JP2008074909A - 重合開始剤又はその溶液及び電子情報材料用重合体の製造方法 - Google Patents

重合開始剤又はその溶液及び電子情報材料用重合体の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2008074909A
JP2008074909A JP2006253411A JP2006253411A JP2008074909A JP 2008074909 A JP2008074909 A JP 2008074909A JP 2006253411 A JP2006253411 A JP 2006253411A JP 2006253411 A JP2006253411 A JP 2006253411A JP 2008074909 A JP2008074909 A JP 2008074909A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solution
polymerization initiator
polymer
electronic information
metal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006253411A
Other languages
English (en)
Inventor
Osamu Konosu
修 鴻巣
Motohiro Arakawa
元博 荒川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Shokubai Co Ltd
Original Assignee
Nippon Shokubai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Shokubai Co Ltd filed Critical Nippon Shokubai Co Ltd
Priority to JP2006253411A priority Critical patent/JP2008074909A/ja
Publication of JP2008074909A publication Critical patent/JP2008074909A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polymerization Catalysts (AREA)

Abstract

【課題】金属分が充分に除去された重合開始剤又はその溶液を簡便かつ安全に製造できることにより、金属含有量が充分に低減され、FPDや半導体等の用途に好適に用いられる電子情報材料用重合体を容易に得ることを可能とする重合開始剤又はその溶液の製造方法、及び、このようにして得られる重合開始剤又はその溶液を用いて電子情報材料用重合体を製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、金属分が除去された電子情報材料用重合体の製造に用いられる重合開始剤又はその溶液を製造する方法であって、上記製造方法は、重合開始剤溶液に水を加えて分液することによって金属分を除去する工程を含む重合開始剤又はその溶液の製造方法である。
【選択図】なし

