JP2009075576A - Method for producing antireflection film, image display device and coating composition - Google Patents

Method for producing antireflection film, image display device and coating composition Download PDF

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JP2009075576A JP2008216262A JP2008216262A JP2009075576A JP 2009075576 A JP2009075576 A JP 2009075576A JP 2008216262 A JP2008216262 A JP 2008216262A JP 2008216262 A JP2008216262 A JP 2008216262A JP 2009075576 A JP2009075576 A JP 2009075576A
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倫子 金田一
Hisashi Abe
悠 阿部
Takashi Mimura
尚 三村
Yasushi Higuchi
泰 樋口
Takashi Takada
崇志 高田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing an antireflection film with excellent productivity, which a method for producing an antireflection film having excellent antireflection property without carrying out a complicated step, and an image display device, and to provide an image display device having excellent scratch resistance and alkali resistance and further having antireflection property. <P>SOLUTION: The method for producing an antireflection film comprising two layers different in refractive index includes applying, drying and curing a coating composition containing two or more kinds of inorganic particles, wherein at least one kind of inorganic particle is surface-treated with a fluorine compound and the coating composition contains an alkylphenone derivative. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、反射防止フィルムの製造方法、及び当該製造方法を用いて製造した反射防止フィルム、該反射防止フィルムを含む画像表示装置、該製造方法に好適な塗料組成物に関する。   The present invention relates to an antireflection film production method, an antireflection film produced using the production method, an image display device including the antireflection film, and a coating composition suitable for the production method.

反射防止フィルムは一般に、陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイパネル(PDP)や液晶表示装置(LCD)のような画像表示装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するようにディスプレイの最表面に配置される。   In general, an antireflection film prevents contrast reduction and image reflection due to reflection of external light in an image display device such as a cathode ray tube display (CRT), a plasma display panel (PDP), and a liquid crystal display (LCD). Therefore, it is placed on the outermost surface of the display so as to reduce the reflectivity using the principle of optical interference.

反射防止フィルムとしては、通常、屈折率がフィルムなどの基材の屈折率よりも小さい低屈折率の物質からなる被膜が使用されている。かかる反射防止被膜としては、例えば低屈折率物質層を蒸着、スパッタ法等によりフィルムなど基材の表面に形成する方法が知られているが、真空中や不活性ガス雰囲気で形成する必要があるため、操作が煩雑であるという問題があった(特許文献1参照)。   As the antireflection film, a film made of a low refractive index material whose refractive index is smaller than that of a substrate such as a film is usually used. As such an antireflection coating, for example, a method of forming a low refractive index material layer on the surface of a substrate such as a film by vapor deposition or sputtering is known, but it is necessary to form it in a vacuum or in an inert gas atmosphere. Therefore, there has been a problem that the operation is complicated (see Patent Document 1).

前述した問題を解決するものとして、低屈折率の硬化被膜を与え得る化合物が硬化されてなる被膜が知られている。これは低屈折率の硬化被膜を与え得る化合物を含有する反射防止被膜形成組成物をフィルムなどの支持基材の表面に塗布後、硬化することにより形成されるものであるため、反射防止被膜を形成するための操作が簡便であることから、広く用いられている(特許文献2参照)。   As a solution to the above-mentioned problem, a film formed by curing a compound capable of providing a cured film having a low refractive index is known. This is formed by applying an antireflection film-forming composition containing a compound capable of giving a cured film having a low refractive index to the surface of a supporting substrate such as a film and then curing the composition. Since the operation for forming is simple, it is widely used (see Patent Document 2).

一方、反射防止フィルムとして、より広い波長領域の反射率を低減するために、屈折率の高い物質からなる層と屈折率の低い物質からなる層との多層の被膜をフィルムなど支持基材の表面に作製する、いわゆるマルチコーティングが知られている(特許文献3参照)。   On the other hand, in order to reduce the reflectance in a wider wavelength region as an antireflection film, a multilayer coating of a layer made of a material having a high refractive index and a layer made of a material having a low refractive index is formed on the surface of a supporting substrate such as a film. So-called multi-coating is known (see Patent Document 3).

しかし、かかる多層の被膜を形成するには、フィルムなどの支持基材の表面に、屈折率が高い硬化被膜を与え得る化合物を含有する反射防止被膜形成組成物を塗布硬化させた後、更に、屈折率が低い硬化被膜を与え得る化合物を含有する反射防止被膜形成組成物を塗布後、硬化させる必要があり、2回の塗布、硬化を必要とするものであり製造工程が煩雑となっている。   However, in order to form such a multilayer coating, after applying and curing an antireflection coating composition containing a compound capable of providing a cured coating having a high refractive index on the surface of a supporting substrate such as a film, After applying an antireflective coating forming composition containing a compound capable of giving a cured coating having a low refractive index, it is necessary to cure, requiring two coatings and curing, making the manufacturing process complicated. .

またこれらの反射防止膜は、表示面の最表面に位置するため、表示面に指紋や埃等が付着しやすく、アルカリ性の家庭用洗剤等を使用して拭き取られた場合には、反射防止膜に傷がついたり(耐擦傷性)、アルカリによって膜にダメージを与えるなどの問題があった。
このように、製造工程の簡略化と耐擦傷性の両立、さらには耐アルカリ性の向上が望まれている。
特開平6−067019号公報 特開平6−136062号公報 特開平7−005452号公報
In addition, since these antireflection films are located on the outermost surface of the display surface, fingerprints and dust are likely to adhere to the display surface, and when they are wiped off using an alkaline household detergent, etc. There were problems such as scratches on the film (abrasion resistance) and damage to the film by alkali.
As described above, it is desired to achieve both simplification of the manufacturing process and scratch resistance, and further improvement of alkali resistance.
Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-0667019 JP-A-6-136062 JP-A-7-005452

本発明の目的は、生産性に優れた反射防止フィルムの製造方法を提供することであり、煩雑な工程を行わずに優れた反射防止性を有する反射防止フィルムの製造方法を提供する。本発明の更なる目的は、優れた表面耐擦傷性を有する反射防止フィルムの製造方法を提供することにある。   The objective of this invention is providing the manufacturing method of the antireflection film excellent in productivity, and provides the manufacturing method of the antireflection film which has the outstanding antireflection property, without performing a complicated process. It is a further object of the present invention to provide a method for producing an antireflection film having excellent surface scratch resistance.

上記課題を解決するために本発明らは、鋭意研究を重ねた結果、以下の発明を完成させた。すなわち、本発明は以下の通りである。
(1) 支持基材の少なくとも片面に、屈折率の異なる2層を有する反射防止フィルムの製造方法であって、
塗料組成物を支持基材の少なくとも片面上に1回塗布乾燥硬化する工程を含み、
該塗料組成物が2種類以上の無機粒子を含み、
該2種類以上の無機粒子における少なくとも一種類の無機粒子が、フッ素化合物により表面処理された無機粒子であり、
さらにアルキルフェノン誘導体を含むことを特徴とする、反射防止フィルムの製造方法。
(2) 前記アルキルフェノン誘導体がヒドロキシアルキルフェノン誘導体であることを特徴とする、前記(1)に記載の反射防止フィルムの製造方法。
(3) 前記フッ素化合物により表面処理がされた無機粒子が、シリカ粒子をフッ素化合物により表面処理した粒子(以後、フッ素化合物により表面処理されたシリカ粒子を、フッ素処理シリカ粒子とよぶ)であり、
フッ素処理シリカ粒子を除いた他の無機粒子が、該シリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子であることを特徴とする(1)または(2)に記載の反射防止フィルムの製造方法の製造方法。
(4) 前記フッ素処理シリカ粒子を得るための表面処理が、シリカ粒子を下記一般式(I)で示される化合物で処理し、更に一般式(II)で示される化合物で処理することを特徴とする、(3)に記載の反射防止フィルムの製造方法。
A−R−SiR (OR3−n 一般式(I)
B−R−Rf 一般式(II)
(上記一般式中のA、Bは反応性二重結合基を示し、R、Rは炭素数1から3のアルキレン基及びそれらから導出されるエステル構造を示し、R、Rは水素又は炭素数が1から4のアルキル基を示し、Rfはフルオロアルキル基を示し、nは0又は1又は2のいずれかを示し、それぞれ側鎖を構造中に持っても良い。)
(5) 前記シリカ粒子が、内部に空洞を有するシリカ粒子、及び/または、細孔を有するシリカ粒子であって、
該シリカ粒子の数平均粒子径が1nmから200nmである、(3)または(4)に記載の反射防止フィルムの製造方法。
(6) 前記シリカ粒子よりも、屈折率が高い無機粒子が、数平均粒子径が1nm〜150nm、屈折率が1.60から2.80である金属酸化物からなることを特徴とする、(3)から(5)のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
(7) 前記金属酸化物が、インジウム含有酸化スズ(ITO)及び/またはアンチモン含有酸化スズ(ATO)であることを特徴とする(6)に記載の反射防止フィルムの製造方法。
(8) (1)から(7)のいずれかに記載の製造方法にて得られうる反射防止フィルム。
(9) (8)の反射防止フィルムを設けたことを特徴とする画像表示装置。
(10) 2種類以上の無機粒子、及びアルキルフェノン誘導体を含む塗料組成物であって、
該2種類以上の無機粒子が、フッ素化合物により表面処理がされたシリカ粒子(フッ素処理シリカ粒子)、及び金属酸化物を含むことを特徴とする、塗料組成物。
(11) 前記フッ素処理シリカ粒子を得るための表面処理が、シリカ粒子を下記一般式(I)で示される化合物で処理し、更に一般式(II)で示される化合物で処理することを特徴とする、前記(10)に記載の塗料組成物。
A−R−SiR (OR3−n 一般式(I)
B−R−Rf 一般式(II)
(上記一般式中のA、Bは反応性二重結合基を示し、R、Rは炭素数1から3のアルキレン基及びそれらから導出されるエステル構造を示し、R、Rは水素又は炭素数が1から4のアルキル基を示し、Rfはフルオロアルキル基を示し、nは0又は1又は2のいずれかを示し、それぞれ側鎖を構造中に持っても良い。)
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have intensively studied and, as a result, completed the following invention. That is, the present invention is as follows.
(1) A method for producing an antireflection film having two layers having different refractive indexes on at least one surface of a supporting substrate,
A step of applying and drying and curing the coating composition once on at least one surface of the supporting substrate,
The coating composition contains two or more kinds of inorganic particles,
At least one kind of inorganic particles in the two or more kinds of inorganic particles are inorganic particles whose surface is treated with a fluorine compound,
Furthermore, the manufacturing method of the antireflection film characterized by including an alkylphenone derivative.
(2) The method for producing an antireflection film as described in (1) above, wherein the alkylphenone derivative is a hydroxyalkylphenone derivative.
(3) The inorganic particles surface-treated with the fluorine compound are particles obtained by surface-treating silica particles with a fluorine compound (hereinafter, silica particles surface-treated with a fluorine compound are referred to as fluorine-treated silica particles),
The other inorganic particles excluding the fluorinated silica particles are inorganic particles having a refractive index higher than that of the silica particles, and the method for producing an antireflection film according to (1) or (2) .
(4) The surface treatment for obtaining the fluorine-treated silica particles is characterized in that the silica particles are treated with a compound represented by the following general formula (I) and further treated with a compound represented by the general formula (II). The manufacturing method of the antireflection film as described in (3).
A-R 1 -SiR 2 n ( OR 3) 3-n Formula (I)
B—R 4 —Rf Formula (II)
(A and B in the above general formula represent a reactive double bond group, R 1 and R 4 represent an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms and an ester structure derived therefrom, and R 2 and R 3 represent Hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Rf represents a fluoroalkyl group, n represents 0, 1 or 2 and each may have a side chain in the structure.
(5) The silica particles are silica particles having cavities therein and / or silica particles having pores,
The method for producing an antireflection film according to (3) or (4), wherein the number average particle diameter of the silica particles is from 1 nm to 200 nm.
(6) The inorganic particles having a higher refractive index than the silica particles are made of a metal oxide having a number average particle diameter of 1 nm to 150 nm and a refractive index of 1.60 to 2.80, The manufacturing method of the antireflection film in any one of 3) to (5).
(7) The method for producing an antireflection film as described in (6), wherein the metal oxide is indium-containing tin oxide (ITO) and / or antimony-containing tin oxide (ATO).
(8) An antireflection film obtainable by the production method according to any one of (1) to (7).
(9) An image display device provided with the antireflection film according to (8).
(10) A coating composition containing two or more kinds of inorganic particles and an alkylphenone derivative,
The coating composition, wherein the two or more kinds of inorganic particles include silica particles (fluorinated silica particles) surface-treated with a fluorine compound, and a metal oxide.
(11) The surface treatment for obtaining the fluorine-treated silica particles is characterized in that the silica particles are treated with a compound represented by the following general formula (I) and further treated with a compound represented by the general formula (II). The coating composition according to (10) above.
A-R 1 -SiR 2 n ( OR 3) 3-n Formula (I)
B—R 4 —Rf Formula (II)
(A and B in the above general formula represent a reactive double bond group, R 1 and R 4 represent an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms and an ester structure derived therefrom, and R 2 and R 3 represent Hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Rf represents a fluoroalkyl group, n represents 0, 1 or 2 and each may have a side chain in the structure.

