JP2008075129A - 円筒状部材の製造方法及びこれを用いた転写物 - Google Patents
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Abstract
【課題】
セラミック溶射の手法を用いた光学フィルム作製用のエンボスロールを提供することである。
【解決手段】
鉄またはアルミニウム等の金属性のロール芯材を用いて、その表面を砥石研磨し、その後ロール芯材の表面にセラミックをプラズマ溶射しロール芯材の表面にセラミック層を形成する。次にセラミック層の表面に砥石研磨をして、表面粗さRaが0.005〜0.01μm程度に整面する。さらにセラミック層の表面にサンドブラストもしくはレーザー加工を用いて微細な凹凸を形成しエンボスロールを作製する方法である。
本発明によれば、均一で微細な凹凸を有するエンボスロールを用いて、反射防止フィルム等を連続して無欠陥で安定して生産する方法を提供できる。
【選択図】図1
セラミック溶射の手法を用いた光学フィルム作製用のエンボスロールを提供することである。
【解決手段】
鉄またはアルミニウム等の金属性のロール芯材を用いて、その表面を砥石研磨し、その後ロール芯材の表面にセラミックをプラズマ溶射しロール芯材の表面にセラミック層を形成する。次にセラミック層の表面に砥石研磨をして、表面粗さRaが0.005〜0.01μm程度に整面する。さらにセラミック層の表面にサンドブラストもしくはレーザー加工を用いて微細な凹凸を形成しエンボスロールを作製する方法である。
本発明によれば、均一で微細な凹凸を有するエンボスロールを用いて、反射防止フィルム等を連続して無欠陥で安定して生産する方法を提供できる。
【選択図】図1
Description
本発明は、精密なロール面を備えた円筒状部材の製造方法及びこのようなロール面の形状を写し取った転写物を製造する方法に関する。
精密ロール面を備えた円筒状部材は、その精密なロール面を対象物に押し当てて、連続的にロール面の形状を対象物に写し取る用途に用いられる。このような円筒状部材として、例えば印刷用の版胴やエンボスロールを挙げることができる。
例えば反射防止フィルムの製造方法としては、樹脂フィルムにフィラー等の微粒子を混ぜ合わせて作製する方法と、平滑樹脂フィルムの表面に反射防止フィルム成形用エンボスロール(以下、単にエンボスロールと呼ぶ)を押し付けて前記平滑樹脂フィルムの表面に凹凸を形成して作製する方法が知られている。
前記平滑樹脂フィルム表面に凹凸(以下エンボスパターンと呼ぶ)を形成して反射防止フィルムを作製する方法に用いるエンボスロールの構成は、金属性のロール芯材の表面に銅めっきやニッケルめっき等の各種めっきにより、密着層、下地層、剥離層、加工層が積層されて、前記加工層の表面にはサンドブラスト等により前記加工層の表面に凹凸が形成されている。さらに前記加工層の上に保護層として高硬度のクロムめっき膜が施された構成となっている(特許文献1)。
しかし上記めっきの手法によりエンボスロールを作製する場合、エッチングやクロムめっき工程において直径50〜300μm程度の瘤欠陥が発生する確率が高い。この瘤欠陥の発生原因は、エッチング前のロール表面の汚れを完全に取り除くことが出来ないため、未エッチング部分が瘤として残ることにより瘤欠陥が形成されると考えられる。
ここで上記めっきの手法により作製されたエンボスロールを用いて液晶テレビ画面の反射防止フィルムに適用する場合、30〜40インチ画面に、直径100〜300μm程度の瘤欠陥が2〜4個程度あると商品として使用できないため、上記エンボスロールにより作製された反射防止フィルムは欠陥が多く生産性が低かった(課題1)。
例えば反射防止フィルムの製造方法としては、樹脂フィルムにフィラー等の微粒子を混ぜ合わせて作製する方法と、平滑樹脂フィルムの表面に反射防止フィルム成形用エンボスロール(以下、単にエンボスロールと呼ぶ)を押し付けて前記平滑樹脂フィルムの表面に凹凸を形成して作製する方法が知られている。
前記平滑樹脂フィルム表面に凹凸(以下エンボスパターンと呼ぶ)を形成して反射防止フィルムを作製する方法に用いるエンボスロールの構成は、金属性のロール芯材の表面に銅めっきやニッケルめっき等の各種めっきにより、密着層、下地層、剥離層、加工層が積層されて、前記加工層の表面にはサンドブラスト等により前記加工層の表面に凹凸が形成されている。さらに前記加工層の上に保護層として高硬度のクロムめっき膜が施された構成となっている(特許文献1)。
しかし上記めっきの手法によりエンボスロールを作製する場合、エッチングやクロムめっき工程において直径50〜300μm程度の瘤欠陥が発生する確率が高い。この瘤欠陥の発生原因は、エッチング前のロール表面の汚れを完全に取り除くことが出来ないため、未エッチング部分が瘤として残ることにより瘤欠陥が形成されると考えられる。
ここで上記めっきの手法により作製されたエンボスロールを用いて液晶テレビ画面の反射防止フィルムに適用する場合、30〜40インチ画面に、直径100〜300μm程度の瘤欠陥が2〜4個程度あると商品として使用できないため、上記エンボスロールにより作製された反射防止フィルムは欠陥が多く生産性が低かった(課題1)。
また円筒用ロール状部材の作製方法として、プラズマ溶射法によりセラミックスを溶射被膜とする、鉄鋼製造工程で使用するプレスロールを作製する方法がある。
例えば,天然ストーンを代替するプレスロールとして,表面にAl2O3に対してTiO2を13〜65%添加し,ガスプラズマ溶射によってセラミック層を鋳鋼製のロールシェルに形成したことを特徴とする特許が開示されている(特許文献2)。
また,ロール基材の表面に,タングステン炭化物(WC)とコバルトを10〜23%添加した粉体を溶射の手法によりロールを作製している例がある(特許文献3)。
特開2004−90187号公報
特開平8−199492号公報
特開平9−20975号公報 ここで上記従来技術の欠点を挙げる(課題2)さらにエンボスロールを使用する際にハンドリングや清掃時等にエンボスロール表面にキズが形成された場合エンボスロールを再生する必要がある。例えば図3に示すような、めっきの手法で作製されたエンボスロールの保護層190及びその下層にある加工層170にキズ欠陥が発生した場合の再生方法は、保護層19から剥離層150まで剥離し、剥離層を研磨し再度加工層170から形成し直さなければならなかった。またクロムによって形成された保護層190のみにキズが発生した場合、脱クロム法によって保護層190を剥がす方法があるが、保護層190の下層の加工層170の表面の平滑性や物性が変化してしまうため、結局加工層170から再生しなくてはならなかった(課題3)。
例えば,天然ストーンを代替するプレスロールとして,表面にAl2O3に対してTiO2を13〜65%添加し,ガスプラズマ溶射によってセラミック層を鋳鋼製のロールシェルに形成したことを特徴とする特許が開示されている(特許文献2)。
また,ロール基材の表面に,タングステン炭化物(WC)とコバルトを10〜23%添加した粉体を溶射の手法によりロールを作製している例がある(特許文献3)。
ここで、上記反射防止フィルムの作製に用いるエンボスロールを上記セラミック溶射の手法で形成することが出来れば、また上記めっきの手法の欠点である瘤欠陥の発生がなく均一で無欠陥のエンボスロールが作製できる。
さらにエンボスロールを形成する際に複数回のめっき工程を経なくとも、ロール芯材にセラミック層を吹付けるだけでエンボスロールを作製できるので格段に製造工程が少なく生産効率が高いことが期待される。
さらにエンボスロールを形成する際に複数回のめっき工程を経なくとも、ロール芯材にセラミック層を吹付けるだけでエンボスロールを作製できるので格段に製造工程が少なく生産効率が高いことが期待される。
そこで,本発明の目的は瘤欠陥が少なく、製造及び再生の容易な光学フィルム作製用のエンボスロールを提供することである。
上述の目的を達成するため、まず鉄またはアルミニウム等の金属性のロール芯材を用いて、その表面を砥石研磨し、その後ロール芯材の表面にセラミックをプラズマ溶射しロール芯材の表面に1〜3mm程度のセラミック層を形成する。
次にセラミック層の表面に砥石研磨をして、表面粗さRaが0.005〜0.01μm程度に整面する。
さらにセラミック層の表面にサンドブラストもしくはレーザー加工を用いてエンボスパターンを形成しエンボスロールを作製する方法である。
本発明によれば、均一で無欠陥のエンボスパターンを有するエンボスロールを用いて、反射防止フィルム等を連続して無欠陥で安定して生産する方法を提供できる。
次にセラミック層の表面に砥石研磨をして、表面粗さRaが0.005〜0.01μm程度に整面する。
さらにセラミック層の表面にサンドブラストもしくはレーザー加工を用いてエンボスパターンを形成しエンボスロールを作製する方法である。
本発明によれば、均一で無欠陥のエンボスパターンを有するエンボスロールを用いて、反射防止フィルム等を連続して無欠陥で安定して生産する方法を提供できる。
請求項1はエンボスパターンが形成されたロール面を備えた円筒状部材の製造方法であって、ロール芯材を研磨する工程と前記ロール芯材にセラミックを溶射する工程と、前記セラミックが付着したロール芯材を研磨する工程と、前記セラミックが付着したロール芯材に前記エンボスパターンを形成する工程とを備えることを特徴とする円筒状部材の製造方法である。
請求項2はエンボスパターンが形成されたロール面を備えた円筒状部材であって、ロール芯材と前記ロール芯材の上にセラミック溶射層と、前記セラミック溶射層にエンボスパターンとがあることを特徴とする円筒状部材である。
請求項3は請求項1に記載の方法で製造された円筒状部材が備えるロール面の形状を転写されたことを特徴とする転写物である。
請求項2はエンボスパターンが形成されたロール面を備えた円筒状部材であって、ロール芯材と前記ロール芯材の上にセラミック溶射層と、前記セラミック溶射層にエンボスパターンとがあることを特徴とする円筒状部材である。
請求項3は請求項1に記載の方法で製造された円筒状部材が備えるロール面の形状を転写されたことを特徴とする転写物である。
以上の説明から明らかなように、セラミック溶射の手法を用いたエンボスロール、及びその製造方法では以下のような効果が得られる。
本発明のセラミック溶射の手法では、セラミックを溶射しその表面にエンボスパターンを形成するだけで、エンボスロールを作製することができる。ここでセラミック層は硬度が極めて高いため生産時における転写物へのキズの発生を低減できる。また適切なセラミックの溶射条件により瘤や凹みなどの欠陥の発生を抑えることができる。
またセラミック溶射法により形成されたエンボスロールではセラミック層表面にキズ欠陥が発生した場合、セラミック表面を1回砥石研磨で約20μm程度研磨し、再度サンドブラストまたはレーザー加工によりセラミック層表面にエンボスパターンを形成することができる。ここで上記エンボスロールを再生する方法においてセラミックの性質が変化することはない。またセラミック層の膜厚を1〜3mmと厚く形成することで、セラミック層にキズが形成されてもセラミック層と砥石研磨してエンボスパターンを形成すればよいので、10から20回程度繰返しエンボスロールを再生することが可能である。
以上より、安定して反射防止フィルムなどの光学フィルムを生産でき,表面硬度を高いので取り扱い時や清掃時,およびエンボスによる耐久性に優れ、さらにまた表面のキズ欠陥の再生方法に優れたエンボスロールを提供することが可能となる。
本発明のセラミック溶射の手法では、セラミックを溶射しその表面にエンボスパターンを形成するだけで、エンボスロールを作製することができる。ここでセラミック層は硬度が極めて高いため生産時における転写物へのキズの発生を低減できる。また適切なセラミックの溶射条件により瘤や凹みなどの欠陥の発生を抑えることができる。
またセラミック溶射法により形成されたエンボスロールではセラミック層表面にキズ欠陥が発生した場合、セラミック表面を1回砥石研磨で約20μm程度研磨し、再度サンドブラストまたはレーザー加工によりセラミック層表面にエンボスパターンを形成することができる。ここで上記エンボスロールを再生する方法においてセラミックの性質が変化することはない。またセラミック層の膜厚を1〜3mmと厚く形成することで、セラミック層にキズが形成されてもセラミック層と砥石研磨してエンボスパターンを形成すればよいので、10から20回程度繰返しエンボスロールを再生することが可能である。
以上より、安定して反射防止フィルムなどの光学フィルムを生産でき,表面硬度を高いので取り扱い時や清掃時,およびエンボスによる耐久性に優れ、さらにまた表面のキズ欠陥の再生方法に優れたエンボスロールを提供することが可能となる。
セラミック溶射の手法を用いたエンボスロールの製造方法について以下に説明する。
図1(a)に示すように鉄またはアルミニウム製のエンボスロール芯材1に、図1(b)に示すような砥石3を用いてロール芯材1の表面を研磨する。その後図1(c)に示すようにセラミックをプラズマ溶射により、ロール芯材1を回転させ、かつセラミック溶射ノズル7を矢印Aの方向に走査してセラミック層5をロール芯材1の表面に均一に形成する。次に図1(d)に示すようにセラミック層5の表面に砥石3を用いてセラミック層5の表面を研磨することで表面粗さRaを0.5〜1μm程度に整面する。
さらに図1(e)に示すように、セラミック層5の表面にサンドブラストまたはレーザー加工により微細な凹凸のエンボスパターンを形成する。
ここで、サンドブラストまたはレーザー加工によりエンボスパターンが形成されたセラミック層10のビッカース硬度がHv1,400以上と硬く,経時変化に対しても安定であるのでめっきの手法を用いたエンボスロールの作製方法と異なり保護膜としてクロム層(ビッカース硬度:Hv1000)を被覆する必要がない。
図1(a)に示すように鉄またはアルミニウム製のエンボスロール芯材1に、図1(b)に示すような砥石3を用いてロール芯材1の表面を研磨する。その後図1(c)に示すようにセラミックをプラズマ溶射により、ロール芯材1を回転させ、かつセラミック溶射ノズル7を矢印Aの方向に走査してセラミック層5をロール芯材1の表面に均一に形成する。次に図1(d)に示すようにセラミック層5の表面に砥石3を用いてセラミック層5の表面を研磨することで表面粗さRaを0.5〜1μm程度に整面する。
さらに図1(e)に示すように、セラミック層5の表面にサンドブラストまたはレーザー加工により微細な凹凸のエンボスパターンを形成する。
ここで、サンドブラストまたはレーザー加工によりエンボスパターンが形成されたセラミック層10のビッカース硬度がHv1,400以上と硬く,経時変化に対しても安定であるのでめっきの手法を用いたエンボスロールの作製方法と異なり保護膜としてクロム層(ビッカース硬度:Hv1000)を被覆する必要がない。
(ロール芯材1)
本発明に用いるロール芯材1は,軸が無いものと有るものを利用することができる。ロール芯1の材質は,アルムニウムまたは鉄が適しており,軸無しのロール芯材1にはアルミニウムが好適で,軸付のロール芯材1には剛性の点から鉄が適する。
本発明に用いるロール芯材1は,軸が無いものと有るものを利用することができる。ロール芯1の材質は,アルムニウムまたは鉄が適しており,軸無しのロール芯材1にはアルミニウムが好適で,軸付のロール芯材1には剛性の点から鉄が適する。
(セラミック材質)
セラミック層5を形成する、セラミックの材質は炭化クロムにAl2O3を5〜15%混合したものや酸化クロムにAl2O3を5〜10%混合したもの、またタングステンカーバイドWCにTiO2を10〜30%混合したものが好ましく用いられる。
セラミック層5を形成する、セラミックの材質は炭化クロムにAl2O3を5〜15%混合したものや酸化クロムにAl2O3を5〜10%混合したもの、またタングステンカーバイドWCにTiO2を10〜30%混合したものが好ましく用いられる。
(溶射の方式)
セラミック溶射をする際の溶射の熱源として、ガス式溶射、電気式溶射、フレーム溶射、プラズマ溶射、高温フレーム溶射、爆発溶射等の手法が存在するが、本発明では、セラミック溶射が出来れば問題は無いが、例えば、高温フレーム溶射や爆発溶射、プラズマ溶射により形成されるセラミック層5の膜は緻密であり好適である。
セラミック溶射をする際の溶射の熱源として、ガス式溶射、電気式溶射、フレーム溶射、プラズマ溶射、高温フレーム溶射、爆発溶射等の手法が存在するが、本発明では、セラミック溶射が出来れば問題は無いが、例えば、高温フレーム溶射や爆発溶射、プラズマ溶射により形成されるセラミック層5の膜は緻密であり好適である。
(セラミック溶射条件)
ロール芯材1を回転数10〜15rpmで回転させながら、セラミック溶射ノズル7をロール芯材1に対して図1(c)の矢印Aに示すように平行に送り速度2〜3mm/回転で走査させることで均一なセラミック層5が形成される。溶射条件としてはパーティクル速度が300〜500m/sec,溶射温度1500〜2500℃で行う。この条件でセラミックを溶射すると、セラミック層5の空孔率が3パーセント以下(ちなみにめっきの手法でエンボスロールを形成した場合は約10パーセントの空孔率である)になり均一で欠陥が少ないセラミック層5が形成できる。
まためっきの手法によるエンボスロールの製造方法では、エンボスロールの表面に保護層としてクロム層(ビッカース硬度がHv1000程度)を形成していたが、上記条件で形成されるセラミック層5はビッカース硬度がHv1400とクロム層よりも硬く、耐摩耗性に優れている。
ロール芯材1を回転数10〜15rpmで回転させながら、セラミック溶射ノズル7をロール芯材1に対して図1(c)の矢印Aに示すように平行に送り速度2〜3mm/回転で走査させることで均一なセラミック層5が形成される。溶射条件としてはパーティクル速度が300〜500m/sec,溶射温度1500〜2500℃で行う。この条件でセラミックを溶射すると、セラミック層5の空孔率が3パーセント以下(ちなみにめっきの手法でエンボスロールを形成した場合は約10パーセントの空孔率である)になり均一で欠陥が少ないセラミック層5が形成できる。
まためっきの手法によるエンボスロールの製造方法では、エンボスロールの表面に保護層としてクロム層(ビッカース硬度がHv1000程度)を形成していたが、上記条件で形成されるセラミック層5はビッカース硬度がHv1400とクロム層よりも硬く、耐摩耗性に優れている。
(サンドブラスト)
サンドブラストは、セラミック等の微粒子を高圧力でセラミック層に噴射することでセラミック層5にエンボスパターンを形成する方法である。この場合、サンドブラストの粒子がランダムに飛散するため、セラミック層5に微細な凹凸を容易に形成できる。
セラミック層5が形成されたロール芯材1を回転数約10〜30rpmで回転させながら、セラミック溶射ノズル7を図2(b)の矢印Bに示すようにロール芯材1に対して平行に送り速度2〜10mm/回転で走査させることで均一なエンボスパターンが形成されたセラミック層10が形成される。
ここでサンドブラスト粒子には、カーボランダム,ガーネット,ジルコン,などが好ましく用いられる。セラミックビーズを用いたブラスト処理技術を利用したものを用いることができる。
またサンドブラスト装置について、ブラスト圧は0.1から0.2MPaが好ましく、ブラスト量は10から20g/cm2が好ましい。更に被射物との距離は500から600mmが好ましい条件である。
サンドブラストは、セラミック等の微粒子を高圧力でセラミック層に噴射することでセラミック層5にエンボスパターンを形成する方法である。この場合、サンドブラストの粒子がランダムに飛散するため、セラミック層5に微細な凹凸を容易に形成できる。
セラミック層5が形成されたロール芯材1を回転数約10〜30rpmで回転させながら、セラミック溶射ノズル7を図2(b)の矢印Bに示すようにロール芯材1に対して平行に送り速度2〜10mm/回転で走査させることで均一なエンボスパターンが形成されたセラミック層10が形成される。
ここでサンドブラスト粒子には、カーボランダム,ガーネット,ジルコン,などが好ましく用いられる。セラミックビーズを用いたブラスト処理技術を利用したものを用いることができる。
またサンドブラスト装置について、ブラスト圧は0.1から0.2MPaが好ましく、ブラスト量は10から20g/cm2が好ましい。更に被射物との距離は500から600mmが好ましい条件である。
(レーザー装置)
セラミック層5にレーザー加工の手法を用いてエンボスパターンを形成する方法について説明する。レーザー光線33をセラミック層5に照射し、直径が50、100、200μmの3種類の孔が形成できるように用意する。セラミック層5が形成されたロール芯材1を回転数約10〜30rpmで回転させながら、前記三種類の孔をランダムに形成するようにレーザー光を照射するレーザー光発振ノズル31を図2(b)の矢印Cに示すようにロール芯材1に対して平行に送り速度2〜10mm/回転で走査させエンボスパターンが形成されたセラミック層10を形成する。
ここでレーザー装置のレーザー光の照射条件は、波長532nm,使用出力0.5〜1.0W,繰返し周波数1〜100KHz,パルス幅10〜30nsecが好ましい。
セラミック層5にレーザー加工の手法を用いてエンボスパターンを形成する方法について説明する。レーザー光線33をセラミック層5に照射し、直径が50、100、200μmの3種類の孔が形成できるように用意する。セラミック層5が形成されたロール芯材1を回転数約10〜30rpmで回転させながら、前記三種類の孔をランダムに形成するようにレーザー光を照射するレーザー光発振ノズル31を図2(b)の矢印Cに示すようにロール芯材1に対して平行に送り速度2〜10mm/回転で走査させエンボスパターンが形成されたセラミック層10を形成する。
ここでレーザー装置のレーザー光の照射条件は、波長532nm,使用出力0.5〜1.0W,繰返し周波数1〜100KHz,パルス幅10〜30nsecが好ましい。
(実施例1)
軸無しのアルミニウムロール芯材1(直径300mm,面長1600mm)の表面を砥石3を用いて研磨し,セラミック(炭化クロムにAl2O3を5〜15%混合)をプラズマ溶射(スルザーメテコ(株),Triplex Pro−200型)により約1〜3mmのセラミック層5を設けた。さらに,セラミック層5の表面をアルミナ砥石でバーチカル研磨し表面を整えた。ここで研磨粒子として粒子経50〜150μm程度のアルミナを用いた。
次にサンドブラスト処理には、サンドブラスト装置((株)不二製作所 製 ロボット搭載型エアブラスト装置)で、ブラスト圧が0.1〜0.2MPa程度、またブラスト量は10〜15g/cm2,ノズルとブラスト面の距離は500〜600mmで行ったこれによりエンボスパターンが形成されたセラミック層10が形成された。
さらに上記方法で作製されたエンボスロールに実際にポリエステルフィルムを用いて,紫外線硬化樹脂に接触させて生産を行うと,約50,000〜60,000m程度無欠陥で連続して反射防止フィルムを生産することができた。
軸無しのアルミニウムロール芯材1(直径300mm,面長1600mm)の表面を砥石3を用いて研磨し,セラミック(炭化クロムにAl2O3を5〜15%混合)をプラズマ溶射(スルザーメテコ(株),Triplex Pro−200型)により約1〜3mmのセラミック層5を設けた。さらに,セラミック層5の表面をアルミナ砥石でバーチカル研磨し表面を整えた。ここで研磨粒子として粒子経50〜150μm程度のアルミナを用いた。
次にサンドブラスト処理には、サンドブラスト装置((株)不二製作所 製 ロボット搭載型エアブラスト装置)で、ブラスト圧が0.1〜0.2MPa程度、またブラスト量は10〜15g/cm2,ノズルとブラスト面の距離は500〜600mmで行ったこれによりエンボスパターンが形成されたセラミック層10が形成された。
さらに上記方法で作製されたエンボスロールに実際にポリエステルフィルムを用いて,紫外線硬化樹脂に接触させて生産を行うと,約50,000〜60,000m程度無欠陥で連続して反射防止フィルムを生産することができた。
(実施例2)
軸有りの鉄ロール芯材1(直径300mm,面長1600mm)を砥石3を用いて研磨し,セラミック(タングステンカーバイドWCにTiO2を10〜30%混合)を爆発溶射により約1〜3mmのセラミック層5を設け,さらにバーチカル研磨により表面粗さRaが0.001〜0.005μmになるように研磨した。この研磨したセラミック層5の表面を,レーザー装置(サイバーレーザー(株) SPICA532型,波長532nm,最高出力2.5W,繰返し周波数1〜100KHz,パルス幅10〜30nsec)を用いて、レーザ光のスポット径を4種類(50,100,150,200μm)変化させて半球状のウエル(深さ約0.5〜1μm以下)を堀り,エンボスパターンが形成されたセラミック層10を形成した。
さらに上記方法で作製されたエンボスロールにポリエステルフィルムを用いて,紫外線硬化樹脂に接触させて生産を行うと,約50,000m程度無欠陥で連続して反射防止フィルムを製作することができた。
軸有りの鉄ロール芯材1(直径300mm,面長1600mm)を砥石3を用いて研磨し,セラミック(タングステンカーバイドWCにTiO2を10〜30%混合)を爆発溶射により約1〜3mmのセラミック層5を設け,さらにバーチカル研磨により表面粗さRaが0.001〜0.005μmになるように研磨した。この研磨したセラミック層5の表面を,レーザー装置(サイバーレーザー(株) SPICA532型,波長532nm,最高出力2.5W,繰返し周波数1〜100KHz,パルス幅10〜30nsec)を用いて、レーザ光のスポット径を4種類(50,100,150,200μm)変化させて半球状のウエル(深さ約0.5〜1μm以下)を堀り,エンボスパターンが形成されたセラミック層10を形成した。
さらに上記方法で作製されたエンボスロールにポリエステルフィルムを用いて,紫外線硬化樹脂に接触させて生産を行うと,約50,000m程度無欠陥で連続して反射防止フィルムを製作することができた。
(実施例3)
実施例1と実施例2の方法によって作製したエンボスロールを用いて,120μmのトリアセチルセルロース(TAC)フィルムに紫外線硬化樹脂であるエチレングリコールジメタアクリレートを有機溶剤で希釈したものを塗布し,100〜120℃で乾燥後,160W/cmの空冷メタルハライドランプを用いて,照度550mW/cm2,照射量450mJ/cm2の紫外線を照射し塗布層を硬化させて,塗布層厚みが約6〜15μmの防眩層を形成した。
ここで,基体となるフィルムは上記に記載した他に,ポリアミド,ポリカーボネート,ポリエステル,ポリスチレン,ポリエーテルイミド,ポリアクリレート,ポリエーテルスルホン,ポリスルホン,ポリオレフィン等のフィルムを使用することができる。また,紫外線硬化樹脂は,上記記載以外にビニルベンゼンとその誘導体,ビニルスルホン,アクリルアミド,多価アルコールとメタアクリル酸のエステル類などを用いることができる。
実施例1と実施例2の方法によって作製したエンボスロールを用いて,120μmのトリアセチルセルロース(TAC)フィルムに紫外線硬化樹脂であるエチレングリコールジメタアクリレートを有機溶剤で希釈したものを塗布し,100〜120℃で乾燥後,160W/cmの空冷メタルハライドランプを用いて,照度550mW/cm2,照射量450mJ/cm2の紫外線を照射し塗布層を硬化させて,塗布層厚みが約6〜15μmの防眩層を形成した。
ここで,基体となるフィルムは上記に記載した他に,ポリアミド,ポリカーボネート,ポリエステル,ポリスチレン,ポリエーテルイミド,ポリアクリレート,ポリエーテルスルホン,ポリスルホン,ポリオレフィン等のフィルムを使用することができる。また,紫外線硬化樹脂は,上記記載以外にビニルベンゼンとその誘導体,ビニルスルホン,アクリルアミド,多価アルコールとメタアクリル酸のエステル類などを用いることができる。
本発明によりセラミック溶射の手法で作製されたエンボスロールは、エンボスロールの表面が高硬度で耐摩耗性が良いので、反射防止フィルムの製造や化粧紙の製造等エンボスパターンを転写する転写物の製造分野に有利に利用され得る。
1 ロール芯材
3 砥石
5 セラミック層
7 セラミック溶射ノズル
9 サンドブラストノズル
10 エンボスパターンが形成されたセラミック層
13 セラミック粒子
23 サンドブラスト粒子
31 レーザー光発振ノズル
33 レーザー光線
110 密着層
130 下地層
150 剥離層
170 加工層
190 保護層
3 砥石
5 セラミック層
7 セラミック溶射ノズル
9 サンドブラストノズル
10 エンボスパターンが形成されたセラミック層
13 セラミック粒子
23 サンドブラスト粒子
31 レーザー光発振ノズル
33 レーザー光線
110 密着層
130 下地層
150 剥離層
170 加工層
190 保護層
Claims (3)
- エンボスパターンが形成されたロール面を備えた円筒状部材の製造方法であって、
ロール芯材を研磨する工程と
前記ロール芯材にセラミックを溶射する工程と、
前記セラミックが付着したロール芯材を研磨する工程と、
前記セラミックが付着したロール芯材に前記エンボスパターンを形成する工程とを
備えることを特徴とする円筒状部材の製造方法。 - エンボスパターンが形成されたロール面を備えた円筒状部材であって、
ロール芯材と
前記ロール芯材の上にセラミック溶射層と、
前記セラミック溶射層にエンボスパターンとがあることを特徴とする円筒状部材。 - 請求項1に記載の方法で製造された円筒状部材が備えるロール面の形状を転写されたことを特徴とする転写物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006255534A JP2008075129A (ja) | 2006-09-21 | 2006-09-21 | 円筒状部材の製造方法及びこれを用いた転写物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006255534A JP2008075129A (ja) | 2006-09-21 | 2006-09-21 | 円筒状部材の製造方法及びこれを用いた転写物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008075129A true JP2008075129A (ja) | 2008-04-03 |
Family
ID=39347485
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006255534A Pending JP2008075129A (ja) | 2006-09-21 | 2006-09-21 | 円筒状部材の製造方法及びこれを用いた転写物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008075129A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010025198A (ja) * | 2008-07-17 | 2010-02-04 | Da-Jang Li | 微細な模様を有するローラーの製造方法 |
KR101135825B1 (ko) | 2008-10-10 | 2012-04-16 | 다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤 | 도포 장치, 인쇄판 제조 장치, 및 도포 방법 |
JP2018538447A (ja) * | 2015-12-23 | 2018-12-27 | プラクスエア エス.ティ.テクノロジー、インコーポレイテッド | 非平滑表面上への改良された溶射コーティング |
EP2543653B2 (fr) † | 2011-07-04 | 2023-01-11 | Comadur S.A. | Procédé de fabrication d'une céramique mate non marquante |
-
2006
- 2006-09-21 JP JP2006255534A patent/JP2008075129A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2010025198A (ja) * | 2008-07-17 | 2010-02-04 | Da-Jang Li | 微細な模様を有するローラーの製造方法 |
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