Description

本発明は、重合開始剤又はその溶液の製造方法及び電子情報材料用重合体の製造方法に関する。より詳しくは、FPDや半導体等の用途に用いられる電子情報材料用重合体を得るために使用される重合開始剤又はその溶液の製造方法、及び、該重合開始剤又はその溶液を用いて金属分が除去された電子情報材料用重合体を製造する方法に関する。
レジストをはじめとする電子情報材料用重合体は、FPD(フラットパネルディスプレイ)や半導体等に広く用いられており、具体的には、例えば、LCD(液晶ディスプレイ)用の層間絶縁膜や高視野角用突起物、カラーフィルター、オーバーコート、フォトスペーサー、反射型ディスプレイ用反射材等;有機EL(エレクトロルミネセンス)ディスプレイ用のカソードセパレーター等;半導体用の層間絶縁膜やシュリンク剤;ソルダーレジスト等に使用されている。しかしながら、電子情報材料用重合体をこれらの用途に使用する場合には、金属分(イオン性不純物)の混入をppbオーダーで嫌うことが知られており(例えば、特許文献1〜3等参照。)、金属分が充分に除去された状態であることが望まれている。
そこで、重合後に金属分を除去する手法として、以下の手法が開発されている。
すなわち、例えば、重合体を水洗することで金属分を除去する方法として、重合後の反応液に水を添加して非水溶性重合体を析出又は分液する方法(例えば、特許文献4参照。)等が開示されている。また、カチオン交換樹脂や吸着剤、シリカゲル等を用いて金属分を除去する方法として、ポリメタクリル酸エステルポリマー溶液中から金属化合物を陽イオン交換樹脂を用いて除去するメタクリル樹脂の精製法(例えば、特許文献5参照。)、重合後の反応液に親水性溶媒を加えた後に陽イオン交換樹脂と接触させることにより、反応液から金属錯体を除去する方法(例えば、特許文献6参照。)、ビニル系重合体を活性炭又は無機系吸着剤に接触させることによりビニル系重合体中に残存する金属触媒を除去する精製方法(例えば、特許文献7参照。)、重合体を含む溶液とシリカゲルとを接触させることにより、重合体を含む溶液から金属成分を除去する方法(例えば、特許文献8参照。)等が開示されている。
更に遠心分離にて金属分を除去する方法として、ビニル系重合体中に残存する金属触媒を密度の差により分離除去する精製方法(例えば、特許文献9参照。)、重合体の生成後に、遠心分離機を用いて重合体に不溶な遷移金属とその配位子を除去する前段の工程と、イオン交換樹脂を用いて重合体に溶解している遷移金属とその配位子を除去する後段の工程とを行う方法(例えば、特許文献10参照。)等が開示されている。
しかしながら、これらの方法では、いずれも金属分の除去効率が充分でなく、また、生産性(コスト)や作業効率が充分ではないこと、大量の廃棄物が発生し得ること等の課題を有していることから、簡便かつ容易に、しかも大量の廃棄物を発生することなく、金属分が充分に除去された電子情報材料用重合体を得られるようにするための工夫の余地があった。
特開平10−333178号公報(第4頁) 特開2000−309751号公報(第9頁) 特開2003−238682号公報(第6頁) 特開2004−002520号公報(第2頁) 特開平8−253527号公報(第2頁) 特開2004−211079号公報(第2頁) 特開2001−323015号公報(第2頁) 特開2002−128820号公報(第2頁) 特開2001−323014号公報(第2頁) 特開2002−080513号公報(第3頁)
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、金属分が充分に除去された重合開始剤又はその溶液を簡便かつ安全に製造できることにより、金属含有量が充分に低減され、FPDや半導体等の用途に好適に用いられる電子情報材料用重合体を容易に得ることを可能とする重合開始剤又はその溶液の製造方法、及び、このようにして得られる重合開始剤又はその溶液を用いて電子情報材料用重合体を製造する方法を提供することを目的とするものである。
本発明者らは、電子情報材料用重合体から金属分を除去する方法に関し、重合体を製造する過程で使用する重合開始剤にまず着目した。すなわち、通常使用される重合開始剤にはナトリウムイオンを始めとする金属分を多く含むものがあり、これらの重合開始剤をそのまま使用すると重合体中に金属が持ち込まれ、製品としての性能を充分に発揮できなくなることから、重合開始剤に含まれる金属分を除去できれば、金属含有量の少ない重合体が得られることに着目した。ここで、通常使用される重合開始剤を精製して低金属重合開始剤を得て重合に用いると、得られる重合体の金属分も少なくなるが、この場合、重合開始剤の精製時に分液・濃縮・乾燥等の煩雑な工程が必要となり、また、精製専用装置でなければ金属による再汚染の可能性もあり、最悪の場合は爆発事故に至る危険な工程を通ることにもなる。そこで、通常使用される重合開始剤を含む溶液に水を加えて分液することにすると、金属分の少ない重合開始剤又はその溶液を簡便かつ容易に得ることができることを見いだした。つまり、分液することで金属分の多くが水層に移行するため、この水層を取り除くことにより、金属分が充分に除去された重合開始剤又はその溶液を簡便かつ安全に得ることが可能となり、このような重合開始剤又はその溶液を重合に用いることによって、金属含有量が充分に低減された重合体を簡便かつ容易に、しかも大量の廃棄物を発生することなく得られることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。
すなわち本発明は、金属分が除去された電子情報材料用重合体の製造に用いられる重合開始剤又はその溶液を製造する方法であって、上記製造方法は、重合開始剤溶液に水を加えて分液することによって金属分を除去する工程を含む重合開始剤又はその溶液の製造方法である。