本発明によれば、特定の1液の塗料組成物を支持基材の少なくとも片面に1回塗布乾燥硬化するのみで屈折率の異なる2層構造を構成することが可能なため、良好な反射防止性能を示す反射防止フィルムを成形可能であり、反射防止フィルムの製造工程を簡略化可能となるため、生産性を向上することができる。また本発明の製造方法によると、耐擦傷性が良好な反射防止フィルムを提供できる。更には、ハードコート層などの機能性多層構造を有する支持基材に積層させることにより、生産性に優れた画像表示装置を提供できる。   According to the present invention, it is possible to form a two-layer structure having different refractive indexes by only applying and drying and curing a specific one-component coating composition on at least one side of a supporting base material, so that good antireflection is achieved. Since an antireflection film exhibiting performance can be formed and the manufacturing process of the antireflection film can be simplified, productivity can be improved. Further, according to the production method of the present invention, an antireflection film having good scratch resistance can be provided. Furthermore, by laminating on a support substrate having a functional multilayer structure such as a hard coat layer, an image display device having excellent productivity can be provided.

以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

本発明は、支持基材の少なくとも片面に屈折率の異なる2層を有する反射防止フィルムの製造方法であって、1液の塗料組成物を支持基材の少なくとも片面上に1回塗布乾燥硬化する工程により成形することで得られることを特徴とし、さらに該塗料組成物が2種類以上の無機粒子を含み、該2種類以上の無機粒子における少なくとも1種類の無機粒子がフッ素化合物により表面処理がされた無機粒子であり、更にアルキルフェノン誘導体を含む。   The present invention relates to a method for producing an antireflection film having two layers having different refractive indexes on at least one side of a supporting substrate, wherein one coating composition is applied and dried and cured once on at least one side of the supporting substrate. The coating composition contains two or more types of inorganic particles, and at least one type of inorganic particles in the two or more types of inorganic particles is surface-treated with a fluorine compound. Inorganic particles and further contains an alkylphenone derivative.

このような本発明の製造方法により得られる反射防止フィルムは、1回の塗布乾燥硬化工程によって支持基材上に異なる屈折率の2層を形成可能であり、さらに好ましい様態では、支持基材/高屈折率層/低屈折率層の積層構成が得られる。高屈折率層の塗布乾燥硬化及び低屈折率層の塗布乾燥硬化といったプロセスが必要な通常の反射防止フィルムの製造方法と比べて、本発明の製造方法はコストを大幅に低減することができる。   The antireflection film obtained by such a production method of the present invention can form two layers having different refractive indexes on a supporting substrate by a single coating / drying curing process. A laminated structure of a high refractive index layer / low refractive index layer is obtained. Compared with the manufacturing method of the normal anti-reflective film which requires processes, such as application | coating drying hardening of a high refractive index layer, and application | coating drying hardening of a low refractive index layer, the manufacturing method of this invention can reduce cost significantly.

また、本発明は上記製造方法により得られうる反射防止フィルム、及び該反射防止フィルムを設けた画像表示装置、及び上記製造方法に好適な塗料組成物を含む。   Moreover, this invention contains the coating composition suitable for the antireflection film which can be obtained with the said manufacturing method, the image display apparatus provided with this antireflection film, and the said manufacturing method.

[反射防止フィルム]
反射防止フィルムは反射防止膜と同意であり、その必要性や要求される性能などは特開昭59−50401号公報に記載されている様に、好ましくは0.03以上、より好ましくは0.05以上の屈折率差を有する2層を支持基材上に積層させることで構成された様態である。また支持基材上の2層の屈折率差は5.0以下であることが好ましい。また反射防止フィルムにおいては、支持基材から計測し最も離れた層が低屈折率層であることが更に好ましい。つまり支持基材、高屈折率層、低屈折率層がこの順に積層された様態が好ましい。なお、支持基材については後述するが、支持基材としてハードコート層とフィルムの積層体を適用すれば、支持基材の一部であるフィルムと高屈折率層の間には、ハードコート層を設けることが可能であり、同様に支持基材として他の機能を有する層とフィルムの積層体を用いる事で、フィルムと高屈折率層の間に他の層を設けることも可能である。屈折率差とは隣接する層間の屈折率を相対的に比較した値であり、相対的に屈折率が低い層を低屈折率層と呼び、相対的に屈折率が高い層を高屈折率層と呼ぶ。また、反射防止性能を補うために積層フィルム中に中屈折率層を設ける手法も特開昭59−50401号公報に記載されている。
[Antireflection film]
The antireflection film agrees with the antireflection film, and its necessity and required performance are preferably 0.03 or more, more preferably 0.00, as described in JP-A-59-50401. This is an aspect constituted by laminating two layers having a refractive index difference of 05 or more on a supporting substrate. Moreover, it is preferable that the refractive index difference of two layers on a support base material is 5.0 or less. In the antireflection film, it is more preferable that the most distant layer measured from the support substrate is a low refractive index layer. That is, it is preferable that the support base, the high refractive index layer, and the low refractive index layer are laminated in this order. In addition, although it mentions later about a support base material, if the laminated body of a hard-coat layer and a film is applied as a support base material, it will be a hard-coat layer between the film and high refractive index layer which are some support base materials. Similarly, it is also possible to provide another layer between the film and the high refractive index layer by using a laminate of a layer having a different function and a film as the supporting base material. The refractive index difference is a value obtained by relatively comparing the refractive indexes of adjacent layers. A layer having a relatively low refractive index is called a low refractive index layer, and a layer having a relatively high refractive index is a high refractive index layer. Call it. Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-50401 also describes a method of providing a middle refractive index layer in a laminated film to supplement the antireflection performance.

本発明の反射防止フィルムの製造方法によれば、特定の2種類以上の無機粒子及びアルキルフェノン誘導体を含む1液の塗料組成物を、支持基材の少なくとも片面に、1回塗布乾燥硬化する工程によって、屈折率の異なる2層を有する反射防止フィルムを製造することができる。   According to the method for producing an antireflection film of the present invention, a step of applying, drying, and curing once a one-component coating composition containing two or more kinds of specific inorganic particles and an alkylphenone derivative to at least one surface of a supporting substrate. Thus, an antireflection film having two layers having different refractive indexes can be produced.

より詳細には、2種類以上の無機粒子を含み、該2種類以上の無機粒子における少なくとも1種類の無機粒子が、フッ素化合物により表面処理された無機粒子であり、さらにアルキルフェノン誘導体を含む1液の塗料組成物を1回塗布乾燥硬化する工程によって、支持基材上に高屈折率層と、該高屈折率層上に低屈折率層が構成された反射防止フィルムを製造することができる。   More specifically, one liquid containing two or more types of inorganic particles, wherein at least one type of inorganic particles in the two or more types of inorganic particles is an inorganic particle whose surface is treated with a fluorine compound, and further containing an alkylphenone derivative. By the process of applying and drying and curing the coating composition once, an antireflection film in which a high refractive index layer is formed on a supporting substrate and a low refractive index layer is formed on the high refractive index layer can be produced.

本発明において上記塗料組成物から2層を構成する原理としては、2種類以上の無機粒子の表面自由エネルギー差をドライビングフォースとして、相分離構造を形成するものと考えられる。フッ素化合物により表面処理された無機粒子は表面自由エネルギーが低いため、空気側(つまり最表面層)へ移動しやすいと考えられ、また比重が小さいほど上層側(空気側、つまり最表面層)へ移動しやすいと考えられる。   In the present invention, the principle of constituting the two layers from the coating composition is considered to form a phase separation structure using the surface free energy difference of two or more kinds of inorganic particles as a driving force. Inorganic particles surface-treated with a fluorine compound have a low surface free energy, so they are considered to easily move to the air side (ie, the outermost surface layer), and to the upper layer side (air side, ie, the outermost surface layer) as the specific gravity decreases It is considered easy to move.

本発明における屈折率の異なる2層とは、反射分光膜厚計によって、300〜800nmの範囲での反射率を測定し、該装置付属のソフトウェア[FE−Analysis]を用いて得られる屈折率が異なる2つの層をさす。   The two layers having different refractive indexes in the present invention are measured by a reflectance spectral film thickness meter in the range of 300 to 800 nm, and the refractive index obtained using the software [FE-Analysis] attached to the device is Refers to two different layers.

具体的には、反射分光膜厚計(FE−3000、大塚電子株式会社製)を用いて300〜800nmの範囲で反射率を測定し、大塚電子株式会社製[膜厚測定装置 総合カタログP6(非線形最小二乗法)]に記載の方法に従い、屈折率の波長分散の近似式としてCauchyの分散式(式1)を用い最小二乗法(カーブフィッティング法)により、光学定数(C,C、C)を計算することで屈折率を測定することができる。なお、屈折率は、550nmにおける値を用いた。 Specifically, the reflectance is measured in the range of 300 to 800 nm using a reflection spectral film thickness meter (FE-3000, manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.), and the film thickness measuring device general catalog P6 (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. Non-linear least square method)], the optical constants (C 1 , C 2 , The refractive index can be measured by calculating C 3 ). In addition, the value in 550 nm was used for the refractive index.

Figure 2009075576
Figure 2009075576

ここで、λは波長、C,C,Cは光学定数を表す。 Here, λ represents a wavelength, and C 1 , C 2 , and C 3 represent optical constants.

各層の屈折率が測定可能な測定装置として、反射分光膜厚計(FE−3000 大塚電子株式会社製)、高精度屈折率測定装置(Film Teck Scientific Computing International社製)などが挙げられるが、この限りではない。   Examples of the measuring device capable of measuring the refractive index of each layer include a reflection spectral film thickness meter (FE-3000, manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.), a high-precision refractive index measuring device (manufactured by Film Tec Scientific Computing International), and the like. Not as long.

なお、このような本発明の製造方法によって得られる反射防止フィルムには、屈折率の異なる2層である高屈折率層と低屈折率層との間には明確な界面があることが好ましい。   In addition, it is preferable that the antireflection film obtained by such a production method of the present invention has a clear interface between the high refractive index layer and the low refractive index layer which are two layers having different refractive indexes.

本発明における明確な界面とは、1つの層と他の層とが区別可能な状態をいう。区別可能な界面とは、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて断面を観察することにより判断することができる界面を表し、以下の方法に従い判断することができる。   A clear interface in the present invention refers to a state in which one layer can be distinguished from another layer. The distinguishable interface represents an interface that can be determined by observing a cross section using a transmission electron microscope (TEM), and can be determined according to the following method.

TEMにより20万倍の倍率で撮影した画像を、スキャナーを用いてプレゼンテーションソフトウェア(Microsoft Power Point2003)に貼り付ける。次いで貼り付けた写真のイメージコントロール処理(コントラストを90%とする)を行い、コントラストを強調する。この際に、1つの層と他の層との界面に明確な境界を引くことができる場合を、明確な界面があるとみなす。   An image taken by a TEM at a magnification of 200,000 times is pasted on presentation software (Microsoft Power Point 2003) using a scanner. Next, image control processing (contrast is set to 90%) of the pasted photograph is performed to enhance the contrast. At this time, when a clear boundary can be drawn at the interface between one layer and another layer, it is considered that there is a clear interface.

