JP5309597B2 - Method for manufacturing antireflection film and image display device - Google Patents

Method for manufacturing antireflection film and image display device Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing an antireflective film, the method being excellent in productivity, by which the antireflective film having excellent antireflection performance is manufactured without requiring a complicated process, and to provide an image display device excellent in surface frictional flaw resistance, alkali resistance and antireflection performance. <P>SOLUTION: The method for manufacturing the antireflective film constitutes two layers different in refractive indexes by a step of applying and drying once a one-liquid type paint composition containing two or more inorganic particles, wherein at least one inorganic particle is surface-coated with a fluorine compound, and the paint composition contains a fluorinated alkyl group containing (meth) acrylate. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、反射防止フイルムの製造方法、および当該製造方法を用いて製造した反射防止フィルムを含む画像表示装置に関する。   The present invention relates to a method for producing an antireflection film, and an image display device including an antireflection film produced by using the production method.

近年、液晶ディスプレイパネル(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)などの普及に伴い、これらの画像表示部の表示面においては、外部の光が反射する、外部映像が映るなどの問題点があるため、表示面に反射防止膜を形成した構造が提案され、用いられている。大きくは、下記の2つの方法が挙げられる。一つは、基材表面に、蒸着法やスパッタリング法により反射防止膜を形成する方法であり(例えば、特許文献1参照)、もう一つの方法は、基材表面に、反射防止用塗布液を塗布し、乾燥させることにより反射防止膜を形成する方法である(例えば、特許文献2参照)。   In recent years, with the spread of liquid crystal display panels (LCD), plasma display panels (PDP), etc., there are problems such as reflection of external light and reflection of external images on the display surfaces of these image display units. A structure in which an antireflection film is formed on the display surface has been proposed and used. In general, the following two methods can be mentioned. One is a method of forming an antireflection film on the surface of the substrate by vapor deposition or sputtering (see, for example, Patent Document 1), and the other method is to apply an antireflection coating solution on the surface of the substrate. This is a method of forming an antireflection film by applying and drying (for example, see Patent Document 2).

また、いずれの方法によっても、より広い波長領域において反射率を低減するために、屈性率の高い材料からなる層と屈折率の低い材料からなる層を積層させた多層の反射防止膜、いわゆるマルチコーティングが一般的に用いられている(例えば、特許文献3参照)。   In any method, in order to reduce the reflectance in a wider wavelength region, a multilayer antireflection film in which a layer made of a material with a high refractive index and a layer made of a material with a low refractive index are laminated, so-called Multi-coating is generally used (see, for example, Patent Document 3).

しかしながら、このような多層膜を形成するためには、屈折率が高い物質からなる高屈折率層を形成した後、その上層に屈折率が低い低屈折率層を形成する必要があり、最低でも2回の工程を必要とするものであり、製造工程が煩雑であるとともに、コストアップ要因となっていた。   However, in order to form such a multilayer film, it is necessary to form a high refractive index layer made of a material having a high refractive index and then to form a low refractive index layer having a low refractive index on the upper layer. The process requires two steps, and the manufacturing process is complicated and increases the cost.

またこれらの反射防止膜は、表示面の最表面に位置するため、表示面に指紋や埃などが付着しやすく、アルカリ性の家庭用洗剤などを使用して拭き取られた場合には、反射防止膜に傷がついたり(耐擦傷性)、アルカリによって膜にダメージを与えるなどの問題があった。   In addition, since these antireflection films are located on the outermost surface of the display surface, fingerprints and dust are likely to adhere to the display surface, and when they are wiped off using an alkaline household detergent, they are antireflective. There were problems such as scratches on the film (abrasion resistance) and damage to the film by alkali.

このような課題に対して、エポキシ基、もしくはアミノ基を有するモノマーと、ジメチルシリコーンオイルと中空シリカとを含有した低屈折率塗剤を用いることで解決できている。しかしながら、反射率が1%より高く、本来の反射防止膜の特性が損なわれ、かつ高屈折率層の上に低屈折率層を積層させた構成をとっているため、製造工程が煩雑となっている(例えば、特許文献4参照)。   Such a problem can be solved by using a low refractive index coating agent containing a monomer having an epoxy group or amino group, dimethyl silicone oil and hollow silica. However, the reflectance is higher than 1%, the characteristics of the original antireflection film are impaired, and the low refractive index layer is laminated on the high refractive index layer, so that the manufacturing process becomes complicated. (For example, see Patent Document 4).

一方、低屈折率層に、エチレン性フッ素重合体を用い、低屈折率層と高屈折率層を1回の工程で形成する報告があるが、耐擦傷性、反射防止性が良好なものの、耐アルカリ性については言及されていない(例えば、特許文献5参照)。   On the other hand, although there is a report that an ethylenic fluoropolymer is used for the low refractive index layer and the low refractive index layer and the high refractive index layer are formed in one step, the scratch resistance and antireflection properties are good, No mention is made of alkali resistance (for example, see Patent Document 5).

このように、煩雑な工程を行わずに優れた表面耐擦傷性、耐アルカリ性を有し、さらには優れた反射防止性を有する反射防止フィルムは未だ提案されておらず、本フィルムの開発は画像表示装置として好適に使用できるものとなる。
特開平6−067019号公報 特開平6−136062号公報 特開平7−005452号公報 特開2007−225930号公報 特開2007−39619号公報
Thus, an antireflection film having excellent surface scratch resistance and alkali resistance without performing complicated steps and further having excellent antireflection properties has not yet been proposed, and the development of this film is an image. It can be suitably used as a display device.
Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-0667019 JP-A-6-136062 JP-A-7-005452 JP 2007-225930 A JP 2007-39619 A

本発明の目的は、生産性に優れた反射防止フイルムの製造方法であり、煩雑な工程を行わずに優れた反射防止性を有する反射防止フイルムの製造方法、および該製造方法により得られた反射防止フィルムを含む画像表示装置を提供することにある。本発明のさらなる目的は、優れた表面耐擦傷性、耐アルカリ性、反射防止性を有する反射防止フィルムの製造方法、および該製造方法により得られた反射防止フィルムを含む画像表示装置を提供することにある。   An object of the present invention is a method for producing an antireflection film excellent in productivity, a method for producing an antireflection film having excellent antireflection properties without performing complicated steps, and a reflection obtained by the production method. An object of the present invention is to provide an image display device including a prevention film. A further object of the present invention is to provide a method for producing an antireflection film having excellent surface scratch resistance, alkali resistance and antireflection properties, and an image display device comprising the antireflection film obtained by the production method. is there.

上記課題を解決するため、本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、以下の発明を完成させた。すなわち、本発明は以下の通りである。
(1) 2種類以上の無機粒子を含む1液の塗料組成物を、1回塗布乾燥後、熱またはエネルギー線を照射して硬化する工程により、屈折率の異なる2層を構成する反射防止フイルムの製造方法であって、
少なくとも1種類の無機粒子はフッ素化合物による表面処理がされており、
前記塗料組成物は、開始剤、及びフッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートを含み、
前記フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートの量は、塗料組成物の全固形分100重量部に対し、5〜40重量部であり、
前記フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートは、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(a)と、フッ素化アルキル基と活性水素とを有する化合物(b)とをマイケル付加反応することで得られるフッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートであり、
前記フッ素化アルキル基と活性水素とを有する化合物(b)は、下記一般式(1)で表される化合物または下記一般式(2)で表される化合物であることを特徴とする、反射防止フイルムの製造方法。
一般式(1)
Rf(CH ZH (1)
〔式中、mは0〜20の整数である。Rfは−C 2n+1 (nは1〜20の整数である。)である。Zは、炭素数1〜6のアルキル基と共有結合した窒素原子、硫黄原子、又は、−SO −NR−(Rは炭素数1〜6のアルキル基である。)である。〕
一般式(2)

Figure 0005309597
〔式中、Yは酸素原子、または硫黄原子であり、pとqは同一でも異なっていても良い1〜4の整数であり、RfとRf は同一でも異なっていても良い−C 2n+1 (nは1〜20の整数である。)である。〕
(2) フッ素化合物により表面処理された無機粒子がシリカ粒子であり、他の無機粒子が該シリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子であることを特徴とする、前記(1)に記載の反射防止フイルムの製造方法。
(3) 前記表面処理が、前記シリカ粒子を下記の群(I)から選ばれる化合物で処理し、更に下記の群(II)から選ばれる化合物で処理することを特徴とする、前記(2)に記載の反射防止フイルムの製造方法。
群(I):
アクリロキシエチルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシブチルトリメトキシシラン、アクリロキシペンチルトリメトキシシラン、アクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、アクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシブチルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、およびこれら化合物中のメトキシ基が他のアルコキシル基および水酸基に置換された化合物。
群(II):
2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフロオロプロピルアクリレート、2−パーフルオロブチルエチルアクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロデシルエチルアクリレート、2−パーフルオロ−3−メチルブチルエチルアクリレート、3−パーフルオロ−3−メトキシブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロ−5−メチルヘキシルエチルアクリレート、3−パーフルオロ−5−メチルヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロ−7−メチルオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ドデカフルオロヘプチルアクリレート、ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、ヘキサフルオロブチルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、2−パーフルオロブチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロデシルエチルメタクリレート、2−パーフルオロ−3−メチルブチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−3−メチルブチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロ−5−メチルヘキシルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−5−メチルヘキシル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロ−7−メチルオクチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−7−メチルオクチルエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、1−トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロブチルメタクリレート。
(4) 前記シリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子が、金属酸化物であり、
該金属酸化物が、インジウム含有酸化スズ(ITO)及び/またはアンチモン含有酸化スズ(ATO)であることを特徴とする、前記(2)又は(3)に記載の反射防止フイルムの製造方法。
(5) 前記(1)〜(4)のいずれかに記載の製造方法にて得られた反射防止フィルム。
(6) 前記(5)の反射防止フイルムを設けたことを特徴とする画像表示装置。 In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have intensively studied and as a result, completed the following invention. That is, the present invention is as follows.
(1) An antireflection film comprising two layers having different refractive indexes by a step of coating and drying a one-component coating composition containing two or more types of inorganic particles by irradiation with heat or energy rays and then curing. A manufacturing method of
At least one kind of inorganic particles is surface-treated with a fluorine compound,
The coating composition includes an initiator and a fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate,
The amount of the fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate is 5 to 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total solid content of the coating composition,
The fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate is a Michael addition reaction between a compound (a) having two or more (meth) acryloyl groups and a compound (b) having a fluorinated alkyl group and active hydrogen. A fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate obtained in
The compound (b) having the fluorinated alkyl group and active hydrogen is a compound represented by the following general formula (1) or a compound represented by the following general formula (2). Film production method.
General formula (1)
Rf (CH 2 ) m ZH (1)
[In formula, m is an integer of 0-20. Rf is -C n F 2n + 1 (n is an integer from 1 to 20.). Z is a nitrogen atom, a sulfur atom , or —SO 2 —NR— (R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms) covalently bonded to an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. ]
General formula (2)
Figure 0005309597
[Wherein, Y is an oxygen atom or a sulfur atom, p and q are the same or different integers of 1 to 4, and Rf and Rf 1 may be the same or different -C n F 2n + 1 (n is an integer of 1 to 20). ]
(2) The reflection according to (1), wherein the inorganic particles surface-treated with a fluorine compound are silica particles, and the other inorganic particles are inorganic particles having a higher refractive index than the silica particles. Method for manufacturing prevention film.
(3) The surface treatment is characterized in that the silica particles are treated with a compound selected from the following group (I) and further treated with a compound selected from the following group (II). A method for producing an antireflection film as described in 1. above.
Group (I):
Acryloxyethyltrimethoxysilane, acryloxypropyltrimethoxysilane, acryloxybutyltrimethoxysilane, acryloxypentyltrimethoxysilane, acryloxyhexyltrimethoxysilane, acryloxyheptyltrimethoxysilane, methacryloxyethyltrimethoxysilane, methacryloxy Roxypropyltrimethoxysilane, methacryloxybutyltrimethoxysilane, methacryloxyhexyltrimethoxysilane, methacryloxyheptyltrimethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, and other methoxy groups in these compounds A compound substituted with an alkoxyl group and a hydroxyl group.
Group (II):
2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl acrylate, 2-perfluorobutyl ethyl acrylate, 3-perfluorobutyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-par Fluorohexylethyl acrylate, 3-perfluorohexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorooctylethyl acrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorodecylethyl acrylate, 2-perfluoro- 3-methylbutylethyl acrylate, 3-perfluoro-3-methoxybutyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-5-methylhexylethyl acrylate, 3-perfluoro-5-methyl Hexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-7-methyloctyl-2-hydroxypropyl acrylate, tetrafluoropropyl acrylate, octafluoropentyl acrylate, dodecafluoroheptyl acrylate, hexadecafluorononyl acrylate, hexafluorobutyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl methacrylate, 2-perfluorobutylethyl methacrylate, 3-perfluorobutyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro Octylethyl methacrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluorodecylethyl methacrylate, -Perfluoro-3-methylbutylethyl methacrylate, 3-perfluoro-3-methylbutyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-5-methylhexylethyl methacrylate, 3-perfluoro-5-methylhexyl-2- Hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, 3-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, dodecafluoroheptyl methacrylate, hexadeca Fluorononyl methacrylate, 1-trifluoromethyl trifluoroethyl methacrylate, hexafluorobutyl methacrylate.
(4) Inorganic particles having a refractive index higher than that of the silica particles are metal oxides,
The method for producing an antireflection film according to (2) or (3), wherein the metal oxide is indium-containing tin oxide (ITO) and / or antimony-containing tin oxide (ATO).
(5) An antireflection film obtained by the production method according to any one of (1) to (4).
(6) An image display device comprising the antireflection film of (5).

