JP2008070415A - Method for producing reflection film and image display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、反射防止フイルムの製造方法及び当該製造方法を用いて製造した層を含む画像表示装置に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing an antireflection film and an image display device including a layer manufactured using the manufacturing method.
反射防止膜は一般に、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するようにディスプレイの最表面に配置される。 In general, an antireflection film prevents contrast reduction and image reflection due to reflection of external light in an image display device such as a cathode ray tube display (CRT), a plasma display panel (PDP), and a liquid crystal display (LCD). Therefore, it is placed on the outermost surface of the display so as to reduce the reflectivity using the principle of optical interference.
反射防止フイルムとしては、通常、屈折率が基材の屈折率よりも小さい低屈折率の物質からなる被膜が使用されている。かかる反射防止被膜としては、例えば低屈折率物質層を蒸着、スパッタ法等により基材の表面に形成する方法が知られているが、真空中で形成する必要があるため、操作が煩雑であるという問題があった。
前述した問題を解決するものとして、低屈折率の硬化被膜を与え得る化合物が硬化されてなる被膜が知られている。これは低屈折率の硬化被膜を与え得る化合物を含有する反射防止被膜形成組成物を基材の表面に塗布後、硬化することにより形成されるものであるため、反射防止被膜を形成するための操作が簡便であることから、広く用いられている。
As the antireflection film, a film made of a material having a low refractive index whose refractive index is smaller than that of the substrate is usually used. As such an antireflection coating, for example, a method of forming a low refractive index material layer on the surface of a substrate by vapor deposition, sputtering, or the like is known, but the operation is complicated because it is necessary to form in a vacuum. There was a problem.
As a solution to the above-mentioned problem, a film formed by curing a compound capable of providing a cured film having a low refractive index is known. This is formed by applying an antireflective film-forming composition containing a compound capable of giving a cured film having a low refractive index to the surface of the substrate and then curing the composition. Since the operation is simple, it is widely used.
一方、反射防止被膜として、より広い波長領域の反射率を低減するために、屈折率の高い物質からなる層と屈折率の低い物質からなる層との多層の反射防止被膜を作製する、いわゆるマルチコーティングが知られている。 On the other hand, as an antireflection coating, a multi-layer antireflection coating consisting of a layer made of a material having a high refractive index and a layer made of a material having a low refractive index is produced in order to reduce the reflectance in a wider wavelength region. Coatings are known.
しかし、かかる多層の反射防止被膜を形成するには、基材の表面に、屈折率が高い硬化被膜を与え得る化合物を含有する反射防止被膜形成組成物を塗布硬化させた後、更に、屈折率が低い硬化被膜を与え得る化合物を含有する反射防止被膜形成組成物を塗布後、硬化させる必要があり、２回の塗布、硬化を必要とするものであり製造工程が煩雑となっている。 However, in order to form such a multilayer antireflection coating, after applying and curing an antireflection coating composition containing a compound capable of providing a cured coating having a high refractive index on the surface of the substrate, the refractive index is further increased. However, it is necessary to cure the composition after forming an antireflection film-forming composition containing a compound that can give a low cured film, requiring two times of application and curing, and the manufacturing process is complicated.
本発明の目的は、生産性に優れた反射防止フイルムの製造方法であり、煩雑な工程を行わずに優れた反射防止性を有する画像表示装置を提供する。本発明の更なる目的は、優れた表面耐擦傷性を有し反射防止性を有する画像表示装置を提供することにある。 An object of the present invention is a method for producing an antireflection film excellent in productivity, and provides an image display device having excellent antireflection properties without performing complicated steps. A further object of the present invention is to provide an image display device having excellent surface scratch resistance and antireflection properties.
かかる目的を達成するために本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、２層を同時に成形可能な方法として、塗料を塗布乾燥後硬化した際に低屈折率層となるシリカ粒子と、高屈折率層となる無機粒子とを混合し、且つ、成分中のシリカ粒子に含フッ素化合物を導入する工程を含む表面処理を行い塗料成分として用いることにより、１液を１回塗布硬化させる工程のみで高屈折率層と低屈折率層との２層を作製し、良好な反射防止性能を有するフイルムを製造した。 In order to achieve such an object, the present inventors have conducted extensive research, and as a method capable of simultaneously molding two layers, silica particles that become a low refractive index layer when coated and dried and cured, and high refraction By mixing the inorganic particles to be the rate layer and performing surface treatment including a step of introducing a fluorine-containing compound into the silica particles in the component and using it as a coating component, only one step of coating and curing one liquid once Two layers of a high refractive index layer and a low refractive index layer were produced to produce a film having good antireflection performance.
更には、表面に耐擦傷性を付与させるために、グリオキシ酸誘導体を塗料成分として添加して用いることを見した。 Furthermore, it was seen that a glyoxy acid derivative was added and used as a coating component in order to impart scratch resistance to the surface.
また、本発明は該反射防止フイルムを含む画像表示装置を含む。 The present invention also includes an image display device including the antireflection film.
本発明によれば、１液の塗料組成物を１回塗布乾燥硬化するのみで２層構造を有し良好な反射防止性能を示す反射防止フイルムを成形可能であり、反射防止フイルムの製造工程を簡略化可能となるため、生産性に優れ且つ耐擦傷性が良好な反射防止フイルムを提供できる。更には、ハードコート層などの機能性多層構造を有する支持基材に積層させることにより、生産性に優れた画像表示装置を提供できる。 According to the present invention, it is possible to form an antireflection film having a two-layer structure and exhibiting good antireflection performance by only applying and drying and curing a one-component coating composition once. Since simplification is possible, it is possible to provide an antireflection film having excellent productivity and good scratch resistance. Furthermore, by laminating on a support substrate having a functional multilayer structure such as a hard coat layer, an image display device having excellent productivity can be provided.
本発明の反射防止フイルムは、フッ素処理工程を経たシリカ粒子由来の低屈折率層と、更に該低屈折率層の下に無機粒子が積層した高屈折率層とを１液の塗料組成物を１回塗布乾燥硬化することにより成形されることを特徴とする。 The antireflection film of the present invention comprises a one-component coating composition comprising a low refractive index layer derived from silica particles that has undergone a fluorine treatment step, and a high refractive index layer in which inorganic particles are laminated under the low refractive index layer. It is characterized by being formed by coating, drying and curing once.
［反射防止フイルム］
反射防止フイルムは反射防止膜と同意であり、その必要性や要求される性能などは特開昭５９−５０４０１号公報に記載されている様に、０．０３以上好ましくは０．０５以上の屈折率差を有する層を積層させて構成されることが好ましく、支持基材から計測し最も離れた層は低屈折率層であることが更に好ましい。屈折率差とは隣接する層間の屈折率を相対的に比較した値であり、相対的に屈折率が低い層を低屈折率層と呼び、相対的に屈折率が高い層を高屈折率層と呼ぶ。また、反射防止性能を補うために積層フイルム中に中屈折率層を設ける手法も特開昭５９−５０４０１号公報に記載されている。
[Anti-reflective film]
The antireflection film is the same as the antireflection film, and the necessity and required performance thereof are 0.03 or more, preferably 0.05 or more as described in JP-A-59-50401. It is preferable that the layers having a difference in rate are laminated, and the layer farthest from the support substrate is more preferably a low refractive index layer. The refractive index difference is a value obtained by relatively comparing the refractive indexes of adjacent layers. A layer having a relatively low refractive index is called a low refractive index layer, and a layer having a relatively high refractive index is a high refractive index layer. Call it. Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-50401 also describes a method of providing a middle refractive index layer in a laminated film in order to supplement antireflection performance.
本発明の反射防止フイルムは、１液の塗料組成物を１回塗布硬化することによって高屈折率層と、その上に低屈折率層が構成されることにより製造される。この際に高屈折率層と低屈折率層との間には明確な界面があることが望ましい。また、本発明の反射防止フイルムの製造方法は、低屈折率層を誘導する組成物と高屈折率層を誘導する組成物と溶剤から調整される塗料組成物を塗布乾燥硬化することにより構成される。 The antireflection film of the present invention is produced by forming a high-refractive index layer and a low-refractive index layer thereon by coating and curing a single coating composition once. At this time, it is desirable that there is a clear interface between the high refractive index layer and the low refractive index layer. In addition, the method for producing an antireflection film of the present invention is constituted by applying and drying and curing a composition for inducing a low refractive index layer, a composition for inducing a high refractive index layer, and a coating composition prepared from a solvent. The
反射防止フイルムとして良好な性能を示すには、分光測定に置いて最低反射率が好ましくは０．７％以下、より好ましくは０．６％以下であり、更に好ましくは０．５％以下であることが望ましく、且つ、デルタ反射率は、好ましくは２．５％以下であり、より好ましくは２．０％以下であり、更に好ましくは１．８％以下であることが望ましい。最低反射率が大きくなると、デルタ反射率が低くても最高反射率が高い事になるため、フイルムとしての反射防止性能が悪化する。また、デルタ反射率が大きくなると反射光線中の特定領域波長の反射が相対的に大きくなり、結果として反射光線に色目が付くため好ましくない。 In order to show good performance as an antireflection film, the minimum reflectance is preferably 0.7% or less, more preferably 0.6% or less, and even more preferably 0.5% or less in spectroscopic measurement. The delta reflectance is preferably 2.5% or less, more preferably 2.0% or less, and still more preferably 1.8% or less. When the minimum reflectance is increased, the maximum reflectance is high even if the delta reflectance is low, so that the antireflection performance as a film is deteriorated. In addition, when the delta reflectance is increased, the reflection of a specific region wavelength in the reflected light beam is relatively increased, and as a result, the reflected light beam is unfavorable.
［最低反射率］
最低反射率とは、光線反射スペクトルを測定した際に４００ｎｍから８００ｎｍの波長領域にて反射率が最低になった値を指す。フイルムの反射防止性能を比較する場合、最低反射率は一つの指標となり、最低反射率の値が小さいほど反射防止性能が良好であると言える。
[Minimum reflectance]
The minimum reflectance refers to the value at which the reflectance is lowest in the wavelength region from 400 nm to 800 nm when the light reflection spectrum is measured. When comparing the antireflection performance of films, the minimum reflectance is an index, and it can be said that the smaller the minimum reflectance value, the better the antireflection performance.
［デルタ反射率］
デルタ反射率とは、光線反射スペクトルを測定した際に４００ｎｍから８００ｎｍの波長領域における最高反射率から最低反射率を引いた値をしめす。フイルムの反射防止性能を比較する場合、デルタ反射率は一つの指標となり、デルタ反射率の値が小さいほど良好であると言える。
[Delta reflectance]
The delta reflectance is a value obtained by subtracting the minimum reflectance from the maximum reflectance in the wavelength region of 400 nm to 800 nm when the light reflection spectrum is measured. When comparing the antireflection performance of films, the delta reflectance is an index, and it can be said that the smaller the value of the delta reflectance, the better.
［低屈折率層］
低屈折率層とは支持基材上に積層される層中の１層であり、隣接する一層（フイルム構成層であり空気層を除く）よりも相対的な屈折率が低い層である。屈折率を低下させる方法としてフッ素系高分子を用いる方法（特開２００２−３６４５７号公報）や密度を低下させる方法が（特開平８−８３５８１号公報）が知られている。
[Low refractive index layer]
The low refractive index layer is one of the layers laminated on the support substrate, and is a layer having a relative refractive index lower than that of an adjacent layer (a film constituting layer and excluding an air layer). As a method for reducing the refractive index, a method using a fluorine-based polymer (Japanese Patent Laid-Open No. 2002-36457) and a method of reducing the density (Japanese Patent Laid-Open No. 8-83581) are known.
本発明で無機粒子として好ましく用いられるシリカ粒子とはケイ素化合物又は有機珪素化合物の重合（縮合）体のいずれかからなる組成物を含み成る粒子を指し、一般例として、ＳｉＯ２などのケイ素化合物から導出される粒子の総称である。 Silica particles preferably used as inorganic particles in the present invention refer to particles comprising a composition comprising either a silicon compound or a polymerized (condensed) organic silicon compound, and as a general example, from a silicon compound such as SiO 2 A generic term for derived particles.
シリカ粒子の形状は特に限定されるものではないが、積層後の屈折率の観点から球状が好ましく、より好ましくはシリカ粒子に中空且つ／又は多孔質が形成されていることが好ましい。シリカ粒子が多面体構造であると、層中で隙間無く積層する可能性があり、画像表示装置に必要な透明性が得られないことが考えられる。また、中空又は多孔質を有するシリカ粒子を用いることにより層の密度を下げる効果が得られる。以後、中空且つ／又は多孔質を有するシリカ粒子を中空シリカと称する。 The shape of the silica particles is not particularly limited, but is preferably spherical from the viewpoint of the refractive index after lamination, and more preferably, the silica particles are hollow and / or porous. If the silica particles have a polyhedral structure, there is a possibility that the silica particles are laminated without any gap in the layer, and it is considered that the transparency required for the image display device cannot be obtained. Moreover, the effect of reducing the density of a layer is acquired by using the silica particle which has a hollow or porosity. Hereinafter, hollow and / or porous silica particles are referred to as hollow silica.
中空シリカの粒子径は、好ましくは、１ｎｍから２００ｎｍ、より好ましくは５ｎｍから１８０ｎｍ、更に好ましくは１０ｎｍから１５０ｎｍである。 The particle diameter of the hollow silica is preferably 1 nm to 200 nm, more preferably 5 nm to 180 nm, and still more preferably 10 nm to 150 nm.
中空シリカの粒子径が１ｎｍよりも小さくなると層中の空隙密度が低下することによる屈折率の上昇や透明度の低下が起こるため好ましくなく、中空シリカの粒子径が２００ｎｍよりも大きくなると低屈折率層の厚さが大きくなり良好な反射防止性能が得られなくなり好ましくない。 If the hollow silica particle size is smaller than 1 nm, the refractive index increases and the transparency decreases due to the void density in the layer being lowered, which is not preferable. If the hollow silica particle size is larger than 200 nm, the low refractive index layer is not preferred. This is not preferable because the thickness of the film becomes large and good antireflection performance cannot be obtained.
低屈折率層中の組成として中空シリカが占める重量比率は１重量％から９０重量％であり、好ましくは５重量％から８０重量％であり、更に好ましくは１０重量％から重量７０％である。中空シリカの添加量が少ないと良好な低屈折率が得られないし、中空シリカが多すぎると、製膜性や高屈折率層との密着性が低下したり、高屈折率層とのシリカ粒子由来の低屈折率層との境界の明確性が失われるなどの不具合が生じる。 The weight ratio of the hollow silica as a composition in the low refractive index layer is 1% to 90% by weight, preferably 5% to 80% by weight, and more preferably 10% to 70% by weight. If the amount of hollow silica added is small, a good low refractive index cannot be obtained, and if there is too much hollow silica, the film-forming property and the adhesion to the high refractive index layer are reduced, or the silica particles with the high refractive index layer are reduced. Inconveniences such as loss of clarity of the boundary with the low refractive index layer derived from it occur.
本発明の低屈折率層の中空シリカは表面処理工程を経て塗料成分として用いられることが好ましい。この表面処理工程は、一段階で行われても良いし、多段階で行われても良い。また、複数の段階でフッ素を含む化合物を用いても良いし、一つの段階のみでフッ素を含む化合物を用いても良い。 The hollow silica of the low refractive index layer of the present invention is preferably used as a coating component through a surface treatment process. This surface treatment process may be performed in one stage or may be performed in multiple stages. Further, a compound containing fluorine may be used in a plurality of stages, or a compound containing fluorine may be used only in one stage.
中空シリカの表面処理工程にて用いられるフッ素を含む化合物は、単一でも良いし複数の異なる化合物を用いても良い。 The compound containing fluorine used in the surface treatment process of the hollow silica may be a single compound or a plurality of different compounds.
フッ素処理工程とは中空シリカを化学的に修飾し、含フッ素化合物を導入可能な工程を指す。中空シリカに直接フッ素化合物を導入する方法としては、１分子中にフッ素セグメントとシリルエーテル基（シリルエーテル基が加水分解されたシラノール基を含む）との両方を持つフルオロアルコキシシラン化合物を少なくとも１種類以上と開始剤とを共に撹拌することにより成される方法がある。 The fluorine treatment step refers to a step in which hollow silica can be chemically modified and a fluorine-containing compound can be introduced. As a method of directly introducing a fluorine compound into hollow silica, at least one fluoroalkoxysilane compound having both a fluorine segment and a silyl ether group (including a silanol group obtained by hydrolyzing a silyl ether group) in one molecule is used. There is a method in which the above and the initiator are stirred together.
中空シリカに直接フッ素化合物を導入すると、反応性の制御が困難になったり、塗料化後塗布時に塗布斑等が発生しやすくなったりすることがあるため、塗料原料の調整方法としては好ましくない。 If a fluorine compound is directly introduced into the hollow silica, it may be difficult to control the reactivity, or coating spots may be easily generated during coating after coating, which is not preferable as a method for adjusting the coating material.
中空シリカを化学的に修飾し、含フッ素化合物を導入可能な工程の更なる方法としては、中空シリカを架橋成分にて処理し官能基を有したフッ素化合物とつなぎ合わせる方法がある。 As a further method of the step in which the hollow silica can be chemically modified and the fluorine-containing compound can be introduced, there is a method in which the hollow silica is treated with a crosslinking component and is combined with a fluorine compound having a functional group.
架橋成分とは、分子内にフッ素は無いが、１分子中にフッ素化合物と反応可能な部位と、中空シリカと反応可能な部位を少なくとも一カ所ずつ持っている化合物を指し、中空シリカとの反応可能な部位としては反応性の観点からシリルエーテル及びシリルエーテルの加水分解物であることが好ましい。これら化合物は一般的にシランカップリング剤と呼ばれ、例としては、グリシドキシアルコキシシラン類、アミノアルコキシシラン類、アクリロイルシラン類、メタクリロイルシラン類、ビニルシラン類、メルカプトシラン類、などが知られている。 A crosslinking component refers to a compound that contains no fluorine in the molecule but has at least one site capable of reacting with a fluorine compound and one site capable of reacting with hollow silica in one molecule. A possible site is preferably a silyl ether or a hydrolyzate of silyl ether from the viewpoint of reactivity. These compounds are generally called silane coupling agents, and examples include glycidoxyalkoxysilanes, aminoalkoxysilanes, acryloylsilanes, methacryloylsilanes, vinylsilanes, mercaptosilanes, and the like. Yes.
官能基を有したフッ素化合物とは、フルオロアルキルアルコール、フルオロアルキルエポキシド、フルオロアルキルハライド、フルオロアルキルアクリレート、フルオロアルキルメタクリレート、フルオロアルキルカルボキシレート（酸無水物及びエステル類を含む）、などが知られている。 Examples of the fluorine compound having a functional group include fluoroalkyl alcohols, fluoroalkyl epoxides, fluoroalkyl halides, fluoroalkyl acrylates, fluoroalkyl methacrylates, fluoroalkyl carboxylates (including acid anhydrides and esters), and the like. Yes.
本発明における中空シリカのより好ましい形態は、中空シリカ粒子と一般式（I）で示される化合物とが、一般式（II）で示される化合物を介して結合可能な処理を行って用いる事が好ましい。
Ａ−Ｒ１−Ｒｆ 一般式（I）
Ａ−Ｒ１−ＳｉＲ２ ｎ（ＯＲ２）３−ｎ 一般式（II）
（上記一般式中のＡは反応性二重結合基を示し、Ｒ１は炭素数１から３のアルキレン基及びそれらから導出されるエステル構造を示し、Ｒ２は水素又は炭素数が１から４のアルキル基を示し、Ｒｆはフルオロアルキル基を示し、ｎは０又は１又は２のいずれかを示し、それぞれ側鎖を構造中に持っても良い。）
一般式（I）の具体例としては、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフロオロプロピルアクリレート、２−パーフルオロブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロデシルエチルアクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−３−メトキシブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ドデカフルオロヘプチルアクリレート、ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、ヘキサフルオロブチルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、２−パーフルオロブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロデシルエチルメタクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−３−メチルブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、１−トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロブチルメタクリレートなどが挙げられる。
A more preferable form of the hollow silica in the present invention is preferably used by performing treatment capable of binding the hollow silica particles and the compound represented by the general formula (I) via the compound represented by the general formula (II). .
AR 1 -Rf General formula (I)
A-R 1 -SiR 2 n ( OR 2) 3-n Formula (II)
(In the above general formula, A represents a reactive double bond group, R 1 represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms and an ester structure derived therefrom, and R 2 represents hydrogen or 1 to 4 carbon atoms. Rf represents a fluoroalkyl group, n represents 0, 1 or 2, and each may have a side chain in the structure.)
Specific examples of general formula (I) include 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl acrylate, 2-perfluorobutylethyl acrylate, 3-perfluoro Butyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorohexylethyl acrylate, 3-perfluorohexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorooctylethyl acrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2- Perfluorodecylethyl acrylate, 2-perfluoro-3-methylbutylethyl acrylate, 3-perfluoro-3-methoxybutyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-5-methylhexylethyl acrylate 3-perfluoro-5-methylhexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-7-methyloctyl-2-hydroxypropyl acrylate, tetrafluoropropyl acrylate, octafluoropentyl acrylate, dodecafluoroheptyl acrylate, hexadeca Fluorononyl acrylate, hexafluorobutyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl methacrylate, 2-perfluorobutylethyl methacrylate, 3-perfluorobutyl-2 -Hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluorooctylethyl methacrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro Silethyl methacrylate, 2-perfluoro-3-methylbutylethyl methacrylate, 3-perfluoro-3-methylbutyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-5-methylhexylethyl methacrylate, 3-perfluoro-5 Methylhexyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, 3-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, dodecafluoro Heptyl methacrylate, hexadecafluorononyl methacrylate, 1-trifluoromethyltrifluoroethyl methacrylate, hexafur Etc. b butyl methacrylate.
一般式（II）の具体例としては、アクリロキシエチルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシブチルトリメトキシシラン、アクリロキシペンチルトリメトキシシラン、アクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、アクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシブチルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン及びこれら化合物中のメトキシ基が他のアルコキシル基及び水酸基に置換された化合物を含む。 Specific examples of the general formula (II) include acryloxyethyltrimethoxysilane, acryloxypropyltrimethoxysilane, acryloxybutyltrimethoxysilane, acryloxypentyltrimethoxysilane, acryloxyhexyltrimethoxysilane, acryloxyheptyltri Methoxysilane, methacryloxyethyltrimethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, methacryloxybutyltrimethoxysilane, methacryloxyhexyltrimethoxysilane, methacryloxyheptyltrimethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxy Silane and compounds in which methoxy groups in these compounds are substituted with other alkoxyl groups and hydroxyl groups are included.
分子中にフッ素セグメントが無い一般式（II）で示される化合物を用いることにより、簡便な反応条件で中空シリカ表面を修飾することが可能となるばかりではなく、中空シリカ表面に反応性を制御しやすい官能基を導入することが可能となり、その結果、反応性二重結合を有するフッ素セグメントを中空シリカ表面で反応させることが可能になる。 By using the compound represented by the general formula (II) having no fluorine segment in the molecule, it becomes possible not only to modify the hollow silica surface under simple reaction conditions, but also to control the reactivity on the hollow silica surface. Easy functional groups can be introduced, and as a result, a fluorine segment having a reactive double bond can be reacted on the hollow silica surface.
低屈折率層中の組成としてフッ素が占める重量比率は、０．１％から４５％であり、好ましくは１％から４０％であり、更に好ましくは５％から３５％である。フッ素の含有量が少ないと良好な層分離が形成されず、ひいては良好な反射防止性能が得られないし、フッ素が多すぎると、溶解性の低下や製膜性の悪化などの不具合が生じる。 The weight ratio of fluorine as a composition in the low refractive index layer is 0.1% to 45%, preferably 1% to 40%, and more preferably 5% to 35%. When the fluorine content is low, good layer separation is not formed, and as a result, good antireflection performance cannot be obtained, and when there is too much fluorine, problems such as a decrease in solubility and a deterioration in film forming properties occur.
低屈折率層は中空シリカと前述したフッ素化合物とが結合している化合物を含むことが好ましい。 The low refractive index layer preferably contains a compound in which hollow silica and the aforementioned fluorine compound are bonded.
前述した中空シリカ及び一般式（I）及び（II）に示される化合物は、１液の塗料組成物を塗布乾燥硬化することにより２層を形成する塗料中では、未反応のままで存在しても良いし、縮合且つ／又は重合体として存在していても良い。 The hollow silica and the compounds represented by the general formulas (I) and (II) described above exist in an unreacted state in a coating that forms two layers by coating and drying and curing a one-component coating composition. Or may be present as a condensation and / or polymer.
本発明の低屈折率層には前記した物質以外に別途バインダー成分を含んでも良い。バインダー成分としては、熱、活性エネルギー線など硬化可能な樹脂成分であれば限定されるものではないが、本発明の修飾中空シリカを膜中に保持する観点より、分子中にアルコキシシランやアルコキシシランの加水分解物や反応性二重結合を有していることが好ましい。 The low refractive index layer of the present invention may further contain a binder component in addition to the above substances. The binder component is not limited as long as it is a curable resin component such as heat and active energy rays, but from the viewpoint of retaining the modified hollow silica of the present invention in the film, alkoxysilane or alkoxysilane in the molecule. It preferably has a hydrolyzate or a reactive double bond.
［高屈折率層］
高屈折率層とは隣接する層よりも屈折率が高い層をさし、少なくとも一種類以上の金属酸化物を含むことが好ましい。金属酸化物としては、ジルコニウム、アンチモン、亜鉛、スズ、セリウム及びチタンよりなる群から選ばれる金属の酸化物粒子であることが好ましく、より好ましくは、アンチモンやスズなどから導出されるＩＴＯやＡＴＯを用いることが望ましい。
[High refractive index layer]
The high refractive index layer means a layer having a higher refractive index than the adjacent layer, and preferably contains at least one kind of metal oxide. The metal oxide is preferably an oxide particle of a metal selected from the group consisting of zirconium, antimony, zinc, tin, cerium and titanium, more preferably ITO or ATO derived from antimony or tin. It is desirable to use it.
本発明で用いる塗料組成物として更に、バインダー成分を含むことが出来る。バインダー成分としては特に限定するものではないが、製造性の観点より、熱及び／又は活性エネルギー線にて硬化するバインダーであることが好ましく、バインダー成分は一種類であっても良いし、２種類以上を混合して用いても良い。熱で硬化する場合、製造コストよりその温度は室温から２００℃であることが好ましいし、活性エネルギー線の場合は汎用性よりＥＢ及び／又はＵＶ線であることが好ましい。 The coating composition used in the present invention may further contain a binder component. Although it does not specifically limit as a binder component, From a viewpoint of manufacturability, it is preferable that it is a binder hardened | cured with a heat | fever and / or active energy ray, and a binder component may be one type and two types. You may mix and use the above. When cured by heat, the temperature is preferably from room temperature to 200 ° C. from the production cost, and in the case of active energy rays, EB and / or UV rays are preferred from the viewpoint of versatility.
［グリオキシ酸誘導体］
本発明で用いる塗料組成物としては前記した低屈折率層構成成分と、前記した高屈折率層構成成分とさらにフェニルグリオキシ酸誘導体を含む。グリオキシ酸誘導体とは一般式（III）にて示される化合物及びこれから誘導される物質であり、反射防止フイルム中では高分子末端にラジカル発生剤として付加して存在していてもよい。
R3−C(O)C(O)O−R4 一般式(III)
（上記一般式中のR3はアルキル、芳香族、脂環化合物及びそれらの誘導体を示し、Ｒ４はアルコールから水酸基を除した化合物である）
本発明においてより良好な表面耐擦傷性を得るためには、R3が芳香族環化合物であるフェニルグリオキシ酸誘導体を用いることが好ましい。
[Glyoxy acid derivative]
The coating composition used in the present invention includes the above-described low refractive index layer constituents, the above-described high refractive index layer constituents, and a phenylglyoxyacid derivative. The glyoxy acid derivative is a compound represented by the general formula (III) and a substance derived therefrom. In the antireflection film, it may be added to a polymer terminal as a radical generator.
R 3 -C (O) C (O) O-R 4 General formula (III)
(R3 in the above general formula represents an alkyl, aromatic, alicyclic compound and derivatives thereof, and R4 is a compound obtained by removing a hydroxyl group from alcohol)
In order to obtain better surface scratch resistance in the present invention, it is preferable to use a phenylglyoxyacid derivative in which R3 is an aromatic ring compound.
本発明で用いる塗料組成物としては、前記した低屈折率層構成成分と、前記した高屈折率層構成成分とさらに溶剤を含むことが望ましい。溶剤は塗料組成物が塗布可能な状態にあれば、必要量及び性状に制限は無いため、特に記載しないが、一般的に塗料溶剤として用いられている溶剤を用いることが出来る。 The coating composition used in the present invention preferably contains the above-described low refractive index layer constituent component, the above-described high refractive index layer constituent component, and a solvent. As long as the coating composition is in a state where the coating composition can be applied, the required amount and properties are not limited. Therefore, a solvent generally used as a coating solvent can be used although it is not particularly described.
本発明で用いる塗料組成物としては、更に開始剤や硬化剤や触媒を含むことが好ましい。開始剤及び触媒は中空シリカと樹脂との反応を促進したり、樹脂間の反応を促進するために用いられる。該開始剤としては塗料組成物をアニオン、カチオン、ラジカル反応等による重合及び／又は縮合及び／又は架橋反応を開始あるいは促進せしめるものが好ましい。硬化剤としては、キレート化剤などに代表される多価金属化合物などが挙げられる。 The coating composition used in the present invention preferably further contains an initiator, a curing agent and a catalyst. The initiator and the catalyst are used for promoting the reaction between the hollow silica and the resin or for promoting the reaction between the resins. The initiator is preferably one that initiates or accelerates the polymerization and / or condensation and / or crosslinking reaction of the coating composition by anion, cation, radical reaction or the like. Examples of the curing agent include polyvalent metal compounds represented by chelating agents.
該開始剤及び該硬化剤及び触媒は公知又は周知されているものを使用できる。また、複数の開始剤を同時に用いても良いし、単独で用いても良い。さらに、酸性触媒や、熱重合開始剤や光重合開始剤を併用しても良い。酸性触媒の例としては、塩酸水溶液、蟻酸、酢酸などが挙げられる。熱重合開始剤の例としては、過酸化物、アゾ化合物が挙げられる。また、光重合開始剤の例としては、アリールケトン系化合物、含硫黄系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物、アミン系化合物などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。なお、該開始剤及び該硬化剤の添加割合は塗料組成物中の樹脂成分量に対して０．００１重量％から３０重量％が好ましく、より好ましくは０．０５重量％から２０重量％であり更に好ましくは０．１重量％から１０重量％である。 As the initiator, the curing agent and the catalyst, those known or known can be used. A plurality of initiators may be used at the same time or may be used alone. Furthermore, you may use together an acidic catalyst, a thermal-polymerization initiator, and a photoinitiator. Examples of acidic catalysts include aqueous hydrochloric acid, formic acid, acetic acid and the like. Examples of the thermal polymerization initiator include peroxides and azo compounds. Examples of photopolymerization initiators include, but are not limited to, aryl ketone compounds, sulfur-containing compounds, acyl phosphine oxide compounds, and amine compounds. The addition ratio of the initiator and the curing agent is preferably 0.001 to 30% by weight, more preferably 0.05 to 20% by weight with respect to the amount of the resin component in the coating composition. More preferably, it is 0.1 to 10% by weight.
その他として、本発明で使用する塗料組成物には更に、各種シランカップリング剤、界面活性剤、増粘剤、レベリング剤などの添加剤を必要に応じて適宜添加しても良い。 In addition, additives such as various silane coupling agents, surfactants, thickeners, and leveling agents may be appropriately added to the coating composition used in the present invention as necessary.
［支持基材］
反射防止皮膜をＣＲＴ画像表示面やレンズ表面に直接設ける場合を除き、反射防止膜は支持基材を有することが好ましい。支持基材としては、ガラス板よりもプラスチックフイルムの方が好ましい。プラスチックフイルムの材料の例には、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケトンなどが含まれるが、これらの中でも得にトリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが好ましい。支持基材の光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。透明支持体のヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。支持基材の屈折率は、１．４〜１．７であることが好ましい。支持基材には、赤外線吸収剤あるいは紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量は、支持基材の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜１０質量％であることがさらに好ましい。滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例には、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＢａＳＯ４、ＣａＣＯ３、タルクおよびカオリンが含まれる。更に、支持基材に、表面処理を実施してもよい。
表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が含まれる。これらの中でもグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理と紫外線処理がさらに好ましい。
[Supporting substrate]
Except for the case where the antireflection film is directly provided on the CRT image display surface or the lens surface, the antireflection film preferably has a supporting substrate. As the support substrate, a plastic film is more preferable than a glass plate. Examples of plastic film materials include cellulose esters (eg, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitrocellulose), polyamides, polycarbonates, polyesters (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate). , Poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4′-dicarboxylate, polybutylene terephthalate), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg, Polypropylene, polyethylene, polymethylpentene), polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyetherimide, polymethylmethene Tacrylate and polyetherketone are included, but among these, triacetyl cellulose, polycarbonate, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are particularly preferable. The light transmittance of the supporting substrate is preferably 80% or more, and more preferably 86% or more. The haze of the transparent support is preferably 2.0% or less, and more preferably 1.0% or less. The refractive index of the supporting substrate is preferably 1.4 to 1.7. An infrared absorber or an ultraviolet absorber may be added to the support substrate. The addition amount of the infrared absorber is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.05 to 10% by mass, based on the support substrate. As a slip agent, particles of an inert inorganic compound may be added to the transparent support. Examples of the inorganic compound, SiO 2, TiO 2, BaSO 4, CaCO 3, talc and kaolin. Furthermore, you may surface-treat to a support base material.
Examples of the surface treatment include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment and ozone oxidation treatment. Among these, glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment and flame treatment are preferred, and glow discharge treatment and ultraviolet treatment are more preferred.
［その他の層］
反射防止フイルムには、さらに、ハードコート層、防湿層、帯電防止層、下塗り層や保護層を設けてもよい。ハードコート層は、透明支持体に耐傷性を付与するために設ける。ハードコート層は、透明支持体とその上の層との接着を強化する機能も有する。ハードコート層は、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコン系ポリマーやシリカ系化合物を用いて形成することができる。顔料をハードコート層に添加してよい。アクリル系ポリマーは、多官能アクリレートモノマー（例、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート）の重合反応により合成することが好ましい。ウレタン系ポリマーの例には、メラミンポリウレタンが含まれる。シリコン系ポリマーとしては、シラン化合物（例、テトラアルコキシシラン、アルキルトリアルコキシシラン）と反応性基（例、エポキシ、メタクリル）を有するシランカップリング剤との共加水分解物が好ましく用いられる。更には２種類以上のポリマーを組み合わせて用いてもよい。シリカ系化合物としては、コロイダルシリカが好ましく用いられる。ハードコート層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。透明支持体には、ハードコート層に加えて、接着層、シールド層、滑り層を設けてもよい。シールド層は、電磁波や赤外線を遮蔽するために設けられる。
[Other layers]
The antireflection film may further be provided with a hard coat layer, a moisture proof layer, an antistatic layer, an undercoat layer or a protective layer. The hard coat layer is provided for imparting scratch resistance to the transparent support. The hard coat layer also has a function of strengthening the adhesion between the transparent support and the layer thereon. The hard coat layer can be formed using an acrylic polymer, a urethane polymer, an epoxy polymer, a silicon polymer, or a silica compound. A pigment may be added to the hard coat layer. The acrylic polymer is preferably synthesized by a polymerization reaction of a polyfunctional acrylate monomer (eg, polyol acrylate, polyester acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate). Examples of the urethane polymer include melamine polyurethane. As the silicon-based polymer, a cohydrolyzate of a silane compound (eg, tetraalkoxysilane, alkyltrialkoxysilane) and a silane coupling agent having a reactive group (eg, epoxy, methacryl) is preferably used. Further, two or more kinds of polymers may be used in combination. As the silica compound, colloidal silica is preferably used. The strength of the hard coat layer is preferably a pencil hardness of 1 kg load, preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher. In addition to the hard coat layer, the transparent support may be provided with an adhesive layer, a shield layer, and a sliding layer. The shield layer is provided to shield electromagnetic waves and infrared rays.