反射防止フィルムとして良好な性能を示すには、分光測定に置いて最低反射率が好ましくは0%以上1.0%以下、より好ましくは0%以上0.7%以下、さらに好ましくは0%以上0.6%以下であり、特に好ましくは0%以上0.5%以下であることが望ましい。
また、反射防止フィルムとして良好な性能を示すには、分光測定においてデルタ反射率が、好ましくは0%以上2.5%以下、より好ましくは0%以上2.0%以下であり、更に好ましくは0%以上1.8%以下であることが望ましい。デルタ反射率とは、光線反射スペクトルを測定した際に400nmから800nmの波長領域における最高反射率から最低反射率を引いた値を示す。フィルムの反射防止性能を比較する場合、デルタ反射率は一つの指標となり、デルタ反射率の値が小さいほど良好であると言える。デルタ反射率が大きくなると反射光線中の特定領域波長の反射が相対的に大きくなり、結果として反射光線に色目が付くため好ましくない。
In order to exhibit good performance as an antireflection film, the minimum reflectance is preferably 0% or more and 1.0% or less, more preferably 0% or more and 0.7% or less, and further preferably 0% or more in spectroscopic measurement. It is 0.6% or less, and particularly preferably 0% or more and 0.5% or less.
In order to exhibit good performance as an antireflection film, the delta reflectance in the spectroscopic measurement is preferably 0% or more and 2.5% or less, more preferably 0% or more and 2.0% or less, and still more preferably It is desirable that it is 0% or more and 1.8% or less. The delta reflectance indicates a value obtained by subtracting the minimum reflectance from the maximum reflectance in a wavelength region of 400 nm to 800 nm when the light reflection spectrum is measured. When comparing the antireflection performance of the film, the delta reflectance is one index, and it can be said that the smaller the value of the delta reflectance, the better. When the delta reflectance is increased, the reflection at a specific region wavelength in the reflected light beam is relatively increased, and as a result, the reflected light beam is unfavorable.

また、反射防止フィルムとして良好な性質を示すには更に、透明性が高いことが望ましい。透明性が低いと画像表示装置として用いた場合、画像彩度の低下などによる画質低下が生じるために好ましくない。本発明の製造方法により得られる反射防止フィルムの透明性の評価にはヘイズ値を用いることができる。ヘイズはJIS K 7136(2000)に規定された透明性材料の濁りの指標である。ヘイズは小さいほど透明性が高いことを示す。反射防止フィルムのヘイズ値としては好ましくは3.0%以下であり、より好ましくは2.0%未満、更に好ましくは1.0%未満であり、値が小さいほど透明性の点で良好であるものの、0%とすることは困難であり、現実的な下限値は0.01%程度と思われる。ヘイズ値が3.0%以上であると、画像劣化が生じる可能性が高くなるため好ましくない。
〔無機粒子〕
本発明の製造方法で用いる塗料組成物には2種類以上の無機粒子を含むが、無機粒子の種類数としては2種以上20種以下が好ましく、より好ましくは2種以上10種以下、さらに好ましくは2種以上3種以下である。ここで種類とは、無機粒子を構成する金属元素の種類によって決まる。つまり、同一の金属元素、例えばZnからなる無機粒子であれば、その粒径が異なるZn粒子が複数存在しても、これらは同一の無機粒子である。
Moreover, in order to show a favorable property as an antireflection film, it is further desirable that the transparency is high. If the transparency is low, it is not preferable when used as an image display device because image quality is deteriorated due to a decrease in image saturation. A haze value can be used for evaluating the transparency of the antireflection film obtained by the production method of the present invention. Haze is an index of turbidity of a transparent material defined in JIS K 7136 (2000). The smaller the haze, the higher the transparency. The haze value of the antireflection film is preferably 3.0% or less, more preferably less than 2.0%, still more preferably less than 1.0%, and the smaller the value, the better the transparency. However, it is difficult to set it to 0%, and a realistic lower limit value is considered to be about 0.01%. If the haze value is 3.0% or more, there is a high possibility that image degradation will occur.
[Inorganic particles]
The coating composition used in the production method of the present invention contains two or more types of inorganic particles. The number of types of inorganic particles is preferably 2 or more and 20 or less, more preferably 2 or more and 10 or less, and still more preferably. Is 2 or more and 3 or less. Here, the type is determined by the type of metal element constituting the inorganic particles. That is, in the case of inorganic particles made of the same metal element, for example, Zn, even if there are a plurality of Zn particles having different particle sizes, these are the same inorganic particles.

無機粒子の種類としては、前記無機粒子を含む塗料組成物を支持基材の少なくとも片面上に1回塗布乾燥硬化した際に屈折率の異なる2層を構成すれば特に限定されないが、例えば、金属原子Na,K,Mg,Ca,Ba,Al,Zn,Fe,Cu,Ti,Sn,In,W,Y,Zr,Sb,Mn,Ga,V,Nb,Ta、Ag,Si,B,Bi,Mo,Ce,Cd,Be,Pb,Euなどから選ばれる少なくとも1つの金属原子を含む無機粒子が挙げられる。また、無機粒子に含まれる金属は複数でもよく、好ましくは1種類以上5種類以下の金属を含む無機粒子を用いてもよい。   The type of inorganic particles is not particularly limited as long as the coating composition containing the inorganic particles is formed by coating and drying and curing once on at least one surface of the supporting substrate, and two layers having different refractive indexes are formed. Atomic Na, K, Mg, Ca, Ba, Al, Zn, Fe, Cu, Ti, Sn, In, W, Y, Zr, Sb, Mn, Ga, V, Nb, Ta, Ag, Si, B, Bi , Mo, Ce, Cd, Be, Pb, Eu, and the like, and inorganic particles containing at least one metal atom. Moreover, the metal contained in the inorganic particles may be plural, and inorganic particles containing one or more and five or less metals may be used.

なお、2種類以上の無機粒子における少なくとも1つは、フッ素化合物により表面処理された無機粒子(フッ素化合物により表面処理された無機粒子は、以後フッ素処理無機粒子とよぶ)(支持基材上に屈折率の異なる2層を有する反射防止フィルムの、低屈折率層構成成分として好ましく用いられる無機粒子)であるが、このフッ素処理無機粒子に好適な無機粒子としては、Si,Na,K,Ca,およびMgから選択される元素を含む無機粒子が好ましく挙げられ、さらに好ましくは、シリカ粒子(SiO)、アルカリ金属フッ化物(NaF,KFなど)、およびアルカリ土類金属フッ化物(CaF、MgFなど)から選ばれる化合物を含む無機粒子であり、耐久性、屈折率などの点からシリカ粒子が特に好ましい。なお、フッ素化合物により表面処理されたシリカ粒子は、以後フッ素処理シリカ粒子とよぶ。 In addition, at least one of the two or more types of inorganic particles is inorganic particles surface-treated with a fluorine compound (inorganic particles surface-treated with a fluorine compound are hereinafter referred to as fluorine-treated inorganic particles) (refracted on the supporting substrate) Inorganic particles that are preferably used as a low refractive index layer component of an antireflection film having two layers with different ratios), but suitable inorganic particles for the fluorinated inorganic particles include Si, Na, K, Ca, And inorganic particles containing an element selected from Mg and Mg, and more preferably, silica particles (SiO 2 ), alkali metal fluorides (NaF, KF, etc.), and alkaline earth metal fluorides (CaF 2 , MgF) 2 ) and the like, and silica particles are particularly preferable from the viewpoint of durability, refractive index and the like. The silica particles surface-treated with a fluorine compound are hereinafter referred to as fluorine-treated silica particles.

フッ素処理無機粒子の構成材料の無機粒子(低屈折率層構成成分の無機粒子)として好ましく用いられるシリカ粒子とはケイ素化合物又は有機珪素化合物の重合(縮合)体のいずれかからなる組成物を含み成る粒子を指し、一般例として、SiOなどのケイ素化合物から導出される粒子の総称である。 The silica particles preferably used as the inorganic particles (inorganic particles of the low refractive index layer constituting component) of the fluorinated inorganic particles include a composition composed of either a silicon compound or a polymerized (condensed) compound of an organic silicon compound. As a general example, it is a general term for particles derived from silicon compounds such as SiO 2 .

フッ素処理無機粒子の構成材料である無機粒子(低屈折率層構成成分の無機粒子)として好ましく用いられるシリカ粒子とは、ケイ素化合物又は有機珪素化合物の重合(縮合)体のいずれかからなる組成物を含み成る粒子を指し、一般例として、SiOなどのケイ素化合物から導出される粒子の総称である。 Silica particles that are preferably used as inorganic particles (inorganic particles of low refractive index layer constituents), which are constituent materials of fluorine-treated inorganic particles, are compositions composed of either a silicon compound or a polymerized (condensed) product of an organic silicon compound. As a general example, it is a general term for particles derived from silicon compounds such as SiO 2 .

フッ素処理無機粒子の構成材料である無機粒子(低屈折率層を構成するシリカ粒子などの無機粒子)の形状(表面処理される前の形状)は特に限定されるものではないが、積層後に形成される層の屈折率の観点から球状が好ましく、より好ましくはシリカ粒子に中空及び/又は多孔質が形成されていることが好ましい(粒子の内部に空洞を有するシリカ粒子、並びに/又は、粒子の表面及び内部に細孔を有するシリカ粒子、が好ましい。)。シリカ粒子などの無機粒子が多面体構造であると、層中で隙間無く積層する可能性があり、画像表示装置に必要な透明性が得られないことが考えられる。また、中空及び/又は多孔質を有する(粒子の内部に空洞を有する、並びに/又は、粒子の表面及び内部に細孔を有する)シリカ粒子などの無機粒子を用いることにより層の密度を下げる効果が得られる。特にフッ素処理無機粒子の構成材料である無機粒子として、内部に空洞を有するシリカ粒子、並びに/または、表面及び内部に細孔を有するシリカ粒子を用いることが、フッ素処理シリカ粒子が本発明の製造方法により得られる反射防止フィルムの低屈折率層に含有されやすく、低屈折率層を好適に形成することとなるために好ましい。なお、中空及び/又は多孔質を有する(内部に空洞を有する、並びに/または、表面及び内部に細孔を有する)シリカ粒子のことを、以下中空粒子と記載する。   The shape of the inorganic particles (inorganic particles such as silica particles constituting the low refractive index layer), which is a constituent material of the fluorine-treated inorganic particles, is not particularly limited, but is formed after lamination. From the viewpoint of the refractive index of the layer to be formed, a spherical shape is preferable, and it is more preferable that a hollow and / or porous structure is formed in the silica particle (a silica particle having a cavity inside the particle and / or a particle). Silica particles having pores on the surface and inside are preferred.) If the inorganic particles such as silica particles have a polyhedral structure, there is a possibility that the particles are laminated without gaps in the layer, and the transparency required for the image display device cannot be obtained. Also, the effect of lowering the density of the layer by using inorganic particles such as silica particles having hollow and / or porous (having voids inside the particles and / or having pores on the surface and inside of the particles) Is obtained. In particular, it is possible to use silica particles having voids inside and / or silica particles having pores on the surface and inside as inorganic particles that are constituent materials of fluorine-treated inorganic particles. It is preferable because it is easily contained in the low refractive index layer of the antireflection film obtained by the method and the low refractive index layer is suitably formed. Silica particles having hollow and / or porous properties (having cavities inside and / or having pores on the surface and inside) are hereinafter referred to as hollow particles.

続いて、低屈折率層に好適な、フッ素処理無機粒子の構成材料である無機粒子の数平均粒子径について説明する。低屈折率層を構成する、フッ素処理無機粒子の構成材料である無機粒子に好適な中空シリカなどの無機粒子の数平均粒子径(表面処理される前の数平均粒子径)が1nmよりも小さくなると層中の空隙密度が低下することによる屈折率の上昇や透明度の低下が起こることがあるため好ましくなく、中空シリカなどの無機粒子の数平均粒子径(表面処理される前の数平均粒子径)が200nmよりも大きくなると低屈折率層の厚さが厚くなり良好な反射防止性能が得られなくなり好ましくないため、本発明の製造方法で用いる塗料組成物中の、フッ素化合物により表面処理される中空シリカ粒子などの無機粒子は、数平均粒子径(表面処理される前の数平均粒子径)が、好ましくは1nmから200nm、より好ましくは5nmから180nm、更に好ましくは5nmから100nmである。   Next, the number average particle diameter of inorganic particles that are constituent materials of fluorinated inorganic particles suitable for the low refractive index layer will be described. The number average particle diameter (number average particle diameter before surface treatment) of inorganic particles such as hollow silica suitable for inorganic particles constituting the low refractive index layer and constituting the fluorinated inorganic particles is smaller than 1 nm. This is not preferable because the refractive index increases and the transparency may decrease due to the decrease in the void density in the layer, and the number average particle diameter of inorganic particles such as hollow silica (number average particle diameter before surface treatment) ) Larger than 200 nm is not preferable because the thickness of the low refractive index layer is increased and good antireflection performance cannot be obtained, and is thus surface-treated with the fluorine compound in the coating composition used in the production method of the present invention. The inorganic particles such as hollow silica particles have a number average particle size (number average particle size before surface treatment) of preferably 1 nm to 200 nm, more preferably 5 nm to 180 nm. More preferably from 100nm from 5 nm.