本発明によれば、1液の塗料組成物を1回塗布乾燥するのみで、支持基材上に屈折率の異なる2層を構成することが可能なため、良好な反射防止性能を示す反射防止フイルムを成形可能であり、反射防止フイルムの製造工程を簡略化可能となるため、生産性を向上することができる。また本発明の製造方法によると、耐擦傷性、耐アルカリ性が良好な反射防止フイルムを提供することができる。さらには、反射防止フィルム上にハードコート層などの機能性多層構造などを形成して画像表示装置に用いることで、生産性に優れた画像表示装置を提供できる。   According to the present invention, it is possible to form two layers having different refractive indexes on a supporting substrate by only applying and drying a single coating composition once, so that the antireflection exhibiting good antireflection performance. Since the film can be formed and the manufacturing process of the antireflection film can be simplified, productivity can be improved. Further, according to the production method of the present invention, an antireflection film having good scratch resistance and alkali resistance can be provided. Furthermore, by forming a functional multilayer structure such as a hard coat layer on an antireflection film and using it in an image display device, an image display device with excellent productivity can be provided.

以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、2種類以上の無機粒子を含む1液の塗料組成物であり、該塗料組成物中の少なくとも1種類の無機粒子にはフッ素化合物による表面処理がされており、さらに該塗料組成物がフッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートを含む場合に、この塗料組成物を支持基材に1回塗布乾燥する工程のみにより、支持基材上に屈折率の異なる2層を構成し、良好な反射防止性能、耐擦傷性、耐アルカリ性を有するフイルムを製造することを見いだした。   As a result of intensive studies, the present inventors have obtained a one-component coating composition containing two or more types of inorganic particles, and at least one type of inorganic particles in the coating composition has been surface-treated with a fluorine compound. Furthermore, when the coating composition contains a fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate, the refractive index of the coating composition is different on the supporting substrate only by applying and drying the coating composition to the supporting substrate once. It has been found that a film comprising two layers and having good antireflection performance, scratch resistance and alkali resistance can be produced.

さらに本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、塗料を塗布乾燥した際に低屈折率層となるフッ素化合物による表面処理がされた無機粒子と、塗料を塗布乾燥した際に高屈折率層となる他の無機粒子とを混合し、さらにフッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートを添加した塗料組成物を用いることにより、該塗料組成物を支持基材に1回塗布乾燥する工程により、支持基材上に屈折率の異なる2層を構成し、良好な反射防止性能、耐擦傷性、耐アルカリ性を有するフイルムを製造した。なお、本発明の反射防止フイルムの好ましい態様の一つは、フッ素化合物による表面処理がされた無機粒子由来の低屈折率層と、さらに該低屈折率層の下でありかつ支持基材の上に他の無機粒子が積層した高屈折率層が形成された反射防止フィルムである。   Furthermore, as a result of intensive studies, the present inventors have found that inorganic particles that have been surface-treated with a fluorine compound that becomes a low refractive index layer when the paint is applied and dried, and a high refractive index layer when the paint is applied and dried. The coating composition is mixed with other inorganic particles and further added with a fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate, and the coating composition is applied to the supporting substrate once and dried. Two layers having different refractive indexes were formed on the material to produce a film having good antireflection performance, scratch resistance and alkali resistance. One of the preferred embodiments of the antireflection film of the present invention is a low refractive index layer derived from inorganic particles surface-treated with a fluorine compound, and further under the low refractive index layer and above the support substrate. And an antireflection film having a high refractive index layer formed by laminating other inorganic particles.

また、本発明は該反射防止フイルムを設けた画像表示装置を含む。
[反射防止フイルム]
反射防止フイルムは反射防止膜と同意であり、その必要性や要求される性能などは特開昭59−50401号公報に記載されているように、好ましくは0.03以上、より好ましくは0.05以上の屈折率差を有する2層を支持機材上に積層させることで構成された態様である。また支持基材上の2層の屈折率差は5.0以下であることが好ましい。
The present invention also includes an image display device provided with the antireflection film.
[Anti-reflective film]
The antireflection film agrees with the antireflection film, and its necessity and required performance are preferably 0.03 or more, more preferably 0.00, as described in JP-A-59-50401. This is an aspect constituted by laminating two layers having a refractive index difference of 05 or more on a support material. Moreover, it is preferable that the refractive index difference of two layers on a support base material is 5.0 or less.

また反射防止フィルムにおいては、支持基材から計測し最も離れた層が低屈折率層であることがさらに好ましい。つまり支持基材、高屈折率層、低屈折率層がこの順に積層された態様が好ましい。なお支持基材については後述するが、支持基材と高屈折率層の間にはハードコート層などの他の層を設ける事も可能である。   In the antireflection film, it is more preferable that the most distant layer measured from the support substrate is a low refractive index layer. That is, a mode in which a supporting substrate, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are laminated in this order is preferable. In addition, although a support base material is mentioned later, it is also possible to provide other layers, such as a hard-coat layer, between a support base material and a high refractive index layer.

屈折率差とは、隣接する層間の屈折率を相対的に比較した値であり、相対的に屈折率が低い層を低屈折率層と呼び、相対的に屈折率が高い層を高屈折率層と呼ぶ。   The difference in refractive index is a value obtained by relatively comparing the refractive indexes between adjacent layers. A layer having a relatively low refractive index is called a low refractive index layer, and a layer having a relatively high refractive index is a high refractive index. Call a layer.

本発明の反射防止フイルムの製造方法によれば、2種類以上の無機粒子を含む1液の塗料組成物を1回塗布乾燥する工程によって、屈折率の異なる2層を有する反射防止フィルムを製造することができる。より好ましい態様によれば、2種類以上の無機粒子を含む1液の塗料組成物を1回塗布乾燥する工程によって、支持基材上に高屈折率層と、該高屈折率層上に低屈折率層が構成された反射防止フイルムを製造することができる。   According to the method for producing an antireflective film of the present invention, an antireflective film having two layers having different refractive indexes is produced by applying and drying a one-component coating composition containing two or more kinds of inorganic particles once. be able to. According to a more preferred embodiment, a single coating composition containing two or more kinds of inorganic particles is applied and dried once, thereby a high refractive index layer on the support substrate and a low refractive index on the high refractive index layer. An antireflection film having an index layer can be produced.

本発明において1液の塗料組成物から2層を構成する原理としては、2種類以上の無機粒子の表面自由エネルギー差をドライビングフォースとして、相分離構造を形成するものと考えられる。表面自由エネルギーが低いほど無機粒子は空気層側へ移動しやすいと考えられ、また比重が小さいほど上層側へ移動しやすいと考えられる。   In the present invention, the principle of constituting two layers from one liquid coating composition is considered to form a phase separation structure using the surface free energy difference of two or more kinds of inorganic particles as a driving force. It is considered that the lower the surface free energy, the easier the inorganic particles move to the air layer side, and the smaller the specific gravity, the easier it is to move to the upper layer side.

なおこのような本発明の製造方法によって得られる反射防止フィルムには、高屈折率層と低屈折率層との間には明確な界面があることが望ましい。   In addition, in the antireflection film obtained by such a production method of the present invention, it is desirable that there is a clear interface between the high refractive index layer and the low refractive index layer.

本発明における明確な界面とは、1つの層と他の層とが区別可能な状態をいう。区別可能な界面とは、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて断面を観察することにより判断することができる界面をいう。   A clear interface in the present invention refers to a state in which one layer can be distinguished from another layer. The distinguishable interface refers to an interface that can be determined by observing a cross section using a transmission electron microscope (TEM).

反射防止フイルムとして良好な性能を示すには、分光測定において好ましくは1.0%以下、より好ましくは0.5%以下である。また反射率は小さい程好ましく特に下限はないが、0.01%程度の反射率であれば反射防止フィルムとして十分な値と考えられる。最低反射率とは、光線反射スペクトルを測定した際に400nmから800nmの波長領域にて反射率が最低になった値を指す。フイルムの反射防止性能を比較する場合、最低反射率は一つの指標となり、最低反射率の値が小さいほど反射防止性能が良好であると言える。   In order to show good performance as an antireflection film, it is preferably 1.0% or less, more preferably 0.5% or less in spectroscopic measurement. The reflectance is preferably as small as possible, but there is no particular lower limit. However, a reflectance of about 0.01% is considered to be a sufficient value as an antireflection film. The minimum reflectance refers to the value at which the reflectance is lowest in the wavelength region from 400 nm to 800 nm when the light reflection spectrum is measured. When comparing the antireflection performance of films, the minimum reflectance is an index, and it can be said that the smaller the minimum reflectance value, the better the antireflection performance.

また、反射防止フイルムとして良好な性質を示すには、さらに透明性が高いことが望ましい。透明性が低い反射防止フィルムを画像表示装置に用いた場合、画像彩度の低下などによる画像表示装置に画質低下が生じるために好ましくない。本発明の反射防止フィルムは透明性の評価としてヘイズ値を用いた。ヘイズはJIS K 7136に規定された透明性材料の濁りの指標である。ヘイズは小さいほど透明性が高いことを示す。反射防止フイルムのヘイズ値としては好ましくは3.0%以下であり、より好ましくは1.0%以下である。またヘイズは低いほど透明性の点で好ましいものの、0%とすることは困難であり、現実的な下限値は0.01%程度と思われる。ヘイズ値が3.0%を超えると、画像劣化が生じる可能性が高くなるため好ましくない。
[塗料組成物]
本発明における塗料組成物は、2種類以上の無機粒子と、フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートを含むものである。さらに少なくとも一種類の無機粒子には、フッ素化合物による表面処理がされている。無機粒子とフッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートについては後述する。
[無機粒子]
本発明の製造方法で用いる塗料組成物には2種類以上の無機粒子を含むが、無機粒子の種類数としては2種以上20種以下が好ましく、より好ましくは2種以上10種以下、さらに好ましくは2種以上3種以下である。
Further, in order to exhibit good properties as an antireflection film, it is desirable that the transparency is higher. When an antireflection film with low transparency is used for an image display device, the image display device is deteriorated due to a decrease in image saturation or the like, which is not preferable. The antireflection film of the present invention used a haze value as an evaluation of transparency. Haze is an index of turbidity of a transparent material defined in JIS K 7136. The smaller the haze, the higher the transparency. The haze value of the antireflection film is preferably 3.0% or less, more preferably 1.0% or less. Further, the lower the haze, the better in terms of transparency, but it is difficult to make it 0%, and the practical lower limit is considered to be about 0.01%. If the haze value exceeds 3.0%, the possibility of image deterioration increases, which is not preferable.
[Coating composition]
The coating composition in the present invention contains two or more kinds of inorganic particles and a fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate. Further, at least one kind of inorganic particles is surface-treated with a fluorine compound. The inorganic particles and the fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate will be described later.
[Inorganic particles]
The coating composition used in the production method of the present invention contains two or more types of inorganic particles. The number of types of inorganic particles is preferably 2 or more and 20 or less, more preferably 2 or more and 10 or less, and still more preferably. Is 2 or more and 3 or less.

無機粒子の種類としては、該無機粒子を含む1液の塗料組成物を支持体に1回塗布乾燥した際に屈折率の異なる2層を構成すれば特に限定されないが、例えば、金属原子Na、K,Mg,Ca、Ba,Al,Zn,Fe,Cu、Ti、Sn,In,W,Y,Zr,Sb,Mn,Ga,V,Nb,Ta,Ag,Si,B,Bi,Mo,Ce,Cd,Be,Pb,Euなどから選ばれる少なくとも1つの金属原子を含む無機粒子が挙げられる。また、無機粒子に含まれる金属は複数でも良く、好ましくは1種類以上5種類以下の金属を含む無機粒子を用いてもよい。   The kind of the inorganic particles is not particularly limited as long as the two layers having different refractive indexes are formed when the coating composition of one liquid containing the inorganic particles is applied and dried once on the support. For example, the metal atom Na, K, Mg, Ca, Ba, Al, Zn, Fe, Cu, Ti, Sn, In, W, Y, Zr, Sb, Mn, Ga, V, Nb, Ta, Ag, Si, B, Bi, Mo, Inorganic particles containing at least one metal atom selected from Ce, Cd, Be, Pb, Eu and the like can be mentioned. In addition, the inorganic particles may include a plurality of metals, and preferably, inorganic particles containing one or more and five or less metals may be used.

なお、支持基材上に2層を有する反射防止フィルムの、低屈折率層構成成分として好ましく用いられる無機粒子は、Si,Na,K,Ca,およびMgから選択される元素を含む無機粒子であり、さらに好ましくは、シリカ粒子(SiO)、アルカリ金属フッ化物(NaF,KFなど)、およびアルカリ土類金属フッ化物(CaF、MgFなど)から選ばれる化合物を含む無機粒子であり、耐久性、屈折率などの点からシリカ粒子が特に好ましい。 The inorganic particles that are preferably used as the low refractive index layer component of the antireflection film having two layers on the support substrate are inorganic particles containing an element selected from Si, Na, K, Ca, and Mg. And more preferably inorganic particles containing a compound selected from silica particles (SiO 2 ), alkali metal fluorides (NaF, KF, etc.), and alkaline earth metal fluorides (CaF 2 , MgF 2, etc.), Silica particles are particularly preferable from the viewpoints of durability and refractive index.

低屈折率層構成成分の無機粒子として好ましく用いられるシリカ粒子とは、ケイ素化合物または有機珪素化合物の重合(縮合)体のいずれかからなる組成物を含んでなる粒子を指し、一般例として、SiOなどのケイ素化合物から導出される粒子の総称である。 Silica particles that are preferably used as inorganic particles of the low refractive index layer component refer to particles comprising a composition comprising either a silicon compound or a polymerized (condensed) organic silicon compound. As a general example, SiO A general term for particles derived from silicon compounds such as 2 .

低屈折率層を構成する無機粒子の形状は特に限定されるものではないが、積層後に形成される層の屈折率の観点から球状が好ましく、より好ましくは粒子の内部に空洞を有する、または表面及び内部に細孔を有することが好ましい。無機粒子が多面体構造であると、層中で隙間無く積層する可能性があり、画像表示装置に必要な透明性が得られないことが考えられる。また、粒子の内部に空洞を有する、または表面及び内部に細孔を有する無機粒子を用いることにより層の密度を下げる効果が得られる。特にシリカ粒子の内部に空洞を有する、または表面及び内部に細孔を有することが、該シリカ粒子が本発明の製造方法による反射防止フィルムの低屈折率層に含有され、低屈折率層を好適形成することとなるために好ましい。なお、内部に空洞を有する、または表面及び内部に細孔を有するシリカ粒子のことを、以下中空シリカ粒子と記載する。   The shape of the inorganic particles constituting the low refractive index layer is not particularly limited, but is preferably spherical from the viewpoint of the refractive index of the layer formed after lamination, more preferably has a cavity inside the particle, or the surface And it is preferable to have pores inside. If the inorganic particles have a polyhedral structure, there is a possibility that the inorganic particles are laminated without any gaps in the layer, and it is considered that the transparency required for the image display device cannot be obtained. Moreover, the effect of lowering the density of the layer can be obtained by using inorganic particles having cavities inside the particles or having pores on the surface and inside. In particular, the silica particles have cavities, or have pores on the surface and inside, so that the silica particles are contained in the low refractive index layer of the antireflection film according to the production method of the present invention, and the low refractive index layer is suitable. It is preferable because it is formed. The silica particles having cavities inside or having pores on the surface and inside are hereinafter referred to as hollow silica particles.

低屈折率層に含有される無機粒子の数平均粒子径が1nmよりも小さくなると層中の空隙密度が低下することによる屈折率の上昇や透明度の低下が起こることがあり好ましくなく、無機粒子の数平均粒子径が200nmよりも大きくなると低屈折率層の厚さが厚くなり良好な反射防止性能が得られなくなることがあり好ましくないため、本発明の製造方法で用いられる無機粒子の少なくとも1種は、数平均粒子径が好ましくは1nmから200nm、より好ましくは5nmから180nm、さらに好ましくは10nmから150nmである。なお、中空シリカ粒子の数平均粒子径が上記範囲であることが特に好ましい。   If the number average particle diameter of the inorganic particles contained in the low refractive index layer is smaller than 1 nm, the void density in the layer may decrease, which may cause an increase in refractive index and a decrease in transparency. If the number average particle diameter is larger than 200 nm, the thickness of the low refractive index layer is so thick that it may not be possible to obtain good antireflection performance. Therefore, at least one inorganic particle used in the production method of the present invention is not preferred. Has a number average particle size of preferably 1 nm to 200 nm, more preferably 5 nm to 180 nm, and even more preferably 10 nm to 150 nm. The number average particle diameter of the hollow silica particles is particularly preferably in the above range.

本発明における数平均粒子径とは、透過型電子顕微鏡により求めた粒子径をいう。倍率は50万倍とし、その画面に存在する10個の粒子の外径を測定し、その平均値とした。   The number average particle diameter in the present invention refers to the particle diameter determined by a transmission electron microscope. The magnification was 500,000 times, the outer diameters of 10 particles present on the screen were measured, and the average value was obtained.

低屈折率層中に無機粒子が占める重量比率は、低屈折率層の全構成成分100重量%において無機粒子が1重量%以上90重量%以下であることが好ましく、より好ましくは5重量%以上80重量%以下であり、さらに好ましくは10重量%以上70重量%以下である。低屈折率層の全構成成分100重量%において、無機粒子の含有量が1重量%未満であると、良好な低屈折率が得られないことがあり、また無機粒子の含有量が90重量%を越えると、製膜性や高屈折率層との密着性が低下したり、高屈折率層と低屈折率層との区別可能な界面が失われるなどの不具合を生じることがある。   The weight ratio of the inorganic particles in the low refractive index layer is preferably 1% by weight or more and 90% by weight or less, more preferably 5% by weight or more, with respect to 100% by weight of all components of the low refractive index layer. 80% by weight or less, more preferably 10% by weight or more and 70% by weight or less. When the content of the inorganic particles is less than 1% by weight in 100% by weight of all components of the low refractive index layer, a good low refractive index may not be obtained, and the content of the inorganic particles is 90% by weight Exceeding this may cause problems such as poor film-forming properties and adhesion to the high refractive index layer, and loss of the distinguishable interface between the high refractive index layer and the low refractive index layer.

フッ素化合物による表面処理を施した無機粒子は、好適に低屈折率層を形成することができるため、塗料組成物に用いられる2種類以上の無機粒子の少なくとも1種類の無機粒子には、フッ素化合物による表面処理がされていることが重要である。なお、2種類以上の無機粒子の全ての無機粒子がフッ素化合物による表面処理を施された場合よりも、フッ素化合物による表面処理を施された無機粒子と該表面処理をされていない無機粒子の両方を含む1液の塗料組成物を用いる方が、屈折率差の大きい2層を得ることができるために反射防止性の点で好ましい。   Since inorganic particles that have been surface-treated with a fluorine compound can form a low refractive index layer suitably, at least one inorganic particle of two or more types of inorganic particles used in coating compositions contains a fluorine compound. It is important that the surface treatment is performed. It should be noted that both inorganic particles that have been subjected to a surface treatment with a fluorine compound and inorganic particles that have not been subjected to the surface treatment are compared to the case where all of the inorganic particles of two or more types of inorganic particles have been subjected to a surface treatment with a fluorine compound. It is preferable to use a one-component coating composition containing, from the viewpoint of antireflection properties because two layers having a large refractive index difference can be obtained.

また、フッ素化合物による表面処理を施した無機粒子としては、中空シリカ粒子などのシリカ粒子であることが特に好ましい。   In addition, the inorganic particles subjected to the surface treatment with the fluorine compound are particularly preferably silica particles such as hollow silica particles.

フッ素化合物による表面処理工程は、一段階で行われても良いし、多段階で行われても良い。また、複数の段階でフッ素化合物を用いても良いし、一つの段階のみでフッ素化合物を用いても良い。   The surface treatment process using a fluorine compound may be performed in one stage or in multiple stages. Further, the fluorine compound may be used in a plurality of stages, or the fluorine compound may be used in only one stage.

また無機粒子の表面処理工程にて好ましく用いられるフッ素化合物は、単一化合物でも良いし複数の異なる化合物を用いても良い。   Moreover, the fluorine compound preferably used in the surface treatment step of the inorganic particles may be a single compound or a plurality of different compounds.

フッ素化合物による表面処理とは、無機粒子を化学的に修飾し、無機粒子に含フッ素化合物を導入する工程を指す。   Surface treatment with a fluorine compound refers to a step of chemically modifying inorganic particles and introducing a fluorine-containing compound into the inorganic particles.

無機粒子に直接フッ素化合物を導入する方法としては、1分子中にフッ素セグメントとシリルエーテル基(シリルエーテル基が加水分解されたシラノール基を含む)との両方を持つフルオロアルコキシシラン化合物を少なくとも1種類以上と開始剤とを共に撹拌することにより成される方法がある。しかし無機粒子に直接フッ素化合物を導入する場合、反応性の制御が困難になったり、塗料化後塗布時に塗布斑などが発生しやすくなったりする場合がある。   As a method of directly introducing a fluorine compound into inorganic particles, at least one fluoroalkoxysilane compound having both a fluorine segment and a silyl ether group (including a silanol group obtained by hydrolyzing a silyl ether group) in one molecule is used. There is a method in which the above and the initiator are stirred together. However, when the fluorine compound is directly introduced into the inorganic particles, it may be difficult to control the reactivity, or application spots may easily occur during application after coating.

また無機粒子を化学的に修飾して、無機粒子に含フッ素化合物を導入する更なる方法としては、無機粒子を架橋成分にて処理し、官能基を有したフッ素化合物とつなぎ合わせる方法がある。   Further, as a further method for chemically modifying the inorganic particles and introducing the fluorine-containing compound into the inorganic particles, there is a method in which the inorganic particles are treated with a crosslinking component and are combined with a fluorine compound having a functional group.

架橋成分としては、分子内にフッ素は無いが、1分子中にフッ素化合物と反応可能な部位と、無機粒子と反応可能な部位を少なくとも一カ所ずつ持っている化合物を指し、無機粒子との反応可能な部位としては反応性の観点からシリルエーテルおよびシリルエーテルの加水分解物であることが好ましい。これら化合物は一般的にシランカップリング剤と呼ばれ、例としては、グリシドキシアルコキシシラン類、アミノアルコキシシラン類、アクリロイルシラン類、メタクリロイルシラン類、ビニルシラン類、メルカプトシラン類、などを用いることができる。   A crosslinking component is a compound that contains no fluorine in the molecule but has at least one site capable of reacting with a fluorine compound and one site capable of reacting with inorganic particles in one molecule. A possible site is preferably silyl ether or a hydrolyzate of silyl ether from the viewpoint of reactivity. These compounds are generally called silane coupling agents. For example, glycidoxyalkoxysilanes, aminoalkoxysilanes, acryloylsilanes, methacryloylsilanes, vinylsilanes, mercaptosilanes, etc. may be used. it can.

官能基を有したフッ素化合物としては、フルオロアルキルアルコール、フルオロアルキルエポキシド、フルオロアルキルハライド、フルオロアルキルアクリレート、フルオロアルキルメタクリレート、フルオロアルキルカルボキシレート(酸無水物およびエステル類を含む)、などを用いることができる。   As the fluorine compound having a functional group, fluoroalkyl alcohol, fluoroalkyl epoxide, fluoroalkyl halide, fluoroalkyl acrylate, fluoroalkyl methacrylate, fluoroalkyl carboxylate (including acid anhydrides and esters), and the like can be used. it can.

本発明における無機粒子のフッ素化合物による表面処理のより好ましい形態は、シリカ粒子を下記一般式(I)で示される化合物で処理し、更に下記一般式(II)で示される化合物で処理することが好ましい。   In a more preferred embodiment of the surface treatment of the inorganic particles with the fluorine compound in the present invention, the silica particles are treated with a compound represented by the following general formula (I) and further treated with a compound represented by the following general formula (II). preferable.

A−R−SiR (OR3−n 一般式(I)
A−R−Rf 一般式(II)
(上記一般式中のAは反応性二重結合基を示し、Rは炭素数1から3のアルキレン基およびそれらから導出されるエステル構造を示し、Rは水素または炭素数が1から4のアルキル基を示し、Rfはフルオロアルキル基を示し、nは0または1または2のいずれかを示し、それぞれ側鎖を構造中に持っても良い。)
一般式(I)の具体例としては、アクリロキシエチルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシブチルトリメトキシシラン、アクリロキシペンチルトリメトキシシラン、アクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、アクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシブチルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランおよびこれら化合物中のメトキシ基が他のアルコキシル基および水酸基に置換された化合物を含むものなどが挙げられる。
AR 1 —SiR 2 n (OR 2 ) 3-n General Formula (I)
AR 1 -Rf Formula (II)
(In the above general formula, A represents a reactive double bond group, R 1 represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms and an ester structure derived therefrom, and R 2 represents hydrogen or 1 to 4 carbon atoms. Rf represents a fluoroalkyl group, n represents 0, 1 or 2, and each may have a side chain in the structure.)
Specific examples of the general formula (I) include acryloxyethyltrimethoxysilane, acryloxypropyltrimethoxysilane, acryloxybutyltrimethoxysilane, acryloxypentyltrimethoxysilane, acryloxyhexyltrimethoxysilane, acryloxyheptyltri Methoxysilane, methacryloxyethyltrimethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, methacryloxybutyltrimethoxysilane, methacryloxyhexyltrimethoxysilane, methacryloxyheptyltrimethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxy Examples include silane and compounds in which the methoxy group in these compounds is substituted with other alkoxyl groups and hydroxyl groups. The

一般式(II)の具体例としては、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフロオロプロピルアクリレート、2−パーフルオロブチルエチルアクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロデシルエチルアクリレート、2−パーフルオロ−3−メチルブチルエチルアクリレート、3−パーフルオロ−3−メトキシブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロ−5−メチルヘキシルエチルアクリレート、3−パーフルオロ−5−メチルヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロ−7−メチルオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ドデカフルオロヘプチルアクリレート、ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、ヘキサフルオロブチルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、2−パーフルオロブチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロデシルエチルメタクリレート、2−パーフルオロ−3−メチルブチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−3−メチルブチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロ−5−メチルヘキシルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−5−メチルヘキシル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロ−7−メチルオクチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−7−メチルオクチルエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、1−トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロブチルメタクリレートなどが挙げられる。   Specific examples of the general formula (II) include 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl acrylate, 2-perfluorobutylethyl acrylate, 3-perfluoro Butyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorohexylethyl acrylate, 3-perfluorohexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorooctylethyl acrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2- Perfluorodecylethyl acrylate, 2-perfluoro-3-methylbutylethyl acrylate, 3-perfluoro-3-methoxybutyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-5-methylhexylethyl acrylate 3-perfluoro-5-methylhexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-7-methyloctyl-2-hydroxypropyl acrylate, tetrafluoropropyl acrylate, octafluoropentyl acrylate, dodecafluoroheptyl acrylate, hexa Decafluorononyl acrylate, hexafluorobutyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl methacrylate, 2-perfluorobutylethyl methacrylate, 3-perfluorobutyl- 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluorooctylethyl methacrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perful Rhodecylethyl methacrylate, 2-perfluoro-3-methylbutylethyl methacrylate, 3-perfluoro-3-methylbutyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-5-methylhexylethyl methacrylate, 3-perfluoro-5 -Methylhexyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, 3-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, dodeca Fluoroheptyl methacrylate, hexadecafluorononyl methacrylate, 1-trifluoromethyltrifluoroethyl methacrylate, hexaf Examples include bromobutyl methacrylate.

分子中にフッ素セグメントを有さない一般式(I)で示される化合物を用いることにより、簡便な反応条件で無機粒子表面を修飾することが可能となるばかりではなく、無機粒子表面に反応性を制御しやすい官能基を導入することが可能となり、その結果、反応性二重結合を有するフッ素セグメントを無機粒子表面で反応させることが可能になる。   By using the compound represented by the general formula (I) having no fluorine segment in the molecule, it becomes possible not only to modify the surface of the inorganic particles under simple reaction conditions, but also to make the surface of the inorganic particles reactive. It becomes possible to introduce a functional group that is easy to control, and as a result, it is possible to react a fluorine segment having a reactive double bond on the surface of the inorganic particles.

