JP2008081820A - Film deposition system - Google Patents

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Hideaki Awata
英章 粟田
Katsuji Emura
勝治 江村
Kentaro Yoshida
健太郎 吉田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film deposition system capable of suppressing generation of wrinkles of a base sheet attributable to the thermal expansion caused by the temperature rising during the film deposition. <P>SOLUTION: The film deposition system 10 comprises: a gas particle generation unit 13 for generating vapor of lithium or the like to perform the vacuum vapor deposition; a roll 33 being a conveying and supporting member for movably supporting the base sheet 31 with gas particles deposited thereon; a deposition preventive plate 36 for limiting the flight of the gas particles; and a lamp heater 40 for heating the base sheet 31 before the base sheet 31 is brought into contact with the roll 33. The occurrence of wrinkles of the base sheet 31 on the roll 33 is suppressed by heating and thermally expanding the base sheet 31 by the lamp heater 40 before the base sheet 31 is heated by a heating mechanism of the gas particles and the gas particle generation unit 13. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、金属,金属酸化物,金属窒化物など、無機材料の膜を成膜するための成膜装置に係り、特に成膜作業の円滑化対策に関する。   The present invention relates to a film forming apparatus for forming a film of an inorganic material such as a metal, a metal oxide, or a metal nitride, and more particularly to measures for facilitating the film forming operation.

近年、金属,金属酸化物,金属窒化物など、機能性の無機材料からなる膜を基材シート上に形成した部品を利用した製品が増大しており、従来から汎用されている磁気テープだけでなく、正極膜やリチウム金属膜を円筒状に巻き付けた構造を有するリチウム二次電池などの製品の開発が進められている。例えば、リチウム金属を負極材質とするリチウム二次電池は、重量当たりおよび体積当たり共に、高いエネルギー密度を実現することができ、携帯電話の高度化,ノートパソコン,PDA等のモバイル機器の進展に伴い、電池の高密度化に対応しうるものである。このような製品の製造工程において、金属を含む材料の膜を基材シート上に形成する工程は特に重要な工程であり、従来より、種々の提案がなされている。   In recent years, the number of products that use parts made of base material sheets with films made of functional inorganic materials such as metals, metal oxides, and metal nitrides has been increasing. Development of products such as lithium secondary batteries having a structure in which a positive electrode film or a lithium metal film is wound in a cylindrical shape is underway. For example, lithium secondary batteries that use lithium metal as the negative electrode material can achieve high energy density per unit weight and per unit volume. With the advancement of mobile phones, mobile devices such as notebook computers and PDAs, etc. It is possible to cope with higher density of batteries. In such a product manufacturing process, a process of forming a film of a material containing a metal on a base sheet is a particularly important process, and various proposals have been made conventionally.

特許文献1および特許文献2には、PETシート、金属箔などの基材上に薄膜を成膜するための成膜装置として、成膜装置のキャンロールの径を中央部で大径に両端部で小径に、つまり、太鼓状(クラウン状)にしたものが知られている。
特開平7−065373号公報 特開平10−008249号公報
In Patent Document 1 and Patent Document 2, as a film forming apparatus for forming a thin film on a substrate such as a PET sheet or a metal foil, the diameter of the can roll of the film forming apparatus is large at the center portion and both end portions. A small diameter, that is, a drum shape (crown shape) is known.
JP-A-7-065373 JP-A-10-008249

PETシートなどの基材シート上に薄膜を堆積させる場合、真空加熱などによって高温になった気体粒子が、基材シート上に堆積されるので、高温の堆積物と基材シートとの温度差などによって、基材シートにしわが発生するおそれがあった。すなわち、基材シートは、キャンロールと接触した時点で、キャンロールとの接触により抗力を受けるので、膨張しようとしても、摩擦力によって基材シートの幅方向への移動を制限されるからである。しわの部分では、堆積される薄膜の厚みにばらつきが生じるので、製品不良を発生するおそれがある。特に、基材シートが銅箔などの無機材料からなる場合には、しわが塑性変形として残存するという不具合もある。   When depositing a thin film on a base sheet such as a PET sheet, gas particles that have become hot due to vacuum heating or the like are deposited on the base sheet, so the temperature difference between the hot deposit and the base sheet, etc. As a result, wrinkles may occur in the base sheet. That is, when the base sheet is in contact with the can roll, the base sheet receives a drag due to the contact with the can roll. Therefore, even if trying to expand, the movement of the base sheet in the width direction is limited by the frictional force. . In the wrinkled portion, the thickness of the deposited thin film varies, which may cause a product defect. In particular, when the base sheet is made of an inorganic material such as copper foil, there is a problem that wrinkles remain as plastic deformation.

特許文献1には、しわが発生しやすいPETシートの中央部に対応するキャンロールの中央部を大径にすることで、接触面積を増大させ、冷却効率を高めて、熱膨張を抑制することにより、しわの発生を防止することが開示されている(段落[0007]参照)。しかし、この考え方は、柔軟性が小さい金属箔等の基材シートには当てはまらない。一方、特許文献2には、PETシートに比べて柔軟性が小さい金属箔を用いる場合、クラウン状のキャンロールの両端部では、金属箔とキャンロールとの接触度合いを弱めさせることで、基材シートが幅方向に滑りやすくなり、しわの発生を抑制することができる旨、記載されている(段落[0008]参照)。   In Patent Document 1, by increasing the diameter of the central portion of the can roll corresponding to the central portion of the PET sheet where wrinkles are likely to occur, the contact area is increased, cooling efficiency is increased, and thermal expansion is suppressed. Is disclosed to prevent the generation of wrinkles (see paragraph [0007]). However, this concept does not apply to a base sheet such as a metal foil with low flexibility. On the other hand, in Patent Document 2, when using a metal foil that is less flexible than a PET sheet, at both ends of the crown-shaped can roll, the degree of contact between the metal foil and the can roll is weakened, whereby the substrate It is described that the sheet can easily slide in the width direction and wrinkle generation can be suppressed (see paragraph [0008]).

しかしながら、特許文献2の技術を用いても、キャンロールをクラウン状にすることで、柔軟性が小さい基材シートの中央部にキャンロールから受ける抗力が集中する結果、基材シートの熱膨張による移動を妨げる摩擦力も大きくなる。その結果、しわの発生が増長される一面もあり、特許文献2の技術によって、しわの発生を確実に防止することは困難であった。   However, even if the technique of Patent Document 2 is used, by forming the can roll into a crown shape, the drag received from the can roll concentrates on the central portion of the base sheet with low flexibility, resulting in thermal expansion of the base sheet. The frictional force that hinders movement also increases. As a result, there is one aspect in which the generation of wrinkles is increased, and it has been difficult to reliably prevent the generation of wrinkles by the technique of Patent Document 2.

本発明の目的は、しわの発生原因が基材シートがキャンロールなどに接触した後の熱膨張にある点に着目し、基材シートの搬送支持部材に接触する前後における温度差を低減する手段を講ずることにより、しわの発生を抑制しうる成膜装置および成膜方法を提供することにある。   An object of the present invention is to reduce the temperature difference between before and after the base sheet is brought into contact with the conveyance support member, focusing on the fact that the cause of wrinkles is the thermal expansion after the base sheet comes into contact with the can roll or the like. It is an object of the present invention to provide a film forming apparatus and a film forming method capable of suppressing the generation of wrinkles.

本発明の成膜装置は、キャンロールなどの搬送支持部材に基材シートが接触する前の領域において、基材シートを加熱する加熱装置を備えている。   The film forming apparatus of the present invention includes a heating device that heats the base sheet in a region before the base sheet contacts a conveyance support member such as a can roll.

これにより、基材シートが加熱され、熱膨張してから搬送支持部材に接触するので、搬送支持部材上で気体粒子などによって加熱されたときの熱膨張が小さくなり、搬送支持部材上での熱膨張に起因するしわの発生を抑制することができる。   As a result, since the base sheet is heated and thermally expanded and then comes into contact with the transport support member, the thermal expansion when heated by gas particles or the like on the transport support member is reduced, and the heat on the transport support member is reduced. The generation of wrinkles due to expansion can be suppressed.

本発明の成膜装置が、以下の限定事項を有していることにより、さらに付加的な効果を得ることができる。   Since the film forming apparatus of the present invention has the following limitations, additional effects can be obtained.

加熱装置による基材シートの加熱温度が、搬送支持部材と接触している部位における基材シートの温度±10°Cの範囲であることにより、基材シートが搬送支持部材に接触する前後における温度差が小さくなることで、基材シートのしわの発生を確実に抑制することができる。   The temperature before and after the base sheet comes into contact with the transport support member because the heating temperature of the base sheet by the heating device is within the range of the temperature of the base sheet at the portion in contact with the transport support member ± 10 ° C. Generation | occurrence | production of the wrinkle of a base material sheet can be reliably suppressed because a difference becomes small.

加熱装置による基材シートの加熱領域が、基材シートの搬送支持部材との接触領域を含んでいることにより、基材シートの温度を気体粒子が堆積されるまでできるだけ高く維持することができる。   Since the heating region of the base sheet by the heating device includes the contact region of the base sheet with the conveyance support member, the temperature of the base sheet can be maintained as high as possible until gas particles are deposited.

気体粒子生成部と搬送支持部材との間に、防着板を設け、加熱装置が防着板を挟んで気体粒子生成部に対向する側に設置されていることにより、防着板によって気体粒子生成部からの気体粒子の堆積領域を制限しつつ、基材シートのしわの発生を抑制することができる。   An adhesion preventing plate is provided between the gas particle generating unit and the conveyance support member, and the heating device is installed on the side facing the gas particle generating unit with the adhesion preventing plate interposed therebetween. Generation | occurrence | production of the wrinkle of a base material sheet can be suppressed, restrict | limiting the accumulation area | region of the gas particle from a production | generation part.

本発明のl成膜方法は、気体粒子が堆積される基材シートを、張力を与えつつ搬送支持部材上に連続供給するとともに、基材シートを搬送支持部材に接触する前に加熱する方法であって、この方法により、上述の作用を生じさせて、基材シートのしわの発生を抑制することができる。   The l film-forming method of the present invention is a method in which a base sheet on which gas particles are deposited is continuously supplied onto a transport support member while applying tension, and the base sheet is heated before contacting the transport support member. And by this method, the above-mentioned effect can be produced and generation of wrinkles of the base sheet can be suppressed.

本発明の成膜装置または成膜方法によると、無機材料が堆積される基材シートのしわの発生を抑制することができる。   According to the film forming apparatus or the film forming method of the present invention, it is possible to suppress the generation of wrinkles on the base material sheet on which the inorganic material is deposited.

(実施の形態)
図1は、本発明の実施の形態における成膜装置10内の要部を模式的に示す側面図である。同図に示すように、本実施の形態の成膜装置10は、真空チャンバー11と、真空チャンバー11の床面上に取り付けられたタングステン製のボート等を有する気体粒子生成部13と、チャンバー11の上部に配置された成膜部14と、排気管22によって真空チャンバー11に接続される真空ポンプ21とを備えている。気体粒子生成部13と成膜部14との間は、防着板36によって仕切られており、防着板36により、気体粒子生成部13で生成された気体粒子(本実施の形態では、Si合金の蒸気)の成膜部14への通過範囲が制限されている。つまり、本実施の形態においては、真空蒸着法により基材シート31上に成膜する場合を例に採っている。ただし、本発明は、必ずしも真空蒸着法に限定されず、高温で気体粒子を生成して、基材シート上に堆積させる成膜技術一般に適用することができる。
(Embodiment)
FIG. 1 is a side view schematically showing a main part in a film forming apparatus 10 according to an embodiment of the present invention. As shown in the figure, the film forming apparatus 10 according to the present embodiment includes a vacuum chamber 11, a gas particle generation unit 13 having a tungsten boat attached to the floor of the vacuum chamber 11, and the chamber 11. And a vacuum pump 21 connected to the vacuum chamber 11 by an exhaust pipe 22. The gas particle generating unit 13 and the film forming unit 14 are partitioned by an adhesion preventing plate 36. The gas particles generated by the gas particle generating unit 13 by the deposition preventing plate 36 (in this embodiment, Si The passage range of the alloy vapor) to the film forming section 14 is limited. That is, in this Embodiment, the case where it forms into a film on the base material sheet 31 by the vacuum evaporation method is taken as an example. However, the present invention is not necessarily limited to the vacuum evaporation method, and can be generally applied to a film forming technique in which gas particles are generated at a high temperature and deposited on a base sheet.

詳細は図示されていないが、気体粒子生成部13には、周知の抵抗加熱機構によって加熱されるSi合金のインゴットが配置されている。本実施の形態では、リチウムイオン二次電池の負極材料として用いられるSi合金膜35が、銅箔である基材シート31の上に形成される。基材シート31の厚さは、約0.01〜0.03mmであり、Si合金膜35の厚さは、約3〜10μmである。基材シート31は、リチウムイオン電池に用いられる場合は、銅箔,ITOフィルムなどの導体シートであるが、堆積される膜の種類によっては、必ずしも導体シートに限定されるものではない。Si合金の組成は、Siが75wt%で、Fe,Ni,Coのうち、いずれか1つ、またはこれらの合計が25wt%である。   Although not shown in detail, the gas particle generator 13 is provided with an Si alloy ingot heated by a known resistance heating mechanism. In the present embodiment, the Si alloy film 35 used as the negative electrode material of the lithium ion secondary battery is formed on the base sheet 31 that is a copper foil. The thickness of the base sheet 31 is about 0.01 to 0.03 mm, and the thickness of the Si alloy film 35 is about 3 to 10 μm. The substrate sheet 31 is a conductor sheet such as a copper foil or an ITO film when used in a lithium ion battery, but is not necessarily limited to a conductor sheet depending on the type of film to be deposited. The composition of the Si alloy is that Si is 75 wt%, and any one of Fe, Ni, and Co, or the total of these is 25 wt%.

また、成膜部14には、基材シート31を巻き付けたシート供給ロール32と、シート供給ロール32から送られる基材シート31を移動可能に支持する搬送支持部材であるキャンロール33と、成膜された基材シート31を巻き取る巻き取りロール34とが配置されている。図示されていないが、上記各ロール32,33,34の軸は、真空チャンバー11の天井面に固定されている。また、図示しないが、キャンロール33は内部を通過する冷却水により冷却されている。この例では、供給ロール32の制動力と巻き取りロール34の回転駆動力によって基材シート31に張力を付与している。キャンロール33は、クラウン状ではなく、ほぼ直円筒状である。ただし、キャンロール33の端部に極めて近い部分だけ小径にするなど、大きな応力集中が生じない範囲でクラウン状にしてもよいものとする。   The film forming unit 14 includes a sheet supply roll 32 around which the base sheet 31 is wound, a can roll 33 that is a transport support member that movably supports the base sheet 31 fed from the sheet supply roll 32, and a film forming unit 14. A winding roll 34 for winding the filmed base sheet 31 is disposed. Although not shown, the axes of the rolls 32, 33, and 34 are fixed to the ceiling surface of the vacuum chamber 11. Although not shown, the can roll 33 is cooled by cooling water passing through the inside. In this example, tension is applied to the base material sheet 31 by the braking force of the supply roll 32 and the rotational driving force of the take-up roll 34. The can roll 33 is not a crown shape but a substantially right cylindrical shape. However, a crown shape may be used within a range in which a large stress concentration does not occur, for example, only a portion extremely close to the end portion of the can roll 33 is reduced in diameter.

上記防着板36は、キャンロール33の下方に位置する領域に形成された開口を有している。気体粒子生成部13で生成されたSi合金の蒸気は、広い範囲に飛散するが、開口を通った気体粒子だけが基材シート31に到達する。したがって、連続して送られる基材シート31の上には、図1の破線ハッチングに示す堆積領域Rdp内に位置している間に気体粒子が堆積される。   The deposition preventing plate 36 has an opening formed in a region located below the can roll 33. Although the vapor | steam of Si alloy produced | generated in the gas particle production | generation part 13 is scattered in a wide range, only the gas particle which passed the opening reaches | attains the base material sheet 31. FIG. Therefore, gas particles are deposited on the continuously fed base sheet 31 while it is located within the deposition region Rdp shown by the broken line hatching in FIG.

基材シート31は、リチウム二次電池の負極基材となる銅または銅合金によって構成されている。そして、堆積領域Rdpにおいて、基材シート31の下面上に、Si合金の蒸気が付着し、固化・堆積して、リチウムイオン二次電池の負極材となるSi合金膜35が形成される。堆積領域Rdpは、原則として、基材シート31がキャンロール33に接触している領域内に限られる。基材シート31がキャンロール33に接触していない領域において、成膜すると、膜の厚さのばらつきが大きくなったり、しわを生じたりするおそれがあるからである。   The base material sheet 31 is made of copper or a copper alloy serving as a negative electrode base material for a lithium secondary battery. In the deposition region Rdp, Si alloy vapor adheres to the lower surface of the base sheet 31 and solidifies and deposits to form a Si alloy film 35 that becomes a negative electrode material of the lithium ion secondary battery. In principle, the deposition region Rdp is limited to the region where the base sheet 31 is in contact with the can roll 33. This is because when the film is formed in the region where the base sheet 31 is not in contact with the can roll 33, the variation in the thickness of the film may increase or wrinkles may occur.

また、本実施の形態では、基材シート31を加熱するためのランプヒータ40を備えている。ランプヒータ40は、防着板36を挟んで気体粒子生成部13と対向する側、つまり、成膜部14に配置されている。そして、連続的に送られる基材シート31は、図1の破線ハッチングにで示す加熱領域Rhtにおいて、ランプヒータ40からの輻射により加熱される。本実施の形態では、加熱領域Rhtは、基材シート31がキャンロール33に最初に接触する(点P1)よりも前の領域を必ず含んでおり、本実施の形態では、さらに点P1を超えたキャンロール33との接触領域まで含んでいる。   Moreover, in this Embodiment, the lamp heater 40 for heating the base material sheet 31 is provided. The lamp heater 40 is arranged on the side facing the gas particle generating unit 13 with the deposition preventing plate 36 interposed therebetween, that is, on the film forming unit 14. And the base material sheet 31 sent continuously is heated by the radiation from the lamp heater 40 in the heating area | region Rht shown by the broken-line hatching of FIG. In the present embodiment, the heating region Rht always includes a region before the base sheet 31 first contacts the can roll 33 (point P1). In the present embodiment, the heating region Rht further exceeds the point P1. The contact area with the can roll 33 is included.

本実施の形態によると、ランプヒータ40により、連続的に送られる基材シート31を、キャンロール33に接触する前の領域で加熱するようにしているので、基材シート31が予熱されて熱膨張しつつキャンロール33に接触する。したがって、堆積領域Rdpにおいて、基材シート31が、気体粒子生成部13の抵抗加熱機構や、気体粒子(本実施の形態では、Si合金の蒸気)によって加熱されても、キャンロール33と接触している間において、大きな熱膨張を生じることがないので、基材シート31の熱膨張に起因するしわの発生を抑制することができる。   According to the present embodiment, the base sheet 31 that is continuously fed by the lamp heater 40 is heated in the region before contacting the can roll 33, so that the base sheet 31 is preheated and heated. It contacts the can roll 33 while expanding. Therefore, in the deposition region Rdp, even if the base sheet 31 is heated by the resistance heating mechanism of the gas particle generation unit 13 or gas particles (Si alloy vapor in the present embodiment), the base sheet 31 contacts the can roll 33. In the meantime, since the large thermal expansion does not occur, the generation of wrinkles due to the thermal expansion of the base sheet 31 can be suppressed.

本実施の形態では、ランプヒータ40による加熱温度を、堆積領域Rdpにおける基材シート31の温度±50°Cの範囲に設定している。たとえば、堆積領域Rdpにおける温度は、約350°C程度であり、予熱温度の設定値は約300°Cである。これにより、堆積領域Rdpにおける温度と予熱温度との温度差を小さくできるので、しわの発生を確実に抑制することができる。ただし、ランプヒータ40による加熱温度が、堆積領域Rdpにおける基材シート31の温度±100°Cの範囲であれば、基材シートの送り速度、張力などの条件によっては、しわの発生を抑制することができる。   In the present embodiment, the heating temperature by the lamp heater 40 is set in the range of the temperature ± 50 ° C. of the base sheet 31 in the deposition region Rdp. For example, the temperature in the deposition region Rdp is about 350 ° C., and the set value of the preheating temperature is about 300 ° C. Thereby, since the temperature difference between the temperature in the deposition region Rdp and the preheating temperature can be reduced, the generation of wrinkles can be reliably suppressed. However, if the heating temperature by the lamp heater 40 is in the range of the temperature of the base sheet 31 in the deposition region Rdp ± 100 ° C., the generation of wrinkles is suppressed depending on conditions such as the feed speed and tension of the base sheet. be able to.

特に、本実施形態では、加熱領域Rhtが基材シート31がキャンロール33に接触する点P1よりも先の領域も含んでいるので、予熱による基材シート31の温度上昇をより確実に持続できる利点がある。   In particular, in the present embodiment, since the heating region Rht includes a region ahead of the point P1 where the base sheet 31 contacts the can roll 33, the temperature rise of the base sheet 31 due to preheating can be more reliably sustained. There are advantages.

図2は、ヒータにより基材シートを予熱しつつ、基材シート31上にSi合金膜35を形成した実施例サンプルの表面のうねりであるウェービネス(μm)を示している。図中点線位置は、ウェービネスの基準値を決定した位置である。このデータは、表面粗さ計(商品名DETEK)により測定したものである。図中に存在する大きな凹みは、測定時におけるサンプル固定時の誤差であり、ウェービネスを示すものではない。つまり、実施の形態のサンプルでは、ウェービネスが5μm以内に抑制されていることができる。   FIG. 2 shows the waveness (μm) which is the undulation of the surface of the example sample in which the Si alloy film 35 is formed on the base sheet 31 while preheating the base sheet with a heater. The dotted line position in the figure is the position at which the reference value of the webiness is determined. This data was measured with a surface roughness meter (trade name DETEK). The large dent present in the figure is an error when fixing the sample during measurement, and does not indicate waving. That is, in the sample of the embodiment, the webiness can be suppressed within 5 μm.

図3は、ヒータによる予熱を行わずに、基材シート31上にSi合金膜35を堆積した比較例サンプルの表面のウェービネス(μm)を示している。図3に示すように、ヒータによる予熱を行わない比較例サンプルでは、しわが塑性変形した結果のウェービネスを抑制することができず、ウェービネスが約40μmに達していることがわかる。他の測定結果では、ウェービネスが200μm程度まで達するものも生じている。   FIG. 3 shows the surface waveness (μm) of the comparative example sample in which the Si alloy film 35 is deposited on the base sheet 31 without preheating with a heater. As shown in FIG. 3, it can be seen that the comparative example sample that is not preheated by the heater cannot suppress the webiness resulting from the plastic deformation of the wrinkles, and the webiness reaches about 40 μm. In other measurement results, there are cases where the webiness reaches about 200 μm.

(他の実施の形態)
上記実施の形態では、キャンロール33をほぼ直円筒状としたが、キャンロールの端部に極めて近い部分だけ小径にするなど、大きな応力集中が生じない範囲でキャンロールをクラウン状にしてもよい。ただし、基材シート31上に形成される膜の膜厚のばらつきを抑制するためには、キャンロール33がほぼ直円筒状であることが好ましい。
(Other embodiments)
In the above embodiment, the can roll 33 has a substantially cylindrical shape. However, the can roll may be crowned within a range in which a large stress concentration does not occur, for example, only a portion extremely close to the end of the can roll has a small diameter. . However, in order to suppress variations in the film thickness of the film formed on the base sheet 31, the can roll 33 is preferably substantially in the shape of a right cylinder.

また、キャンロール33に代えて、固定ロールなど、回転せずにすべりを利用して基材シートを移動可能に支持する送り支持機構を設けてもよい。その場合にも、基材シートが搬送支持部材に接触するまでに、ヒータによって、基材シートを予熱することにより、基材シートのしわの発生を抑制することができる。   Moreover, it may replace with the can roll 33, and may provide the feed support mechanism which supports a base material sheet | seat so that it can move using a slide, such as a fixed roll, without rotating. Also in that case, generation of wrinkles of the base sheet can be suppressed by preheating the base sheet with a heater before the base sheet comes into contact with the transport support member.

上記実施の形態では、基材シート31に張力を付与する機能は、供給ロール32の制動力と巻き取りロール34の回転駆動力によって得られているが、基材シート31の供給部と収納部の双方またはいずれか一方に、基材シートを両側から挟む1対のピンチロールを設けてもよい。その場合、供給ロール31または巻き取りロール34のうちピンチロールが設けられている側のロールは必ずしも必要ではない。基材シートを単に折りたたむなど、してもよいからである。   In the above embodiment, the function of applying tension to the base sheet 31 is obtained by the braking force of the supply roll 32 and the rotational driving force of the take-up roll 34. A pair of pinch rolls that sandwich the base sheet from both sides may be provided on both or any one of the above. In that case, the roll on the side where the pinch roll is provided in the supply roll 31 or the take-up roll 34 is not necessarily required. This is because the base sheet may be simply folded.

上記実施の形態では、基材シートを加熱する加熱装置としてランプヒータ40を用いたが、ランプヒータ40に代えてレーザ加熱装置、誘導加熱装置など他の方式による加熱装置を用いてもよい。   In the embodiment described above, the lamp heater 40 is used as a heating device for heating the base sheet. However, instead of the lamp heater 40, a heating device using another method such as a laser heating device or an induction heating device may be used.

上記開示された本発明の実施の形態の構造は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこれらの記載の範囲に限定されるものではない。本発明の範囲は、特許請求の範囲の記載によって示され、さらに特許請求の範囲の記載と均等の意味及び範囲内でのすべての変更を含むものである。   The structure of the embodiment of the present invention disclosed above is merely an example, and the scope of the present invention is not limited to the scope of these descriptions. The scope of the present invention is indicated by the description of the scope of claims, and further includes meanings equivalent to the description of the scope of claims and all modifications within the scope.

本発明の成膜装置は、リチウム二次電池などに使用されるSi合金膜等の成膜に利用することができる。   The film forming apparatus of the present invention can be used for forming a Si alloy film or the like used for a lithium secondary battery or the like.

本発明の実施の形態における成膜装置の要部を一部を断面構造で示す側面図である。It is a side view which shows a part of principal part of the film-forming apparatus in embodiment of this invention by sectional structure. 基材シートを予熱しつつ、基材シート上にSi合金膜を形成した実施例サンプルの表面のウェービネスを示す図である。It is a figure which shows the webiness of the surface of the Example sample which formed the Si alloy film on the base material sheet, preheating a base material sheet. 予熱を行わずに、基材シート上にSi合金膜を堆積した比較例サンプルの表面のウェービネスを示す図である。It is a figure which shows the webiness of the surface of the comparative example sample which deposited Si alloy film on the base material sheet, without performing preheating.

符号の説明Explanation of symbols

10 成膜装置
11 真空チャンバー
13 気体粒子生成部
14 成膜部
31 基材シート
32 供給ロール
33 キャンロール
34 巻き取りロール
35 Si合金膜
36 防着板
40 ランプヒータ
Rdp 堆積領域
Rht 加熱領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Film-forming apparatus 11 Vacuum chamber 13 Gas particle production | generation part 14 Film-forming part 31 Base sheet 32 Supply roll 33 Can roll 34 Winding roll 35 Si alloy film 36 Depositing plate 40 Lamp heater Rdp Deposition area Rht Heating area

Claims (5)

無機材料の気体粒子を生成する気体粒子生成部と、
前記気体粒子を堆積させるための基材シートを連続的に供給する供給部と、
前記気体粒子生成部に対向して設けられ、前記供給部から供給される基材シートを移動可能に支持する搬送支持部材と、
前記気体粒子が堆積された基材シートを収納する収納部と、
前記基材シートを、少なくとも基材シートが前記搬送支持部材に接触する前の領域において加熱する加熱装置と、
を備えている、成膜装置。
A gas particle generation unit for generating gas particles of an inorganic material;
A supply unit for continuously supplying a base sheet for depositing the gas particles;
A transport support member provided opposite to the gas particle generation unit and movably supporting the base sheet supplied from the supply unit;
A storage section for storing the base material sheet on which the gas particles are deposited;
A heating device that heats the base sheet at least in a region before the base sheet contacts the transport support member;
A film forming apparatus comprising:
請求項1記載の成膜装置において、
前記加熱装置による前記基材シートの加熱温度は、前記搬送支持部材と接触している部位における基材シートの温度±10°Cの範囲である、成膜装置。
The film forming apparatus according to claim 1,
The film forming apparatus, wherein the heating temperature of the base sheet by the heating device is in the range of the temperature of the base sheet at a portion in contact with the transport support member ± 10 ° C.
請求項1または2記載の成膜装置において、
前記加熱装置による前記基材シートの加熱領域は、前記基材シートの前記搬送支持部材との接触領域を含んでいる、成膜装置。
In the film-forming apparatus of Claim 1 or 2,
The heating region of the base sheet by the heating device includes a contact region of the base sheet with the transport support member.
請求項1〜3のいずれかに記載の成膜装置において、
前記気体粒子生成部と前記搬送支持部材との間に設けられ、前記搬送支持部材の前記気体粒子生成部と対向する領域に開口を有する防着板をさらに備え、
前記加熱装置は、前記防着板を挟んで前記気体粒子生成部に対向する側に設置されている、成膜装置。
In the film-forming apparatus in any one of Claims 1-3,
Further comprising a deposition plate provided between the gas particle generation unit and the transport support member, and having an opening in a region facing the gas particle generation unit of the transport support member;
The said heating apparatus is a film-forming apparatus installed in the side facing the said gas particle production | generation part on both sides of the said adhesion prevention board.
無機材料の気体粒子が堆積される基材シートを、張力を与えつつ搬送支持部材上に連続供給する処理と、
前記基材シートを、基材シートが搬送支持部材に接触する前に加熱する処理と、
を含む成膜方法。
A process of continuously supplying a base material sheet on which gas particles of an inorganic material are deposited on a conveyance support member while applying tension;
Heating the base sheet before the base sheet contacts the transport support member; and
A film forming method including:
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