本発明における数平均粒子径とは、透過型電子顕微鏡により求めた粒子径をいう。倍率は50万倍とし、その画面に存在する10個の粒子の外径を測定し、その平均値とした。   The number average particle diameter in the present invention refers to the particle diameter determined by a transmission electron microscope. The magnification was 500,000 times, the outer diameters of 10 particles present on the screen were measured, and the average value was obtained.

ここで外径とは、粒子の最大の径(つまり粒子の長径であり、粒子中の最も長い径を示す)を表し、内部に空洞を有する粒子の場合も同様に、粒子の最大の径を表す。   Here, the outer diameter means the maximum diameter of the particle (that is, the longest diameter of the particle and indicates the longest diameter in the particle). Similarly, in the case of a particle having a cavity inside, the maximum diameter of the particle is also defined. To express.

フッ素処理無機粒子は、好適に空気側(最表面層)へ移動して、好適に低屈折率層を形成することができるため、塗料組成物に用いられる2種類以上の無機粒子の少なくとも1種類の無機粒子には、フッ素化合物による表面処理がされていることが重要である。なお、2種類以上の無機粒子の全ての無機粒子がフッ素処理無機粒子であるよりも、フッ素処理無機粒子と、該表面処理をされていない無機粒子の両方を含む塗料組成物を用いる方が、屈折率差の大きい2層を得ることができるために反射防止性の点で好ましい。   Since the fluorinated inorganic particles can be preferably moved to the air side (outermost surface layer) to form a low refractive index layer, at least one of the two or more types of inorganic particles used in the coating composition. It is important that the inorganic particles are surface-treated with a fluorine compound. In addition, rather than all the inorganic particles of two or more types of inorganic particles being fluorine-treated inorganic particles, it is better to use a coating composition containing both fluorine-treated inorganic particles and inorganic particles that have not been surface-treated. Two layers having a large difference in refractive index can be obtained, which is preferable in terms of antireflection properties.

また、フッ素化合物による表面処理を施した無機粒子としては、中空シリカ粒子などのシリカ粒子であることが、つまりフッ素処理無機粒子としては、フッ素処理シリカ粒子であることが特に好ましい。   The inorganic particles that have been surface-treated with a fluorine compound are silica particles such as hollow silica particles, that is, the fluorine-treated inorganic particles are particularly preferably fluorine-treated silica particles.

中空シリカなどの無機粒子に対するフッ素化合物による表面処理工程は、一段階で行われても良いし、多段階で行われても良い。また、複数の段階でフッ素を含む化合物を用いても良いし、一つの段階のみでフッ素を含む化合物を用いても良い。   The surface treatment step with a fluorine compound for inorganic particles such as hollow silica may be performed in one step or may be performed in multiple steps. Further, a compound containing fluorine may be used in a plurality of stages, or a compound containing fluorine may be used only in one stage.

また中空シリカなどの無機粒子の表面処理工程にて好ましく用いられるフッ素化合物は、単一化合物でも良いし複数の異なる化合物を用いても良い。   Moreover, the fluorine compound preferably used in the surface treatment process of inorganic particles such as hollow silica may be a single compound or a plurality of different compounds.

フッ素化合物による表面処理とは、中空シリカ粒子などの無機粒子を化学的に修飾し、中空シリカ粒子などの無機粒子に含フッ素化合物を導入する工程をさす。   Surface treatment with a fluorine compound refers to a step of chemically modifying inorganic particles such as hollow silica particles and introducing a fluorine-containing compound into inorganic particles such as hollow silica particles.

中空シリカ粒子などの無機粒子に直接フッ素化合物を導入する方法としては、1分子中にフッ素セグメントとシリルエーテル基(シリルエーテル基が加水分解されたシラノール基を含む)との両方を持つフルオロアルコキシシラン化合物を少なくとも1種類以上と開始剤とを共に撹拌することにより成される方法がある。しかし中空シリカ粒子などの無機粒子に直接フッ素化合物を導入する場合、反応性の制御が困難になったり、塗料化後塗布時に塗布斑等が発生しやすくなったりする場合がある。   As a method of directly introducing a fluorine compound into inorganic particles such as hollow silica particles, fluoroalkoxysilane having both a fluorine segment and a silyl ether group (including a silanol group obtained by hydrolyzing a silyl ether group) in one molecule There is a method in which at least one compound and an initiator are stirred together. However, when a fluorine compound is directly introduced into inorganic particles such as hollow silica particles, it may be difficult to control the reactivity, or coating spots may be easily generated during coating after coating.

また中空シリカ粒子などの無機粒子を化学的に修飾して、中空シリカ粒子などの無機粒子に含フッ素化合物を導入する更なる方法としては、中空シリカ粒子などの無機粒子を架橋成分にて処理し、官能基を有したフッ素化合物とつなぎ合わせる方法がある。   As a further method of chemically modifying inorganic particles such as hollow silica particles and introducing a fluorine-containing compound into inorganic particles such as hollow silica particles, inorganic particles such as hollow silica particles are treated with a crosslinking component. There is a method of joining with a fluorine compound having a functional group.

架橋成分としては、分子内にフッ素は無いが、1分子中にフッ素化合物と反応可能な部位と、中空シリカ粒子などの無機粒子と反応可能な部位を少なくとも一カ所ずつ持っている化合物を指し、中空シリカ粒子などの無機粒子と反応可能な部位としては反応性の観点からシリルエーテル及びシリルエーテルの加水分解物であることが好ましい。これら化合物は一般的にシランカップリング剤と呼ばれ、例としては、グリシドキシアルコキシシラン類、アミノアルコキシシラン類、アクリロイルシラン類、メタクリロイルシラン類、ビニルシラン類、メルカプトシラン類、などを用いることができる。   As a crosslinking component, there is no fluorine in the molecule, but a compound having at least one site capable of reacting with a fluorine compound and at least one site capable of reacting with inorganic particles such as hollow silica particles in one molecule, The site capable of reacting with inorganic particles such as hollow silica particles is preferably silyl ether or a hydrolyzate of silyl ether from the viewpoint of reactivity. These compounds are generally called silane coupling agents. For example, glycidoxyalkoxysilanes, aminoalkoxysilanes, acryloylsilanes, methacryloylsilanes, vinylsilanes, mercaptosilanes, etc. may be used. it can.

官能基を有したフッ素化合物としては、フルオロアルキルアルコール、フルオロアルキルエポキシド、フルオロアルキルハライド、フルオロアルキルアクリレート、フルオロアルキルメタクリレート、フルオロアルキルカルボキシレート(酸無水物及びエステル類を含む)、などを用いることができる。   As the fluorine compound having a functional group, fluoroalkyl alcohol, fluoroalkyl epoxide, fluoroalkyl halide, fluoroalkyl acrylate, fluoroalkyl methacrylate, fluoroalkyl carboxylate (including acid anhydrides and esters), etc. may be used. it can.

本発明におけるフッ素処理無機粒子を得るための表面処理のより好ましい形態は、シリカ粒子(特に中空シリカ粒子)を下記一般式(I)で示される化合物で処理し、更に下記一般式(II)で示される化合物で処理することが好ましい。
A−R−SiR (OR3−n 一般式(I)
B−R−Rf 一般式(II)
(上記一般式中のA、Bは反応性二重結合基を示し、R、Rは炭素数1から3のアルキレン基及びそれらから導出されるエステル構造を示し、R、Rは水素又は炭素数が1から4のアルキル基を示し、Rfはフルオロアルキル基を示し、nは0又は1又は2のいずれかを示し、それぞれ側鎖を構造中に持っても良い。)
本発明における反応性二重結合基とは、光または熱などのエネルギーをうけて発生したラジカルなどにより化学反応する官能基であり、具体例としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられる。
A more preferable form of surface treatment for obtaining the fluorinated inorganic particles in the present invention is that silica particles (particularly hollow silica particles) are treated with a compound represented by the following general formula (I), and further represented by the following general formula (II): It is preferred to treat with the indicated compound.
A-R 1 -SiR 2 n ( OR 3) 3-n Formula (I)
B—R 4 —Rf Formula (II)
(A and B in the above general formula represent a reactive double bond group, R 1 and R 4 represent an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms and an ester structure derived therefrom, and R 2 and R 3 represent Hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Rf represents a fluoroalkyl group, n represents 0, 1 or 2 and each may have a side chain in the structure.
The reactive double bond group in the present invention is a functional group that chemically reacts with radicals generated by receiving energy such as light or heat, and specific examples include vinyl group, allyl group, acryloyl group, methacryloyl group. Etc.

一般式(I)の具体例としては、アクリロキシエチルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシブチルトリメトキシシラン、アクリロキシペンチルトリメトキシシラン、アクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、アクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシブチルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン及びこれら化合物中のメトキシ基が他のアルコキシル基及び水酸基に置換された化合物を含むものなどが挙げられる。   Specific examples of the general formula (I) include acryloxyethyltrimethoxysilane, acryloxypropyltrimethoxysilane, acryloxybutyltrimethoxysilane, acryloxypentyltrimethoxysilane, acryloxyhexyltrimethoxysilane, acryloxyheptyltri Methoxysilane, methacryloxyethyltrimethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, methacryloxybutyltrimethoxysilane, methacryloxyhexyltrimethoxysilane, methacryloxyheptyltrimethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxy Examples include silane and compounds in which the methoxy group in these compounds is substituted with other alkoxyl groups and hydroxyl groups.

一般式(II )の具体例としては、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフロオロプロピルアクリレート、2−パーフルオロブチルエチルアクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロデシルエチルアクリレート、2−パーフルオロ−3−メチルブチルエチルアクリレート、3−パーフルオロ−3−メトキシブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロ−5−メチルヘキシルエチルアクリレート、3−パーフルオロ−5−メチルヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロ−7−メチルオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ドデカフルオロヘプチルアクリレート、ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、ヘキサフルオロブチルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、2−パーフルオロブチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロデシルエチルメタクリレート、2−パーフルオロ−3−メチルブチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−3−メチルブチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロ−5−メチルヘキシルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−5−メチルヘキシル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロ−7−メチルオクチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−7−メチルオクチルエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、1−トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロブチルメタクリレートなどが挙げられる。   Specific examples of the general formula (II) include 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl acrylate, 2-perfluorobutylethyl acrylate, 3-perfluoro Butyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorohexylethyl acrylate, 3-perfluorohexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorooctylethyl acrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2- Perfluorodecylethyl acrylate, 2-perfluoro-3-methylbutylethyl acrylate, 3-perfluoro-3-methoxybutyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-5-methylhexylethyl acrylate 3-perfluoro-5-methylhexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-7-methyloctyl-2-hydroxypropyl acrylate, tetrafluoropropyl acrylate, octafluoropentyl acrylate, dodecafluoroheptyl acrylate, Hexadecafluorononyl acrylate, hexafluorobutyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl methacrylate, 2-perfluorobutylethyl methacrylate, 3-perfluorobutyl 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluorooctylethyl methacrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perful Rhodecylethyl methacrylate, 2-perfluoro-3-methylbutylethyl methacrylate, 3-perfluoro-3-methylbutyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-5-methylhexylethyl methacrylate, 3-perfluoro-5 -Methylhexyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, 3-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, dodeca Fluoroheptyl methacrylate, hexadecafluorononyl methacrylate, 1-trifluoromethyltrifluoroethyl methacrylate, hexa Such as Le Oro butyl methacrylate.

分子中にフッ素セグメントを有さない一般式(I)で示される化合物を用いることにより、簡便な反応条件で、中空シリカなどのシリカ粒子表面を修飾することが可能となるばかりではなく、シリカ粒子表面に反応性を制御しやすい官能基を導入することが可能となり、その結果、反応性二重結合を有するフッ素セグメントをシリカ粒子表面で反応させることが可能になる。   By using the compound represented by the general formula (I) having no fluorine segment in the molecule, it becomes possible not only to modify the surface of silica particles such as hollow silica under simple reaction conditions, but also silica particles. It is possible to introduce a functional group whose reactivity is easy to control on the surface, and as a result, it is possible to react a fluorine segment having a reactive double bond on the surface of the silica particles.

なお、低屈折率層とは支持基材上に積層される屈折率の異なる2層中のうちの1層であり、隣接する1層(反射防止フィルム構成層であり空気層を除く)よりも相対的な屈折率が低い層である。なお上述のように本発明の製造方法により得られる反射防止フィルムは、支持基材、高屈折率層、低屈折率層がこの順に形成されることが好ましい。屈折率を低下させる方法としてフッ素系高分子を用いる方法(特開2002−36457号公報)や密度を低下させる方法(特開平8−83581号公報)が知られている。そのため塗料組成物にはフッ素処理無機粒子を含むことが重要である。塗料組成物中にフッ素化合物により表面処理された無機粒子を含むことで、これらの粒子が低屈折率層を好適に形成可能であるためである。ここで、前述したシリカ粒子及び一般式(I)、一般式(II)に示される化合物は、本発明で用いられる塗料組成物中では、未反応のままでシリカ粒子と一般式(I)化合物と一般式(II)化合物が存在しても良いし、シリカ粒子を一般式(I)化合物と一般式(II)化合物により表面処理して縮合体および/または重合体として存在していても良い。   The low refractive index layer is one of the two layers having different refractive indexes laminated on the support substrate, and is adjacent to one layer (antireflection film constituting layer excluding the air layer). It is a layer having a low relative refractive index. As described above, the antireflection film obtained by the production method of the present invention preferably has a support base, a high refractive index layer, and a low refractive index layer formed in this order. As a method for reducing the refractive index, a method using a fluorine-based polymer (Japanese Patent Laid-Open No. 2002-36457) and a method of reducing the density (Japanese Patent Laid-Open No. 8-83581) are known. Therefore, it is important that the coating composition contains fluorine-treated inorganic particles. It is because these particles can form a low refractive index layer suitably by including inorganic particles surface-treated with a fluorine compound in the coating composition. Here, the silica particles and the compounds represented by the general formula (I) and the general formula (II) described above remain unreacted in the coating composition used in the present invention and the compounds of the general formula (I). And the general formula (II) compound may be present, or the silica particles may be surface-treated with the general formula (I) compound and the general formula (II) compound to exist as a condensate and / or a polymer. .

続いて高屈折率層に関して説明する。   Next, the high refractive index layer will be described.

高屈折率層とは支持基材上に積層される層中のうちの1層であり、隣接する層よりも屈折率が高い層をさし、金属酸化物などの少なくとも一種類以上の無機粒子を含むことが好ましい。   The high refractive index layer is one of the layers laminated on the supporting substrate, refers to a layer having a higher refractive index than the adjacent layer, and at least one kind of inorganic particles such as a metal oxide It is preferable to contain.

塗料組成物中の高屈折率層構成成分として用いられる無機粒子は特に限定されないが、フッ素化合物により表面処理されていない無機粒子(フッ素処理無機粒子以外の無機粒子)が好ましく、低屈折率層構成成分として用いられる無機粒子(フッ素処理無機粒子の構成材料である無機粒子)とは異なる無機粒子であることが好ましく、Zr,Ti,Al,In,Zn,Sb,Sn,およびCeよりなる群から選ばれる少なくとも一つの金属の酸化物粒子であることがさらに好ましい。また高屈折率層構成成分として用いられる無機粒子としては、シリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子が好ましく、具体的には酸化ジルコニウム(ZrO)、酸化チタン(TiO)、酸化アルミニウム(Al)、酸化インジウム(In)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO2)、酸化アンチモン(Sb)、およびインジウムスズ酸化物(In)から選ばれる少なくとも一つの金属酸化物であり、特に好ましくはSbやSnなどから導出されるインジウム含有酸化スズ(ITO)やアンチモン含有酸化スズ(ATO)である。 The inorganic particles used as the high refractive index layer component in the coating composition are not particularly limited, but inorganic particles that are not surface-treated with a fluorine compound (inorganic particles other than fluorine-treated inorganic particles) are preferred, and the low refractive index layer configuration It is preferably an inorganic particle different from the inorganic particle used as a component (an inorganic particle that is a constituent material of the fluorinated inorganic particle), and is selected from the group consisting of Zr, Ti, Al, In, Zn, Sb, Sn, and Ce. More preferably, it is an oxide particle of at least one selected metal. The inorganic particles used as the high refractive index layer component are preferably inorganic particles having a higher refractive index than silica particles. Specifically, zirconium oxide (ZrO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), indium oxide (In 2 O 3 ), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2), antimony oxide (Sb 2 O 3 ), and indium tin oxide (In 2 O 3 ) One metal oxide, particularly preferably indium-containing tin oxide (ITO) or antimony-containing tin oxide (ATO) derived from Sb or Sn.

塗料組成物中の高屈折率層構成成分として好適な無機粒子の数平均粒子径、特に低屈折率層構成成分として好適なシリカ粒子よりも屈折率が高い金属酸化物からなる無機粒子の平均粒子径としては、好ましくは、1nmから150nm、より好ましくは5nmから100nmである。無機粒子の数平均粒子径が1nmよりも小さくなると層中の空隙密度が低下することによる透明度の低下が起こるため好ましくなく、無機粒子の数平均粒子径が150nmよりも大きくなると高屈折率層の厚さが大きくなり良好な反射防止性能が得られにくくなり好ましくない。   Number average particle diameter of inorganic particles suitable as high refractive index layer constituents in coating compositions, especially average particles of inorganic particles composed of metal oxides having a higher refractive index than silica particles suitable as low refractive index layer constituents The diameter is preferably 1 nm to 150 nm, more preferably 5 nm to 100 nm. If the number average particle diameter of the inorganic particles is smaller than 1 nm, it is not preferable because the transparency decreases due to a decrease in the void density in the layer. If the number average particle diameter of the inorganic particles is larger than 150 nm, the high refractive index layer is not preferable. This is not preferable because the thickness increases and it is difficult to obtain good antireflection performance.

塗料組成物中の高屈折率層構成成分として好適な無機粒子の屈折率、特に低屈折率層構成成分として好適なシリカ粒子よりも屈折率が高い金属酸化物からなる無機粒子の屈折率としては、好ましくは1.58〜2.80、より好ましくは1.60〜2.50である。無機粒子の屈折率が1.58よりも小さくなると、高屈折率層の屈折率が低下することがあり、無機粒子の屈折率が2.80よりも大きくなると、高屈折率層の屈折率差が上昇し、良好な反射防止性能が得られなくなることがある。   The refractive index of the inorganic particles suitable as a high refractive index layer constituent in the coating composition, particularly the refractive index of the inorganic particles made of a metal oxide having a higher refractive index than silica particles suitable as the low refractive index layer constituent , Preferably 1.58 to 2.80, more preferably 1.60 to 2.50. If the refractive index of the inorganic particles is smaller than 1.58, the refractive index of the high refractive index layer may be lowered, and if the refractive index of the inorganic particles is larger than 2.80, the refractive index difference of the high refractive index layer. May increase, and good antireflection performance may not be obtained.

塗料組成物中の高屈折率層構成成分として用いられる無機粒子については前述した通りだが、フッ素化合物による表面処理がされた無機粒子がシリカ粒子の場合は、該シリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子であることが特に好ましく、このような該シリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子としては、数平均粒子径が1nmから150nmであり、かつ屈折率が1.60から2.80の金属酸化物が好ましく用いられる。そのような金属酸化物の具体例としては、インジウム含有酸化スズ(ITO)及び/またはアンチモン含有酸化スズ(ATO)が挙げられる。   As described above for the inorganic particles used as the high refractive index layer component in the coating composition, when the inorganic particles subjected to the surface treatment with the fluorine compound are silica particles, the inorganic particles have a higher refractive index than the silica particles. The inorganic particles having a refractive index higher than that of the silica particles are particularly preferably metal oxides having a number average particle diameter of 1 nm to 150 nm and a refractive index of 1.60 to 2.80. The product is preferably used. Specific examples of such metal oxides include indium-containing tin oxide (ITO) and / or antimony-containing tin oxide (ATO).

本発明の製法に用いられる塗料組成物において、フッ素化合物による表面処理がされた無機粒子がシリカ粒子であり、他の無機粒子が該シリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子である場合、支持基材の少なくとも片面上に塗料組成物を塗布乾燥硬化することで、該シリカ粒子を含有した低屈折率層と、該シリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子を含有する高屈折率層を、支持基材、高屈折率層、低屈折率層をこの順に好適に形成できるため好ましい態様である。   In the coating composition used in the production method of the present invention, when the inorganic particles surface-treated with the fluorine compound are silica particles and the other inorganic particles are inorganic particles having a higher refractive index than the silica particles, The coating composition is applied and dried and cured on at least one surface of the material to support the low refractive index layer containing the silica particles and the high refractive index layer containing inorganic particles having a higher refractive index than the silica particles. Since a base material, a high refractive index layer, and a low refractive index layer can be suitably formed in this order, it is a preferable aspect.

本発明で用いる塗料組成物は更に、バインダー成分を含むことが出来る。つまり、本発明の反射防止フィルムの低屈折率層および高屈折率層には、前記した物質以外に別途バインダー成分を含んでいてもよい。バインダー成分としては特に限定するものではないが、製造性の観点より、熱及び/または活性エネルギー線などにより、硬化可能なバインダー(樹脂)であることが好ましく、バインダー(樹脂)は一種類であっても良いし、二種類以上を混合して用いても良い。また、本発明における前記した低屈折率層構成成分であるフッ素化合物により表面処理された無機粒子や、前記した高屈折率層構成成分であるその他無機粒子を膜中に保持する観点より、分子中にアルコキシシランやアルコキシシランの加水分解物や反応性二重結合を有しているバインダー成分であることが好ましい。またUV線により硬化する場合は、酸素雰囲気下よりも酸素阻害を防ぐことができることから酸素濃度ができるだけ低い方が好ましく、窒素雰囲気下(窒素パージ)で硬化する方がより好ましい。酸素濃度が高い場合には、最表面の硬化が阻害され、硬化が不十分となり、耐擦傷性、耐アルカリ性が不十分となる場合がある。   The coating composition used in the present invention can further contain a binder component. That is, the low refractive index layer and the high refractive index layer of the antireflection film of the present invention may contain a binder component separately from the above-described substances. Although it does not specifically limit as a binder component, From a viewpoint of manufacturability, it is preferable that it is a binder (resin) which can be hardened | cured with a heat | fever and / or active energy ray, etc., and binder (resin) is one type. Alternatively, two or more kinds may be mixed and used. In addition, from the viewpoint of retaining the inorganic particles surface-treated with the fluorine compound that is the low refractive index layer constituent in the present invention and the other inorganic particles that are the high refractive index layer constituent in the film, It is preferable that the binder component has an alkoxysilane, a hydrolyzate of alkoxysilane, or a reactive double bond. In the case of curing with UV rays, it is preferable that the oxygen concentration is as low as possible because oxygen inhibition can be prevented more than in an oxygen atmosphere, and it is more preferable to cure in a nitrogen atmosphere (nitrogen purge). When the oxygen concentration is high, the curing of the outermost surface is inhibited, the curing becomes insufficient, and the scratch resistance and alkali resistance may be insufficient.

[アルキルフェノン誘導体]
本発明で用いる塗料組成物としては、前記した低屈折率構成成分であるフッ素化合物により表面処理された無機粒子と、前記した高屈折率成分である他の無機粒子と、さらにアルキルフェノン誘導体を含む。
[Alkylphenone derivatives]
The coating composition used in the present invention includes inorganic particles surface-treated with the above-described fluorine compound which is a low refractive index component, other inorganic particles which are the above high refractive index component, and an alkylphenone derivative. .

本発明で用いるアルキルフェノン誘導体とは一般式(III)にて示される化合物及びこれから誘導される物質であり、反射防止フィルム中では高分子末端にラジカル発生剤として付加して存在していてもよい。
−C(O)−R 一般式(III)
(上記一般式中のRは4級炭素であり、環状でも良い)
アルキルフェノン誘導体の具体例としては、2.2−ジメトキシ−1.2−ジフェニルエタン−1−オン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−フェニル)−1−ブタン、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]-1-(4−フェニル)−1−ブタン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタン、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]-1-[4−(4−モルフォリニル)フェニル]−1−ブタン、1−シクロヒキシル−フェニルケトン、2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−[4−(2−エトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、などが挙げられる。
The alkylphenone derivative used in the present invention is a compound represented by the general formula (III) and a substance derived therefrom. In the antireflection film, it may be added as a radical generator to the polymer terminal. .
C 6 H 5 -C (O) -R 5 Formula (III)
(R 5 in the above general formula is quaternary carbon and may be cyclic)
Specific examples of the alkylphenone derivative include 2.2-dimethoxy-1.2-diphenylethane-1-one, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2 -Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-phenyl) -1-butane, 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- (4-phenyl) -1-butane 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butane, 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4 -Morpholinyl) phenyl] -1-butane, 1-cyclohexyl-phenyl ketone, 2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- [4- (2-ethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2- Methyl 1-1-one, and the like.

本発明においてより良好な表面耐擦傷性を得るためには、R部位がアルキル化合物でありその末端に水酸基を有するヒドロキシアルキルフェノン誘導体を用いることが好ましい。ヒドロキシアルキルフェノン誘導体の具体例としては、1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オンなどが挙げられる。 In order to obtain better surface scratch resistance in the present invention, it is preferable to use a hydroxyalkylphenone derivative having an alkyl compound at the R 5 site and having a hydroxyl group at the terminal. Specific examples of the hydroxyalkylphenone derivative include 1-hydroxycyclohexyl-phenyl-ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl]- 2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propane -1-one and the like can be mentioned.

本発明で用いる塗料組成物としては、前記した低屈折率層構成成分として好適なフッ素化合物により表面処理された無機粒子(フッ素処理無機粒子)と、前記した高屈折率層構成成分である他の無機粒子と、前記したアルキルフェノン誘導体と、さらに溶剤を含むことが望ましい。溶剤は塗料組成物が塗布可能な状態にあれば、必要量及び性状に制限は無いため、特に記載しないが、一般的に塗料溶剤として用いられている溶剤を用いることが出来る。   The coating composition used in the present invention includes inorganic particles (fluorine-treated inorganic particles) surface-treated with a fluorine compound suitable as the above-described low refractive index layer constituents, and other high refractive index layer constituents described above. It is desirable to include inorganic particles, the aforementioned alkylphenone derivative, and a solvent. As long as the coating composition is in a state where the coating composition can be applied, the required amount and properties are not limited. Therefore, a solvent generally used as a coating solvent can be used although it is not particularly described.

本発明で用いる塗料組成物としては、更に開始剤や硬化剤や触媒を含むことが好ましい。開始剤及び触媒は、フッ素化合物により表面処理された無機粒子である中空シリカとバインダー(樹脂)との反応を促進したり、バインダー(樹脂)間の反応を促進するために用いられる。該開始剤としては、塗料組成物をアニオン、カチオン、ラジカル反応等による重合および/または縮合および/または架橋反応を開始あるいは促進できるものが好ましい。   The coating composition used in the present invention preferably further contains an initiator, a curing agent and a catalyst. The initiator and the catalyst are used to promote the reaction between the hollow silica, which is inorganic particles surface-treated with the fluorine compound, and the binder (resin), or to promote the reaction between the binder (resin). As the initiator, those capable of initiating or accelerating polymerization and / or condensation and / or crosslinking reaction by anion, cation, radical reaction or the like of the coating composition are preferable.

該開始剤及び該硬化剤及び触媒は、公知または周知のものを使用できる。また、複数の開始剤を同時に用いても良いし、単独で用いても良い。さらに、酸性触媒や、熱重合開始剤や光重合開始剤を併用しても良い。酸性触媒の例としては、塩酸水溶液、蟻酸、酢酸などが挙げられる。熱重合開始剤の例としては、過酸化物、アゾ化合物が挙げられる。また、光重合開始剤の例としては、アリールケトン系化合物、含硫黄系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物、アミン系化合物などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。なお、該開始剤及び該硬化剤の添加割合は塗料組成物中の樹脂成分量100重量部に対して0.001重量部から30重量部が好ましく、より好ましくは0.05重量部から20重量部であり更に好ましくは0.1重量部から10重量部である。   Known or well-known initiators and curing agents and catalysts can be used. A plurality of initiators may be used at the same time or may be used alone. Furthermore, you may use together an acidic catalyst, a thermal-polymerization initiator, and a photoinitiator. Examples of acidic catalysts include aqueous hydrochloric acid, formic acid, acetic acid and the like. Examples of the thermal polymerization initiator include peroxides and azo compounds. Examples of photopolymerization initiators include, but are not limited to, aryl ketone compounds, sulfur-containing compounds, acyl phosphine oxide compounds, and amine compounds. The addition ratio of the initiator and the curing agent is preferably 0.001 to 30 parts by weight, more preferably 0.05 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin component in the coating composition. Parts, more preferably 0.1 to 10 parts by weight.

その他として、本発明で使用する塗料組成物には更に、各種シランカップリング剤、界面活性剤、増粘剤、レベリング剤などの添加剤を必要に応じて適宜添加しても良い。   In addition, additives such as various silane coupling agents, surfactants, thickeners, and leveling agents may be appropriately added to the coating composition used in the present invention as necessary.

[その他の層]
本発明の製造方法により得られる反射防止フィルムには、さらに、ハードコート層、防湿層、帯電防止層、下塗り層や保護層などを設けてもよい。
[Other layers]
The antireflection film obtained by the production method of the present invention may further be provided with a hard coat layer, a moisture proof layer, an antistatic layer, an undercoat layer, a protective layer and the like.

ハードコート層は、支持基材の一部であるフィルムに耐傷性を付与するために設ける。ハードコート層は、支持基材とその上の層との接着を強化する機能も有する。ハードコート層は、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコン系ポリマーやシリカ系化合物を用いて形成することができる。顔料をハードコート層に添加してよい。アクリル系ポリマーは、多官能アクリレートモノマー(例、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート)の重合反応により合成することが好ましい。ウレタン系ポリマーの例には、メラミンポリウレタンが含まれる。シリコン系ポリマーとしては、シラン化合物(例、テトラアルコキシシラン、アルキルトリアルコキシシラン)と反応性基(例、エポキシ、メタクリル)を有するシランカップリング剤との共加水分解物が好ましく用いられる。更には2種類以上のポリマーを組み合わせて用いてもよい。シリカ系化合物としては、コロイダルシリカが好ましく用いられる。ハードコート層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。支持基材には、ハードコート層に加えて、接着層、シールド層、滑り層を設けてもよい。シールド層は、電磁波や赤外線を遮蔽するために設けられる。
[支持基材]
反射防止皮膜をCRT画像表示面やレンズ表面に直接設ける場合を除き、反射防止膜は支持基材を有することが重要である。支持基材としては、ガラス板よりもプラスチックフィルムの方が好ましい。プラスチックフィルムの材料の例には、セルロースエステル(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノキシエタン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート)、ポリスチレン(例、シンジオタクチックポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン)、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケトンなどが含まれるが、これらの中でも得にトリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが好ましい。また上述のように、支持基材はハードコート層、接着層、シールド層、滑り層などの各種機能層を有するフィルムとすることもできる。
The hard coat layer is provided for imparting scratch resistance to the film which is a part of the supporting substrate. The hard coat layer also has a function of strengthening the adhesion between the support substrate and the layer thereon. The hard coat layer can be formed using an acrylic polymer, a urethane polymer, an epoxy polymer, a silicon polymer, or a silica compound. A pigment may be added to the hard coat layer. The acrylic polymer is preferably synthesized by a polymerization reaction of a polyfunctional acrylate monomer (eg, polyol acrylate, polyester acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate). Examples of the urethane polymer include melamine polyurethane. As the silicon-based polymer, a cohydrolyzate of a silane compound (eg, tetraalkoxysilane, alkyltrialkoxysilane) and a silane coupling agent having a reactive group (eg, epoxy, methacryl) is preferably used. Further, two or more kinds of polymers may be used in combination. As the silica compound, colloidal silica is preferably used. The strength of the hard coat layer is preferably a pencil hardness of 1 kg load, preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher. In addition to the hard coat layer, the support substrate may be provided with an adhesive layer, a shield layer, and a sliding layer. The shield layer is provided to shield electromagnetic waves and infrared rays.
[Supporting substrate]
It is important that the antireflective film has a supporting substrate, except when the antireflective film is directly provided on the CRT image display surface or lens surface. As the supporting substrate, a plastic film is more preferable than a glass plate. Examples of plastic film materials include cellulose esters (eg, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitrocellulose), polyamides, polycarbonates, polyesters (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate). , Poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4′-dicarboxylate, polybutylene terephthalate), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg, Polypropylene, polyethylene, polymethylpentene), polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyetherimide, polymethylmethene Tacrylate and polyetherketone are included, but among these, triacetyl cellulose, polycarbonate, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are particularly preferable. Moreover, as above-mentioned, a support base material can also be made into the film which has various functional layers, such as a hard-coat layer, an adhesive layer, a shield layer, and a sliding layer.

支持基材の光透過率は、80%以上100%以下であることが好ましく、86%以上100%以下であることがさらに好ましい。ここで光透過率とは、光を照射した際に試料を透過する光の割合のことであり、JIS K 7361−1(1997)に従い測定することができる透明材料の透明性の指標である。反射防止フィルムの光透過率としては値が大きいほど良好であり、値が小さいとヘイズ値が上昇、画像劣化が生じる可能性が高くなるため好ましくない。ヘイズはJIS K 7136(2000)に規定された透明材料の濁りの指標である。ヘイズは小さいほど透明性が高いことを示す。   The light transmittance of the supporting substrate is preferably 80% or more and 100% or less, and more preferably 86% or more and 100% or less. Here, the light transmittance is a ratio of light transmitted through the sample when irradiated with light, and is an index of transparency of a transparent material that can be measured according to JIS K 7361-1 (1997). The larger the value of the light transmittance of the antireflection film, the better. The smaller the value, the higher the haze value and the higher the possibility of image deterioration. Haze is an index of turbidity of a transparent material defined in JIS K 7136 (2000). The smaller the haze, the higher the transparency.

支持基材のヘイズは、0.01%以上2.0%以下であることが好ましく、0.05%以上1.0%以下であることがさらに好ましい。   The haze of the support substrate is preferably 0.01% or more and 2.0% or less, and more preferably 0.05% or more and 1.0% or less.

支持基材の屈折率は、1.4〜1.7であることが好ましい。なお、本発明でいう屈折率とは、光が空気中からある物質中に進む時、その界面で進行方向の角度を変える割合のことであり、JIS K 7142(1996)に規定されている方法により測定することができる。   The refractive index of the supporting substrate is preferably 1.4 to 1.7. The refractive index as used in the present invention is a ratio of changing the angle of the traveling direction at the interface when light travels from the air to a certain substance, and is a method defined in JIS K 7142 (1996). Can be measured.

支持基材には、赤外線吸収剤あるいは紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量は、支持基材の全成分100重量%において0.01〜20重量%であることが好ましく、0.05〜10重量%であることがさらに好ましい。滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例には、SiO、TiO、BaSO、CaCO、タルクおよびカオリンが含まれる。更に、支持基材に、表面処理を実施してもよい。 An infrared absorber or an ultraviolet absorber may be added to the support substrate. The addition amount of the infrared absorber is preferably 0.01 to 20% by weight, more preferably 0.05 to 10% by weight, based on 100% by weight of all the components of the support base. As a slip agent, particles of an inert inorganic compound may be added to the transparent support. Examples of the inorganic compound, SiO 2, TiO 2, BaSO 4, CaCO 3, talc and kaolin. Furthermore, the support substrate may be subjected to a surface treatment.

支持基材の表面には、各種の表面処理を施すことも可能である。表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が含まれる。これらの中でもグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理と紫外線処理がさらに好ましい。   Various surface treatments can be applied to the surface of the support substrate. Examples of the surface treatment include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment and ozone oxidation treatment. Among these, glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment and flame treatment are preferred, and glow discharge treatment and ultraviolet treatment are more preferred.

〔塗布乾燥硬化〕
本発明の製造方法では、1液の特定の塗料組成物を支持基材の少なくとも片面に、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法などの塗布方法によって一度塗布(塗布工程)し、続いて加熱などにより乾燥を行い塗料組成物を硬化させる(乾燥工程・硬化工程)ことで、反射防止フィルムを得ることができる。
[Coating, drying and curing]
In the production method of the present invention, a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, or the like is performed on at least one surface of a supporting substrate with a specific coating composition of one liquid. The antireflection film can be obtained by applying the coating method once (coating step) and subsequently drying the coating composition by heating or the like to cure the coating composition (drying step / curing step).

本発明の製造方法によれば、前記1液の塗料組成物を1回塗布乾燥硬化する工程により、屈折率の異なる二層を同時に形成することができる。屈折率の異なる二層の形成は、少なくとも本発明の高屈折率層を誘導する組成物と低屈折率層を誘導する組成物と溶媒とが混合された塗料組成物の塗布工程後、乾燥(もしくは乾燥硬化)工程において成される。   According to the production method of the present invention, two layers having different refractive indexes can be formed simultaneously by the step of coating and drying and curing the one-component coating composition once. The formation of the two layers having different refractive indexes is carried out by applying a coating composition in which at least the composition for inducing the high refractive index layer of the present invention, the composition for inducing the low refractive index layer and a solvent are mixed, and then drying ( (Or drying and curing) step.

得られる反射防止フィルム中から完全に溶媒を除去する事に加え、欠陥なく二層に分離させるという観点からも、乾燥工程では加熱することが好ましい。乾燥工程は、(A)材料余熱期間、(B)恒率乾燥期間、(C)減率乾燥期間に分けられるが、材料予熱期間(材料全体が乾燥する温度まで昇温する期間)から、恒率乾燥期間(塗液が動かなくなるまでの期間)にかけて、溶媒の蒸発に伴い屈折率の異なる二層を形成するが、二層を形成する無機粒子の移動に十分な時間を確保するため、風速が低く、できるだけ低温で乾燥することが好ましい。   In addition to completely removing the solvent from the antireflection film to be obtained, it is preferable to heat in the drying step from the viewpoint of separation into two layers without defects. The drying process is divided into (A) material preheating period, (B) constant rate drying period, and (C) reduced rate drying period. From the material preheating period (period in which the temperature is raised to the temperature at which the entire material is dried), the drying process is continued. Over the drying period (the period until the coating liquid stops moving), two layers with different refractive indexes are formed as the solvent evaporates. However, in order to ensure sufficient time for the movement of the inorganic particles forming the two layers, the wind speed Therefore, it is preferable to dry at as low a temperature as possible.

この乾燥初期である(A)材料余熱期間や(B)恒率乾燥期間における風速としては、1m/s以上10m/s以下であることが好ましく、より好ましくは1m/s以上5m/s以下である。乾燥後期における減率乾燥期間においては、残存溶媒を減らせる点から、風速は10m/s以上70m/s以下であるのが好ましく、また温度は100℃以上200℃以下であるのが好ましい。加熱温度としては、用いる溶媒の沸点及びポリマーのガラス転移温度などから決定できるが特に限定される値ではない。乾燥工程における、加熱方式としては、カウンターフロー方式、熱風噴射、赤外線、マイクロ波、誘導加熱などが挙げられる。この中でも、乾燥初期である(A)材料余熱期間や(B)恒率乾燥期間においては、風速、温度の点からカウンターフロー方式が好ましいが、特に限定されるものではない。また乾燥後期である(C)減率乾燥期間においては、汎用性の点からトンネル式であるのが好ましい。   The wind speed in the initial drying period (A) material preheating period and (B) constant rate drying period is preferably 1 m / s or more and 10 m / s or less, more preferably 1 m / s or more and 5 m / s or less. is there. In the decreasing rate drying period in the latter stage of drying, the wind speed is preferably 10 m / s or more and 70 m / s or less, and the temperature is preferably 100 ° C. or more and 200 ° C. or less from the viewpoint of reducing the residual solvent. The heating temperature can be determined from the boiling point of the solvent used and the glass transition temperature of the polymer, but is not particularly limited. Examples of the heating method in the drying process include a counter flow method, hot air injection, infrared rays, microwaves, induction heating, and the like. Among these, in (A) material preheating period and (B) constant rate drying period which are the initial stages of drying, the counter flow method is preferable from the viewpoint of wind speed and temperature, but is not particularly limited. In addition, in the (C) decreasing rate drying period which is the latter stage of drying, the tunnel type is preferable from the viewpoint of versatility.

さらに、乾燥工程後の形成層に対して熱またはエネルギー線を照射する事によるさらなる硬化操作(硬化工程)を行ってもよい。硬化工程において、熱で硬化する場合には、室温から200℃であることが好ましく、溶媒の蒸発および、シラノールなどを含む樹脂の硬化助剤の観点から、より好ましくは100℃以上200℃以下、さらに好ましくは130℃以上200℃以下である。100℃以上とすることにより、残存する溶媒量が減少し、非常に短時間でシラノールなどを含む樹脂の硬化が進むために好ましい。   Furthermore, you may perform the further hardening operation (curing process) by irradiating a heat | fever or an energy ray with respect to the formation layer after a drying process. In the curing step, when cured with heat, the temperature is preferably from room temperature to 200 ° C., more preferably from 100 ° C. to 200 ° C. from the viewpoint of solvent evaporation and a curing aid for the resin containing silanol and the like. More preferably, it is 130 degreeC or more and 200 degrees C or less. Setting the temperature to 100 ° C. or higher is preferable because the amount of the remaining solvent is reduced and curing of the resin containing silanol proceeds in a very short time.

また、エネルギー線により硬化する場合には汎用性の点から電子線(EB線)及び/又は紫外線(UV線)であることが好ましい。また紫外線により硬化する場合は、酸素雰囲気下よりも酸素阻害を防ぐことができることから酸素濃度ができるだけ低い方が好ましく、窒素雰囲気下(窒素パージ)で硬化する方がより好ましい。酸素濃度が高い場合には、最表面の硬化が阻害され、硬化が不十分となり、耐擦傷性、耐アルカリ性が不十分となる場合がある。また、紫外線を照射する際に用いる紫外線ランプの種類としては、例えば、放電ランプ方式、フラッシュ方式、レーザー方式、無電極ランプ方式等が挙げられる。放電ランプ方式である高圧水銀灯を用いて紫外線硬化させる場合、紫外線の照度が100〜3000mW/cm、好ましくは200〜2000mW/cm、さらに好ましくは300〜1500mW/cmとなる条件で紫外線照射を行うことが好ましく、紫外線の積算光量が100〜3000m/cm、好ましく200〜2000mJ/cm、さらに好ましくは300〜1500mJ/cmとなる条件で紫外線照射を行うことがより好ましい。ここで、紫外線照度とは、単位面積当たりに受ける照射強度で、ランプ出力、発光スペクトル効率、発光バルブの直径、反射鏡の設計及び被照射物との光源距離によって変化する。しかし、搬送スピードによって照度は変化しない。また、紫外線積算光量とは単位面積当たりに受ける照射エネルギーで、その表面に到達するフォトンの総量である。積算光量は、光源下を通過する照射速度に反比例し、照射回数とランプ灯数に比例する。 Moreover, when hardening with an energy ray, it is preferable that it is an electron beam (EB ray) and / or an ultraviolet-ray (UV ray) from a versatility point. In the case of curing with ultraviolet rays, the oxygen concentration is preferably as low as possible because oxygen inhibition can be prevented more than in an oxygen atmosphere, and curing in a nitrogen atmosphere (nitrogen purge) is more preferable. When the oxygen concentration is high, the curing of the outermost surface is inhibited, the curing becomes insufficient, and the scratch resistance and alkali resistance may be insufficient. Examples of the ultraviolet lamp used when irradiating ultraviolet rays include a discharge lamp method, a flash method, a laser method, and an electrodeless lamp method. When the discharge lamp type to ultraviolet cured using a high pressure mercury lamp is, illuminance 100~3000mW / cm 2 of ultraviolet, ultraviolet irradiation under the conditions preferably 200~2000mW / cm 2, further preferably a 300~1500mW / cm 2 It is preferable to perform UV irradiation under the condition that the cumulative amount of ultraviolet light is 100 to 3000 m / cm 2 , preferably 200 to 2000 mJ / cm 2 , more preferably 300 to 1500 mJ / cm 2 . Here, the ultraviolet illuminance is the irradiation intensity received per unit area, and changes depending on the lamp output, the emission spectral efficiency, the diameter of the light emitting bulb, the design of the reflector, and the light source distance to the irradiated object. However, the illuminance does not change depending on the conveyance speed. Further, the UV integrated light amount is irradiation energy received per unit area, and is the total amount of photons reaching the surface. The integrated light quantity is inversely proportional to the irradiation speed passing under the light source, and is proportional to the number of irradiations and the number of lamps.

硬化を熱により行う場合、乾燥工程と硬化工程とを同時におこなってもよい。また本発明の製法により得られた反射防止フィルムは、PDPなどの各種画像表示装置の視認側表面に設けることで、反射防止性に優れた画像表示装置を提供することができる。
〔塗料組成物〕
上述のように本発明の製造方法に用いる塗料組成物は、2種類以上の無機粒子を含み、そのうちの少なくとも一種類の無機粒子がフッ素処理無機粒子であり、さらにアルキルフェノン誘導体を含むことを特徴とする。そして、塗料組成物中の好ましく用いられるアルキルフェノン誘導体、フッ素化合物による表面処理の方法、無機粒子については上述の通りである。そして塗料組成物のさらに好ましい態様は、2種類以上の無機粒子、及びアルキルフェノン誘導体を含み、該2種類以上の無機粒子が、フッ素処理シリカ粒子、及び金属酸化物を含む塗料組成物である。
When curing is performed by heat, the drying step and the curing step may be performed simultaneously. Moreover, the antireflection film obtained by the production method of the present invention can be provided on the viewing side surface of various image display devices such as PDP, thereby providing an image display device having excellent antireflection properties.
[Coating composition]
As described above, the coating composition used in the production method of the present invention includes two or more types of inorganic particles, and at least one of the inorganic particles is a fluorine-treated inorganic particle, and further includes an alkylphenone derivative. And And the alkylphenone derivative, the surface treatment method with the fluorine compound, and the inorganic particles that are preferably used in the coating composition are as described above. A more preferable embodiment of the coating composition is a coating composition containing two or more types of inorganic particles and an alkylphenone derivative, and the two or more types of inorganic particles include fluorinated silica particles and a metal oxide.