［反射防止フイルムの製造］
反射防止フイルムの低屈折率層及び高屈折率層を形成する塗料成分は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法などの塗布工程により形成することができる。本発明の方法によれば、低屈折率層、高屈折率層の二層を同時に形成することができる。二層の形成は、少なくとも本発明の高屈折率成分と低屈折率成分と溶媒とが混合された塗料の塗布後、乾燥及び硬化過程において成される。得られる反射防止フイルム中から完全に溶媒を除去する事に加え、欠陥なく二層に分離させるという観点からも、乾燥工程では加熱することが好ましい。加熱温度としては、用いる溶媒の沸点及びポリマーのガラス転移温度などから決定できるが特に限定される値ではない。さらに、乾燥後の形成層に対して熱またはエネルギー線を照射する事による硬化操作を行ってもよい。硬化を熱により行う場合、乾燥工程と硬化工程とを同時におこなってもよい。反射防止フイルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用する。反射防止フイルムは、高屈折率層が画像表示装置の画像表示面側になるように配置する。反射防止フイルムが透明支持体を有する場合は、透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着する。反射防止フイルムは、さらに、ケースカバー、光学用レンズ、眼鏡用レンズ、ウインドウシールド、ライトカバーやヘルメットシールドにも利用できる。
[Manufacture of antireflection film]
The coating components that form the low-refractive index layer and high-refractive index layer of the antireflection film are applied by coating processes such as dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, and gravure coating. Can be formed. According to the method of the present invention, two layers of a low refractive index layer and a high refractive index layer can be formed simultaneously. The two layers are formed in a drying and curing process after application of a paint in which at least the high refractive index component, the low refractive index component and the solvent of the present invention are mixed. In addition to completely removing the solvent from the obtained antireflection film, it is preferable to heat in the drying step from the viewpoint of separation into two layers without defects. The heating temperature can be determined from the boiling point of the solvent used and the glass transition temperature of the polymer, but is not particularly limited. Furthermore, you may perform hardening operation by irradiating a heat | fever or an energy ray with respect to the formation layer after drying. When curing is performed by heat, the drying step and the curing step may be performed simultaneously. The antireflection film is applied to an image display device such as a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), or a cathode ray tube display device (CRT). The antireflection film is arranged so that the high refractive index layer is on the image display surface side of the image display device. When the antireflection film has a transparent support, the transparent support side is bonded to the image display surface of the image display device. Further, the antireflection film can be used for a case cover, an optical lens, a spectacle lens, a window shield, a light cover, and a helmet shield.
［実施例］
次に、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。
[Example]
Next, although this invention is demonstrated based on an Example, this invention is not necessarily limited to these.
［製造例］
［高屈折率成分の調整］
高屈折率成分としてオプスターＴＵ４００５（ＪＳＲ社製）を固形分濃度６％となるように希釈して用いた。
[Production example]
[Adjustment of high refractive index component]
Opstar TU4005 (manufactured by JSR) was used as a high refractive index component diluted to a solid content concentration of 6%.
［低屈折率成分の調整］
［低屈折率成分（ａ）の調整］
中空シリカであるスルーリアＴＲ−１１３（触媒化成工業株式会社製）２０ｇにメタクリロキシプロピルトリメトキシシラン４．４ｇと５重量％蟻酸水溶液１．８ｇを混合し７０℃にて１時間撹拌した。ついで、２−ペルフルオロオクチルエチルアクリレート４．６ｇ及び２,２−アゾビスイソブチロニトリル０．２ｇを加えた後、３０分間７０℃にて加熱撹拌した。その後、イソプロピルアルコールを３３３ｇ加え希釈し、低屈折率成分（ａ）とした。
[Adjustment of low refractive index component]
[Adjustment of low refractive index component (a)]
4.4 g of methacryloxypropyltrimethoxysilane and 1.8 g of a 5% by weight aqueous formic acid solution were mixed with 20 g of Sulria TR-113 (manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd.), which is a hollow silica, and stirred at 70 ° C. for 1 hour. Next, after adding 4.6 g of 2-perfluorooctylethyl acrylate and 0.2 g of 2,2-azobisisobutyronitrile, the mixture was heated and stirred at 70 ° C. for 30 minutes. Thereafter, 333 g of isopropyl alcohol was added and diluted to obtain a low refractive index component (a).
［低屈折率成分（b）の調整］
中空シリカであるスルーリアＴＲ−１１３（触媒化成工業株式会社製）２０ｇにメタクリロキシプロピルトリメトキシシラン４．４ｇと５重量％蟻酸水溶液１．８ｇを混合し７０℃にて１時間撹拌した。その後、イソプロピルアルコールを２２１ｇ加え希釈し、低屈折率成分（b）とした。
[Adjustment of low refractive index component (b)]
4.4 g of methacryloxypropyltrimethoxysilane and 1.8 g of a 5% by weight aqueous formic acid solution were mixed with 20 g of Sulria TR-113 (manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd.), which is a hollow silica, and stirred at 70 ° C. for 1 hour. Thereafter, 221 g of isopropyl alcohol was added and diluted to obtain a low refractive index component (b).
［低屈折率成分（c）の調整］
中空シリカであるスルーリアＴＲ−１１３（触媒化成工業株式会社製）２０ｇにイソプロピルアルコールを１１３ｇ加え希釈し、低屈折率成分（c）とした。
[Adjustment of low refractive index component (c)]
113 g of isopropyl alcohol was added to and diluted with 20 g of throughria TR-113 (manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd.), which is a hollow silica, to obtain a low refractive index component (c).
［実施例１］
低屈折率成分（ａ）と高屈折率成分をそれぞれ重量比にて４：６となるように混合した溶液１００重量部に、メチルベンゾイルホルメイトを１重量部添加した。
[Example 1]
1 part by weight of methylbenzoyl formate was added to 100 parts by weight of a solution in which the low refractive index component (a) and the high refractive index component were mixed at a weight ratio of 4: 6.
［比較例１］
低屈折率成分（ａ）と高屈折率成分をそれぞれ重量比にて４：６となるように混合した
［比較例２］
低屈折率成分（ｂ）と高屈折率成分をそれぞれ重量比にて４：６となるように混合した溶液１００重量部に、メチルベンゾイルホルメイトを１重量部添加した。
[Comparative Example 1]
The low refractive index component (a) and the high refractive index component were mixed in a weight ratio of 4: 6, respectively [Comparative Example 2]
1 part by weight of methylbenzoyl formate was added to 100 parts by weight of a solution in which the low refractive index component (b) and the high refractive index component were mixed at a weight ratio of 4: 6.
