substrate and display apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5175043B2 (ja) | 2013-04-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5246782B2 (ja) | 液晶装置および電子機器 | |
JP5121529B2 (ja) | 液晶表示装置及び電子機器 | |
JP4169035B2 (ja) | 液晶装置及び電子機器 | |
US20070279567A1 (en) | Liquid crystal device and electronic apparatus | |
JP5612399B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2007017943A (ja) | 液晶装置及び電子機器 | |
JP2007058007A (ja) | 液晶装置および電子機器 | |
KR101526262B1 (ko) | 액정 표시 장치 및 전자 기기 | |
JP5164672B2 (ja) | 液晶表示装置、電子機器 | |
WO2010131552A1 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP5175133B2 (ja) | 液晶装置及び電子機器 | |
JP2008209858A (ja) | 液晶装置、及び電子機器 | |
US7551253B2 (en) | Liquid crystal device, method for manufacturing the same, and electronic apparatus | |
JP2008180952A (ja) | 液晶装置及び電子機器 | |
JP4887745B2 (ja) | 液晶装置及び電子機器 | |
KR101350260B1 (ko) | 횡전계방식 액정표시장치 및 그 제조방법 | |
JP4905011B2 (ja) | 液晶装置、及び電子機器 | |
JP4952158B2 (ja) | 液晶装置の製造方法 | |
TWI402584B (zh) | 影像顯示系統 | |
JP2006337888A (ja) | 液晶装置及び電子機器 | |
JP5175043B2 (ja) | 液晶装置及びその製造方法、並びに電子機器 | |
JP5397982B2 (ja) | 液晶表示装置及び電子機器 | |
JP5127517B2 (ja) | 液晶表示装置及び電子機器 | |
JP4802752B2 (ja) | 液晶装置及び電子機器 | |
JP2008197129A (ja) | 液晶装置及び電子機器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090717 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20100526 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20100526 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100630 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110907 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111129 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120123 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20120330 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120605 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120730 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121211 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130104 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5175043 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |