KR20120128734A - Coating composition for low refractive layer, anti-reflection film using the same, polarizing plate and image displaying device including the film - Google Patents

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KR20120128734A
KR20120128734A KR1020110046474A KR20110046474A KR20120128734A KR 20120128734 A KR20120128734 A KR 20120128734A KR 1020110046474 A KR1020110046474 A KR 1020110046474A KR 20110046474 A KR20110046474 A KR 20110046474A KR 20120128734 A KR20120128734 A KR 20120128734A
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안종남
이두봉
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Abstract

PURPOSE: A composition for forming a low refractive layer, a reflection preventing film, a polarizing plate, and a displaying device are provided to include an excellent inside antifouling property and an excellent inside anti-finger printing property when the reflection preventing film is applied. CONSTITUTION: A composition for forming a low refractive layer includes hollow silica particles, a fluorine acrylate compound, an acrylate monomer, a photoinitiatior and a solvent. The fluorine acrylate compound is obtained by reacting on a compound with three or more isocyanates in a molecule, fluorine alcohol and 2- hydroxyethyl acrylate. A refractive index of the hollow silica particles is between 1.17 and 1.40.

Description

저굴절층 형성용 조성물, 이를 이용한 반사 방지 필름, 편광판 및 표시 장치{COATING COMPOSITION FOR LOW REFRACTIVE LAYER, ANTI-REFLECTION FILM USING THE SAME, POLARIZING PLATE AND IMAGE DISPLAYING DEVICE INCLUDING THE FILM}Composition for forming low refractive index layer, anti-reflection film, polarizing plate and display device using same {COATING COMPOSITION FOR LOW REFRACTIVE LAYER, ANTI-REFLECTION FILM USING THE SAME, POLARIZING PLATE AND IMAGE DISPLAYING DEVICE INCLUDING THE FILM}

본 발명은 저굴절층 형성용 조성물, 이를 이용한 반사 방지 필름, 편광판 및 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a composition for forming a low refractive index layer, an antireflection film, a polarizing plate, and a display device using the same.

최근 CRT, LCD, PDP 등의 디스플레이가 발달하여 이들 디스플레이를 이용한 각종 표시 장치가 다방면으로 사용되어 왔다. 이들 표시 장치기를 옥외 등 비교적 밝은 장소에서 사용하는 경우, 태양광이나 형광등 등의 외부광에 의한 디스플레이로의 비침이 문제가 되는 경우가 증가하고 있으며 그에 따른 디스플레이 표면에 외부광의 비침 방지, 즉 반사 방지에 대한 요구도 강해지고 있다.Recently, displays such as CRT, LCD, PDP have been developed, and various display devices using these displays have been used in various fields. When these display devices are used in a relatively bright place such as outdoors, the use of external light such as solar light or fluorescent light is increasingly problematic, and thus the display surface is prevented from reflecting outside light, that is, preventing reflection. The demand for is also growing.

그에 따라 디스플레이 장치의 외부의 모습이 잘 반사되지 않도록 하기 위한 반사 방지 필름이 널리 개발되고 있다. 상기 반사 방지 필름으로서 다층 구조의 반사 방지 필름이 알려져 있다(PCT JP2003-008535). 상기 다층 구조의 반사 방지 필름은 고굴절률층 및 저굴절률층으로 구성된 2층 구조, 중간굴절률층, 고굴절률층 및 저굴절률층으로 구성된 3층 구조, 및 고굴절률층, 저굴절률층, 고굴절률층 및 저굴절률층으로 구성된 4층 구조가 알려져 있다.Accordingly, antireflection films have been widely developed to prevent the external appearance of the display device from being easily reflected. As the antireflection film, an antireflection film having a multilayer structure is known (PCT JP2003-008535). The anti-reflection film of the multilayer structure is a two-layer structure consisting of a high refractive index layer and a low refractive index layer, a three-layer structure consisting of a medium refractive index layer, a high refractive index layer and a low refractive index layer, and a high refractive index layer, a low refractive index layer, a high refractive index layer And a four-layer structure composed of a low refractive index layer is known.

근래에 들어 상기 반사 방지 필름은 반사 방지의 기능뿐만 아니라 내스크래치성, 내마모성, 오염방지성 등의 부가적인 기능을 갖출 것이 요구되고 있다. 이를 위하여 저굴절률층에 오염 방지성을 보유한 물질을 사용한 반사 방지 필름이 사용되고 있다. 그러나 상기한 반사 방지 필름에 사용할 수 있는 물질이 제한적이고, 기존에 사용되는 물질은 고가이므로 제조 비용이 상승될 뿐만 아니라, 이러한 부가 기능의 추가로 인해 광학특성, 예를 들어 반사 특성, 투과율, 헤이즈 등이 저하되는 문제가 있었다. In recent years, the antireflection film is required to have additional functions such as scratch resistance, abrasion resistance, antifouling property as well as the function of antireflection. To this end, an antireflection film using a material having antifouling property in the low refractive index layer is used. However, the materials that can be used for the above anti-reflective film are limited, and the materials used in the past are expensive, thereby increasing the manufacturing cost, and the addition of such additional functions results in optical properties such as reflection properties, transmittance, and haze. There was a problem that the back is lowered.

본 발명의 목적은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서 반사 방지 필름에 적용 시 내 방오성 및 내 지문성이 우수하고, 반사율 등 반사방지 성능이 탁월한 저굴절층 형성용 조성물을 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a composition for forming a low refractive index layer having excellent antifouling resistance and fingerprint resistance and excellent antireflection performance such as reflectance when applied to an antireflection film as a solution to the conventional problems as described above. .

본 발명의 다른 목적은 상기 저굴절층 형성용 조성물을 이용하여 형성되는 내 방오성 및 내 지문성이 우수하고 반사율 등 반사방지 성능이 탁월한 반사 방지 필름을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide an antireflection film having excellent antifouling resistance and fingerprint resistance and excellent antireflection performance such as reflectance formed by using the composition for forming a low refractive index layer.

본 발명의 또 다른 목적은 상기 반사 방지 필름이 구비된 우수한 품질의 편광판을 제공하는 것이다. Still another object of the present invention is to provide a polarizing plate of excellent quality provided with the antireflection film.

본 발명의 또 다른 목적은 상기 반사 방지 필름이 구비된 우수한 품질의 표시 장치를 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is to provide a display device of excellent quality provided with the antireflection film.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 중공 실리카입자(A), 분자 내 3개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 화합물과, 하기 화학식 1로 표현되는 플루오르 알코올 및 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트를 반응시켜 얻어지는 플루오르(메타)아크릴레이트 화합물(B), (메타)아크릴레이트 모노머(C), 광개시제(D) 및 용제(E)를 포함하는 것을 특징으로 하는 저굴절층 형성용 조성물을 제공한다. The present invention for achieving the above object, the reaction of the hollow silica particles (A), a compound having three or more isocyanate groups in the molecule, fluoro alcohol and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate represented by the following formula (1) A fluorine (meth) acrylate compound (B), a (meth) acrylate monomer (C), a photoinitiator (D), and a solvent (E) obtained by the above are provided.

[화학식 1] [Formula 1]

Figure pat00001
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(상기 화학식 1에서 Y는 각각 독립적으로 H 또는 F이고, n 및 m은 각각 0에서 200의 정수이다.)(Y in Formula 1 is each independently H or F, n and m are each an integer from 0 to 200.)

상기 플루오르(메타)아크릴레이트 화합물(B)은 하기 화학식 2 내지 9로 표시되는 화합물 중에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것이 바람직하다.The fluorine (meth) acrylate compound (B) preferably comprises at least one selected from the compounds represented by the following formulas (2) to (9).

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00002
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[화학식 3](3)

Figure pat00003
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[화학식 4][Formula 4]

Figure pat00004
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[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pat00005
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[화학식 6][Formula 6]

Figure pat00006
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[화학식 7][Formula 7]

Figure pat00007
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[화학식 8][Formula 8]

Figure pat00008
Figure pat00008

[화학식 9][Chemical Formula 9]

Figure pat00009
Figure pat00009

(상기 화학식 2 내지 9에서, X는 수소원자 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고, Rf는 하기 화학식 10으로 표현 된다.)(In Formulas 2 to 9, X is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, Rf is represented by the following formula (10).)

[화학식 10][Formula 10]

Figure pat00010
Figure pat00010

(상기 화학식 10에서 Y는 각각 독립적으로 H 또는 F이고, n 및 m은 각각 0에서 200의 정수이다.)(Y in formula 10 is each independently H or F, n and m are each an integer from 0 to 200.)

상기 중공 실리카 입자의 굴절률은 1.17~1.40인 것이 바람직하다. It is preferable that the refractive index of the said hollow silica particle is 1.17-1.40.

상기 저굴절층 형성용 조성물은 전체 100중량부에 대하여 상기 중공 실리카입자(A) 0.1 내지 20 중량부, 상기 플루오르(메타)아크릴레이트 화합물(B) 0.1 내지 30중량부, 상기 (메타)아크릴레이트 모노머(C) 0.1 내지 30중량부, 상기 광개시제(D) 0.05 내지 5중량부 및 상기 용제(E) 50 내지 98중량부를 포함할 수 있다. 본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 투명기재와, 상기 투명기재의 상면에 본 발명에 따른 상기 저굴절층 형성용 조성물을 이용하여 형성된 저굴절층을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름을 제공한다. The composition for forming the low refractive layer is 0.1 to 20 parts by weight of the hollow silica particles (A), 0.1 to 30 parts by weight of the fluorine (meth) acrylate compound (B), and the (meth) acrylate based on 100 parts by weight of the total. 0.1 to 30 parts by weight of the monomer (C), 0.05 to 5 parts by weight of the photoinitiator (D) and 50 to 98 parts by weight of the solvent (E). In order to achieve the another object of the present invention, the present invention, the antireflection characterized in that it comprises a transparent substrate and a low refractive index layer formed on the upper surface of the transparent substrate using the composition for forming the low refractive index layer according to the present invention Provide a film.

상기 반사필름은 상기 투명기재와 저굴절층 사이에 형성된 하드코팅층을 더 포함할 수 있다.The reflective film may further include a hard coating layer formed between the transparent substrate and the low refractive layer.

상기 저굴절층의 굴절률은 25℃에서 1.2 내지 1.49인 것이 바람직하다.The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.2 to 1.49 at 25 ℃.

본 발명의 또 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 본 발명에 따른 상기 반사 방지 필름이 구비된 것을 특징으로 하는 편광판을 제공한다.In order to achieve another object of the present invention, the present invention provides a polarizing plate characterized in that the anti-reflection film according to the present invention is provided.

본 발명의 또 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 본 발명에 따른 상기 반사 방지 필름이 구비된 것을 특징으로 하는 표시 장치를 제공한다.In order to achieve another object of the present invention, the present invention provides a display device characterized in that the anti-reflection film according to the present invention is provided.

본 발명에 따른 저굴절층 형성용 조성물은 중공실리카 입자, 소정의 구조를 갖는 플루오르(메타)아크릴레이트 화합물을 포함함으로써 내 방오성 및 내 지문방지성이 우수하고 반사율 등의 반사 방지 특성이 탁월한 효과를 얻을 수 있다. 그에 따라 상기 저굴절층 형성용 조성물을 이용하여 제조된 반사 방지필름은 우수한 내 방오성, 내 지문방지성 및 반사방지성을 가지며, 편광판 및 표시 장치에 유용하게 적용될 수 있다.The composition for forming a low refractive index layer according to the present invention includes hollow silica particles and a fluorine (meth) acrylate compound having a predetermined structure, thereby providing excellent antifouling resistance and fingerprint resistance and excellent antireflection properties such as reflectance. You can get it. Accordingly, the anti-reflection film manufactured using the composition for forming the low refractive index layer has excellent antifouling resistance, anti-fingerprint resistance, and anti-reflection property, and may be usefully applied to polarizing plates and display devices.

이하 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명에 따른 저굴절층 형성용 조성물은 중공 실리카입자(A), 플루오르(메타)아크릴레이트 화합물(B), (메타)아크릴레이트 모노머(C), 광개시제(D) 및 용제(E)를 포함한다.
The composition for forming a low refractive index layer according to the present invention comprises hollow silica particles (A), a fluorine (meth) acrylate compound (B), a (meth) acrylate monomer (C), a photoinitiator (D) and a solvent (E). do.

중공 실리카입자(A)Hollow Silica Particles (A)

상기 중공 실리카 입자는 굴절률을 낮추어 반사 방지 특성을 높이고, 내스크래치성을 높이기 위하여 사용된다. The hollow silica particles are used to lower the refractive index to increase antireflection properties and to increase scratch resistance.

상기 중공 실리카 입자의 굴절률은 바람직하게는 1.17~1.40이고, 더 바람직하게는 1.17~1.35이며, 가장 바람직하게는 1.17~1.30이다. 여기서 굴절률은 실리카의 굴절률, 즉 중공 입자를 형성하는 외곽의 굴절률을 의미하는 것이 아니라, 입자 전체의 굴절률을 의미하는 것이다. The refractive index of the hollow silica particles is preferably 1.17 to 1.40, more preferably 1.17 to 1.35, and most preferably 1.17 to 1.30. Here, the refractive index does not mean the refractive index of the silica, that is, the refractive index of the outer portion forming the hollow particles, but rather the refractive index of the entire particle.

이때 중공 실리카 입자 내의 공극률은 바람직하게는 10~60%의 범위이고, 더 바람직하게는 20~60%의 범위이며, 가장 바람직하게는 30~60%의 범위이다. At this time, the porosity in the hollow silica particles is preferably in the range of 10 to 60%, more preferably in the range of 20 to 60%, and most preferably in the range of 30 to 60%.

중공 실리카 입자의 저 굴절률 및 이의 고 공극률을 달성하려고 하는 경우, 외곽의 두께는 감소되고 입자의 강도는 약해진다. 따라서, 내스크래치성의 관점에서, 중공 실리카 입자의 굴절률이 1.17 미만인 임의의 입자는 내스크래치성이 떨어지므로 바람직하지 않다. 아울러 중공 실리카 입자의 굴절률이 1.40을 초과하는 경우 굴절률이 높아 반사 방지특성이 떨어지므로 바람직하지 않다. 상기 중공 실리카 입자의 굴절률은 Abbe 굴절률계(ATAGO사 제품)를 사용하여 측정한다. When trying to achieve low refractive index and high porosity of hollow silica particles, the thickness of the outer edge is reduced and the strength of the particles is weakened. Therefore, from the viewpoint of scratch resistance, any particles having a refractive index of less than 1.17 of the hollow silica particles are not preferable because of their poor scratch resistance. In addition, when the refractive index of the hollow silica particles exceeds 1.40, the refractive index is high, and thus the antireflection property is not preferable. The refractive index of the hollow silica particles is measured using an Abbe refractive index meter (manufactured by ATAGO).

상기한 중공 실리카 입자는 공지의 제조방법에 의해 용이하게 제조할 수 있다. 예를 들어, 중공 실리카 입자는 JP-A-2001-233611 및 JP-A-2002-79616에 기재된 방법에 의해 제조된 것을 사용할 수 있다. The hollow silica particles can be easily produced by a known production method. For example, the hollow silica particles can be prepared by the methods described in JP-A-2001-233611 and JP-A-2002-79616.

상기 중공 실리카 입자의 평균 입자 직경은 바람직하게는 저 굴절률 층의 30~150%이고, 더 바람직하게는 35~80%이며, 특히 바람직하게는 40~60%이다. 즉, 저 굴절률 층의 두께가 100nm인 경우, 중공 실리카 입자의 평균 입자 직경은 바람직하게는 30nm~150nm이고, 더 바람직하게는 35nm~80nm이며, 특히 바람직하게는 40nm~60nm이다. 중공 실리카 미립자가 상기 기재한 범위 내에 있는 경우, 공동부의 비율이 높아져 저 굴절률이 달성될 수 있다. 더욱이, 저 굴절률 층의 표면 상에 미세한 요철을 형성시켜 반사율을 낮추는 문제점을 야기하지 않는다. 중공 실리카 입자는 결정질 입자이거나 비결정질 입자일 수 있고, 단분산입자가 바람직하다. 형태를 고려시, 구형 입자가 가장 바람직하나, 부정형의 입자도 문제 없이 사용가능하다. 상기 중공 실리카 미립자의 평균 입자 직경은 또한 전자 현미경 사진을 사용함으로써 측정한다.The average particle diameter of the hollow silica particles is preferably 30 to 150% of the low refractive index layer, more preferably 35 to 80%, particularly preferably 40 to 60%. That is, when the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the average particle diameter of the hollow silica particles is preferably 30 nm to 150 nm, more preferably 35 nm to 80 nm, particularly preferably 40 nm to 60 nm. When the hollow silica fine particles are in the above-described range, the ratio of the cavities becomes high so that a low refractive index can be achieved. Moreover, the formation of fine unevenness on the surface of the low refractive index layer does not cause the problem of lowering the reflectance. The hollow silica particles may be crystalline particles or amorphous particles, with monodisperse particles being preferred. In consideration of the shape, spherical particles are most preferred, but amorphous particles can be used without problems. The average particle diameter of the hollow silica fine particles is also measured by using an electron micrograph.

상기 중공 실리카 입자(A)는 실란커플링제로 표면 처리를 행한 것을 사용할 수 있으며, 이 경우 용매와의 분산성이 향상되고 경화 공정시 경화에 참여하여 바인더와의 네트워크 형성을 통해 코팅층의 내구성을 향상시키게 된다.The hollow silica particles (A) may be a surface treated with a silane coupling agent, in this case, the dispersibility with the solvent is improved and participates in the curing during the curing process to improve the durability of the coating layer by forming a network with the binder Let's go.

상기 실란커플링제는 구체적으로 메틸트리메톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 디페닐디에톡시실란, 이소부틸트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(β-메톡시에톡시)실란, 3,3,3-트리플루오로프로필트리메톡시실란, 메틸-3,3,3-트리플루오로프로필디메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, γ-글리시독시메틸트리메톡시실란, γ-글리시독시메틸트리에톡시실란, γ-글리시독시에틸트리메톡시실란, γ-글리시독시에틸트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-(β-글리시독시메톡시)프로필트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시메틸트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시메틸트리에톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시에틸트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시에틸트리에톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리에톡시실란, 부틸트리메톡시실란, 이소부틸트리에톡시실란, 헥실트리에톡시실라옥틸트리에톡시실란, 데실트리에톡시실란, 부틸트리에톡시실란, 이소부틸트리에톡시실란, 헥실트리에톡시실란, 옥틸트리에톡시실란, 3-우레이도이소프로필프로필트리에톡시실란, 퍼플루오로옥틸에틸트리메톡시실란, 퍼플루오로옥틸에틸트리에톡시실란, 퍼플루오로옥틸에틸트리이소프로폭시실란, 트리플우로오프로필트리메톡시실란, N-β-(아미노에틸)γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-β-(아미노에틸)γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-페닐-γ-(아미노프로필트리메톡시실란, γ-머캅토프로필트리메톡시실란, 트리메틸실란올, 메틸트리클로로실란로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종을 사용 할 수 있다.
The silane coupling agent is specifically methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldie Methoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl -3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltri Ethoxysilane, γ-glycidoxyethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxyethyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ- (β-glycidoxymethoxy) propyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltrimethoxysil , γ- (meth) acrylooxymethyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloxyethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxyethyltriethoxysilane, γ- (meth) acrylo Oxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxyoxytriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, hexyltrie Oxysilaoctyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, butyltriethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, 3-ureidoisopropylpropyltriethoxysilane, Perfluorooctylethyltrimethoxysilane, perfluorooctylethyltriethoxysilane, perfluorooctylethyltriisopropoxysilane, tripleuropropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) γ- Aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) γ-a At least one selected from the group consisting of nopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-γ- (aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, trimethylsilanol, and methyltrichlorosilane Can be.

상기 중공실리카의 함량은 반드시 제한되지 않으나 저굴절층 형성용 조성물 전체 100중량부에 대하여, 0.1 내지20중량부 포함되는 것이 좋다. 상기 중공실리카의 함량이 상기 기준으로 0.1중량부 미만일 경우 충분한 굴절률 감소효과를 얻을 수가 없고, 20중량부를 초과 할 경우 내스크래치성이 저하되는 문제점이 있다.
The content of the hollow silica is not necessarily limited, but may be included in an amount of 0.1 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the total composition for forming the low refractive index layer. If the content of the hollow silica is less than 0.1 parts by weight, the sufficient refractive index reduction effect is not obtained, and if it exceeds 20 parts by weight, there is a problem in that scratch resistance is lowered.

플루오르(메타)아크릴레이트Fluoro (meth) acrylate 화합물(B) The compound (B)

상기 플루오르(메타)아크릴레이트 화합물은 우수한 오염 방지성과 내지문성의 확보를 위해 첨가되는 것으로서, 본 발명에 따르면 분자내 3개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 화합물과, 하기 화학식 1로 표현되는 플루오르 알코올 및 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트를 반응시켜 얻어진 것을 사용하게 된다.The fluorine (meth) acrylate compound is added to ensure excellent pollution prevention and anti-fingerprint, according to the present invention, a compound having three or more isocyanate groups in the molecule, and a fluoro alcohol and 2-hydride represented by the following formula (1) What was obtained by making oxyethyl (meth) acrylate react is used.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00011
Figure pat00011

(상기 화학식 1에서 Y는 각각 독립적으로 H 또는 F이고, n 및 m은 각각 0에서 200의 정수이다.)
(Y in Formula 1 is each independently H or F, n and m are each an integer from 0 to 200.)