本発明はまた、上記製造方法によって得られる重合開始剤又はその溶液を用いて単量体成分を重合する工程を含む電子情報材料用重合体の製造方法である。
以下に、本発明を詳述する。
本発明の重合開始剤又はその溶液の製造方法は、重合開始剤溶液に水を加えて分液することによって金属分を除去する工程を含む方法である。
このような金属分除去工程において、重合開始剤溶液とは、通常使用される重合開始剤を非水溶性溶剤に溶解させた状態のものを意味する。なお、通常使用される重合開始剤が液体の場合は、非水溶性溶剤に溶解せずにそのまま使用することもできるが、この場合の重合開始剤溶液とは、液体の重合開始剤そのものを意味する。
上記通常使用される重合開始剤としては、熱によりラジカルを発生するものであることが好ましく、具体的には、例えば、以下のアゾ化合物や有機過酸化物等が好適である。中でも、アゾ化合物の方が金属汚染の多い製品が多いため、本発明の製造方法による精製の効果が高い。すなわち、本発明の作用効果の発揮をより充分に確認できる。このように、上記重合開始剤溶液がアゾ化合物を含む形態は、本発明の好ましい形態の一つである。なお、上記重合開始剤は、1種のものを使用してもよいし、2種以上のものを併用してもよい。
上記アゾ化合物としては、例えば、以下の化合物等が挙げられる。
2,2′−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル、2,2′−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1′−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、ジメチル2,2′−アゾビス(2−メチルプロピオネート)、4,4−アゾビス(4−シアノペンタン酸)、2,2′−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)、2,2′−アゾビス〔N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド〕、2,2′−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2′−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)。
上記有機過酸化物としては、例えば、以下の化合物等が挙げられる。
ジイソブチリルパーオキシド、パーオキシネオデカン酸クミル、パーオキシジカルボン酸ジ−n−プロピル、パーオキシジカルボン酸ジイソプロピル、パーオキシジカルボン酸ジ−sec−ブチル、パーオキシネオデカン酸1,1,3,3−テトラメチルブチル、パーオキシジカルボン酸ジ(4−t−ブチルシクロヘキシル)、パーオキシジカルボン酸ジ(2−エチルヘキシル)、パーオキシネオデカン酸t−ヘキシル、パーオキシネオデカン酸t−ブチル、パーオキシネオヘプタン酸t−ブチル、パーオキシピバリン酸t−ヘキシル、パーオキシピバリン酸t−ブチル、ジ(3,5,5−トリメチルヘキサノイル)パーオキシド、ジラウロイルパーオキシド、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジコハク酸パーオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ(4−メチルベンゾイル)パーオキシド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ(3−メチルベンゾイル)パーオキシド、ベンゾイル(3−メチルベンゾイル)パーオキシド、ジベンゾイルパーオキシド、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)−2−メチルシクロヘキサン、1,1−ジ(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ジ(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ジ(4,4−ジ−(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキシル)プロパン、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシマレイン酸、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ヘキシルパーオキシアセテート、2,5−ジ−メチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシアセテート、2,2−ジ−(t−ブチルパーオキシ)ブタン、t−ブチルパーオキシベンゾエート、n−ブチル4,4−ジ(t−ブチルパーオキシ)バレレート、ジ(2−t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、ジクミルパーオキシド、ジ−t−ヘキシルパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオキシド、ジ−t−ブチルパーオキシド、p−メンタンヒドロパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(1−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3、ジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキシド、1,1,3,3−テトラメチルブチルヒドロパーオキシド、クメンヒドロパーオキシド、t−ブチルヒドロパーオキシド等。
上記重合開始剤溶液において、非水溶性溶剤とは、25℃において、水100質量%に対する溶解度が20質量%以下、好ましくは15質量%以下、より好ましくは10質量%以下である溶剤を意味する。このような非水溶性溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、ジフェニルエーテル、アニソール、ジメトキシベンゼン、ベンゾニトリル、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、塩化メチレン、クロロホルム、3−メトキシブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル等の1種又は2種以上を用いることが好適である。
なお、上記通常使用される重合開始剤を非水溶性溶剤に溶解させる場合、これらの質量比としては、該重合開始剤が非水溶性溶剤に溶解できる量であれば特に限定されず、適宜設定すればよい。
上記金属分除去工程においては、上記重合開始剤溶液に水を加えて分液することになるが、水の添加量としては、分液及び重合開始剤溶液中に含まれる金属分の分離が良好に行われるように適宜設定すればよい。具体的には、例えば、重合開始剤溶液100重量部に対し、1〜100000重量部であることが好適である。下限値としては、より好ましくは5重量部、更に好ましくは10重量部であり、上限値としては、より好ましくは10000重量部、更に好ましくは1000重量部である。
上記金属分除去工程に使用される水としては、不純物を実質的に含まない超純水が好ましいが、純水、上水、工業用水等の微量に不純物を含む水を使うこともできる。また、酸や塩基、塩、少量の有機溶剤等を溶解させた水を使用してもよい。
このように上記重合開始剤溶液に水を加えて分液することにより、水層と有機層とに層分離された状態となるが、この際、上記重合開始剤溶液中に含まれていた金属分の多くが水層に移行されるため、本発明においては、この状態から液液分離手段によって有機層のみを回収することになる。有機層は、通常、上層となるため、液液分離手段としては、金属分を含み得る水層を下層として除去する方法が好適である。なお、有機層が下層の場合には、上層になる水層を除去する方法が好適である。
上記金属分除去工程においてはまた、回収された有機層に更に水を加えて分液し、再度有機層を回収する工程を繰り返すことにより、より充分に金属分が除去された重合開始剤又はその溶液を得ることができるため、更に好適である。この場合の水の添加量としては、回収された有機層100重量部に対し、1〜100000重量部であることが好適である。下限値としては、より好ましくは5重量部、更に好ましくは10重量部であり、上限値としては、より好ましくは10000重量部、更に好ましくは1000重量部である。
上記金属分除去工程によって得られる重合開始剤溶液は、ナトリウム含有量が重合開始剤に対して500ppb以下であることが好適である。これにより、電子情報材料用重合体を得た場合に、この重合体を使用した電子・電気機器等の信頼性を充分に向上することが可能となる。より好ましくは250ppb以下、更に好ましくは150ppb以下、特に好ましくは50ppb以下である。
ここで、上記ナトリウム含有量は重合開始剤に対する値である。すなわち、重合開始剤溶液中の溶媒を除去した状態のもの(重合開始剤有効成分)に対する値を意味する。
なお、上記金属分含有量の測定方法としては、原子吸光法にて測定することができる。
上記製造方法においてはまた、上記金属分除去工程によって得られる重合開始剤溶液、すなわち上述のようにして回収された有機層に脱水剤を添加し、有機層に同伴して混入した水分を除去してもよい。これにより、有機層中に同伴された微量の金属分が水分とともに充分に分離されることになる。脱水剤としては特に限定されず、通常使用されるものを用いることができる。
上記金属分除去工程によって得られる重合開始剤溶液、すなわち上述のようにして回収された有機層は、そのままでも液状の重合開始剤(重合開始剤の溶液)として電子情報材料用重合体の重合に使用することができるが、該有機層から溶媒を除去することも好適である。除去手段としては、例えば、エバポレーションが好ましい。
なお、本発明の製造方法では、上記金属分除去工程のみで上述した作用効果を充分に発揮することができるため、上述した脱水工程や脱溶媒工程等のその他の工程を行わなくてもよいが、これらの工程を含んでいてもよい。
上記製造方法により得られる重合開始剤又はその溶液は、金属分が除去された電子情報材料用重合体の製造に用いられることになるが、このような重合開始剤又はその溶液を用いて重合を行うことにより、FPDや半導体等の用途に好適に用いられる電子情報材料用重合体を簡便かつ容易に、しかも安全に製造することが可能となる。このように、上記製造方法によって得られる重合開始剤又はその溶液を用いて単量体成分を重合する工程を含む電子情報材料用重合体の製造方法もまた、本発明の一つである。
上記電子情報材料用重合体の製造方法において、重合工程に使用される単量体成分としては特に限定されないが、例えば、不飽和有機酸を含むことが好適である。なお、この場合、上記電子情報材料用重合体は、不飽和有機酸の単量体単位を有することになる。