低屈折率層中の全構成成分100重量%において一般式(II)で示す化合物に由来するフッ素化合物が占める重量比率は、0.1重量%から45重量%であることが好ましく、より好ましくは1重量%から40重量%であり、さらに好ましくは5重量%から35重量%である。フッ素化合物の含有量が低屈折率層の全構成成分100重量%において0.1重量%より少ないと、良好な層分離が形成されず、ひいては良好な反射防止性能が得られないし、フッ素化合物が45重量%より多すぎると、溶解性の低下や製膜性の悪化などの不具合が生じる。   The weight ratio of the fluorine compound derived from the compound represented by the general formula (II) in 100% by weight of all components in the low refractive index layer is preferably 0.1% by weight to 45% by weight, more preferably It is 1 to 40% by weight, and more preferably 5 to 35% by weight. When the content of the fluorine compound is less than 0.1% by weight in 100% by weight of all the constituent components of the low refractive index layer, good layer separation is not formed, and consequently, good antireflection performance cannot be obtained. When it is more than 45% by weight, problems such as a decrease in solubility and a deterioration in film forming property occur.

低屈折率層とは支持基材上に積層される層中のうちの1層であり、隣接する1層(フイルム構成層であり空気層を除く)よりも相対的な屈折率が低い層である。なお、上述のように本発明の製造方法により得られる反射防止フィルムは、支持基材、高屈折率層、低屈折率層がこの順に形成されることが好ましい。屈折率を低下させる方法としてフッ素系高分子を用いる方法(特開2002−36457号公報)や密度を低下させる方法(特開平8−83581号公報)が知られているが、前述のように低屈折率層にはフッ素化合物による表面処理をされた無機粒子を含むことが重要である。前述した無機粒子および一般式(I)、一般式(II)に示される化合物は、本発明で用いられる塗料組成物中では、未反応のままで無機粒子と一般式(I)化合物と一般式(II)化合物が存在しても良いし、無機粒子を一般式(I)化合物と一般式(II)化合物により表面処理して縮合および/または重合体として存在していても良い。   The low refractive index layer is one of the layers laminated on the support substrate, and is a layer having a relative refractive index lower than that of one adjacent layer (excluding the air layer). is there. In addition, as described above, the antireflection film obtained by the production method of the present invention preferably has a support base, a high refractive index layer, and a low refractive index layer formed in this order. As a method for reducing the refractive index, a method using a fluorine-based polymer (Japanese Patent Laid-Open No. 2002-36457) and a method of reducing the density (Japanese Patent Laid-Open No. 8-83581) are known. It is important that the refractive index layer contains inorganic particles that have been surface-treated with a fluorine compound. The inorganic particles and the compounds represented by the general formula (I) and the general formula (II) described above remain unreacted in the coating composition used in the present invention, the inorganic particles, the general formula (I) compound and the general formula. The compound (II) may be present, or the inorganic particles may be present as a condensation and / or polymer by surface treatment with the compound of the general formula (I) and the compound of the general formula (II).

本発明の低屈折率層には前記した物質以外に別途バインダー成分を含んでも良い。バインダー成分としては、熱、活性エネルギー線など硬化可能な樹脂成分であれば限定されるものではないが、本発明のフッ素化合物により表面処理された無機粒子を膜中に保持する観点より、分子中にアルコキシシランやアルコキシシランの加水分解物や反応性二重結合を有していることが好ましい。   The low refractive index layer of the present invention may further contain a binder component in addition to the above substances. The binder component is not limited as long as it is a curable resin component such as heat and active energy rays, but from the viewpoint of retaining the inorganic particles surface-treated with the fluorine compound of the present invention in the molecule. It preferably has an alkoxysilane, a hydrolyzate of alkoxysilane, or a reactive double bond.

続いて高屈折率層に関して説明する。   Next, the high refractive index layer will be described.

高屈折率層とは、支持基材上に積層される層中のうちの1層であり、隣接する層よりも屈折率が高い層をさし、少なくとも一種類以上の無機粒子を含むことが好ましい。高屈折率層構成成分として用いられる無機粒子は特に限定されないが、低屈折率層構成成分として用いられる無機粒子とは異なる無機粒子であることが好ましく、Zr,Ti,Al,In,Zn,Sb,Sn,およびCeよりなる群から選ばれる少なくとも一つの金属の酸化物粒子であることが好ましい。また高屈折率層構成成分として用いられる無機粒子としては、シリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子が好ましく、具体的には酸化ジルコニウム(ZrO)、酸化チタン(TiO)、酸化アルミニウム(Al)、酸化インジウム(In)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO2)、酸化アンチモン(Sb)、およびインジウムスズ酸化物(In)から選ばれる少なくとも一つの金属酸化物であり、特に好ましくはSbやSnなどから導出されるインジウム含有酸化スズ(ITO)やアンチモン含有酸化スズ(ATO)である。 The high refractive index layer is one of the layers laminated on the support substrate, refers to a layer having a higher refractive index than the adjacent layers, and includes at least one kind of inorganic particles. preferable. The inorganic particles used as the high refractive index layer component are not particularly limited, but are preferably inorganic particles different from the inorganic particles used as the low refractive index layer component, Zr, Ti, Al, In, Zn, Sb. Preferably, the oxide particles are at least one metal selected from the group consisting of Sn, Sn, and Ce. The inorganic particles used as the high refractive index layer component are preferably inorganic particles having a higher refractive index than silica particles. Specifically, zirconium oxide (ZrO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), indium oxide (In 2 O 3 ), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2), antimony oxide (Sb 2 O 3 ), and indium tin oxide (In 2 O 3 ) One metal oxide, particularly preferably indium-containing tin oxide (ITO) or antimony-containing tin oxide (ATO) derived from Sb or Sn.

高屈折率層構成成分として好適な無機粒子の数平均粒子径、特に低屈折率層構成成分として好適なシリカ粒子よりも屈折率が高い金属酸化物からなる無機粒子の平均粒子形としては、好ましくは、1nmから150nm、より好ましくは5nmから100nmである。無機粒子の数平均粒子径が1nmよりも小さくなると層中の空隙密度が低下することによる透明度の低下が起こるため好ましくなく、無機粒子の数平均粒子径が150nmよりも大きくなると高屈折率層の厚さが大きくなり良好な反射防止性能が得られなくなり好ましくない。   As the number average particle diameter of inorganic particles suitable as a high refractive index layer constituent, particularly as the average particle shape of inorganic particles made of metal oxide having a higher refractive index than silica particles suitable as a low refractive index layer constituent, Is from 1 nm to 150 nm, more preferably from 5 nm to 100 nm. If the number average particle diameter of the inorganic particles is smaller than 1 nm, it is not preferable because the transparency decreases due to a decrease in the void density in the layer. If the number average particle diameter of the inorganic particles is larger than 150 nm, the high refractive index layer is not preferable. The thickness becomes large, and good antireflection performance cannot be obtained.

高屈折率層構成成分として好適な無機粒子の屈折率、特に低屈折率層構成成分として好適なシリカ粒子よりも屈折率が高い金属酸化物からなる無機粒子の屈折率としては、好ましくは1.60〜2.80、より好ましくは1.60〜2.50である。無機粒子の屈折率が1.60よりも小さくなると高屈折率層の屈折率が低下することがあり、無機粒子の屈折率が2.80よりも大きくなると高屈折率層の屈折率が上昇し、良好な反射防止性能が得られなくなることがある。   The refractive index of inorganic particles suitable as a high refractive index layer constituent, particularly the refractive index of inorganic particles made of a metal oxide having a higher refractive index than silica particles suitable as a low refractive index layer constituent, is preferably 1. It is 60-2.80, More preferably, it is 1.60-2.50. When the refractive index of the inorganic particles is smaller than 1.60, the refractive index of the high refractive index layer may be lowered. When the refractive index of the inorganic particles is larger than 2.80, the refractive index of the high refractive index layer is increased. In some cases, good antireflection performance cannot be obtained.

高屈折率層構成成分として用いられる無機粒子については前述した通りだが、フッ素化合物による表面処理がされた無機粒子がシリカ粒子の場合は、該シリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子であることが特に好ましく、このような該シリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子としては、数平均粒子径が1から150nmであり、かつ屈折率が1.60から2.80の金属酸化物が好ましく用いられる。そのような金属酸化物の具体例としては、インジウム含有酸化スズ(ITO)及び/またはアンチモン含有酸化スズ(ATO)が挙げられる。   As described above for the inorganic particles used as the high refractive index layer component, if the inorganic particles that have been surface-treated with a fluorine compound are silica particles, the inorganic particles may have higher refractive index than the silica particles. Particularly preferred as such inorganic particles having a higher refractive index than the silica particles are metal oxides having a number average particle diameter of 1 to 150 nm and a refractive index of 1.60 to 2.80. . Specific examples of such metal oxides include indium-containing tin oxide (ITO) and / or antimony-containing tin oxide (ATO).

本発明の製法に用いられる塗料組成物において、フッ素化合物による表面処理がされた無機粒子がシリカ粒子であり、他の無機粒子が該シリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子である場合、支持基材上に塗料組成物を1回塗布乾燥することで、該シリカ粒子を含有した層と、該シリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子を含有する高屈折率層を好適に形成できるため好ましい態様である。   In the coating composition used in the production method of the present invention, when the inorganic particles surface-treated with the fluorine compound are silica particles and the other inorganic particles are inorganic particles having a higher refractive index than the silica particles, A preferred embodiment because a layer containing the silica particles and a high refractive index layer containing inorganic particles having a higher refractive index than the silica particles can be suitably formed by applying and drying the coating composition once on the material. It is.

本発明で用いる塗料組成物としてさらに、バインダー成分を含むことができる。バインダー成分としては特に限定するものではないが、製造性の観点より、熱および/または活性エネルギー線にて硬化するバインダー(樹脂)であることが好ましく、バインダーとしての樹脂成分は一種類であっても良いし、2種類以上を混合して用いても良い。熱で硬化する場合、製造コストよりその温度は室温から200℃であることが好ましいし、活性エネルギー線の場合は汎用性よりEBおよび/またはUV線であることが好ましい。
[フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレート]
本発明の製造方法で用いる塗料組成物としては、少なくとも1種類以上の無機粒子がフッ素化合物による表面処理がされた、2種類以上の無機粒子を含み、さらにフッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートを含むことが重要である。より好ましい態様としては、前記したフッ素化合物による表面処理がされたシリカ粒子などの低屈折率層構成成分として好適な粒子と、前記した金属酸化物粒子などの高屈折率層構成成分として好適な粒子と、さらにフッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートを含むものである。
The coating composition used in the present invention may further contain a binder component. Although it does not specifically limit as a binder component, It is preferable that it is a binder (resin) hardened | cured with a heat | fever and / or active energy ray from a viewpoint of manufacturability, and the resin component as a binder is one type. Alternatively, two or more types may be mixed and used. In the case of curing with heat, the temperature is preferably from room temperature to 200 ° C. from the production cost, and in the case of active energy rays, EB and / or UV rays are preferred from the viewpoint of versatility.
[Fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate]
The coating composition used in the production method of the present invention includes two or more types of inorganic particles in which at least one type of inorganic particles are surface-treated with a fluorine compound, and further contains a fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate. It is important to include. As a more preferred embodiment, particles suitable as a low refractive index layer constituent component such as silica particles subjected to surface treatment with the aforementioned fluorine compound, and particles suitable as a high refractive index layer constituent component such as the above metal oxide particles And a fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate.

本発明の製造方法で用いる塗料組成物中のフッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートは特に限定されないが、例えば2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(a)と、フッ素化アルキル基と活性水素とを有する化合物(b)から得られるフッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレート化合物であることが好ましい。2個以上の(メタ)アクリロイル基とは、アクリロイル基とメタクリロイル基とを総称するものである。フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートは10個以下の(メタ)アクリロイル基を有することが好ましい。フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートとしてより好ましくは、2個以上6個以下の(メタ)アクリロイル基を有する場合である。   The fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate in the coating composition used in the production method of the present invention is not particularly limited. For example, the compound (a) having two or more (meth) acryloyl groups, a fluorinated alkyl group, A fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate compound obtained from the compound (b) having active hydrogen is preferable. Two or more (meth) acryloyl groups are a generic term for acryloyl groups and methacryloyl groups. The fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate preferably has 10 or less (meth) acryloyl groups. More preferably, the fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate has 2 or more and 6 or less (meth) acryloyl groups.

ここでフッ素化アルキル基とは、アルキル基中の全ての水素原子がフッ素原子に置換されたもの(パーフルオロアルキル基)と、アルキル基中の一部の水素原子がフッ素原子に置換されたもの(例えば、HCFCFCFCF−など)の総称である。なお、該フッ素化アルキル基中に酸素原子を含むもの(例えば、CF−(OCFCF−など)も本定義中に含めるものとする。 Here, the fluorinated alkyl group is one in which all hydrogen atoms in the alkyl group are substituted with fluorine atoms (perfluoroalkyl group), and one in which some hydrogen atoms in the alkyl group are substituted with fluorine atoms. (For example, HCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 — etc.) is a general term. Incidentally, those containing an oxygen atom in the fluorinated alkyl group (e.g., CF 3 - (OCF 2 CF 2) 2 - , etc.) is also included in this definition.

フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートの単独使用、あるいはこれを含む硬化性組成物の使用は、反射防止膜などの光学材料として、屈折率を低下させるなどの光学特性と架橋反応によって三次元構造を形成し、耐擦傷性、耐アルカリ性を発現させるために有用である。また、フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートは、低屈折率層中および/または低屈折率層と高屈折率層の界面に存在していると考えられる。   The use of fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylates alone, or the use of curable compositions containing them, as an optical material such as an antireflection film, has a three-dimensional structure due to optical properties such as reducing the refractive index and crosslinking reaction. It is useful for forming scratches and exhibiting scratch resistance and alkali resistance. The fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate is considered to exist in the low refractive index layer and / or at the interface between the low refractive index layer and the high refractive index layer.

2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(a)としては、具体的には以下の化合物が挙げられる。   Specific examples of the compound (a) having two or more (meth) acryloyl groups include the following compounds.

まず、2官能の(メタ)アクリレートとしては、例えば、1,3−ブチレングリコールジアクリレート(例えば、化薬サートマー株式会社製SR−212など)、1,4−ジオールジアクリレート(例えば、大阪有機化学株式会社製ビスコート#195など)、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(例えば、共栄社化学株式会社製1,6HX−A)、エチレンオキシド(以下EOと略す)変性1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(例えば、サンノプコ株式会社製RCC13−361など)、エピクロルヒドリン(以下、ECHと略す)変性1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(例えば、日本化薬株式会社製カヤラッドR−167など)、1,9−ノナンジオールジアクリレート(例えば、大阪有機化学株式会社製ビスコート#215など)、ジエチレングリコールジアクリレート(例えば、日本油脂株式会社製ブレンマーADE−100)、ECH変性ヘキサヒドロフタル酸ジアクリレート(例えば、長瀬化成株式会社製デナコールアクリレートDA−722など)、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート(共栄社化学株式会社製ライトアクリレートHPP−Aなど)、ネオペンチルグリコールジアクリレート(例えば、日本化薬株式会社製カヤラッドNPGDAなど)、EO変性ネオペンチルグリコールジアクリレート(例えば、サンノプコ株式会社製フォトマー4160など)、プロピレンオキシド(以下、POと略す)変性ネオペンチルグリコールジアクリレート(例えば、化薬サートマー株式会社製SR−9003など)、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジアクリレート(例えば、東亞合成株式会社製アロニックスM−233など)、ポリエチレングリコールジアクリレート(例えば、日本油脂株式会社製ブレンマーADE−200など)、ポリプロピレングリコールジアクリレート(例えば、日本油脂株式会社製ブレンマーADP−200など)、ポリエチレングリコール−プロピレングリコール−ポリエチレングリコールジアクリレート(例えば、日本油脂株式会社製ブレンマーADCシリーズなど)、ポリテトラメチレンジグリコールジアクリレート(例えば、共栄社化学株式会社製ライトアクリレートPTMGA−250など)、ポリエチレングリコールジアクリレート(例えば、共栄社化学株式会社製ライトアクリレート3EG−Aなど)、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート(例えば、ダイセルUCB株式会社製IRR214など)、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(例えば、大日本インキ化学工業株式会社製LUMICURE DCA−200)、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリレート(例えば、日本化薬株式会社製カヤラッドR−604など)、トリグリセロールジアクリレート(例えば、共栄社化学株式会社製エポキシエステル80MFAなど)などが挙げられる。   First, as the bifunctional (meth) acrylate, for example, 1,3-butylene glycol diacrylate (for example, SR-212 manufactured by Kayaku Sartomer Co., Ltd.), 1,4-diol diacrylate (for example, Osaka Organic Chemistry) Biscoat # 195, etc.), 1,6-hexanediol diacrylate (for example, 1,6HX-A manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), ethylene oxide (hereinafter abbreviated as EO) modified 1,6-hexanediol diacrylate (for example, RCC13-361 manufactured by San Nopco Co., Ltd.), epichlorohydrin (hereinafter abbreviated as ECH) modified 1,6-hexanediol diacrylate (eg, Kayrad R-167 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 1,9-nonanediol Diacrylate (for example, Biscoe manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) # 215 etc.), diethylene glycol diacrylate (for example, Bremer ADE-100 manufactured by NOF Corporation), ECH-modified hexahydrophthalic acid diacrylate (for example, Denacol acrylate DA-722 manufactured by Nagase Kasei Co., Ltd.), hydroxypivalic acid, etc. Neopentyl glycol diacrylate (such as Kyoeisha Chemical Co., Ltd. light acrylate HPP-A), neopentyl glycol diacrylate (such as Kayrad NPGDA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), EO-modified neopentyl glycol diacrylate (such as San Nopco shares) Company photomer 4160), propylene oxide (hereinafter abbreviated as PO) modified neopentyl glycol diacrylate (eg, SR-9003 manufactured by Kayaku Sartomer Co., Ltd.), Phosphoric acid-modified pentaerythritol diacrylate (for example, Aronix M-233 manufactured by Toagosei Co., Ltd.), polyethylene glycol diacrylate (for example, Bremer ADE-200 manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.), polypropylene glycol diacrylate (for example, Nippon Oil & Fats, Inc.) Bremermer ADP-200, etc.), polyethylene glycol-propylene glycol-polyethylene glycol diacrylate (for example, Bremermer ADC series, manufactured by NOF Corporation), polytetramethylene diglycol diacrylate (for example, light manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) Acrylate PTMGA-250), polyethylene glycol diacrylate (for example, Light Acrylate 3EG-A manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), dimethylo Dicyclopentane diacrylate (for example, IRR214 manufactured by Daicel UCB Corporation), tricyclodecane dimethanol diacrylate (for example, LUMICURE DCA-200 manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), neopentyl glycol modified trimethylolpropane di Examples thereof include acrylates (for example, Kayrad R-604 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and triglycerol diacrylates (for example, epoxy ester 80MFA manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.).

3官能の(メタ)アクリレートとしては、例えば、EO変性グリセロールアクリレート(例えば、第一工業製薬株式会社製ニューフロンティアGE3Aなど)、PO変性グリセロールトリアクリレート(例えば、荒川化学株式会社製ビームセット720)、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)(例えば、第一工業製薬株式会社製ニューフロンティアPET−3など)、EO変性リン酸トリアクリレート(例えば、大阪有機化学株式会社製ビスコート3A)、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMTPA)(例えば、第一工業製薬株式会社製ニューフロンティアTMTPなど)、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート(例えば、ダイセルUCB株式会社製Ebecryl2047など)、HPA変性トリメチロールプロパントリアクリレート(例えば、日本化薬株式会社製カヤラッドTHE―330など)、(EO)あるいは(PO)変性トリメチロールプロパントリアクリレート(例えば、大日本インキ化学工業株式会社製LUMICURE ETA−300、第一工業製薬株式会社製ニューフロンティアTMP−3Pなど)、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート(例えば、日本化薬株式会社製カヤラッドD−330など)、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート(例えば、日立化成株式会社製ファンクリルFA−731Aなど)などが挙げられる。   Examples of the trifunctional (meth) acrylate include, for example, EO-modified glycerol acrylate (for example, New Frontier GE3A manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), PO-modified glycerol triacrylate (for example, Beam Set 720 manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd.), Pentaerythritol triacrylate (PETA) (for example, New Frontier PET-3 manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), EO-modified phosphate triacrylate (for example, Biscoat 3A manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), trimethylolpropane triacrylate ( TMTPA) (for example, New Frontier TMTP manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), caprolactone-modified trimethylolpropane triacrylate (for example, Ebecryl 2047 manufactured by Daicel UCB Corporation), H A-modified trimethylolpropane triacrylate (for example, Kayrad THE-330 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), (EO) or (PO) -modified trimethylolpropane triacrylate (for example, LUMICURE ETA- manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 300, New Frontier TMP-3P manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), alkyl-modified dipentaerythritol triacrylate (e.g. Kayrad D-330 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), tris (acryloxyethyl) isocyanurate (e.g. , Hitachi Chemical Co., Ltd. FANCLIL FA-731A, etc.).

4官能の(メタ)アクリレートしては、例えば、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート(DTMPTA)(例えば、大日本インキ化学工業株式会社製LUMICUREDTA−400など)、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート(例えば、三菱レーヨン株式会社製ダイヤビームUK−4154など)、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PETTA)(例えば、新中村化学株式会社製NKエステルA−TMMTなど)などが挙げられる。   Examples of the tetrafunctional (meth) acrylate include ditrimethylolpropane tetraacrylate (DTMPTA) (for example, LUMICURETA-400 manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), pentaerythritol ethoxytetraacrylate (for example, Mitsubishi Rayon Co., Ltd.). Diamond Beam UK-4154, etc.), pentaerythritol tetraacrylate (PETTA) (for example, NK Ester A-TMMT manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and the like.

5官能または6官能(メタ)アクリレートしては、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート(例えば、化薬サートマー株式会社製SR−399Eなど)、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(例えば、日本化薬株式会社製カヤラッドD−310)、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(例えば、大日本インキ化学工業株式会社製DAP−600など)、ジペンタエリスリトールペンタおよびヘキサアクリレートベース・多官能モノマー混合物(例えば、大日本インキ化学工業株式会社製LUMICURE DPA−620など)などが挙げられる。   As pentafunctional or hexafunctional (meth) acrylate, dipentaerythritol hydroxypentaacrylate (for example, SR-399E manufactured by Kayaku Sartomer Co., Ltd.), alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate (for example, Nippon Kayaku Co., Ltd.) Kayalad D-310), dipentaerythritol hexaacrylate (for example, DAP-600 manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), dipentaerythritol penta and hexaacrylate based polyfunctional monomer mixture (for example, Dainippon Ink and Chemicals Inc.) And LMICURE DPA-620 manufactured by the company).

なお、本発明の製造方法で用いられる2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(a)がこれら具体例によって何ら限定されるものではないことは勿論である。これら2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(a)は、単独での使用、あるいは(メタ)アクリロイル基数が異なる複数の化合物を混合して用いても、さらに、構造も異なる複数の化合物を混合して用いても良い。また、一般に市販入手可能な前記化合物(a)としては、主成分となる目的化合物に対して(メタ)アクリロイル基数の異なる化合物の混合物であることが多い。使用に際しては、各種クロマトグラフィー、抽出などの精製方法で目的とする(メタ)アクリロイル基数の化合物を取り出して用いてもよいが、混合物のまま用いてもよい。   Of course, the compound (a) having two or more (meth) acryloyl groups used in the production method of the present invention is not limited by these specific examples. The compound (a) having two or more (meth) acryloyl groups may be used alone or in combination with a plurality of compounds having different numbers of (meth) acryloyl groups, or a plurality of compounds having different structures. May be used in combination. Further, the compound (a) that is generally commercially available is often a mixture of compounds having different numbers of (meth) acryloyl groups with respect to the target compound as the main component. In use, the compound having the desired number of (meth) acryloyl groups may be extracted and used by various purification methods such as chromatography and extraction, but may be used as a mixture.

また、本発明で用いる前記化合物(a)としては、ウレタン(メタ)アクリレートを使用することも可能である。前記ウレタン(メタ)アクリレートの製造方法は何ら制限されるものでなく、例えば、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する水酸基含有(メタ)アクリレートとイソシアネート化合物との重付加反応などにより得ることが可能である。   Moreover, as said compound (a) used by this invention, it is also possible to use urethane (meth) acrylate. The method for producing the urethane (meth) acrylate is not limited at all, and can be obtained, for example, by a polyaddition reaction between a hydroxyl group-containing (meth) acrylate having two or more (meth) acryloyl groups and an isocyanate compound. Is possible.

前記水酸基含有(メタ)アクリレートとしては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、2−ヒドロキシ−3−アクリロイルオキシプロピル(メタ)アクリレート(例えば、日本油脂株式会社製ブレンマーGAMなど)などが挙げられる。   Examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol hydroxypentaacrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl (meth) acrylate (for example, Japan Such as Bremer GAM manufactured by Yushi Co., Ltd.).

また、前記イソシアネート化合物としては、芳香族イソシアネート化合物、脂肪族イソシアネート化合物、脂環式イソシアネート化合物の何れも用いることは可能であり、例えば、トルエンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、アダマンチルジイソシアネートなどが挙げられ、得られる硬化物のガラス転移温度の高さ、硬化物の耐擦傷性などの観点から、脂環構造を有するものであることが好ましく、例えばノルボルナンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、アダマンチルジイソシアネートを用いることが好ましい。すなわち、ウレタン(メタ)アクリレートとしては、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する水酸基含有(メタ)アクリレートと脂環構造を有するイソシアネート化合物とを反応させて得られるウレタン(メタ)アクリレートであることが好ましい。なお、ウレタン(メタ)アクリレートにマイケル付加によってフッ素化アルキル基を導入して得られる化合物は、前記化合物として水酸基を有するものを使用し、これにマイケル付加反応によってフッ素化アルキル基を導入した後、イソシアネート化合物と反応させることによっても合成することが可能であり、反応順序としては特に制限されるものではない。   As the isocyanate compound, any of an aromatic isocyanate compound, an aliphatic isocyanate compound, and an alicyclic isocyanate compound can be used. For example, toluene diisocyanate, tolylene diisocyanate, norbornane diisocyanate, isophorone diisocyanate, hexamethylene. Diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, adamantyl diisocyanate and the like can be mentioned. From the viewpoint of the glass transition temperature of the cured product to be obtained and the scratch resistance of the cured product, it is preferable to have an alicyclic structure. It is preferable to use norbornane diisocyanate, isophorone diisocyanate, or adamantyl diisocyanate. That is, the urethane (meth) acrylate is a urethane (meth) acrylate obtained by reacting a hydroxyl group-containing (meth) acrylate having two or more (meth) acryloyl groups with an isocyanate compound having an alicyclic structure. Is preferred. In addition, the compound obtained by introducing a fluorinated alkyl group into the urethane (meth) acrylate by Michael addition uses a compound having a hydroxyl group as the compound, and after introducing the fluorinated alkyl group into the urethane by a Michael addition reaction, It can also be synthesized by reacting with an isocyanate compound, and the reaction sequence is not particularly limited.

次に、フッ素化アルキル基と活性水素とを有する化合物(b)について説明する。   Next, the compound (b) having a fluorinated alkyl group and active hydrogen will be described.

フッ素化アルキル基としては、パーフルオロアルキル基であることが効果的にフッ素原子由来の性能を発現できる点から好ましいものであるが特に限定されず、アルキル基中の一部の水素原子がフッ素原子に置換されたものでも構わない。   The fluorinated alkyl group is preferably a perfluoroalkyl group because it can effectively exhibit the performance derived from fluorine atoms, but is not particularly limited, and some hydrogen atoms in the alkyl group are fluorine atoms. It may be replaced with.

前記化合物(b)としては工業的入手が容易であり、かつ温和な反応条件を選択できるなどの観点から、下記一般式(1)
Rf(CH ZH (1)
〔式中、mは0〜20の整数であり、Rfは−C 2n+1 (nは1〜20の整数である。)であり、Zは水素原子若しくは炭素数1〜24のアルキル基を有する窒素原子、酸素原子、硫黄原子、または−SO −NR−(Rは水素原子、または炭素数1〜24のアルキル基である。)である。〕で表される化合物、または下記一般式(2)
As the compound (b), the following general formula (1) can be used from the viewpoint that industrial availability is easy and mild reaction conditions can be selected.
Rf (CH 2 ) m ZH (1)
[In the formula, m is an integer of 0 to 20, Rf is —C n F 2n + 1 (n is an integer of 1 to 20), and Z is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms. A nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, or —SO 2 —NR— (wherein R is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms). Or a compound represented by the following general formula (2)

Figure 0005309597
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〔式中、Yは酸素原子、または硫黄原子であり、pとqは同一でも異なっていても良い1〜4の整数であり、RfとRf は同一でも異なっていても良い−C 2n+1 (nは1〜20の整数である。)である。〕で表される化合物であることが好ましく、より温和な反応条件を選択できる点から、Zが水素原子若しくは炭素数1〜6のアルキル基を有する窒素原子、硫黄原子、または−NRSO−(Rは炭素数1〜6のアルキル基である。)である、あるいは前記一般式(2)中のYが硫黄原子であり、Rf の炭素数nが4、6、または8であり、かつ前記一般式(1)中のRfの炭素数nが4、6、または8であることが特に好ましい。 [Wherein, Y is an oxygen atom or a sulfur atom, p and q are the same or different integers of 1 to 4, and Rf and Rf 1 may be the same or different -C n F 2n + 1 (n is an integer of 1 to 20). Z is preferably a nitrogen atom having a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a sulfur atom, or —NRSO 2 — ( R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms), or Y in the general formula (2) is a sulfur atom, and the carbon number n of Rf 1 is 4, 6, or 8; It is particularly preferable that the carbon number n of Rf in the general formula (1) is 4, 6, or 8.

前記一般式(1)で表わされる化合物としては、例えば以下の(b−1)〜(b−12)の化合物が挙げられ、これらは単独でも、2種以上の混合物として使用しても良い。
SO N(CH )H (b−1)
SO N(C )H (b−2)
CH CH N(C17 )H (b−3)
CH CH SH (b−4)
13 CH CH SO N(C17 )H (b−5)
13 CH CH SH (b−6)
13 CH CH N(C )H (b−7)
17 CH CH SH (b−8)
17 CH N(C )H (b−9)
19 CH CH SH (b−10)
1021 CH CH CH N(C )H (b−11)
1225 CH CH SH (b−12)
本発明で用いられるフッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートは、前記化合物(a)と前記化合物(b)から得られることが好ましいが、この前記化合物(a)と前記化合物(b)との反応は、通常のマイケル付加反応の方法に従えば良く、フッ素原子を有することによる特別の配慮は特に必要ではなく、無溶媒でも溶媒存在下でも製造できる。溶媒を使用する場合には、前記化合物(a)および前記化合物(b)の溶解性、沸点、使用する設備などを考慮し適宜、選択されるものであるが、具体的には、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレンなどの芳香族系炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン(以下、MEKと略記する。)、メチルイソブチルケトン(以下、MIBKと略記する。)などのケトン類、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルホルムアセトアミド、ジメチルスルホキシドなどの非プロトン性極性化合物、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族系炭化水素類などが挙げられ、単独でも2種以上の溶媒を混合して使用しても良い。これらの中でもエステル類、芳香族系炭化水素類、ケトン類、アルコール類、エーテル類、ジメチルホルムアセトアミド、ジメチルスルホキシドなどを用いることが好ましく、エステル類、ケトン類、アルコール類、エーテル類を用いることが特に好ましい。
Examples of the compound represented by the general formula (1) include the following compounds (b-1) to (b-12), which may be used alone or as a mixture of two or more.
C 4 F 9 SO 2 N ( CH 3) H (b-1)
C 4 F 9 SO 2 N ( C 3 H 7) H (b-2)
C 4 F 9 CH 2 CH 2 N (C 8 H 17) H (b-3)
C 4 F 9 CH 2 CH 2 SH (b-4)
C 6 F 13 CH 2 CH 2 SO 2 N (C 8 H 17) H (b-5)
C 6 F 13 CH 2 CH 2 SH (b-6)
C 6 F 13 CH 2 CH 2 N (C 4 H 9) H (b-7)
C 8 F 17 CH 2 CH 2 SH (b-8)
C 8 F 17 CH 2 N ( C 3 H 7) H (b-9)
C 9 F 19 CH 2 CH 2 SH (b-10)
C 10 F 21 CH 2 CH 2 CH 2 N (C 3 H 7) H (b-11)
C 12 F 25 CH 2 CH 2 SH (b-12)
The fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate used in the present invention is preferably obtained from the compound (a) and the compound (b), but the reaction between the compound (a) and the compound (b). Can be prepared by the usual Michael addition reaction method, and no special consideration is required by having a fluorine atom, and can be produced in the absence of a solvent or in the presence of a solvent. When a solvent is used, it is appropriately selected in consideration of the solubility, boiling point, equipment used, etc. of the compound (a) and the compound (b). Specifically, ethyl acetate, Esters such as butyl acetate, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and 1,2-dichloroethane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, acetone, methyl ethyl ketone (hereinafter abbreviated as MEK), methyl isobutyl ketone (Hereinafter abbreviated as MIBK), alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol, aprotic polar compounds such as dimethylformamide, dimethylformacetamide and dimethylsulfoxide, ethers such as diethyl ether and tetrahydrofuran, Aliphatic systems such as hexane and heptane Reduction such as hydrogen acids and the like, may be used in combination of two or more solvents may alone. Among these, it is preferable to use esters, aromatic hydrocarbons, ketones, alcohols, ethers, dimethylformacetamide, dimethyl sulfoxide, etc., and esters, ketones, alcohols, ethers are preferably used. Particularly preferred.

以上の如く、前記化合物(a)と、前記化合物(b)とのマイケル付加反応を経由することで、強酸触媒などを必要とした縮合反応を経ることなく、より簡便かつ穏和な条件下でフッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートを製造できる。   As described above, it is possible to pass fluorine through a Michael addition reaction between the compound (a) and the compound (b) under a simpler and milder condition without undergoing a condensation reaction that requires a strong acid catalyst. An alkyl group-containing (meth) acrylate can be produced.

前記化合物(a)と、前記化合物(b)によって得られるフッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートの具体例としては、下記(i)〜(xxv)などの化合物が挙げられる。なお、下記具体例はいずれもアクリレートの場合を示したものであり、式中のアクリロイル基は何れもメタクリロイル基に変更可能である。さらに下記具体例は原料として用いる(メタ)アクリレートとしてアクリレートを用いた場合に精製する化合物であり、カルボニル炭素に結合するメチレン基中の水素原子の1つは何れもメチル基に変更可能である。   Specific examples of the fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate obtained by the compound (a) and the compound (b) include the following compounds (i) to (xxv). The following specific examples show the case of acrylate, and any acryloyl group in the formula can be changed to a methacryloyl group. Further, the following specific examples are compounds purified when acrylate is used as the (meth) acrylate used as a raw material, and any one of the hydrogen atoms in the methylene group bonded to the carbonyl carbon can be changed to a methyl group.

Figure 0005309597
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これらフッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートの塗料組成物中の含有量は、高屈折率層を誘導する組成物と低屈折率層を誘導する組成物とさらに溶剤などから成る1液の塗料組成物の全固形分100重量部に対し、5〜40重量部であるのが好ましく、より好ましくは10〜30重量部である。フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートの含有量が、塗料組成物の全固形分100重量部に対し40重量部を超えると透明性の低下、最低反射率の上昇が発生する場合があり、5重量部未満では耐擦傷性、耐アルカリ性が低下する場合がある。   The content of these fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylates in the coating composition is a one-component coating composition comprising a composition for inducing a high refractive index layer, a composition for inducing a low refractive index layer, and a solvent. The amount is preferably 5 to 40 parts by weight, more preferably 10 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the total solid content of the product. If the content of the fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate exceeds 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total solid content of the coating composition, the transparency may decrease and the minimum reflectance may increase. If the amount is less than parts by weight, the scratch resistance and alkali resistance may decrease.

本発明で用いる塗料組成物としては、前記した低屈折率層構成成分として好適な無機粒子と、前記した高屈折率層構成成分として好適な無機粒子と、前記したフッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートと、さらに溶剤を含むことが望ましい。溶剤は塗料組成物が塗布可能な状態にあれば、必要量および性状に制限は無いため、特に記載しないが、一般的に塗料溶剤として用いられている溶剤を用いることができる。   The coating composition used in the present invention includes inorganic particles suitable as the low refractive index layer constituents described above, inorganic particles suitable as the high refractive index layer constituents described above, and the fluorinated alkyl group-containing (meth) described above. It is desirable to include an acrylate and a solvent. As long as the coating composition is in a state where the coating composition can be applied, there is no restriction on the required amount and properties, and thus a solvent that is generally used as a coating solvent can be used although it is not particularly described.

本発明で用いる塗料組成物としては、さらに開始剤や硬化剤や触媒を含むことが好ましい。開始剤および触媒は、無機粒子と樹脂との反応を促進したり、樹脂間の反応を促進するために用いられる。該開始剤としては、塗料組成物をアニオン、カチオン、ラジカル反応などによる重合および/または縮合および/または架橋反応を開始あるいは促進せしめるものが好ましい。   The coating composition used in the present invention preferably further contains an initiator, a curing agent and a catalyst. The initiator and the catalyst are used for promoting the reaction between the inorganic particles and the resin or for promoting the reaction between the resins. The initiator is preferably one that initiates or promotes the polymerization and / or condensation and / or crosslinking reaction of the coating composition by anion, cation, radical reaction or the like.

該開始剤および該硬化剤および触媒は、公知または周知のものを使用できる。また、複数の開始剤を同時に用いても良いし、単独で用いても良い。さらに、酸性触媒や、熱重合開始剤や光重合開始剤を併用しても良い。酸性触媒の例としては、塩酸水溶液、蟻酸、酢酸などが挙げられる。熱重合開始剤の例としては、過酸化物、アゾ化合物が挙げられる。また、光重合開始剤の例としては、アリールケトン系化合物、含硫黄系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物、アミン系化合物などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。なお該開始剤および該硬化剤の添加割合は、1液の塗料組成物中の固形分に対して0.001重量%から30重量%が好ましく、より好ましくは0.05重量%から20重量%でありさらに好ましくは0.1重量%から10重量%である。   Known or well-known initiators and curing agents and catalysts can be used. A plurality of initiators may be used at the same time or may be used alone. Furthermore, you may use together an acidic catalyst, a thermal-polymerization initiator, and a photoinitiator. Examples of acidic catalysts include aqueous hydrochloric acid, formic acid, acetic acid and the like. Examples of the thermal polymerization initiator include peroxides and azo compounds. Examples of photopolymerization initiators include, but are not limited to, aryl ketone compounds, sulfur-containing compounds, acyl phosphine oxide compounds, and amine compounds. The addition ratio of the initiator and the curing agent is preferably 0.001% to 30% by weight, more preferably 0.05% to 20% by weight, based on the solid content in one liquid coating composition. More preferably, it is 0.1 to 10% by weight.

その他として、本発明で使用する塗料組成物にはさらに、各種シランカップリング剤、界面活性剤、増粘剤、レベリング剤などの添加剤を必要に応じて適宜添加しても良い。
[その他の層]
反射防止フイルムには、さらに、ハードコート層、防湿層、帯電防止層、下塗り層や保護層を設けてもよい。
In addition, additives such as various silane coupling agents, surfactants, thickeners, and leveling agents may be appropriately added to the coating composition used in the present invention as necessary.
[Other layers]
The antireflection film may further be provided with a hard coat layer, a moisture proof layer, an antistatic layer, an undercoat layer or a protective layer.

ハードコート層は、支持基材に耐傷性を付与するために設ける。ハードコート層は、透明支持体とその上の層との接着を強化する機能も有する。ハードコート層は、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコン系ポリマーやシリカ系化合物を用いて形成することができる。顔料をハードコート層に添加してよい。アクリル系ポリマーは、多官能アクリレートモノマー(例、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート)の重合反応により合成することが好ましい。ウレタン系ポリマーの例には、メラミンポリウレタンが含まれる。シリコン系ポリマーとしては、シラン化合物(例、テトラアルコキシシラン、アルキルトリアルコキシシラン)と反応性基(例、エポキシ、メタクリル)を有するシランカップリング剤との共加水分解物が好ましく用いられる。さらには2種類以上のポリマーを組み合わせて用いてもよい。シリカ系化合物としては、コロイダルシリカが好ましく用いられる。ハードコート層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。   The hard coat layer is provided for imparting scratch resistance to the support substrate. The hard coat layer also has a function of strengthening the adhesion between the transparent support and the layer thereon. The hard coat layer can be formed using an acrylic polymer, a urethane polymer, an epoxy polymer, a silicon polymer, or a silica compound. A pigment may be added to the hard coat layer. The acrylic polymer is preferably synthesized by a polymerization reaction of a polyfunctional acrylate monomer (eg, polyol acrylate, polyester acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate). Examples of the urethane polymer include melamine polyurethane. As the silicon-based polymer, a cohydrolyzate of a silane compound (eg, tetraalkoxysilane, alkyltrialkoxysilane) and a silane coupling agent having a reactive group (eg, epoxy, methacryl) is preferably used. Further, two or more kinds of polymers may be used in combination. As the silica compound, colloidal silica is preferably used. The strength of the hard coat layer is preferably a pencil hardness of 1 kg load, preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher.

支持基材には、ハードコート層に加えて、接着層、シールド層、滑り層を設けてもよい。シールド層は、電磁波や赤外線を遮蔽するために設けられる。
[支持基材]
反射防止皮膜をCRT画像表示面やレンズ表面に直接設ける場合を除き、反射防止膜は支持基材を有することが好ましい。支持基材としては、ガラス板よりもプラスチックフイルムの方が好ましい。プラスチックフイルムの材料の例には、セルロースエステル(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノキシエタン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート)、ポリスチレン(例、シンジオタクチックポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン)、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンなどが含まれるが、これらの中でも得にトリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが好ましい。
In addition to the hard coat layer, the support substrate may be provided with an adhesive layer, a shield layer, and a sliding layer. The shield layer is provided to shield electromagnetic waves and infrared rays.
[Support substrate]
Except for the case where the antireflection film is directly provided on the CRT image display surface or the lens surface, the antireflection film preferably has a supporting substrate. As the support substrate, a plastic film is more preferable than a glass plate. Examples of plastic film materials include cellulose esters (eg, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitrocellulose), polyamides, polycarbonates, polyesters (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate). , Poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4′-dicarboxylate, polybutylene terephthalate), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg, Polypropylene, polyethylene, polymethylpentene), polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyetherimide, polymethylmethene Tacrylate and polyetherketone are included, but among these, triacetyl cellulose, polycarbonate, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are particularly preferable.

支持基材の光透過率は、80%以上100%以下であることが好ましく、86%以上100%以下であることがさらに好ましい。ここで光透過率とは、光を照射した際に試料を透過する光の割合のことであり、JIS K 7361−1に従い測定することができる透明材料の透明性の指標である。反射防止フィルムの光透過率としては値が大きいほど良好であり、値が小さいとヘイズ値が上昇し、画像劣化が生じる可能性が高くなるため好ましくない。支持基材のヘイズは、2.0%以下であることが好ましく、1.0%以下であることがさらに好ましい。支持基材の屈折率は、1.4〜1.7であることが好ましい。なお本発明でいう屈折率とは、光が空気中からある物質中に進む時、その界面で進行方向の角度を変える割合のことであり、JIS K 7142に規定されている方法により測定することができる。   The light transmittance of the supporting substrate is preferably 80% or more and 100% or less, and more preferably 86% or more and 100% or less. Here, the light transmittance is a ratio of light transmitted through the sample when irradiated with light, and is an index of transparency of the transparent material that can be measured according to JIS K 7361-1. The larger the value of the light transmittance of the antireflection film, the better. The smaller the value, the higher the haze value and the higher the possibility of image deterioration. The haze of the supporting substrate is preferably 2.0% or less, and more preferably 1.0% or less. The refractive index of the supporting substrate is preferably 1.4 to 1.7. The refractive index referred to in the present invention is a ratio of changing the angle of the traveling direction at the interface when light travels from the air into a certain substance, and is measured by the method defined in JIS K 7142. Can do.

支持基材には、赤外線吸収剤あるいは紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量は、支持基材の全成分100質量%において0.01〜20質量%であることが好ましく、0.05〜10質量%であることがさらに好ましい。支持基材には、滑り剤として不活性無機化合物の粒子を添加してもよい。滑り剤として使用される無機化合物の例には、SiO、TiO、BaSO、CaCO、タルクおよびカオリンが含まれる。さらに、支持基材には、表面処理を実施してもよい。 An infrared absorber or an ultraviolet absorber may be added to the support substrate. The addition amount of the infrared absorber is preferably 0.01 to 20% by mass and more preferably 0.05 to 10% by mass with respect to 100% by mass of all the components of the support substrate. You may add the particle | grains of an inert inorganic compound as a sliding agent to a support base material. Examples of the inorganic compound used as a lubricant, SiO 2, TiO 2, BaSO 4, CaCO 3, talc and kaolin. Further, the support substrate may be subjected to a surface treatment.

支持基材の表面には、各種の表面処理を施すことも可能である。表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が含まれる。これらの中でもグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理と紫外線処理がさらに好ましい。
[塗布乾燥]
本発明の製造方法で用いられる塗料組成物は、支持基材上にディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法などの塗布工程を1度行うことで、続く塗料組成物の乾燥により反射防止フィルムを製造することができる。
Various surface treatments can be applied to the surface of the support substrate. Examples of the surface treatment include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment and ozone oxidation treatment. Among these, glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment and flame treatment are preferred, and glow discharge treatment and ultraviolet treatment are more preferred.
[Coating drying]
The coating composition used in the production method of the present invention performs a coating process such as a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, and a gravure coating method once on a supporting substrate. By doing so, an antireflection film can be produced by subsequent drying of the coating composition.

本発明の製造方法によれば、1液の塗料組成物を1回塗布乾燥することにより、屈折率の異なる2層を同時に形成することができる。屈折率の異なる2層の形成は、少なくとも本発明の低屈折率層を誘導する組成物と高屈折率層を誘導する組成物と溶媒とが混合された塗料組成物の塗布後、乾燥過程において成される。   According to the production method of the present invention, two layers having different refractive indexes can be simultaneously formed by applying and drying one liquid coating composition once. The formation of the two layers having different refractive indices is performed in the drying process after the application of the coating composition in which the composition for inducing the low refractive index layer of the present invention, the composition for inducing the high refractive index layer, and the solvent are mixed. Made.

得られる反射防止フイルム中から完全に溶媒を除去することに加え、欠陥なく二層に分離させるという観点からも、乾燥工程では加熱することが好ましい。加熱温度としては、用いる溶媒の沸点およびポリマーのガラス転移温度などから決定できるが特に限定される値ではない。   In addition to completely removing the solvent from the obtained antireflection film, it is preferable to heat in the drying step from the viewpoint of separation into two layers without defects. The heating temperature can be determined from the boiling point of the solvent used and the glass transition temperature of the polymer, but is not particularly limited.

さらに、乾燥後の形成層に対して熱またはエネルギー線を照射することによる硬化操作を行ってもよい。硬化を熱により行う場合、乾燥工程と硬化工程とを同時におこなってもよい。   Furthermore, you may perform hardening operation by irradiating a heat | fever or an energy ray with respect to the formation layer after drying. When curing is performed by heat, the drying step and the curing step may be performed simultaneously.

また本発明の製法により得られた反射防止フィルムは、PDPなどの各種画像表示装置の視認側表面に設けることで、反射防止性に優れた画像表示装置を提供することができる。   Moreover, the antireflection film obtained by the production method of the present invention can be provided on the viewing side surface of various image display devices such as PDP, thereby providing an image display device having excellent antireflection properties.

次に、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。   Next, although this invention is demonstrated based on an Example, this invention is not necessarily limited to these.

実施例1〜4,比較例1〜5
[製造例]
[高屈折率成分の調整]
高屈折率成分としてアンチモン含有酸化スズであるオプスターTU4005(JSR社製)を固形分濃度3.2重量%となるようにイソプロピルアルコールを加え希釈した。
[低屈折率成分の調整]
[低屈折率成分(a)の調整]
中空シリカであるスルーリアTR−113(触媒化成工業株式会社製:固形分20重量%)20gにメタクリロキシプロピルトリメトキシシラン2.75gと10重量%蟻酸水溶液0.34gを混合し、70℃にて1時間撹拌した。ついで、2−ペルフルオロオクチルエチルアクリレート2.76gおよび2,2−アゾビスイソブチロニトリル0.115gを加えた後、1時間90℃にて加熱撹拌した。得られた液を、イソプロピルアルコールで希釈し、固形分濃度3.6重量%の低屈折率成分(a)とした。
[低屈折率成分(b)の調整]
中空シリカであるスルーリアTR−113(触媒化成工業株式会社製:固形分20重量%)20gにメタクリロキシプロピルトリメトキシシラン2.75gと10重量%蟻酸水溶液0.34gを混合し70℃にて1時間撹拌した。得られた液を、イソプロピルアルコールで希釈し、固形分濃度3.1重量%の低屈折率成分(b)とした。
[低屈折率成分(c)の調整]
中空シリカであるスルーリアTR−113(触媒化成工業株式会社製:固形分20重量%)20gをイソプロピルアルコールで希釈し、固形分濃度3.4重量%の低屈折率成分(c)とした。
[フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレート]
フッ素化アルキル基含有メタアクリレートとして、ディフェンサ:TF−3042ME(大日本インキ化学工業株式会社製:固形分90重量%)を、イソプロピルアルコールで3.5重量%となるように希釈して用いた。
[多官能アクリレート]
多官能アクリレートとして、UN−904(根上工業株式会社製:固形分63重量%)を、イソプロピルアルコールで3.5重量%となるように希釈して用いた。
用いた。
[フッ素系界面活性剤]
フッ素系界面活性剤として、メガファック:RS−101(大日本インキ化学工業株式会社製:固形分40重量%)を、イソプロピルアルコールで3.5重量%となるように希釈して用いた。
[塗剤1]
低屈折率成分(a)と高屈折率成分を重量比4:6となるように混合した溶液(固形分濃度3.4重量%)100重量部に、フッ素化アルキル基含有メタアクリレートを5重量部添加した。
[塗剤2]
低屈折率成分(a)と高屈折率成分を重量4:6となるように混合した溶液(固形分濃度3.4重量%)100重量部に、フッ素化アルキル基含有メタアクリレートを10重量部添加した。
[塗剤3]
低屈折率成分(a)と高屈折率成分を重量比4:6となるように混合した溶液(固形分濃度3.4重量%)100重量部に、フッ素化アルキル基含有メタアクリレートを30重量部添加した。
[塗剤4]
低屈折率成分(a)と高屈折率成分を重量比4:6となるように混合した溶液(固形分濃度3.4重量%)100重量部に、フッ素化アルキル基含有メタアクリレートを40重量部添加した。
[塗剤5]
低屈折率成分(a)と高屈折率成分を重量比4:6(固形分濃度3.4重量%)となるように混合した。
[塗剤6]
低屈折率成分(a)と高屈折率成分を重量比にて4:6となるように混合した溶液(固形分濃度3.4重量%)100重量部に、多官能アクリレートを20重量部添加した。
[塗剤7]
低屈折率成分(a)と高屈折率成分を重量比4:6となるように混合した溶液(固形分濃度3.4重量%)100重量部に、フッ素系界面活性剤を20重量部添加した。
[塗剤8]
低屈折率成分(b)と高屈折率成分を重量比にて4:6となるように混合した溶液(固形分濃度3.2重量%)100重量部に、フッ素化アルキル基含有メタアクリレートを20重量部添加した。
[塗剤9]
低屈折率成分(c)のみ100重量部に、フッ素化アルキル基含有メタアクリレートを20重量部添加した。
[反射防止フイルムの作製]
支持基材として、PET樹脂フイルム上にハードコート塗料が塗布硬化されているルミクリアSR−HC(東レフィルム加工((株)))を用いた。この支持基材上にバーコーター(#10)を用いて、各実施例および比較例ごとに表1に示す塗剤1〜9を塗布後、100℃にて1分間乾燥し、400mJ/cmの紫外線を照射し、反射防止フイルムを作製した。
[反射防止フイルムの評価]
作製した反射防止フイルムについて、次に示す性能評価を実施し、得られた結果を表1に示した。特に断りのない場合を除き、測定は各実施例・比較例において、1つのサンプルについて場所を変えて3回測定を行い、その平均値を用いた。
[反射防止性能]
反射防止性能の評価は島津製作所製分光光度計UV−3100を用いて400nmから800nmの波長範囲にて行い、光線反射率の最小値(最低反射率)を測定した。
Examples 1-4, Comparative Examples 1-5
[Production example]
[Adjustment of high refractive index component]
Opstar TU4005 (manufactured by JSR), which is an antimony-containing tin oxide as a high refractive index component, was diluted by adding isopropyl alcohol to a solid content concentration of 3.2% by weight.
[Adjustment of low refractive index component]
[Adjustment of low refractive index component (a)]
2.75 g of methacryloxypropyltrimethoxysilane and 0.34 g of 10% by weight aqueous formic acid solution were mixed with 20 g of Sulria TR-113 (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: solid content 20% by weight) which is a hollow silica at 70 ° C. Stir for 1 hour. Subsequently, 2.76 g of 2-perfluorooctylethyl acrylate and 0.115 g of 2,2-azobisisobutyronitrile were added, followed by heating and stirring at 90 ° C. for 1 hour. The obtained liquid was diluted with isopropyl alcohol to obtain a low refractive index component (a) having a solid content concentration of 3.6% by weight.
[Adjustment of low refractive index component (b)]
2.75 g of methacryloxypropyltrimethoxysilane and 0.34 g of 10 wt% formic acid aqueous solution were mixed with 20 g of through silica TR-113 (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: solid content 20 wt%) which is a hollow silica, and 1 at 70 ° C. Stir for hours. The obtained liquid was diluted with isopropyl alcohol to obtain a low refractive index component (b) having a solid concentration of 3.1% by weight.
[Adjustment of low refractive index component (c)]
20 g of Thruria TR-113 (manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd .: solid content 20% by weight), which is hollow silica, was diluted with isopropyl alcohol to obtain a low refractive index component (c) having a solid content concentration of 3.4% by weight.
[Fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate]
As the fluorinated alkyl group-containing methacrylate, Defensor: TF-3042ME (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc .: solid content 90% by weight) was diluted with isopropyl alcohol to 3.5% by weight and used.
[Multifunctional acrylate]
As a polyfunctional acrylate, UN-904 (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd .: solid content 63 wt%) was diluted with isopropyl alcohol to 3.5 wt% and used.
Using.
[Fluorosurfactant]
As a fluorosurfactant, MegaFac: RS-101 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd .: solid content 40% by weight) was diluted with isopropyl alcohol to 3.5% by weight and used.
[Coating 1]
5 parts by weight of a fluorinated alkyl group-containing methacrylate is added to 100 parts by weight of a solution (solid content concentration: 3.4% by weight) in which a low refractive index component (a) and a high refractive index component are mixed at a weight ratio of 4: 6. Part was added.
[Coating agent 2]
10 parts by weight of fluorinated alkyl group-containing methacrylate is added to 100 parts by weight of a solution (solid content concentration: 3.4% by weight) in which the low refractive index component (a) and the high refractive index component are mixed to have a weight ratio of 4: 6. Added.
[Coating agent 3]
30 parts by weight of a fluorinated alkyl group-containing methacrylate is added to 100 parts by weight of a solution (solid content concentration: 3.4% by weight) in which a low refractive index component (a) and a high refractive index component are mixed at a weight ratio of 4: 6. Part was added.
[Coating agent 4]
40 parts by weight of a fluorinated alkyl group-containing methacrylate is added to 100 parts by weight of a solution (solid content concentration: 3.4% by weight) in which a low refractive index component (a) and a high refractive index component are mixed at a weight ratio of 4: 6. Part was added.
[Coating 5]
The low refractive index component (a) and the high refractive index component were mixed at a weight ratio of 4: 6 (solid content concentration: 3.4 wt%).
[Coating agent 6]
20 parts by weight of polyfunctional acrylate is added to 100 parts by weight of a solution (solid content concentration: 3.4% by weight) in which the low refractive index component (a) and the high refractive index component are mixed at a weight ratio of 4: 6. did.
[Coating agent 7]
20 parts by weight of a fluorosurfactant is added to 100 parts by weight of a solution (solid content concentration: 3.4% by weight) in which a low refractive index component (a) and a high refractive index component are mixed at a weight ratio of 4: 6. did.
[Coating 8]
Fluorinated alkyl group-containing methacrylate is added to 100 parts by weight of a solution (solid content concentration: 3.2% by weight) in which the low refractive index component (b) and the high refractive index component are mixed at a weight ratio of 4: 6. 20 parts by weight were added.
[Coating agent 9]
20 parts by weight of fluorinated alkyl group-containing methacrylate was added to 100 parts by weight of only the low refractive index component (c).
[Preparation of antireflection film]
As a supporting substrate, Lumiclear SR-HC (Toray Film Processing Co., Ltd.) in which a hard coat paint was applied and cured on a PET resin film was used. Using a bar coater (# 10) on this support substrate, coating agents 1 to 9 shown in Table 1 were applied for each Example and Comparative Example, and then dried at 100 ° C. for 1 minute, and 400 mJ / cm 2. Were irradiated with ultraviolet rays to produce an antireflection film.
[Evaluation of antireflection film]
The produced antireflection film was subjected to the following performance evaluation, and the results obtained are shown in Table 1. Unless otherwise specified, in each of the examples and comparative examples, the measurement was performed three times at different locations for one sample, and the average value was used.
[Antireflection performance]
The antireflection performance was evaluated using a spectrophotometer UV-3100 manufactured by Shimadzu Corporation in the wavelength range of 400 nm to 800 nm, and the minimum value (minimum reflectance) of the light reflectance was measured.