상기 분자내 3개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 화합물은 1,4-디이소시아나토부탄으로 유도된 이소시아누레이트형 3관능 이소시아네이트, 1,6-디이소시아나토헥산으로 유도된 이소시아누레이트형 3관능 이소시아네이트, 1,8-디이소시아나토옥탄으로 유도된 이소시아누레이트형 3관능 이소시아네이트, 1,12-디이소시아나토데칸으로 유도된 이소시아누레이트형 3관능 이소시아네이트, 1,5-디이소시아나토-2-메틸펜탄으로 유도된 이소시아누레이트형 3관능 이소시아네이트, 트리메틸-1,6-디이소시아나토헥산으로 유도된 이소시아누레이트형 3관능 이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산으로 유도된 이소시아누레이트형 3관능 이소시아네이트, 트랜스-1,4-시클로헥센디이소시아네이트으로 유도된 이소시아누레이트형 3관능 이소시아네이트, 4,4’-메틸렌비스(시클로헥실이소시아네이트) 으로 유도된 이소시아누레이트형 3관능 이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트으로 유도된 이소시아누레이트형 3관능 이소시아네이트, 톨루엔-2,4-디이소시아네이트으로 유도된 이소시아누레이트형 3관능 이소시아네이트, 톨루엔-2,6-디이소시아네이트으로 유도된 이소시아누레이트형 3관능 이소시아네이트, 자일렌-1,4-디이소시아네이트으로 유도된 이소시아누레이트형 3관능 이소시아네이트, 테트라메틸자일렌-1,3-디이소시아네이트으로 유도된 이소시아누레이트형 3관능 이소시아네이트, 1-클로로메틸-2,4-디이소시아네이트으로 유도된 이소시아누레이트형 3관능 이소시아네이트, 4,4’-메틸렌비스(2,6-디메틸페닐이소시아네이트)으로 유도된 이소시아누레이트형 3관능 이소시아네이트, 4,4’-옥시비스(페닐이소시아네이트)으로 유도된 이소시아누레이트형 3관능 이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트로부터 유도되는 3관능 이소시아네이트, 트리메탄프로판올 어덕트 톨루엔디이소시아네이트, 1,6-디이소시아나토헥산 3관능 뷰렛형 화합물 등으로 이루어진 군으로부터 선택된 화합물을 사용할 수 있다. The compound having three or more isocyanate groups in the molecule is preferably an isocyanurate type trifunctional isocyanate derived from 1,4-diisocyanatobutane, an isocyanurate type trifunctional isocyanate derived from 1,6-diisocyanatohexane , Isocyanurate-type trifunctional isocyanates derived from 1,8-diisocyanatooctane, isocyanurate-type trifunctional isocyanates derived from 1,12-diisocyanatodecane, 1,5-diisocyanato-2 Isocyanurate-type trifunctional isocyanate derived from methylpentane, isocyanurate-type trifunctional isocyanate derived from trimethyl-1,6-diisocyanatohexane, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane Isocyanurate type trifunctional isocyanate derived from trans-1,4-cyclohexane diisocyanate, isocyanurate type trifunctional isocyanate derived from trans- Isocyanurate trifunctional isocyanate derived from 4,4'-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), isocyanurate trifunctional isocyanate derived from isophorone diisocyanate, toluene-2,4-diisocyanate Isocyanurate trifunctional isocyanate, isocyanurate trifunctional isocyanate derived from toluene-2,6-diisocyanate, isocyanurate trifunctional isocyanate derived from xylene-1,4-diisocyanate Isocyanurate trifunctional isocyanate derived from tetramethylxylene-1,3-diisocyanate, isocyanurate trifunctional isocyanate derived from 1-chloromethyl-2,4-diisocyanate, 4,4 Isocyanurate trifunctional isocyanate derived from '-methylenebis (2,6-dimethylphenylisocyanate), 4,4'-oxybi Isocyanurate type trifunctional isocyanate derived from (phenyl isocyanate), trifunctional isocyanate derived from hexamethylene diisocyanate, trimethane propanol adduct toluene diisocyanate, 1,6-diisocyanatohexane trifunctional biuret compound, etc. Compounds selected from the group consisting of can be used.

바람직하게는 상기 분자내 3개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 화합물로 헥사메틸렌디이소시아네이트로부터 유도된 3관능 이소시아네이트, 트리메탄프로판올 어덕트 톨루엔디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트로부터 유도된 이소시아누레이트형 3관능 이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 뷰렛형 이소시아네이트로부터 선택된 것을 사용할 수 있다.
Preferably is a trifunctional isocyanate derived from hexamethylene diisocyanate, trimethanepropanol adduct toluene diisocyanate, isocyanurate type trifunctional isocyanate derived from isophorone diisocyanate with a compound having three or more isocyanate groups in the molecule, One selected from hexamethylene diisocyanate biuret isocyanate can be used.

상기 화학식 1로 표현되는 플루오르 알코올은 구체적으로 2,2,2-트리플루오르에탄올, 2,2,3,3-테트라플루오르-1-프로판올, 2,2,3,3,3-펜타플루오르-1-프로판올, 2,2,3,4,4,4-헥사플루오르-1-부탄올, 2,2,3,3,4,4,4-헵타플루오르-1-부탄올, 2,2,3,3,4,4,5,5-옥타플루오르-1-펜탄올, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-노난플루오르-1-펜탄올, 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-펜타데카플루오르-1-옥탄올 등으로 이루어진 군으로부터 선택된 화합물을 사용할 수 있다.
Fluoro alcohol represented by the formula (1) is specifically 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol, 2,2,3,3,3-pentafluoro-1 -Propanol, 2,2,3,4,4,4-hexafluoro-1-butanol, 2,2,3,3,4,4,4-heptafluoro-1-butanol, 2,2,3,3 , 4,4,5,5-octafluoro-1-pentanol, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonanfluoro-1-pentanol, 2,2,3,3 And compounds selected from the group consisting of 4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-pentadecafluoro-1-octanol and the like.

상기 분자내 3개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 화합물과, 상기 화학식 1로 표현되는 플루오르 알코올 및 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트의 반응은 용제 존재 하에서 반응하는 것이 바람직하다. The reaction of the compound having three or more isocyanate groups in the molecule, and the fluoro alcohol and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate represented by the formula (1) is preferably reacted in the presence of a solvent.

상기 용제로는 특별히 제한 하지 않으나 상용성을 고려하여 에테르계, 케톤계 등이 바람직하게 사용될 수 있다. 더욱 바람직하게는 상기 용제로 플루오르계 용제를 혼용하여 사용할 수 있으며, 구체적으로는 히드로플루오르카본 및 히드로플루오르에테르를 사용 가능하며 시판품으로 듀퐁사의 바트렐XF(CF3CHFCHFCF2CF3), 니혼제온사의 제오롤라H(헵타플루오르시클로펜탄), 3M사의 HFE-7100(C4F9OCH3), 7200(C4F9OC2H5)등으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 사용할 수 있다.
The solvent is not particularly limited, but ether, ketone, etc. may be preferably used in consideration of compatibility. More preferably, a fluorine-based solvent may be used in combination with the above-mentioned solvent. Specifically, hydrofluorocarbons and hydrofluoroethers can be used. Commercial products such as BARTEL XF (CF 3 CHFCHFCF 2 CF 3 ) from DuPont, At least one selected from the group consisting of zeolol H (heptafluorocyclopentane), HFE-7100 (C 4 F 9 OCH 3 ) and 7200 (C 4 F 9 OC 2 H 5 ) of 3M, etc. may be used.

바람직하게 상기 플루오르(메타)아크릴레이트 화합물(B)은 하기 화학식 2 내지 화학식 9로 표시되는 화합물 중에서 선택되는 적어도 하나를 포함할 수 있다. Preferably, the fluoro (meth) acrylate compound (B) may include at least one selected from compounds represented by the following Chemical Formulas 2 to 9.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00012
Figure pat00012

[화학식 3](3)

Figure pat00013
Figure pat00013

[화학식 4][Formula 4]

Figure pat00014
Figure pat00014

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pat00015
Figure pat00015

[화학식 6][Formula 6]

Figure pat00016
Figure pat00016

[화학식 7][Formula 7]

Figure pat00017
Figure pat00017

[화학식 8][Formula 8]

Figure pat00018
Figure pat00018

[화학식 9][Chemical Formula 9]

Figure pat00019
Figure pat00019

(상기 화학식 2 내지 9에서, X는 수소원자 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고, Rf는 하기 화학식 10으로 표현 된다.)(In Formulas 2 to 9, X is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, Rf is represented by the following formula (10).)

[화학식 10][Formula 10]

Figure pat00020
Figure pat00020

(상기 화학식 10에서 Y는 각각 독립적으로 H 또는 F이고, n 및 m은 각각 0에서 200의 정수이다.)
(Y in formula 10 is each independently H or F, n and m are each an integer from 0 to 200.)

상기 플루오르(메타)아크릴레이트 화합물(B)는 하드코팅 조성물 전체 100중량부에 대해 0.1 내지 30중량부를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 불소 화합물(B)의 함량이 상기 기준으로 0.1중량부 미만인 경우 오염방지 및 지문 닦아내기성 효과를 내기 어렵고 30중량부를 초과 할 경우 상용성이 좋지 않아 작업성이 떨어지는 문제점이 있다.
The fluorine (meth) acrylate compound (B) is preferably used 0.1 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the total hard coating composition. When the content of the fluorine compound (B) is less than 0.1 parts by weight based on the above standards, it is difficult to produce an antifouling and fingerprint wiping effect.

(( 메타Meta )) 아크릴레이트Acrylate 모노머Monomer (C)(C)

상기 (메타)아크릴레이트 모노머는 경화층의 경도를 향상시키기 위해 첨가된다. The (meth) acrylate monomer is added to improve the hardness of the cured layer.

상기 (메타)아크릴레이트 모노머는 당해분야에서 일반적으로 사용되는 것을 제한없이 사용할 수 있다. 구체적으로 상기 (메타)아크릴레이트 모노머는 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 펜타에리리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴릭에스테르, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 글리세롤트리(메타)아크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트트리(메타)아크릴레이트, 에틸렌클리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌클리콜디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트디(메타)아크릴레이트, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 이소덱실(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 테트라히드로퍼푸릴(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 이소보네올(메타)아크릴레이트 등으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 화합물을 사용할 수 있다. The (meth) acrylate monomers can be used without limitation those generally used in the art. Specifically, the (meth) acrylate monomers include dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, Ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, (meth) acrylic ester, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tree (meth ) Acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol (meth) acrylate, 1,3-butanedioldi (meth) acrylate, 1,4-butanedioldi (meth) acrylate, 1,6- Hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene Recall di (meth) acrylate, bis (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth ) Acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, isobornol At least one compound selected from the group consisting of (meth) acrylates and the like can be used.

상기 (메타)아크릴레이트 모노머의 함량은 제한되지 않으나 저굴절층 형성용 조성물 전체 100중량부에 대하여 0.1 내지30중량부 포함되는 것이 바람직하다. 상기 (메타)아크릴레이트 모노머의 함량이 상기 기준으로 0.1중량부 미만이면 저굴절층의 표면 경화에 문제가 있고, 30중량부를 초과하면 저굴절층의 굴절률 상승으로 반사 방지 효과가 저감될 수 있다.
The content of the (meth) acrylate monomer is not limited, but is preferably included 0.1 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the total composition for forming the low refractive index layer. If the content of the (meth) acrylate monomer is less than 0.1 parts by weight based on the above standard, there is a problem in the surface hardening of the low refractive index layer, and if it exceeds 30 parts by weight, the antireflection effect may be reduced by increasing the refractive index of the low refractive layer.

광개시제Photoinitiator (D)(D)

상기 광개시제는 당해분야에서 사용되는 것을 제한 없이 사용할 수 있다. The photoinitiator can be used without limitation those used in the art.

상기 광개시제는 구체적으로 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]2-모폴린프로판온-1, 디페닐케톤 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-1-온, 4-히드록시시클로페닐케톤, 디메톡시-2-페닐아테토페논, 안트라퀴논, 플루오렌, 트리페닐아민, 카바졸, 3-메틸아세토페논, 4-크놀로아세토페논, 4,4-디메톡시아세토페논, 4,4-디아미노벤조페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 및 벤조페논으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 사용할 수 있다. The photoinitiator is specifically 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] 2-morpholinepropanone-1, diphenylketone benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-1 -One, 4-hydroxycyclophenylketone, dimethoxy-2-phenylatetophenone, anthraquinone, fluorene, triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, 4-knoloacetophenone, 4,4 At least one selected from the group consisting of -dimethoxyacetophenone, 4,4-diaminobenzophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, and benzophenone can be used.

상기 광개시제의 함량은 저굴절층 형성용 조성물 전체 100중량부에 대하여 0.05내지 5중량부 포함되는 것이 바람직하다. 상기 광개시제의 함량이 상기 기준으로 0.05중량부 미만이면 저굴절층 형성용 조성물의 경화 속도가 늦고, 5중량부를 초과 할 경우 과 경화로 저굴절층에 크랙이 발생할 수 있다.
The photoinitiator is preferably contained in an amount of 0.05 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the total composition for forming the low refractive layer. When the content of the photoinitiator is less than 0.05 parts by weight based on the above, the curing rate of the low refractive index layer-forming composition is slow, and when the content exceeds 5 parts by weight, cracking may occur in the low refractive layer.

용제(E)Solvent (E)

상기 용제는 본 기술분야의 저굴절층 형성용 조성물의 용제로 알려진 것이라면 제한되지 않고 사용할 수 있다.The solvent can be used without limitation as long as it is known as a solvent of the composition for forming a low refractive index layer in the art.

일례로, 상기 용제는 알코올계(메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 메틸셀루소브, 에틸솔루소브 등), 케톤계(메틸에틸케톤, 메틸부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 디에틸케톤, 디프로필케톤, 시클로헥사논 등), 헥산계(헥산, 헵탄, 옥탄 등), 벤젠계(벤젠, 톨루엔, 자일렌 등) 등이 바람직하게 사용될 수 있다. 상기 예시된 용제들은 각각 단독으로 또는 2종이상을 조합하여 사용할 수 있다.For example, the solvent may be at least one selected from the group consisting of alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, methylcellulose, ethylsulosorb), ketones (methyl ethyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, Ketone, cyclohexanone, etc.), hexane (hexane, heptane, octane etc.), benzene (benzene, toluene, xylene and the like) The solvents exemplified above may be used alone or in combination of two or more.

상기 용제의 함량은 저굴절층 형성용 조성물 전체 100중량부에 대하여 50 내지 98중량부 포함될 수 있다. 상기 용제가 상기 기준으로 50중량부 미만이면 점도가 높아 박막코팅이 힘들고, 98중량부를 초과할 경우에는 경화 과정에서 시간이 많이 소요되고 경제성이 떨어지는 문제가 있다.
The solvent may be included in an amount of 50 to 98 parts by weight based on 100 parts by weight of the total composition for forming the low refractive layer. If the solvent is less than 50 parts by weight based on the above standard, the viscosity is high, the coating is difficult, and when it exceeds 98 parts by weight, it takes a long time in the curing process and there is a problem of low economic efficiency.

본 발명에 따른 저굴절층 형성용 조성물에는 상기한 성분들 이외에도 광자극제, 항산화제, UV 흡수제, 광안정제, 열적고분자화 금지제, 레블링제, 계면활성제, 윤활제 등이 함께 사용될 수 있다.
In addition to the above components, the composition for forming a low refractive index according to the present invention may be used with photo-stimulating agents, antioxidants, UV absorbers, light stabilizers, thermal polymerisation inhibitors, levling agents, surfactants, lubricants, and the like.

본 발명에서는 상술한 저굴절층 형성용 조성물을 이용하여 제조된 저굴절층을 포함하는 반사 방지 필름을 제공한다. The present invention provides an anti-reflection film including a low refractive layer manufactured by using the composition for forming a low refractive layer described above.

보다 구체적으로 상기 반사 방지 필름은 투명기재와, 상기 투명기재의 일면 또는 양면에 상기한 본 발명에 따른 저굴절층 형성용 조성물을 이용하여 형성된 저굴절층을 포함한다. More specifically, the anti-reflection film includes a transparent substrate and a low refractive layer formed by using the composition for forming a low refractive index layer according to the present invention on one or both surfaces of the transparent substrate.

이때 본 발명의 반사 방지 필름에는, 필름의 물리적 강도를 부여하기 위해 상기 투명기재와 저굴절층 사이에 하드코팅층이 더 포함될 수 있다. 즉, 본 발명에 따른 반사 방지 필름의 바람직한 일예는 투명기재의 상면에 하드코팅층이 형성되고, 그 상면에 상기 저굴절층 형성용 조성물을 경화시켜 형성된 저굴절률층이 포함되는 것이다. In this case, the anti-reflection film of the present invention may further include a hard coating layer between the transparent substrate and the low refractive index layer to impart the physical strength of the film. That is, a preferred example of the anti-reflection film according to the present invention is a hard coating layer is formed on the upper surface of the transparent substrate, the low refractive index layer formed by curing the composition for forming the low refractive index layer on the upper surface.

상기 투명기재는 투명성이 있는 플라스틱 필름이면 어떤 필름이라도 사용가능하며, 예를 들면, 노르보르넨이나 다환 노르보르넨계 단량체와 같은 시클로올레핀을 포함하는 단량체의 단위를 갖는 시클로올레핀계 유도체, 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스, 아세틸셀룰로오스부틸레이트, 이소부틸에스테르셀룰로오스, 프로피오닐셀룰로오스, 부티릴셀룰로오스 또는 아세틸프로피오닐셀룰로오스 등에서 선택되는 셀룰로오스, 에틸렌-아세트산비닐공중합체, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리아미드, 폴리에테르이미드, 폴리아크릴, 폴리이미드, 폴리에테르술폰, 폴리술폰, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐알콜, 폴리비닐아세탈, 폴리에테르케톤, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르술폰, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리우레탄, 에폭시 중에서 선택된 것을 사용할 수 있으며, 미연신 1축 또는 2축 연신 필름을 사용할 수 있다.The transparent substrate may be any film as long as it is a transparent plastic film. For example, a cycloolefin derivative having a unit of a monomer containing a cycloolefin such as norbornene or a polycyclic norbornene monomer, or a diacetyl cellulose Cellulose selected from triacetyl cellulose, acetyl cellulose butyrate, isobutyl ester cellulose, propionyl cellulose, butyryl cellulose, or acetyl propionyl cellulose , Polyacryl, polyimide, polyether sulfone, polysulfone, polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal, polyether ketone, polyether ether ketone, poly Ether sulfone, paul One selected from dimethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyurethane, and epoxy may be used, and an unstretched uniaxial or biaxially oriented film may be used.

이 중에서 바람직하게는 투명성 및 내열성이 우수한 1축 또는 2축 연신 폴리에스테르 필름이나, 투명성 및 내열성이 우수하면서 필름의 대형화에 대응할 수 있는 시클로올레핀계 유도체 필름, 투명성 및 광학적으로 이방성이 없다는 점으로 트리아세틸셀룰로오스 필름이 적합하게 사용될 수 있다. Of these, preferred are monoaxially or biaxially oriented polyester films which are excellent in transparency and heat resistance, cycloolefin-based derivative films which are excellent in transparency and heat resistance and capable of coping with the enlargement of the film, transparency and optical anisotropy, An acetylcellulose film may suitably be used.

상기 투명기재 필름의 두께는 8~1000㎛이고, 바람직하게는 40~100㎛이다.
The thickness of the transparent base film is 8 ~ 1000㎛, preferably 40 ~ 100㎛.

상기 투명기재상에 형성되는 하드코팅층은 양호한 반사 방지 필름을 얻기 위한 광학설계로부터, 25℃에서의 굴절률이 1.48~2.00의 범위에 있는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.50~1.90이고, 더욱 바람직하게는 1.50~1.80이다. 본 발명에 따른 반사 방지 필름은 상기 하드코팅층 위에 저굴절률층이 적어도 1층 포함되어 있기 때문에, 굴절률이 상기 범위보다 작으면 반사 방지성이 저하되고, 굴절률이 상기 범위보다 크면 반사광의 색감이 강해지는 단점이 있다.The hard coating layer formed on the transparent substrate preferably has a refractive index in the range of 1.48 to 2.00 at 25 ° C, more preferably 1.50 to 1.90, and more preferably from an optical design for obtaining a good antireflection film. Is 1.50 to 1.80. Since the antireflection film according to the present invention includes at least one low refractive index layer on the hard coating layer, when the refractive index is smaller than the above range, the antireflection property is lowered, and when the refractive index is larger than the above range, the color of the reflected light becomes stronger. There are disadvantages.

상기 하드코팅층은 광경화성 화합물의 가교반응 또는 중합반응에 의해 형성되는 것이 바람직하다. 이들 화합물은 특별히 한정 하지 않으며 예를 들어, 다관능 모노머나 다관능 올리고머를 포함하는 하드코팅층 형성용 조성물을 투명지지체 상에 도포한 다음 상기 다관능 모노머나 다관능 올리고머를 가교반응 또는 중합반응시킴으로써 형성할 수 있다.The hard coating layer is preferably formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of the photocurable compound. These compounds are not particularly limited, and are formed by, for example, applying a composition for forming a hard coating layer containing a polyfunctional monomer or a polyfunctional oligomer onto a transparent support, and then crosslinking or polymerizing the polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer. can do.

상기 다관능 모노머나 다관능 올리고머의 관능기는 광, 전자선, 방사선 중합성인 것이 바람직하고, 그 중에서도 광중합성 관능기가 바람직하다. It is preferable that the functional group of the said polyfunctional monomer and a polyfunctional oligomer is light, an electron beam, and radiation polymerization property, and a photopolymerizable functional group is especially preferable.

상기 광중합성 관능기로는, (메타)아크릴로일기, 비닐기, 스티릴기, 알릴기 등의 불포화 중합성 관능기 등을 들 수 있고, 그 중에서도 (메타)아크릴로일기가 바람직하다. As said photopolymerizable functional group, unsaturated polymerizable functional groups, such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, an allyl group, etc. are mentioned, Especially, a (meth) acryloyl group is preferable.

상기 광중합성 관능기를 갖는 광중합성 다관능 모노머의 구체예로는, 네오펜틸글리콜아크릴레이트, 1,6-헥산디올(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트 등의 알킬렌글리콜의 (메타)아크릴산디에스테르류; 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트 등의 폴리옥시알킬렌글리콜(메타)아크릴산디에스테르류; 펜타에리스리톨디(메타)아크릴레이트 등의 다가 알코올의 (메타)아크릴산디에스테르류; 2,2-비스{4-(아크릴록시ㆍ디에톡시)페닐}프로판, 2,2-비스{4-(아크릴록시ㆍ폴리프로폭시)페닐}프로판 등의 에틸렌옥시드 또는 프로필렌옥시드 부가물의 (메타)아크릴산디에스테르류 등을 들 수 있다. 또한, 에폭시(메타)아크릴레이트류, 우레탄(메타)아크릴레이트류, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트류도 광중합성 다관능 모노머로서 바람직하게 사용될 수 있다.Specific examples of the photopolymerizable polyfunctional monomer having the photopolymerizable functional group include alkylene glycols such as neopentyl glycol acrylate, 1,6-hexanediol (meth) acrylate, and propylene glycol di (meth) acrylate. Meta) acrylic acid diesters; Polyoxyalkylene glycol (meth) acrylic acid di, such as triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, and polypropylene glycol di (meth) acrylate Esters; (Meth) acrylic acid diesters of polyhydric alcohols such as pentaerythritol di (meth) acrylate; Ethylene oxide or propylene oxide adducts such as 2,2-bis {4- (acryloxydiethoxy) phenyl} propane and 2,2-bis {4- (acryloxypolypropoxy) phenyl} propane And meta) acrylic acid diesters. In addition, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, and polyester (meth) acrylates can also be preferably used as the photopolymerizable polyfunctional monomer.

상기 예시된 광중합성 다관능 모노머 중에서도 다가 알코올과 (메타)아크릴산의 에스테르류가 바람직하게 사용될 수 있다. Among the photopolymerizable polyfunctional monomers exemplified above, esters of a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid can be preferably used.

상기 광중합성 다관능 모노머는 더욱 바람직하게 1분자 중에 3개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 다관능 모노머를 사용하는 것이 좋다. 상기 1분자 중에 3개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 다관능 모노머의 구체적인 예로는, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리(메타)아크릴레이트, 1,2,4-시클로헥산테트라(메타)아크릴레이트, 펜타글리세롤트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 트리펜타에리스리톨헥사트리아크릴레이트 등을 들 수 있다. As for the said photopolymerizable polyfunctional monomer, it is more preferable to use the polyfunctional monomer which has three or more (meth) acryloyl groups in 1 molecule. As a specific example of the polyfunctional monomer which has three or more (meth) acryloyl groups in the said molecule | numerator, a trimethylol propane tri (meth) acrylate, a trimethylol ethane tri (meth) acrylate, and 1,2, 4- cyclo Hexanetetra (meth) acrylate, pentaglycerol triacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol tetra (Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol triacrylate, tripentaerythritol hexatriacrylate, and the like.

상술한 광중합성 다관능 모노머는 각각 단독으로 또는 2종류 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The photopolymerizable polyfunctional monomer mentioned above can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

상기 광중합성 다관능 모노머의 중합반응을 위해 광개시제를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 광개시제로는, 광라디칼 개시제와 광 양이온 개시제가 바람직하고, 특히 바람직한 것은 광라디칼 개시제이다.It is preferable to use a photoinitiator for the polymerization reaction of the photopolymerizable polyfunctional monomer. As said photoinitiator, an optical radical initiator and a photocationic initiator are preferable, and an optical radical initiator is especially preferable.

상기 광라디칼 개시제로는, 당해분야에서 일반적으로 사용되는 것을 적용할 수 있으며, 예를 들어 아세토페논류, 벤조페논류, 미힐러의 벤조일벤조에이트, α-아밀옥심에스테르, 테트라메틸티우람모노술파이트 및 티오크산톤류 등에서 선택된 것을 사용할 수 있다.
As the photoradical initiator, those generally used in the art can be applied, and examples thereof include acetophenones, benzophenones, Michler's benzoylbenzoate, α-amyl oxime ester and tetramethylthiuram monosulfur. Those selected from pits and thioxanthones can be used.

본 발명에 따른 반사 방지 필름에서 투명기재상에 순차적으로 형성되는 하드코팅층과 저굴절층은 다이코터, 에어 나이프, 리버스 롤, 스프레이, 블레이드, 캐스팅, 그라비아 및 스핀코팅 등의 적당한 방식으로 하드코팅층 형성용 조성물 및 본 발명에 따른 저굴절층 형성용 조성물을 도포하여 형성할 수 있다.In the anti-reflection film according to the present invention, the hard coating layer and the low refractive layer, which are sequentially formed on the transparent substrate, may be formed in a suitable manner such as die coater, air knife, reverse roll, spray, blade, casting, gravure, and spin coating. It can form by apply | coating the composition for forming and the composition for low refractive layer formation which concerns on this invention.

상기 하드코팅층 형성용 조성물의 도포 두께는 보통 3~50㎛이며, 바람직하게는 5~40㎛이고, 보다 바람직하게는 5~35㎛이다. 하드코팅층 형성용 조성물을 도포한 후 30~150℃ 온도에서 10초~1시간, 바람직하게는 30초~10분 동안 건조시킨다. 건조가 완료되면 UV광을 조사하여 하드코팅층 형성용 조성물을 광경화시켜 하드코팅층을 형성시킨다. 상기 UV광의 조사량은 약 0.01~10J/cm2이고, 바람직하게는 0.1~2J/cm2이다. The coating thickness of the composition for forming a hard coat layer is usually 3 to 50 µm, preferably 5 to 40 µm, and more preferably 5 to 35 µm. After applying the composition for forming the hard coat layer and dried for 10 seconds to 1 hour, preferably 30 seconds to 10 minutes at a temperature of 30 ~ 150 ℃. When the drying is complete, UV light is irradiated to harden the composition for forming a hard coat layer to form a hard coat layer. The irradiation amount of UV light is about 0.01-10 J / cm 2 , preferably 0.1-2 J / cm 2 .

상기 저굴절층 형성용 조성물의 도포두께는 0.01~2㎛이며, 바람직하게는 0.05~0.3㎛이다. 상기 저굴절층 형성용 조성물을 도포한 후 30~150℃ 온도에서 10초~1시간, 바람직하게는 30초~10분 동안 건조시킨다. 건조가 완료되면 UV광을 조사하여 저굴절층 형성용 조성물을 광경화시켜 저굴절층을 형성시킨다. 상기 UV광의 조사량은 약 0.01~10J/cm2이고, 바람직하게는 0.1~2J/cm2이다.The coating thickness of the said composition for low refractive layer formation is 0.01-2 micrometers, Preferably it is 0.05-0.3 micrometers. After applying the composition for forming the low refractive layer is dried for 10 seconds to 1 hour, preferably 30 seconds to 10 minutes at a temperature of 30 ~ 150 ℃. When the drying is complete, UV light is irradiated to photocur the composition for forming the low refractive layer to form a low refractive layer. The irradiation amount of UV light is about 0.01-10 J / cm 2 , preferably 0.1-2 J / cm 2 .

상기 저굴절층 형성용 조성물의 도포 두께가 상기 범위 내에 있으면, 보다 우수한 오염방지 특성을 얻을 수 있으며, 양호한 내구성을 유지할 수 있게 된다. When the coating thickness of the composition for forming the low refractive index layer is within the above range, more excellent antifouling properties can be obtained and good durability can be maintained.

상기 저굴절층의 굴절률은 전술한 하드코팅층에 비하여 상대적으로 낮은 굴절률을 갖는다. 상기 저굴절층은 반사 방지 필름을 얻기 위한 광학설계로부터, 25℃에서의 굴절률이 1.20~1.49의 범위에 있는 것이 바람직하다. 상기 저굴절층의 굴절률이 상기 범위보다 작으면 반사 방지성이 저하되고, 상기 범위보다 크면 반사광의 색감이 강해지는 단점이 있다.The refractive index of the low refractive index layer has a relatively low refractive index compared to the above-described hard coating layer. It is preferable that the refractive index in 25 degreeC exists in the range of 1.20-1.49 from the optical design for obtaining the said low refractive layer from an antireflection film. If the refractive index of the low refractive index layer is smaller than the above range, the antireflection property is lowered. If the refractive index is higher than the above range, the color of the reflected light is strong.

상기와 같이 제조된 반사 방지 필름은 우수한 내스크래치성, 반사방지 특성 및 탁월한 밀착성을 갖는다.
The antireflective film prepared as described above has excellent scratch resistance, antireflection properties and excellent adhesion.

본 발명에서는 상술한 반사 방지 필름을 포함하는 편광판을 제공한다.In the present invention, a polarizing plate including the antireflection film described above is provided.

상기 편광판은 특별하게 제한되지 않지만, 다양한 종류가 사용될 수 있다. 상기 편광판으로서는, 예를 들어, 폴리비닐 알코올계 필름, 및 에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 2색성 염료 등의 2색성 물질을 흡착시켜 1축 연신한 필름 폴리비닐 알코올의 탈수처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등이 언급될 수 있다. 이들 중에서도, 폴리비닐 알코올계 필름과 요오드 등의 2색성 물질로 이루어지는 편광판이 바람직하다. 이들 편광판의 두께는 특별하게 제한되지 않지만, 일반적으로는 5~80㎛ 정도이다.
The polarizing plate is not particularly limited, but various kinds may be used. As said polarizing plate, the film poly which uniaxially stretched by adsorb | sucking dichroic substances, such as iodine and a dichroic dye, to hydrophilic polymer films, such as a polyvinyl alcohol-type film and an ethylene-vinyl acetate copolymerization partial saponification film, for example And polyene-based alignment films such as dehydration products of vinyl alcohol and dehydrochlorination products of polyvinyl chloride. Among these, the polarizing plate which consists of dichroic substances, such as a polyvinyl alcohol-type film and iodine, is preferable. Although the thickness of these polarizing plates is not specifically limited, Generally, it is about 5-80 micrometers.

본 발명은 또한 상술한 반사 방지 필름이 적용된 표시 장치를 제공한다.The present invention also provides a display device to which the above-described antireflection film is applied.

일례로, 본 발명의 반사 방지 필름이 형성된 편광판을 표시 장치에 내장함으로써, 가시성이 우수한 다양한 표시 장치를 제조할 수 있다. 또한, 본 발명의 반사 방지 필름을 표시 장치의 윈도우에 부착시킬 수도 있다. 본 발명의 반사 방지 필름은 반사형, 투과형, 반투과형 LCD 또는 TN형, STN형, OCB형, HAN형, VA형, IPS형 등의 각종 구동 방식의 LCD에 바람직하게 이용될 수 있다. 또한, 본 발명의 반사 방지 필름은 플라즈마 디스플레이, 필드 에미션 디스플레이, 유기 EL 디스플레이, 무기 EL 디스플레이, 전자 페이퍼 등의 각종 표시 장치에도 바람직하게 이용될 수 있다.
For example, various display devices excellent in visibility can be manufactured by embedding the polarizing plate on which the antireflection film of the present invention is formed in the display device. In addition, the antireflection film of the present invention may be attached to a window of the display device. The antireflection film of the present invention can be suitably used in reflective, transmissive, transflective LCDs or LCDs of various driving methods such as TN type, STN type, OCB type, HAN type, VA type, and IPS type. Moreover, the antireflection film of this invention can be used suitably also in various display apparatuses, such as a plasma display, a field emission display, an organic EL display, an inorganic EL display, an electronic paper.

본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 구체화될 것이며, 하기 실시예는 본 발명의 구체적인 예시에 불과하며, 본 발명의 보호범위를 한정하거나 제한하고자 하는 것은 아니다. The present invention will be further illustrated by the following examples, which are only specific examples of the present invention, and are not intended to limit or limit the protection scope of the present invention.

[합성예 1] 플루오르(메타)아크릴레이트 화합물Synthesis Example 1 Fluorine (meth) acrylate compound

2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-펜타데카플루오르-1-옥탄올(TCI사) 20중량부, 이소포론디이소시아네이트로 유도된 3관능 이소시아네이트(데구사) 24중량부, 2-히드록시에틸아크릴레이트 6중량부, 프로필렌글리콜모노에틸에테르(알드리치사) 20중량부, 헵타플루오르시클로펜탄(알드리치사) 30중량부, 디부틸틴디라우레이트 0.1중량부을 첨가하고 반응기 온도를 50℃로 승온한 후 2시간 동안 교반하였다. 적외선 분광 스펙트럼의 이소시아네이트의 특성 피크인 2260㎝-1 가 완전히 소멸되면 반응을 종결하여 고형분이 50wt%인 화합물을 얻었다.20 parts by weight of 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-pentadecafluoro-1-octanol (TCI), 20 parts by weight of isophorone diisocyanate , 24 parts by weight of trifunctional isocyanate (Degussa), 6 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate, 20 parts by weight of propylene glycol monoethyl ether (Aldrich), 30 parts by weight of heptafluorocyclopentane (Aldrich) 0.1 part by weight of tin dilaurate was added and the reactor temperature was raised to 50 DEG C and then stirred for 2 hours. When 2260 cm -1 , the characteristic peak of isocyanate in the infrared spectral spectrum, disappeared completely, the reaction was terminated to obtain a compound having a solid content of 50 wt%.

[합성예 2] 플루오르(메타)아크릴레이트 화합물Synthesis Example 2 Fluorine (meth) acrylate compound

2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-펜타데카플루오르-1-옥탄올(TCI사) 10중량부, 이소포론디이소시아네이트로 유도된 3관능 이소시아네이트(데구사) 22중량부, 2-히드록시에틸아크릴레이트 18중량부, 프로필렌글리콜모노에틸에테르(알드리치사) 20중량부, 헵타플루오르시클로펜탄(일드리치사) 30중량부, 디부틸틴디라우레이트 0.1중량부을 첨가하고 반응기 온도를 50℃로 승온한 후 2시간 동안 교반하였다. 적외선 분광 스펙트럼의 이소시아네이트의 특성 피크인 2260㎝-1 가 완전히 소멸되면 반응을 종결하여 고형분이 50wt%인 화합물을 얻었다.10 parts by weight of 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-pentadecafluoro-1-octanol (TCI), 10 parts by weight of isophorone diisocyanate , 22 parts by weight of trifunctional isocyanate (Degussa), 18 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate, 20 parts by weight of propylene glycol monoethyl ether (Aldrich), 30 parts by weight of heptafluorocyclopentane 0.1 part by weight of butyltin dilaurate was added, the temperature of the reactor was raised to 50 DEG C and the mixture was stirred for 2 hours. When 2260 cm -1 , the characteristic peak of isocyanate in the infrared spectral spectrum, disappeared completely, the reaction was terminated to obtain a compound having a solid content of 50 wt%.

[합성예 3] 플루오르(메타)아크릴레이트 화합물Synthesis Example 3 Fluorine (meth) acrylate compound

2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-펜타데카플루오르-1-옥탄올(TCI사) 20중량부, 헥사메틸디이소시아네이트로 유도된 3관능 이소시아네이트(바스프사) 24중량부, 2-히드록시에틸아크릴레이트 6중량부, 프로필렌글리콜모노에틸에테르(알드리치사) 20중량부, 헵타플루오르시클로펜탄(알드리치사) 30중량부, 디부틸틴디라우레이트 0.1중량부을 첨가하고 반응기 온도를 50℃로 승온한 후 2시간 동안 교반하였다. 적외선 분광 스펙트럼의 이소시아네이트의 특성 피크인 2260㎝-1 가 완전히 소멸되면 반응을 종결하여 고형분이 50wt%인 화합물을 얻었다. 20 parts by weight of 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-pentadecafluoro-1-octanol (TCI), derived from hexamethyldiisocyanate 24 parts by weight of trifunctional isocyanate (BASF), 6 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate, 20 parts by weight of propylene glycol monoethyl ether (Aldrich), 30 parts by weight of heptafluorocyclopentane (Aldrich), dibutyl 0.1 parts by weight of tindilaurate was added and the reactor temperature was raised to 50 ° C. and stirred for 2 hours. When 2260 cm -1 , the characteristic peak of isocyanate in the infrared spectral spectrum, disappeared completely, the reaction was terminated to obtain a compound having a solid content of 50 wt%.

[합성예 4] 플루오르(메타)아크릴레이트 화합물Synthesis Example 4 Fluoro (meth) acrylate Compound

2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-펜타데카플루오르-1-옥탄올(TCI사) 13중량부, 헥사메틸디이소시아네이트로 유도된 3관능 이소시아네이트(바스프사) 22중량부, 2-히드록시에틸아크릴레이트 15중량부, 프로필렌글리콜모노에틸에테르(알드리치사) 20중량부, 헵타플루오르시클로펜탄 30중량부, 디부틸틴디라우레이트 0.1중량부을 첨가하고 반응기 온도를 50℃로 승온한 후 2시간 동안 교반하였다. 적외선 분광 스펙트럼의 이소시아네이트의 특성 피크인 2260㎝-1 가 완전히 소멸되면 반응을 종결하여 고형분 50wt%제품을 얻었다.13 parts by weight of 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-pentadecafluoro-1-octanol (TCI, Inc.), hexamethyl diisocyanate , 22 parts by weight of trifunctional isocyanate (BASF Corp.), 15 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate, 20 parts by weight of propylene glycol monoethyl ether (Aldrich), 30 parts by weight of heptafluorocyclopentane, 0.1 parts by weight of dibutyltin dilaurate 0.1 And the reactor temperature was raised to 50 DEG C, followed by stirring for 2 hours. The reaction was terminated when 2260 cm -1 , the characteristic peak of isocyanate in the infrared spectral spectrum, disappeared completely to obtain a solid product of 50 wt%.

[합성예 5] 플루오르(메타)아크릴레이트 화합물Synthesis Example 5 Fluorine (meth) acrylate compound

2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-펜타데카플루오르-1-옥탄올(TCI사) 20중량부, 트리메탄프로판올 어덕트 톨루엔디이소시아네이트(애경화학사) 18중량부, 2-히드록시에틸아크릴레이트 6중량부, 프로필렌글리콜모노에틸에테르(알드리치사) 20중량부, 헵타플루오르시클로펜탄 30중량부, 디부틸틴디라우레이트 0.1중량부을 첨가하고 반응기 온도를 50℃로 승온한 후 2시간 동안 교반하였다. 적외선 분광 스펙트럼의 이소시아네이트의 특성 피크인 2260㎝-1 가 완전히 소멸되면 반응을 종결하여 고형분 50wt% 제품을 얻었다.20 parts by weight of 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-pentadecafluoro-1-octanol (TCI), trimethylene propanol adduct toluene , 18 parts by weight of diisocyanate (Aekyung Chemical Industries Co., Ltd.), 6 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate, 20 parts by weight of propylene glycol monoethyl ether (Aldrich), 30 parts by weight of heptafluorocyclopentane and 0.1 parts by weight of dibutyltin dilaurate And the temperature of the reactor was raised to 50 DEG C, followed by stirring for 2 hours. When 2260 cm -1 , the characteristic peak of isocyanate in the infrared spectral spectrum, disappeared completely, the reaction was terminated to obtain a product having a solid content of 50 wt%.

[합성예 6] 플루오르(메타)아크릴레이트 화합물Synthesis Example 6 Fluoro (meth) acrylate Compound

2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-펜타데카플루오르-1-옥탄올(TCI사) 15중량부, 트리메탄프로판올 어덕트 톨루엔디이소시아네이트(애경화학사) 20중량부, 2-히드록시에틸아크릴레이트 15중량부, 프로필렌글리콜모노에틸에테르(알드리치사) 20중량부, 헵타플루오르시클로펜탄 30중량부, 디부틸틴디라우레이트 0.1중량부을 첨가하고 반응기 온도를 50℃로 승온한 후 2시간 동안 교반하였다. 적외선 분광 스펙트럼의 이소시아네이트의 특성 피크인 2260㎝-1 가 완전히 소멸되면 반응을 종결하여 고형분 50wt%제품을 얻었다.15 parts by weight of 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-pentadecafluoro-1-octanol (TCI), trimethylene propanol adduct toluene 20 parts by weight of diisocyanate (Ake Kagaku Co., Ltd.), 15 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate, 20 parts by weight of propylene glycol monoethyl ether (Aldrich), 30 parts by weight of heptafluorocyclopentane and 0.1 parts by weight of dibutyltin dilaurate And the temperature of the reactor was raised to 50 DEG C, followed by stirring for 2 hours. The reaction was terminated when 2260 cm -1 , the characteristic peak of isocyanate in the infrared spectral spectrum, disappeared completely to obtain a solid product of 50 wt%.

[합성예 7] 플루오르(메타)아크릴레이트 화합물Synthesis Example 7 Fluorine (meth) acrylate compound

2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-펜타데카플루오르-1-옥탄올(TCI사) 20중량부, 헥사메틸렌디이소시아네이트 뷰렛형 이소시아네이트(바스프사) 23중량부, 2-히드록시에틸아크릴레이트 7중량부, 프로필렌글리콜모노에틸에테르(알드리치사) 20중량부, 헵타플루오르시클로펜탄 30중량부, 디부틸틴디라우레이트 0.1중량부을 첨가하고 반응기 온도를 50℃로 승온한 후 2시간 동안 교반하였다. 적외선 분광 스펙트럼의 이소시아네이트의 특성 피크인 2260㎝-1 가 완전히 소멸되면 반응을 종결하여 고형분 50wt%제품을 얻었다.20 parts by weight of 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-pentadecafluoro-1-octanol (TCI), 20 parts by weight of hexamethylene diisocyanate buret 23 parts by weight of isocyanate (BASF Corp.), 7 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate, 20 parts by weight of propylene glycol monoethyl ether (Aldrich), 30 parts by weight of heptafluorocyclopentane and 0.1 part by weight of dibutyltin dilaurate And the temperature of the reactor was raised to 50 DEG C, followed by stirring for 2 hours. The reaction was terminated when 2260 cm -1 , the characteristic peak of isocyanate in the infrared spectral spectrum, disappeared completely to obtain a solid product of 50 wt%.

[합성예 8] 플루오르(메타)아크릴레이트 화합물Synthesis Example 8 Fluorine (meth) acrylate compound

2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-펜타데카플루오르-1-옥탄올(TCI사) 12중량부, 헥사메틸렌디이소시아네이트 뷰렛형 이소시아네이트(바스프사) 23중량부, 2-히드록시에틸아크릴레이트 15중량부, 프로필렌글리콜모노에틸에테르(알드리치사) 20중량부, 헵타플루오르시클로펜탄 30중량부, 디부틸틴디라우레이트 0.1중량부을 첨가하고 반응기 온도를 50℃로 승온한 후 2시간 동안 교반하였다. 적외선 분광 스펙트럼의 이소시아네이트의 특성 피크인 2260㎝-1 가 완전히 소멸되면 반응을 종결하여 고형분 50wt%제품을 얻었다.12 parts by weight of 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-pentadecafluoro-1-octanol (TCI), 12 parts by weight of hexamethylene diisocyanate buret 23 parts by weight of isocyanate (BASF Corp.), 15 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate, 20 parts by weight of propylene glycol monoethyl ether (Aldrich), 30 parts by weight of heptafluorocyclopentane and 0.1 part by weight of dibutyltin dilaurate And the temperature of the reactor was raised to 50 DEG C, followed by stirring for 2 hours. The reaction was terminated when 2260 cm -1 , the characteristic peak of isocyanate in the infrared spectral spectrum, disappeared completely to obtain a solid product of 50 wt%.

[제조예] 하드코팅층 형성용 조성물 Preparation Example Composition for Hard Coating Layer Formation

70중량부의 우레탄아크릴레이트(신나카무라화학사, U-15HA), 30중량부의 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(공영사사, PE-3A), 3중량부의 광개시제(시바사, D-1173), 150중량부의 메틸에틸케톤 및 100중량부의 톨루엔을 배합하여 굴절률 1.51인 조성물을 제조하였다.70 parts by weight of urethane acrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., U-15HA), 30 parts by weight of pentaerythritol triacrylate (Co., Ltd., PE-3A), 3 parts by weight of photoinitiator (Shiba Corporation, D-1173), 150 parts by weight of methyl Ethyl ketone and 100 parts by weight of toluene were combined to prepare a composition having a refractive index of 1.51.

[실시예 1 내지 14 및 비교예 1 내지 3][Examples 1 to 14 and Comparative Examples 1 to 3]

하기 표 1 및 표 2에 나타낸 비율로 각성분들을 혼합하여 저굴절층 형성용 조성물을 제조하였다.Each component was mixed at the ratios shown in Tables 1 and 2 to prepare a composition for forming a low refractive layer.

조성물Composition 실시예Example 1One 22 33 44 55 66 77 88 99 다관능 불소 화합물Polyfunctional fluorine compounds 합성예 1Synthesis Example 1 33 33 합성예 2Synthesis Example 2 33 합성예 3Synthesis Example 3 33 합성예 4Synthesis Example 4 33 합성예 5Synthesis Example 5 33 합성예 6Synthesis Example 6 33 합성예 7Synthesis Example 7 33 합성예 8Synthesis Example 8 33 불소중합체Fluoropolymer 중공실리카입자Hollow Silica Particles 33 33 33 33 33 33 33 33 1010 아크릴레이트 모노머(a)Acrylate monomer (a) 22 22 22 22 아크릴레이트 모노머(b)Acrylate monomer (b) 22 22 22 22 1One 용매menstruum MIBKMIBK 8686 8686 8686 8686 44 44 44 44 7676 MEKMEK 44 44 44 44 8686 8686 8686 8686 88 광개시제Photoinitiator I-184I-184 1.51.5 1.51.5 1.51.5 1.51.5 1.51.5 1.51.5 1.51.5 1.51.5 1.51.5 첨가제additive BYK-378BYK-378 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 저굴절층의 굴절률Refractive Index of Low Refractive Layer 1.371.37 1.361.36 1.381.38 1.371.37 1.391.39 1.371.37 1.361.36 1.321.32 1.361.36

조성물Composition 실시예Example 비교예Comparative example 1010 1111 1212 1313 1414 1One 22 33 다관능 불소 화합물Polyfunctional fluorine compounds 합성예 1Synthesis Example 1 합성예 2Synthesis Example 2 1010 합성예 3Synthesis Example 3 3131 합성예 4Synthesis Example 4 1One 합성예 5Synthesis Example 5 합성예 6Synthesis Example 6 0.090.09 합성예 7Synthesis Example 7 2020 합성예 8Synthesis Example 8 불소중합체Fluoropolymer 1515 1010 중공실리카입자Hollow Silica Particles 55 55 33 33 1515 아크릴레이트 모노머(a)Acrylate monomer (a) 1One 22 22 33 22 33 55 아크릴레이트 모노머(b)Acrylate monomer (b) 22 66 용매
menstruum
MIBKMIBK 7676 8686 7070 5757 1313 8686 7070 33
MEKMEK 66 44 33 44 6868 44 1010 8080 광개시제Photoinitiator I-184I-184 1.51.5 1.51.5 1.51.5 1.51.5 1.411.41 1.51.5 1.51.5 1.51.5 첨가제additive BYK-378BYK-378 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 저굴절층의 굴절률Refractive Index of Low Refractive Layer 1.321.32 1.351.35 1.311.31 1.341.34 1.41.4 1.451.45 1.481.48

상기 표 1 및 2에서 사용된 각각의 성분들은 아래와 같다. Each of the components used in Tables 1 and 2 are as follows.

불소중합체 : CC-04(굴절률 1.41, 고형분 50% in 부틸아세테이트, 센트럴글라스)Fluoropolymer: CC-04 (refractive index 1.41, solid content 50% in butyl acetate, central glass)

중공실리카 입자 : 굴절률 1.30, 평균입경 40nm, 촉매화성사Hollow silica particles: refractive index 1.30, average particle diameter 40nm, catalyzed sand

아크릴레이트 모노머(a): 디펜타에리스리톨 펜타/헥사 아크릴레이트(굴절률 1.476, 일본합성사, DPHA)크릴레이트 모노머(b): 펜타에리스리톨 트리/테트라 아크릴레이트(굴절률 1.47, 미원상사, M340)Acrylate monomer (a): dipentaerythritol penta / hexa acrylate (refractive index 1.476, Nippon Synthetic Co., DPHA) acrylate monomer (b): pentaerythritol tri / tetra acrylate (refractive index 1.47, Miwon Corporation, M340)

MIBK : 메틸이소부틸케톤(대정화금)MIBK: methyl isobutyl ketone

MEK : 메틸에틸케톤(대정화금)MEK: methyl ethyl ketone

I-184 : 1-히드록시시클로헥실페닐케톤(시바사)I-184: 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone (Shiba Corporation)

BYK-378 : 실리콘변성오일(BYK사)
BYK-378: Silicone Modified Oil (BYK)

<실험예><Experimental Example>

두께 80㎛의 트리아세틸셀룰로오스필름으로 이루어진 투명기재의 한쪽 위에 상기 제조예에서 제조된 하드코팅층용 조성물을 도포하여 가열건조 후 자외선 경화에 의해 두께 5㎛의 하드코팅층을 형성하였다. 상기 하드코팅층상에 상기 실시예 및 비교예서 제조된 저굴절률층 형성용 조성물을 도포하여 가열 건조 후 자외선 경화에 의해 두께 0.1㎛의 저굴절층을 형성하였다.The hard coating layer composition prepared in the above Preparation Example was applied on one side of the transparent substrate made of a triacetyl cellulose film having a thickness of 80 μm to form a hard coating layer having a thickness of 5 μm by heat curing after heat drying. The low refractive index layer forming compositions prepared in Examples and Comparative Examples were applied onto the hard coating layer to form a low refractive index layer having a thickness of 0.1 μm by heat curing after heat drying.

상기와 같이 제조된 반사 방지 필름에 대하여 하기와 같이 물성을 측정하였으며, 그 결과는 하기 표 3에 나타내었다. The physical properties of the antireflective film prepared as described above were measured as follows, and the results are shown in Table 3 below.