上記不飽和有機酸としては、例えば、(メタ)アクリル酸、α−ブロモ(メタ)アクリル酸、α−クロル(メタ)アクリル酸、β−フリル(メタ)アクリル酸、β−スチリル(メタ)アクリル酸等の不飽和脂肪酸の他、マレイン酸、マレイン酸無水物、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノイソプロピル等のマレイン酸モノエステル;フマール酸、フマール酸モノメチル、フマール酸モノエチル、フマール酸モノイソプロピル等のフマール酸モノエステル;イタコン酸、イタコン酸無水物、イタコン酸モノメチル、イタコン酸モノエチル、イタコン酸モノイソプロピル等のイタコン酸モノエステル;シトラコン酸、シトラコン酸無水物、シトラコン酸モノメチル、シトラコン酸モノエチル、シトラコン酸モノイソプロピル等のシトラコン酸モノエステル;ケイ皮酸、α−シアノケイ皮酸、クロトン酸、プロピオール酸等が好ましく、これらは1種又は2種以上を用いることができる。これらの中でも、不飽和脂肪酸が好ましい。この場合、上記電子情報材料用重合体は、不飽和脂肪酸の単量体単位を有することになるが、このような形態もまた、本発明の好適な形態の一つである。不飽和脂肪酸としては、より好ましくは、(メタ)アクリル酸である。
上記単量体成分としてはまた、酸ではない単量体を含むことが好適である。
上記酸ではない単量体としては、例えば、α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、o−エチルスチレン、m−エチルスチレン、p−エチルスチレン、o−メトキシスチレン、m−メトキシスチレン、p−メトキシスチレン、o−エトキシスチレン、m−エトキシスチレン、p−エトキシスチレン、o−フルオロスチレン、m−フルオロスチレン、p−フルオロスチレン、o−クロロスチレン、m−クロロスチレン、p−クロロスチレン、o−ブロモスチレン、m−ブロモスチレン、p−ブロモスチレン、o−アセトキシスチレン、m−アセトキシスチレン、p−アセトキシスチレン、o−t−ブトキシスチレン、m−t−ブトキシスチレン、p−t−ブトキシスチレン等が好適である。また、これらは、ベンゼン環が、メチル基やtert−ブチル基等のアルキル基、ニトロ基、ニトリル基、アルコキシル基、アシル基、スルホン基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子等の官能基で置換されていてもよい。
上記酸ではない単量体としてはまた、以下の化合物も好適に使用することができる。
(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸ヘプチル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸ウンデシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸グリシジル、3−エチル−3−(メタ)アクリロキシメチルオキセタン等の(メタ)アクリル酸エステル類;2,2,3,3−テトラフルオロプロピルアクリレートアクリルアミド、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルメタクリレートアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド等のアクリルアミド類;(メタ)アクリロニトリル;ビニルエチルエーテル、ビニル−n−ブチルエーテル等のビニルアルコールのエステル類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ブタン酸ビニル等のビニルエステル類;N−ベンジルマレイミド;N−シクロヘキシルマレイミド;N−フェニルマレイミド等のマレイミド類。
上記酸ではない単量体は1種又は2種以上を用いることができる。これらの中でも、スチレン、メタクリル酸ベンジル、N−シクロヘキシルマレイミドが好ましい。
上記不飽和有機酸の単量体単位の構成比率としては、例えば、全単量体構成単位100質量%に対し、5〜50質量%であることが好適である。より好ましくは10〜40質量%、更に好ましくは15〜35質量%である。なお、本発明においては、重合体側鎖の酸基をエポキシ基との反応等で重合後につぶす工程を含んでもよいが、この場合は、この反応終了後に残存する不飽和有機酸の単量体単位の比率が上述した範囲内にあるのが好適である。
上記製造方法における重合工程において、本発明の製造方法で得られた重合開始剤又はその溶液や単量体成分等の重合系内への投入方法としては、例えば、(1)反応容器に単量体成分の全てを仕込み、上記製造方法で得られた重合開始剤又はその溶液を反応容器内に添加することによって共重合を行う方法;(2)反応容器に単量体成分の一部を仕込み、上記製造方法で得られた重合開始剤又はその溶液と残りの単量体成分を反応容器内に添加することによって共重合を行う方法;(3)反応容器に重合溶媒を仕込み、単量体成分と上記製造方法で得られた重合開始剤又はその溶液の全量を添加する方法等が好適である。このような方法の中でも、上記(2)及び(3)の方法がより好ましい。
上記重合工程において、重合法としては、乳化重合、懸濁重合、塊状重合、溶液重合等が好適であり、これらを組み合わせて重合してもよい。これらの中でも、懸濁重合、溶液重合等が好ましい。
上記重合工程においてはまた、反応溶媒を用いることもできる。
上記反応溶媒としては、単量体成分等を溶解することが可能なものであればよく、例えば、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸イソブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート等のエステル類;エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類;1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類;トルエン、エチルベンゼン、o,m,p−キシレン等の芳香族類等、3−メトキシブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルが好適であり、これらは1種又は2種以上を用いることができる。これらの中でも、酢酸エチル、3−メトキシブチルアセテートが好ましい。