最低反射率が1.0%以下を合格とした。
[耐擦傷性]
反射防止フイルムに250g/cm荷重となるスチールウール(#0000)を垂直にあて、1cmの長さを10往復した際に観察される傷の本数を目視により測定した。
A minimum reflectance of 1.0% or less was accepted.
[Abrasion resistance]
Steel wool (# 0000) with a load of 250 g / cm 2 was placed vertically on the antireflection film, and the number of scratches observed when the length of 1 cm was reciprocated 10 times was visually measured.

目視される傷の本数が15本以下を合格とした。
[耐アルカリ性]
1wt%のNaOH溶液を滴下させ、30分経過後にガーゼを用いて拭き取り作業を行った。拭き取り後の表面状態を観察することにより、表面が侵されているかどうか目視で判定した。
The number of visible scratches was 15 or less.
[Alkali resistance]
A 1 wt% NaOH solution was added dropwise, and after 30 minutes, wiping was performed using gauze. By observing the surface state after wiping, it was visually determined whether or not the surface was damaged.

液滴の跡がなければ評価○、跡が確認できれば評価×とした。なお、1つのサンプルについて場所を変えた3カ所について評価したうち、最も多い評価結果を採用する。
[透明性]
透明性はヘイズ値を測定することにより判定した。測定はJIS K 7136に基づき、日本電色工業(株)製 ヘイズメーターを用いて測定を行った。2.0%未満は○、2.0%以上3.0%未満は△、3.0%以上を×とした。
[シリカ粒子を含む無機粒子の屈折率]
本発明の無機粒子の屈折率の測定方法は下記の方法で行った。
If there was no trace of the droplet, the evaluation was ○, and if the trace was confirmed, the evaluation was ×. Of the three samples with different locations for one sample, the most evaluated result is adopted.
[transparency]
Transparency was determined by measuring the haze value. The measurement was based on JIS K 7136 using a Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. haze meter. Less than 2.0% was evaluated as ◯, 2.0% or more and less than 3.0% as Δ, and 3.0% or more as x.
[Refractive index of inorganic particles including silica particles]
The method for measuring the refractive index of the inorganic particles of the present invention was performed by the following method.

無機粒子の分散液をエバポレーターに採り、分散媒を蒸発させる。これを120℃で乾燥し、粉末とする。屈折率が既知である標準屈折液を2,3滴ガラス板上に滴下し、これに上記粉末を混合する。上記(3)の操作を種々の標準屈折液で行い、混合液(多くの場合はペースト状が透明になったときの標準屈折液を無機粒子の屈折率として測定した。
[2層の界面の有無]
透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて断面を観察することにより、2層の界面の有無を判断した。
[2層個々の屈折率]
本発明における2層個々の屈折率は、反射分光膜厚計(大塚電子製、商品名「FE−3000」)によって、300〜800nmの反射率を測定し、代表的な屈折率の波長分散の近似式としてn−k Cauchyの分散式を引用し、スペクトルの実測値とフィッティングさせることにより求めた。
The dispersion liquid of inorganic particles is taken in an evaporator and the dispersion medium is evaporated. This is dried at 120 ° C. to obtain a powder. A standard refracting liquid having a known refractive index is dropped onto a glass drop of a few drops, and the above powder is mixed therewith. The above operation (3) was carried out with various standard refractive liquids, and the mixed liquid (in many cases, the standard refractive liquid when the paste became transparent was measured as the refractive index of the inorganic particles.
[Presence or absence of two-layer interface]
By observing a cross section using a transmission electron microscope (TEM), the presence or absence of the interface of two layers was judged.
[Individual refractive index of two layers]
The refractive index of each of the two layers in the present invention is measured with a reflection spectral film thickness meter (trade name “FE-3000”, manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.), and the wavelength dispersion of a typical refractive index is measured. The nk Cauchy dispersion formula was cited as an approximate expression, and it was obtained by fitting with the measured value of the spectrum.

Figure 0005309597
Figure 0005309597

Figure 0005309597
Figure 0005309597

表1から明らかなように、フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートを含む場合(実施例1〜実施例4)では、反射防止性、耐擦傷性、耐アルカリ性、透明性に優れたバランスのよいフィルムであった。   As is clear from Table 1, in the case of containing a fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate (Examples 1 to 4), the balance was excellent in antireflection, scratch resistance, alkali resistance, and transparency. It was a film.

また、フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートを含まない場合(比較例1)では、透明性が良好なものの、耐擦傷性、耐アルカリ性に欠けるものであった。   Further, when no fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate was contained (Comparative Example 1), although the transparency was good, the scratch resistance and alkali resistance were insufficient.

またフッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートの代わりに、多官能アクリレートを含む場合(比較例2)では、耐擦傷性、透明性が良好なものの、耐アルカリ性に劣るものであった。   Further, when polyfunctional acrylate was included instead of the fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate (Comparative Example 2), the scratch resistance and transparency were good, but the alkali resistance was poor.

フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートの代わりに、フッ素系界面活性剤を含む場合(比較例3)では、透明性が良好なものの、耐擦傷性、耐アルカリ性に劣るものであった。   When a fluorinated surfactant was included instead of the fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate (Comparative Example 3), the transparency was good, but the scratch resistance and alkali resistance were poor.

低屈折率成分において、フッ素化合物による表面処理がなされていない場合(比較例4)では、耐擦傷性、耐アルカリ性、透明性が良好なものの、反射防止性に欠けるものであった。   In the case where the surface treatment with the fluorine compound was not performed in the low refractive index component (Comparative Example 4), although the scratch resistance, alkali resistance and transparency were good, the antireflection property was lacking.

高屈折率成分を含まない場合(比較例5)でも、耐擦傷性、耐アルカリ性、透明性が良好なものの、反射防止性に欠けるものであった。   Even when the high refractive index component was not included (Comparative Example 5), although the scratch resistance, alkali resistance and transparency were good, the antireflection property was lacking.

Claims (6)

2種類以上の無機粒子を含む1液の塗料組成物を、1回塗布乾燥後、熱またはエネルギー線を照射して硬化する工程により、屈折率の異なる2層を構成する反射防止フイルムの製造方法であって、
少なくとも1種類の無機粒子はフッ素化合物による表面処理がされており、
前記塗料組成物は、開始剤、及びフッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートを含み、
前記フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートの量は、塗料組成物の全固形分100重量部に対し、5〜40重量部であり、
前記フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートは、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(a)と、フッ素化アルキル基と活性水素とを有する化合物(b)とをマイケル付加反応することで得られるフッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートであり、
前記フッ素化アルキル基と活性水素とを有する化合物(b)は、下記一般式(1)で表される化合物または下記一般式(2)で表される化合物であることを特徴とする、反射防止フイルムの製造方法。
一般式(1)
Rf(CH ZH (1)
〔式中、mは0〜20の整数である。Rfは−C 2n+1 (nは1〜20の整数である。)である。Zは、炭素数1〜6のアルキル基と共有結合した窒素原子、硫黄原子、又は、−SO −NR−(Rは炭素数1〜6のアルキル基である。)である。〕
一般式(2)
Figure 0005309597
〔式中、Yは酸素原子、または硫黄原子であり、pとqは同一でも異なっていても良い1〜4の整数であり、RfとRf は同一でも異なっていても良い−C 2n+1 (nは1〜20の整数である。)である。〕
A method for producing an antireflection film comprising two layers having different refractive indices by a step of coating and drying a one-component coating composition containing two or more kinds of inorganic particles, and then irradiating and curing with heat or energy rays Because
At least one kind of inorganic particles is surface-treated with a fluorine compound,
The coating composition includes an initiator and a fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate,
The amount of the fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate is 5 to 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total solid content of the coating composition,
The fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate is a Michael addition reaction between a compound (a) having two or more (meth) acryloyl groups and a compound (b) having a fluorinated alkyl group and active hydrogen. A fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate obtained in
The compound (b) having the fluorinated alkyl group and active hydrogen is a compound represented by the following general formula (1) or a compound represented by the following general formula (2). Film production method.
General formula (1)
Rf (CH 2 ) m ZH (1)
[In formula, m is an integer of 0-20. Rf is -C n F 2n + 1 (n is an integer from 1 to 20.). Z is a nitrogen atom, a sulfur atom , or —SO 2 —NR— (R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms) covalently bonded to an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. ]
General formula (2)
Figure 0005309597
[Wherein, Y is an oxygen atom or a sulfur atom, p and q are the same or different integers of 1 to 4, and Rf and Rf 1 may be the same or different -C n F 2n + 1 (n is an integer of 1 to 20). ]
フッ素化合物により表面処理された無機粒子がシリカ粒子であり、他の無機粒子が該シリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子であることを特徴とする、請求項1に記載の反射防止フイルムの製造方法。   2. The antireflection film according to claim 1, wherein the inorganic particles surface-treated with a fluorine compound are silica particles, and the other inorganic particles are inorganic particles having a higher refractive index than the silica particles. Method. 前記表面処理が、前記シリカ粒子を下記の群(I)から選ばれる化合物で処理し、更に下記の群(II)から選ばれる化合物で処理することを特徴とする、請求項2に記載の反射防止フイルムの製造方法。
群(I):
アクリロキシエチルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシブチルトリメトキシシラン、アクリロキシペンチルトリメトキシシラン、アクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、アクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシブチルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、およびこれら化合物中のメトキシ基が他のアルコキシル基および水酸基に置換された化合物。
群(II):
2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフロオロプロピルアクリレート、2−パーフルオロブチルエチルアクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロデシルエチルアクリレート、2−パーフルオロ−3−メチルブチルエチルアクリレート、3−パーフルオロ−3−メトキシブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロ−5−メチルヘキシルエチルアクリレート、3−パーフルオロ−5−メチルヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロ−7−メチルオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ドデカフルオロヘプチルアクリレート、ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、ヘキサフルオロブチルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、2−パーフルオロブチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロデシルエチルメタクリレート、2−パーフルオロ−3−メチルブチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−3−メチルブチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロ−5−メチルヘキシルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−5−メチルヘキシル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロ−7−メチルオクチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−7−メチルオクチルエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、1−トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロブチルメタクリレート。
The said surface treatment treats the said silica particle with the compound chosen from the following group (I), and also processes with the compound chosen from the following group (II), The reflection of Claim 2 characterized by the above-mentioned. Method for manufacturing prevention film.
Group (I):
Acryloxyethyltrimethoxysilane, acryloxypropyltrimethoxysilane, acryloxybutyltrimethoxysilane, acryloxypentyltrimethoxysilane, acryloxyhexyltrimethoxysilane, acryloxyheptyltrimethoxysilane, methacryloxyethyltrimethoxysilane, methacryloxy Roxypropyltrimethoxysilane, methacryloxybutyltrimethoxysilane, methacryloxyhexyltrimethoxysilane, methacryloxyheptyltrimethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, and other methoxy groups in these compounds A compound substituted with an alkoxyl group and a hydroxyl group.
Group (II):
2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl acrylate, 2-perfluorobutyl ethyl acrylate, 3-perfluorobutyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-par Fluorohexylethyl acrylate, 3-perfluorohexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorooctylethyl acrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorodecylethyl acrylate, 2-perfluoro- 3-methylbutylethyl acrylate, 3-perfluoro-3-methoxybutyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-5-methylhexylethyl acrylate, 3-perfluoro-5-methyl Hexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-7-methyloctyl-2-hydroxypropyl acrylate, tetrafluoropropyl acrylate, octafluoropentyl acrylate, dodecafluoroheptyl acrylate, hexadecafluorononyl acrylate, hexafluorobutyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl methacrylate, 2-perfluorobutylethyl methacrylate, 3-perfluorobutyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro Octylethyl methacrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluorodecylethyl methacrylate, -Perfluoro-3-methylbutylethyl methacrylate, 3-perfluoro-3-methylbutyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-5-methylhexylethyl methacrylate, 3-perfluoro-5-methylhexyl-2- Hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, 3-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, dodecafluoroheptyl methacrylate, hexadeca Fluorononyl methacrylate, 1-trifluoromethyl trifluoroethyl methacrylate, hexafluorobutyl methacrylate.
前記シリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子が、金属酸化物であり、
該金属酸化物が、インジウム含有酸化スズ(ITO)及び/またはアンチモン含有酸化スズ(ATO)であることを特徴とする、請求項2又は3に記載の反射防止フイルムの製造方法。
Inorganic particles having a refractive index higher than that of the silica particles are metal oxides,
4. The method for producing an antireflection film according to claim 2, wherein the metal oxide is indium-containing tin oxide (ITO) and / or antimony-containing tin oxide (ATO).
請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法にて得られた反射防止フィルム。   An antireflection film obtained by the production method according to claim 1. 請求項5の反射防止フイルムを設けたことを特徴とする画像表示装置。   An image display apparatus comprising the antireflection film according to claim 5.
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