(1) 내스크래치성 (1) scratch resistance

스틸울테스트기(WT-LCM100, 한국 프로텍 사제)를 이용하여 1kg/(2cm x 2cm) 하에서 10회 왕복운동시켜 내찰상성을 시험하였다. 스틸울은 #0000을 사용하였다. The scratch resistance was tested by using a steel wool tester (WT-LCM100, manufactured by Protec Co., Ltd.) for 10 reciprocations at 1 kg / (2 cm × 2 cm). Steel wool used # 0000.

A : 스크래치가 0개 A: 0 scratches

A': 스크래치가 1~10개 A ': 1 to 10 scratches

B : 스크래치가 11~20개 B: 11-20 scratches

C : 스크래치가 21~30개 C: 21-30 scratches

D : 스크래치가 31개 이상 D: 31 or more scratches

(2) 밀착성 (2) adhesion

필름의 도포된 면에 1mm 간격으로 가로 세로 각각 11개의 직선을 그어 100개의 정사각형을 만든 후, 테이프(CT-24, 일본 니치방 사제)을 이용하여 3회 박리 테스트를 진행하였다. 100개의 사각형 3개를 테스트하여 평균치를 기록하였다. Eleven straight lines were drawn on the coated surface of the film at intervals of 1 mm each to form 100 squares, and then three peel tests were conducted using a tape (CT-24, Nichi Nippon Corp.). Three 100 squares were tested and averaged.

밀착성은 다음과 같이 기록하였다. The adhesion was recorded as follows.

밀착성 = n / 100 Adhesion = n / 100

n : 전체 사각형 중 박리되지 않는 사각형 수 n: number of rectangles that do not peel out of the entire rectangle

100 : 전체 사각형의 개수 100: total number of squares

따라서 하나도 박리되지 않았을 시 100 / 100으로 기록하였다. Therefore, when none of the peeling was recorded as 100/100.

(3) 표면 반사율(3) surface reflectance

분광 광도계 UV2450 (시마주사) 에 어댑터 MPC2200를 장착하여, 380 내지 780nm의 파장 영역에서 입사각 5°에서의 출사각 5°에 대한 경면 반사율을 측정하고, 450 내지 650nm의 평균 반사율을 산출하였다.The adapter MPC2200 was attached to the spectrophotometer UV2450 (Shishima Co., Ltd.), the specular reflectance with respect to the exit angle of 5 ° at the incident angle of 5 ° in the wavelength region of 380 to 780 nm was measured, and the average reflectance of 450 to 650 nm was calculated.

(4) 헤이즈(4) haze

헤이즈미터(Suga HZ-1)을 이용하여 헤이즈를 측정하였다.Haze was measured using a haze meter (Suga HZ-1).

(5) 수 접촉각(5) male contact angle

상온(25 ℃)에서 필름 표면에 물방울을 적하한 후, 1분 후에 접촉각 측정기(KSV社의 CAM100)를 사용하여 물방울에 대한 접촉각을 측정하였다. 접촉각은 물방울의 좌우 접촉각을 같은 시료로 5번을 측정하여 그 평균치를 사용하였다.After dropping water droplets onto the film surface at room temperature (25 ° C.), the contact angle with respect to the water droplets was measured 1 minute later using a contact angle measuring instrument (KSV Co., Ltd. CAM100). The contact angle was measured 5 times with the same sample to the left and right contact angle of the water droplets and used the average value.

  실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 실시예5Example 5 실시예6Example 6 실시예7Example 7 실시예8Example 8 실시예9Example 9 실시예10Example 10 실시예11Example 11 실시예12Example 12 실시예13Example 13 실시예14Example 14 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 비교예3Comparative Example 3 내스크래치성Scratch resistance AA AA AA AA AA AA AA AA AA AA AA AA AA AA CC BB CC 밀착성Adhesiveness 100/100100/100 100/100100/100 100/100100/100 100/100100/100 100/100100/100 100/100100/100 100/100100/100 100/100100/100 100/100100/100 100/100100/100 100/100100/100 100/100100/100 100/100100/100 100/100100/100 100/100100/100 90/10090/100 85/10085/100 헤이즈(%)Haze (%) 0.20.2 0.20.2 0.30.3 0.30.3 0.20.2 0.30.3 0.20.2 0.20.2 0.30.3 0.30.3 0.40.4 0.20.2 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.50.5 0.70.7 반사율(%)reflectivity(%) 0.960.96 0.970.97 1.031.03 0.930.93 1.041.04 1.011.01 0.960.96 0.970.97 0.980.98 0.990.99 0.920.92 1.011.01 0.970.97 0.920.92 0.960.96 1.331.33 1.351.35 수접촉각(°)Water contact angle (°) 109109 110110 112112 115115 111111 110110 109109 112112 118118 115115 108108 113113 113113 101101 5555 7575 7373

상기 표 3에서 보는 바와 같이 본 발명에 따른 플루오르(메타)아크릴레이트 화합물과 중공실리카입자가 포함된 실시예 1 내지 14의 경우 이를 포함하지 않는 비교예 1 내지 3에 비하여 내오염성을 나타내는 척도인 수접촉각이 높게 나타나 내오염성이 우수함을 확인할 수 있을 뿐만 아니라 스크래치성이 매우 뛰어난 결과를 보여줌을 확인할 수 있다. 또한 반사율 특성이 우수하여 탁월한 반사방지 효과를 구현할 수 있음을 확인할 수 있다.
As shown in Table 3, in the case of Examples 1 to 14, in which the fluorine (meth) acrylate compound and the hollow silica particles were included according to the present invention, the number was a measure of fouling resistance compared to Comparative Examples 1 to 3, which did not include the same. It can be seen that the contact angle is high, so that the stain resistance is excellent and the scratch resistance is very excellent. In addition, it can be seen that the excellent reflectivity characteristics can realize an excellent anti-reflection effect.

Claims (9)

중공 실리카입자(A), 분자 내 3개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 화합물과, 하기 화학식 1로 표현되는 플루오르 알코올 및 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트를 반응시켜 얻어지는 플루오르(메타)아크릴레이트 화합물(B), (메타)아크릴레이트 모노머(C), 광개시제(D) 및 용제(E)를 포함하는 것을 특징으로 하는 저굴절층 형성용 조성물.
[화학식 1]
Figure pat00021

(상기 화학식 1에서 Y는 각각 독립적으로 H 또는 F이고, n 및 m은 각각 0에서 200의 정수이다.)
A fluoro (meth) acrylate compound (B) obtained by reacting a hollow silica particle (A), a compound having three or more isocyanate groups in a molecule, and a fluoro alcohol and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate represented by the following formula (1) ), A (meth) acrylate monomer (C), a photoinitiator (D) and a solvent (E).
[Formula 1]
Figure pat00021

(Y in Formula 1 is each independently H or F, n and m are each an integer from 0 to 200.)
청구항 1에 있어서, 상기 플루오르(메타)아크릴레이트 화합물(B)은 하기 화학식 2 내지 9로 표시되는 화합물 중에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 저굴절율 형성용 조성물.
[화학식 2]
Figure pat00022

[화학식 3]
Figure pat00023

[화학식 4]
Figure pat00024

[화학식 5]
Figure pat00025

[화학식 6]
Figure pat00026

[화학식 7]
Figure pat00027

[화학식 8]
Figure pat00028

[화학식 9]
Figure pat00029

(상기 화학식 2 내지 9에서, X는 수소원자 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기이고, Rf는 하기 화학식 10으로 표현 된다.)
[화학식 10]
Figure pat00030

(상기 화학식 10에서 Y는 각각 독립적으로 H 또는 F이고, n 및 m은 각각 0에서 200의 정수이다.)
The composition of claim 1, wherein the fluorine (meth) acrylate compound (B) comprises at least one selected from compounds represented by the following Chemical Formulas 2 to 9.
(2)
Figure pat00022

(3)
Figure pat00023

[Chemical Formula 4]
Figure pat00024

[Chemical Formula 5]
Figure pat00025

[Chemical Formula 6]
Figure pat00026

(7)
Figure pat00027

[Chemical Formula 8]
Figure pat00028

[Chemical Formula 9]
Figure pat00029

(In Formulas 2 to 9, X is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, Rf is represented by the following formula (10).)
[Formula 10]
Figure pat00030

(Y in formula 10 is each independently H or F, n and m are each an integer from 0 to 200.)
청구항 1에 있어서, 상기 중공 실리카 입자의 굴절률은 1.17~1.40인 것을 특징으로 하는 저굴절율 형성용 조성물.The composition for forming a low refractive index according to claim 1, wherein the hollow silica particles have a refractive index of 1.17 to 1.40. 청구항 1에 있어서, 상기 저굴절층 형성용 조성물은 전체 100중량부에 대하여 상기 중공 실리카입자(A) 0.1 내지 20 중량부, 상기 불소 화합물(B) 0.1 내지 30중량부, 상기 (메타)아크릴레이트 모노머(C) 0.1 내지 30중량부, 상기 광개시제(D) 0.05 내지 5중량부 및 상기 용제(E) 50 내지 98중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 저굴절율 형성용 조성물.The composition for forming a low refractive index layer is 0.1 to 20 parts by weight of the hollow silica particles (A), 0.1 to 30 parts by weight of the fluorine compound (B), and the (meth) acrylate. A composition for forming a low refractive index comprising 0.1 to 30 parts by weight of a monomer (C), 0.05 to 5 parts by weight of the photoinitiator (D) and 50 to 98 parts by weight of the solvent (E). 투명기재와, 상기 투명기재의 상면에 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 기재된 저굴절층 형성용 조성물을 이용하여 형성된 저굴절층을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름. An antireflection film comprising a transparent substrate and a low refractive index layer formed on the upper surface of the transparent substrate using the composition for forming a low refractive index layer according to any one of claims 1 to 4. 청구항 5에 있어서, 상기 상기 투명기재와 저굴절층 사이에 형성된 하드코팅층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반사방지 필름.The antireflection film according to claim 5, further comprising a hard coating layer formed between the transparent substrate and the low refractive layer. 청구항 5에 있어서, 상기 저굴절층의 굴절률은 25℃에서 1.2 내지 1.49인 것을 특징으로 하는 반사방지 필름.The antireflection film of claim 5, wherein the low refractive index layer has a refractive index of 1.2 to 1.49 at 25 ° C. 7. 청구항 5의 반사 방지 필름이 구비된 것을 특징으로 하는 편광판.The antireflection film of Claim 5 was provided, The polarizing plate characterized by the above-mentioned. 청구항 5의 반사 방지 필름이 구비된 것을 특징으로 하는 표시 장치.
Display device characterized in that the anti-reflection film of claim 5 is provided.
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