上記重合工程における反応条件について、反応温度としては、40℃以上、150℃以下が好適である。より好ましくは、50℃以上、135℃以下であり、更に好ましくは、60℃以上、120℃以下である。また、反応時間としては、60分以上、720分以下が好ましい。より好ましくは、120分以上、660分以下であり、更に好ましくは、240分以上、600分以下である。
本発明の製造方法により得られる電子情報材料用重合体としては、酸価が30〜300であることが好ましい。酸価が30未満であっても、300を超えても、重合体が発揮する基本性能を充分に向上させることができないおそれがある。下限値としては、より好ましくは50、更に好ましくは70であり、上限値としては、より好ましくは250、更に好ましくは200である。また、より好ましい範囲としては、50〜250であり、更に好ましい範囲としては、70〜200である。
上記酸価は、自動滴定装置(例えば、平沼産業社製のCOM−1500)を用い、KOH水溶液を滴定剤とする滴定により測定することができる。
上記電子情報材料用重合体はまた、重量平均分子量が3000〜100000であることが好ましい。重量平均分子量が3000未満であっても、100000を超えても、重合体が発揮する基本性能を充分に向上させることができないおそれがある。下限値としては、より好ましくは4000、更に好ましくは5000であり、上限値としては、より好ましくは70000、更に好ましくは50000である。また、より好ましい範囲としては、4000〜70000であり、更に好ましい範囲としては、5000〜50000である。
上記重量平均分子量は、ポリスチレン換算によるゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC;溶出溶媒テトラヒドロフラン)で測定することができる。
本発明の製造方法で得られる電子情報材料用重合体としては、FPD(フラットパネルディスプレイ)や半導体等に好適に使用でき、中でも、例えば、LCD(液晶ディスプレイ)用の層間絶縁膜や高視野角用突起物、カラーフィルター、オーバーコート、フォトスペーサー、反射型ディスプレイ用反射材等;有機EL(エレクトロルミネセンス)ディスプレイ用のカソードセパレーター等;半導体用の層間絶縁膜やシュリンク剤;ソルダーレジスト等に特に好適に使用することができる。上記電子情報材料用重合体は、上述したように充分に金属分が除去されたものであるため、これら電子情報材料を用いた電気・電子機器等の信頼性を大幅に向上することが可能となる。
本発明の重合開始剤又はその溶液の製造方法は、上述の構成よりなるので、金属分が充分に除去された重合開始剤又はその溶液を簡便かつ安全に製造できることにより、金属含有量が充分に低減され、FPDや半導体等の用途に好適に用いられる電子情報材料用重合体を容易に得ることを可能とするものである。
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。特に断りのない限り、「部」は「重量部」を、「%」は「質量%」を意味するものとする。
実施例1
V−65(和光純薬工業社製;アゾ系開始剤、2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル))10部を、酢酸エチル90部に混合し、溶解させた。得られた溶液を分液漏斗に入れ、水25部を加えた後に分液し、上層の有機層(酢酸エチル層)のみを回収した。この有機層について、原子吸光法によってナトリウムの含有量を測定したところ、22ppb(開始剤に対し220ppb)であった。
実施例2
実施例1で回収した有機層を分液漏斗に入れ、水25部を加えた後に分液し、上層の有機層のみを回収した。この有機層について、原子吸光法によってナトリウムの含有量を測定したところ、5ppb(開始剤に対し50ppb)であった。
実施例3
実施例2で回収した有機層を分液漏斗に入れ、水25部を加えた後に分液し、上層の有機層のみを回収した。この有機層について、原子吸光法によってナトリウムの含有量を測定したところ、3ppb(開始剤に対し30ppb)であった。
比較例1
V−65(和光純薬工業社製;アゾ系開始剤、2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル))10部を、酢酸エチル90に混合し、溶解させた。得られた溶液について、原子吸光法によってナトリウムの含有量を測定したところ、330ppb(開始剤に対し3300ppb)であった。
実施例4
酢酸エチル100部、スチレン(St)80部、メタクリル酸(MAA)20部を反応釜中で70℃に昇温し、これに実施例1で回収した有機層20部を入れて反応を開始した。反応開始後240分かけて、Stを80部、MAAを20部、実施例1で回収した有機層80部を滴下した。反応開始から480分後に降温して反応を終了した。得られた重合溶液について、原子吸光法によってナトリウムの含有量を測定したところ、10ppbであった。
比較例2
実施例1で回収した有機層の代わりに、比較例1で得た溶液(反応開始時に20部、滴下時に80部を使用)を用いた他は、実施例4と同様に反応を行った。得られた重合溶液について、原子吸光法によってナトリウムの含有量を測定したところ、110ppbであった。