［比較例３］
低屈折率成分（ｃ）と高屈折率成分をそれぞれ重量比にて４：６となるように混合した溶液１００重量部に、メチルベンゾイルホルメイトを１重量部添加した。
[Comparative Example 3]
1 part by weight of methylbenzoyl formate was added to 100 parts by weight of a solution in which the low refractive index component (c) and the high refractive index component were mixed at a weight ratio of 4: 6.
［比較例４］
低屈折率成分（ａ）のみ１００重量部に、メチルベンゾイルホルメイトを１重量部添加した。
[Comparative Example 4]
1 part by weight of methylbenzoyl formate was added to 100 parts by weight of only the low refractive index component (a).
［反射防止フイルムの作製］
支持基材としてＰＥＴ樹脂フイルム上にハードコート塗料が塗布硬化されているルミクリアＳＲ−ＨＣ（東レ株式会社製）をもちいた。この支持基材上に、バーコーター（＃１０）を用いて実施例１から２及び比較例１から６までに記載した塗料を塗布後１００℃にて１分間乾燥し紫外線を照射し反射防止フイルムを作製した。
[Preparation of antireflection film]
As a supporting substrate, Lumiclear SR-HC (manufactured by Toray Industries, Inc.) in which a hard coat paint was applied and cured on a PET resin film was used. On this support base material, the coating materials described in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 6 were applied using a bar coater (# 10), dried at 100 ° C. for 1 minute, and irradiated with ultraviolet rays to prevent reflection. Was made.
［反射防止フイルムの評価］
作製した反射防止フイルムについて次に示す性能評価を実施し、得られた結果を表１に示した。
[Evaluation of antireflection film]
The produced antireflection film was subjected to the following performance evaluation, and the results obtained are shown in Table 1.
［反射防止性能］
反射防止性能の評価は島津製作所製分光光度計ＵＶ−３１００を用いて４００ｎｍから８００ｎｍの波長範囲にて行い、光線反射率の最小値（ボトム反射率）とデルタ反射率を測定した。
[Antireflection performance]
The antireflection performance was evaluated using a spectrophotometer UV-3100 manufactured by Shimadzu Corporation in the wavelength range of 400 nm to 800 nm, and the minimum value of light reflectance (bottom reflectance) and delta reflectance were measured.
［層分離性］
反射防止フイルムを塗布方向に対して垂直に切断し、その断面を透過型電子顕微鏡 日立製作所製Ｈ−７１００ＦＡにて観察し、中空シリカ粒子によって該塗料成分から構成される層において、表面と逆側に明確な界面を有し、且つ、ハードコート面との間に、明確な中間層（高屈折率層）が確認された場合は評価：○、前記界面及び中間層が確認されない場合は評価：×とした。
[Layer separation]
The antireflection film was cut perpendicularly to the coating direction, and the cross section was observed with a transmission electron microscope H-7100FA manufactured by Hitachi, Ltd. In the case where a clear intermediate layer (high refractive index layer) is confirmed between the hard coat surface and the hard coat surface, the evaluation is: ○, and the case where the interface and the intermediate layer are not confirmed is evaluated: X.
［耐擦傷性］
反射防止フイルムに２５０ｇ／ｃｍ２荷重となるスチールウール（＃００００）を垂直にあて、１ｃｍの長さを１０往復した際に目視される傷の概算本数を記載した。
[Abrasion resistance]
The estimated number of scratches observed when a steel wool (# 0000) with a load of 250 g / cm 2 is vertically applied to the antireflection film and the length of 1 cm is reciprocated 10 times is described.
Claims (9)
Ａ−Ｒ１−Ｒｆ 一般式（I）
Ａ−Ｒ１−ＳｉＲ２ ｎ（ＯＲ２）３−ｎ 一般式（II）
（上記一般式中のＡは反応性二重結合基を示し、Ｒ１は炭素数１から３のアルキレン基及びそれらから導出されるエステル構造を示し、Ｒ２は水素又は炭素数が１から４のアルキル基を示し、Ｒｆはフルオロアルキル基を示し、ｎは０又は１又は２のいずれかを示し、それぞれ側鎖を構造中に持っても良い。） The method for producing an antireflection film according to claim 4, wherein the surface treatment method uses silica particles and a compound represented by the general formula (I) using a compound represented by the general formula (II).
AR 1 -Rf General formula (I)
A-R 1 -SiR 2 n ( OR 2) 3-n Formula (II)
(In the above general formula, A represents a reactive double bond group, R 1 represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms and an ester structure derived therefrom, and R 2 represents hydrogen or an alkyl having 1 to 4 carbon atoms. A group, Rf represents a fluoroalkyl group, n represents 0, 1 or 2, and each may have a side chain in the structure.)
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010084017A (en) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Sekisui Chem Co Ltd | Organic-inorganic hybrid hollow fine particle, anti-reflective resin composition, coating agent for antireflection film, antireflection layered product, and antireflection film |
| JP2010196043A (en) * | 2009-01-28 | 2010-09-09 | Toray Ind Inc | Coating composition, method for producing antireflection film and image display |
| WO2011033976A1 (en) * | 2009-09-18 | 2011-03-24 | 東レ株式会社 | Reflection prevention member and manufacture method for the same |
| US8300314B2 (en) | 2009-09-28 | 2012-10-30 | Stanley Electric Co., Ltd. | Display device |
-
2006
- 2006-09-12 JP JP2006246383A patent/JP2008070415A/en active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010084017A (en) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Sekisui Chem Co Ltd | Organic-inorganic hybrid hollow fine particle, anti-reflective resin composition, coating agent for antireflection film, antireflection layered product, and antireflection film |
| JP2010196043A (en) * | 2009-01-28 | 2010-09-09 | Toray Ind Inc | Coating composition, method for producing antireflection film and image display |
| WO2011033976A1 (en) * | 2009-09-18 | 2011-03-24 | 東レ株式会社 | Reflection prevention member and manufacture method for the same |
| US9423531B2 (en) | 2009-09-18 | 2016-08-23 | Toray Industries, Inc. | Antireflection member and manufacture method for the same |
| US8300314B2 (en) | 2009-09-28 | 2012-10-30 | Stanley Electric Co., Ltd. | Display device |
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