Claims (5)

  1. 金属分が除去された電子情報材料用重合体の製造に用いられる重合開始剤又はその溶液を製造する方法であって、
    該製造方法は、重合開始剤溶液に水を加えて分液することによって金属分を除去する工程を含むことを特徴とする重合開始剤又はその溶液の製造方法。
  2. 前記重合開始剤溶液は、アゾ化合物を含むことを特徴とする請求項1に記載の重合開始剤又はその溶液の製造方法。
  3. 前記金属分除去工程によって得られる重合開始剤溶液は、ナトリウム含有量が重合開始剤に対して500ppb以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の重合開始剤又はその溶液の製造方法。
  4. 請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法によって得られる重合開始剤又はその溶液を用いて単量体成分を重合する工程を含むことを特徴とする電子情報材料用重合体の製造方法。
  5. 前記電子情報材料用重合体は、不飽和脂肪酸の単量体単位を有することを特徴とする請求項4に記載の電子情報材料用重合体の製造方法。
JP2006253411A 2006-09-19 2006-09-19 重合開始剤又はその溶液及び電子情報材料用重合体の製造方法 Pending JP2008074909A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006253411A JP2008074909A (ja) 2006-09-19 2006-09-19 重合開始剤又はその溶液及び電子情報材料用重合体の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006253411A JP2008074909A (ja) 2006-09-19 2006-09-19 重合開始剤又はその溶液及び電子情報材料用重合体の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008074909A true JP2008074909A (ja) 2008-04-03

Family

ID=39347297

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006253411A Pending JP2008074909A (ja) 2006-09-19 2006-09-19 重合開始剤又はその溶液及び電子情報材料用重合体の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008074909A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120271020A1 (en) * 2011-04-21 2012-10-25 Maruzen Petrochemical Co., Ltd. Method for producing copolymer for semiconductor lithography containing reduced amount of metal impurities, and method for purifying polymerization initiator for production of copolymer

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05202112A (ja) * 1991-12-26 1993-08-10 Mitsubishi Petrochem Co Ltd ハロメチル基を有するアゾ系重合開始剤及びこの重合剤を用いて得た高分子重合開始剤とこれ等の重合開始剤を用いたブロック重合体の製造方法
JP2001323014A (ja) * 2000-05-11 2001-11-20 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd ビニル系重合体の精製方法
JP2003183248A (ja) * 2001-12-19 2003-07-03 Sumitomo Chem Co Ltd 酸化反応液の精製方法
JP2006188575A (ja) * 2005-01-05 2006-07-20 Daicel Chem Ind Ltd フォトレジスト用高分子化合物の製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05202112A (ja) * 1991-12-26 1993-08-10 Mitsubishi Petrochem Co Ltd ハロメチル基を有するアゾ系重合開始剤及びこの重合剤を用いて得た高分子重合開始剤とこれ等の重合開始剤を用いたブロック重合体の製造方法
JP2001323014A (ja) * 2000-05-11 2001-11-20 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd ビニル系重合体の精製方法
JP2003183248A (ja) * 2001-12-19 2003-07-03 Sumitomo Chem Co Ltd 酸化反応液の精製方法
JP2006188575A (ja) * 2005-01-05 2006-07-20 Daicel Chem Ind Ltd フォトレジスト用高分子化合物の製造方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120271020A1 (en) * 2011-04-21 2012-10-25 Maruzen Petrochemical Co., Ltd. Method for producing copolymer for semiconductor lithography containing reduced amount of metal impurities, and method for purifying polymerization initiator for production of copolymer
JP2012224793A (ja) * 2011-04-21 2012-11-15 Maruzen Petrochem Co Ltd 金属不純物量の少ない半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法及び該共重合体を製造するための重合開始剤の精製方法
US9216948B2 (en) 2011-04-21 2015-12-22 Maruzen Petrochemical Co., Ltd. Method for producing copolymer for semiconductor lithography containing reduced amount of metal impurities, and method for purifying polymerization initiator for production of copolymer
US9546133B2 (en) 2011-04-21 2017-01-17 Maruzen Petrochemical Co., Ltd. Method for producing copolymer for semiconductor lithography containing reduced amount of metal impurities, and method for purifying polymerization initiator for production of copolymer

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003048905A5 (ja)
JP5748742B2 (ja) ポリビニルアルコール系樹脂およびその製造方法
JPS63126502A (ja) 半導体基板塗布材料用ポリマ−の精製方法
US10610860B2 (en) Method of purifying water
JP2007520552A5 (ja)
JP2008074909A (ja) 重合開始剤又はその溶液及び電子情報材料用重合体の製造方法
EP1916262A4 (en) METHOD FOR REMOVING A (METH) ACRYLIC ESTER POLYMER FROM A LIQUID REACTIVE MIXTURE
JP2008500439A5 (ja)
JPWO2008133322A1 (ja) テトラアルキルアンモニウムイオン含有現像廃液の処理方法
EP3350129B1 (en) Method of purifying water
KR20200070487A (ko) 초순수의 제조에 사용되는 붕소 선택 흡착 수지의 제조 방법
AU2016433286B2 (en) Method of steam stripping dispersion of organic extender particles
US9944737B2 (en) Suspensions in aqueous media
US11725078B2 (en) Method for producing acid-decomposable polymer
JP5217522B2 (ja) 重合体の製造方法
JP2007268351A (ja) フェノール類・カルボン酸類捕捉材及びそれを用いた分離具並びにそれを用いたフェノール類・カルボン酸類の分離方法
JP5048969B2 (ja) アクリルポリマーの製造方法
JP2008138106A (ja) 親水性ポリマー懸濁液の製造法
WO2015017295A1 (en) Polymer purification
JP2006016569A (ja) 架橋共重合体及びそれよりなるフッ素イオン吸着剤
JP5904549B2 (ja) リビングカチオン重合開始剤系及びこれを用いた重合体の製造方法
US10610859B2 (en) Method of purifying water
JP2014231546A (ja) ポリマー微粒子の製造方法
TWI840567B (zh) 酸分解性樹脂之製造方法
JP2004107401A (ja) 高酸価重合体と重合性不飽和二重結合含有重合体の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090514

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20090514

A521 Written amendment

Effective date: 20100525

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A977 Report on retrieval

Effective date: 20110201

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110208

A521 Written amendment

Effective date: 20110407

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A02 Decision of refusal

Effective date: 20110531

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02