さらに、前記フッ素処理シリカ粒子を得るための表面処理の方法が、前記シリカ粒子を下記一般式(I)で示される化合物で処理し、更に一般式(II)で示される化合物で処理するものであることが特に好ましい態様である。
A−R−SiR (OR3−n 一般式(I)
B−R−Rf 一般式(II)
(上記一般式中のA、Bは反応性二重結合基を示し、R、Rは炭素数1から3のアルキレン基及びそれらから導出されるエステル構造を示し、R、Rは水素又は炭素数が1から4のアルキル基を示し、Rfはフルオロアルキル基を示し、nは0又は1又は2のいずれかを示し、それぞれ側鎖を構造中に持っても良い。)
本発明の塗料組成物は、少なくとも一種類がフッ素処理無機粒子である2種類以上の無機粒子を含み、さらにアルキルフェノン誘導体を含めば、その含有量は特に限定されない。しかし好ましくは、本発明の塗料組成物100重量%において、フッ素処理無機粒子を含む2種類以上の無機粒子の合計が0.2重量%〜40重量部%以下、アルキルフェノン誘導体が0.01〜20重量%、溶媒やバインダー樹脂、該開始剤及び該硬化剤及び触媒などのその他の成分を40〜99重量%含む態様であり、より好ましくは、フッ素処理無機粒子を含む2種類以上の無機粒子の合計が1〜35重量%、アルキルフェノン誘導体が0.05〜15重量%、溶媒やバインダー樹脂、該開始剤及び該硬化剤及び触媒などのその他の成分を50〜98重量%含む態様である。
Furthermore, the surface treatment method for obtaining the fluorinated silica particles is a method in which the silica particles are treated with a compound represented by the following general formula (I) and further treated with a compound represented by the general formula (II). It is a particularly preferable embodiment.
A-R 1 -SiR 2 n ( OR 3) 3-n Formula (I)
B—R 4 —Rf Formula (II)
(A and B in the above general formula represent a reactive double bond group, R 1 and R 4 represent an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms and an ester structure derived therefrom, and R 2 and R 3 represent Hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Rf represents a fluoroalkyl group, n represents 0, 1 or 2 and each may have a side chain in the structure.
The content of the coating composition of the present invention is not particularly limited as long as it includes two or more types of inorganic particles, at least one of which is a fluorine-treated inorganic particle, and further includes an alkylphenone derivative. However, preferably, in 100% by weight of the coating composition of the present invention, the total of two or more kinds of inorganic particles including fluorine-treated inorganic particles is 0.2% by weight to 40% by weight or less, and the alkylphenone derivative is 0.01 to 20% by weight, an embodiment containing 40 to 99% by weight of other components such as a solvent, a binder resin, the initiator, the curing agent and a catalyst, more preferably two or more types of inorganic particles containing fluorinated inorganic particles 1 to 35% by weight, alkylphenone derivative 0.05 to 15% by weight, and other components such as a solvent, a binder resin, the initiator, the curing agent, and a catalyst. .

さらに好ましい態様としては、2種類以上の無機粒子が金属酸化物粒子とフッ素処理シリカ粒子であり、これらの合計が2〜30重量%、アルキルフェノン誘導体が0.1〜10重量%、その他の成分が60〜97重量%の態様である。   In a more preferred embodiment, the two or more kinds of inorganic particles are metal oxide particles and fluorinated silica particles, the total of these is 2 to 30% by weight, the alkylphenone derivative is 0.1 to 10% by weight, and other components Is an embodiment of 60 to 97% by weight.

また、無機粒子の合計100重量%においては、フッ素処理無機粒子が5〜95重量%、その他の無機粒子が5〜95重量%であることが好ましく、フッ素処理無機粒子が10〜90重量%、その他の無機粒子が10〜90重量%であることがより好ましい。   Further, in the total 100% by weight of the inorganic particles, the fluorine-treated inorganic particles are preferably 5 to 95% by weight, and the other inorganic particles are preferably 5 to 95% by weight, and the fluorine-treated inorganic particles are 10 to 90% by weight, More preferably, the other inorganic particles are 10 to 90% by weight.

さらに好ましくは、無機粒子の合計100重量%において、フッ素処理シリカ粒子が15〜85重量%、金属酸化物粒子が15〜85重量%の態様である。また、フッ素処理シリカ粒子と金属酸化物粒子の割合としては、形成される低屈折率層と高屈折率層の膜厚の観点から、無機粒子の合計100重量%において、フッ素処理シリカ粒子が50〜85重量%、金属酸化物粒子が15〜50重量%の態様である。   More preferably, in a total of 100% by weight of the inorganic particles, the fluorine-treated silica particles are 15 to 85% by weight and the metal oxide particles are 15 to 85% by weight. In addition, the ratio of the fluorinated silica particles to the metal oxide particles is 50 fluorinated silica particles in a total of 100% by weight of the inorganic particles from the viewpoint of the film thickness of the low refractive index layer and the high refractive index layer to be formed. It is an aspect of -85 weight% and a metal oxide particle 15 to 50 weight%.

塗料組成物の全構成成分100重量%において、フッ素処理無機粒子を含む2種類以上の無機粒子の合計が0.2重量%未満であると、得られる反射防止層である低屈折率層、高屈折率層の厚み、屈折率が不十分となるため、良好な反射防止性能が得られないことがあり、また塗料組成物の全構成成分100重量%における、フッ素処理無機粒子を含む2種類以上の無機粒子の合計が40重量%を超えると、製膜性や高屈折率層との密着性が低下したり、高屈折率層と低屈折率層との区別可能な界面が失われるなどの不具合が生じることがある。   When the total of two or more kinds of inorganic particles including fluorine-treated inorganic particles is less than 0.2% by weight in 100% by weight of all the constituent components of the coating composition, a low refractive index layer, which is an antireflection layer, a high Since the thickness and refractive index of the refractive index layer are insufficient, good antireflection performance may not be obtained, and two or more kinds including fluorinated inorganic particles in 100% by weight of all components of the coating composition If the total of the inorganic particles exceeds 40% by weight, the film forming property and the adhesion with the high refractive index layer are lowered, or the distinguishable interface between the high refractive index layer and the low refractive index layer is lost. Problems may occur.

フッ素処理シリカ粒子は、前述のように中空シリカ粒子を用いることが、低屈折率層を好適に形成することとなるために好ましい。   As the fluorine-treated silica particles, it is preferable to use the hollow silica particles as described above because the low refractive index layer is suitably formed.

このようなフッ素処理シリカ粒子の数平均粒子径(処理前の数平均粒子径)は、前記のように、透明性、反射防止性の観点から、好ましくは1nmから200nm、より好ましくは5nmから180nm、更に好ましくは5nmから100nmである。   The number average particle diameter (number average particle diameter before treatment) of such fluorinated silica particles is preferably 1 nm to 200 nm, more preferably 5 nm to 180 nm, from the viewpoint of transparency and antireflection properties as described above. More preferably, it is 5 nm to 100 nm.

フッ素処理無機粒子は、好適に空気側(最表面層)へ移動して、好適に低屈折率層を形成することができるため、塗料組成物に用いられる2種類以上の無機粒子の少なくとも1種類の無機粒子(特にシリカ粒子)には、フッ素化合物による表面処理がされていることが重要である。なお、2種類以上の無機粒子の全ての無機粒子がフッ素化合物による表面処理を施された場合よりも、フッ素化合物による表面処理を施された無機粒子(特にシリカ粒子)と該表面処理をされていない無機粒子(特に金属酸化物)の両方を含む塗料組成物を用いる方が、屈折率差の大きい2層を得ることができるために反射防止性の点で好ましい。   Since the fluorinated inorganic particles can be preferably moved to the air side (outermost surface layer) to form a low refractive index layer, at least one of the two or more types of inorganic particles used in the coating composition. It is important that the inorganic particles (especially silica particles) are surface-treated with a fluorine compound. In addition, all the inorganic particles of the two or more types of inorganic particles are treated with inorganic particles (particularly silica particles) subjected to a surface treatment with a fluorine compound, compared to when the surface treatment with a fluorine compound is performed. It is preferable to use a coating composition containing both inorganic particles (particularly metal oxides) from the viewpoint of antireflection properties because two layers having a large refractive index difference can be obtained.

本発明における無機粒子のフッ素化合物による表面処理の好ましい形態は、シリカ粒子(特に中空シリカ粒子)を下記一般式(I)で示される化合物で処理し、更に下記一般式(II)で示される化合物で処理することである、これについては前述の通りである。
A−R−SiR (OR3−n 一般式(I)
B−R−Rf 一般式(II)
(上記一般式中のA、Bは反応性二重結合基を示し、R、Rは炭素数1から3のアルキレン基及びそれらから導出されるエステル構造を示し、R、Rは水素又は炭素数が1から4のアルキル基を示し、Rfはフルオロアルキル基を示し、nは0又は1又は2のいずれかを示し、それぞれ側鎖を構造中に持っても良い。)
一般式(I)の具体例としては前述の通り、アクリロキシエチルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン及びこれら化合物中のメトキシ基が他のアルコキシル基及び水酸基に置換された化合物を含むものなどが挙げられる。
In a preferred embodiment of the surface treatment of the inorganic particles with the fluorine compound in the present invention, silica particles (particularly hollow silica particles) are treated with a compound represented by the following general formula (I), and further a compound represented by the following general formula (II): This is processing as described above.
A-R 1 -SiR 2 n ( OR 3) 3-n Formula (I)
B—R 4 —Rf Formula (II)
(A and B in the above general formula represent a reactive double bond group, R 1 and R 4 represent an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms and an ester structure derived therefrom, and R 2 and R 3 represent Hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Rf represents a fluoroalkyl group, n represents 0, 1 or 2 and each may have a side chain in the structure.
Specific examples of the general formula (I) include, as described above, acryloxyethyltrimethoxysilane, acryloxypropyltrimethoxysilane, and compounds in which the methoxy group in these compounds is substituted with other alkoxyl groups and hydroxyl groups. Is mentioned.

一般式(II)の具体例としては前述の通り、前記のように2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフロオロプロピルアクリレート、などが挙げられる。   Specific examples of the general formula (II) include 2,2,2-trifluoroethyl acrylate and 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl acrylate as described above.

分子中にフッ素セグメントを有さない一般式(I)で示される化合物を用いることにより、簡便な反応条件でシリカ粒子表面を修飾することが可能となるばかりではなく、シリカ粒子表面に反応性を制御しやすい官能基を導入することが可能となり、その結果、反応性二重結合を有するフッ素セグメントをシリカ粒子表面で反応させることが可能になる。   By using the compound represented by the general formula (I) having no fluorine segment in the molecule, it becomes possible not only to modify the silica particle surface under simple reaction conditions, but also to make the silica particle surface reactive. It becomes possible to introduce a functional group that is easy to control, and as a result, a fluorine segment having a reactive double bond can be reacted on the surface of the silica particles.

続いて無機粒子の一つである金属酸化物は、前記のように酸化ジルコニウム(ZrO)、酸化チタン(TiO)、酸化アルミニウム(Al)、酸化インジウム(In)、などから選ばれる少なくとも一つの金属酸化物が好ましく、特に好ましくはSbやSnなどから導出されるインジウム含有酸化スズ(ITO)やアンチモン含有酸化スズ(ATO)である。 Subsequently, the metal oxide that is one of the inorganic particles is zirconium oxide (ZrO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), indium oxide (In 2 O 3 ), as described above. At least one metal oxide selected from the above is preferable, and indium-containing tin oxide (ITO) or antimony-containing tin oxide (ATO) derived from Sb, Sn, or the like is particularly preferable.

金属酸化物の数平均粒子径、特にフッ素化合物により表面処理されたシリカ粒子よりも屈折率が高い金属酸化物の平均粒子径は、前記のように、透明性、反射防止性能の観点から、好ましくは、1nmから150nm、より好ましくは5nmから100nmである。   The number average particle diameter of the metal oxide, particularly the average particle diameter of the metal oxide having a higher refractive index than the silica particles surface-treated with the fluorine compound, as described above, from the viewpoint of transparency and antireflection performance, It is 1 nm to 150 nm, more preferably 5 nm to 100 nm.

金属酸化物の屈折率、特にフッ素処理シリカ粒子よりも屈折率が高い金属酸化物の屈折率としては、前記のように反射防止性能の観点から、好ましくは1.60〜2.80、より好ましくは1.60〜2.50である。   The refractive index of the metal oxide, particularly the refractive index of the metal oxide having a higher refractive index than the fluorinated silica particles, is preferably 1.60 to 2.80, more preferably from the viewpoint of antireflection performance as described above. Is 1.60 to 2.50.

本発明の製法に用いられる塗料組成物において、フッ素処理無機粒子がフッ素処理シリカ粒子であり、他の無機粒子がシリカ粒子よりも屈折率が高い金属酸化物である場合、支持基材上に1液の塗料組成物を1回塗布乾燥硬化することで、フッ素処理シリカ粒子を含有した低屈折率層と、金属酸化物粒子を含有する高屈折率層を好適に形成できるため好ましい態様である。   In the coating composition used in the production method of the present invention, when the fluorinated inorganic particles are fluorinated silica particles and the other inorganic particles are metal oxides having a higher refractive index than the silica particles, 1 This is a preferred embodiment because a low refractive index layer containing fluorinated silica particles and a high refractive index layer containing metal oxide particles can be suitably formed by coating and drying the liquid coating composition once.

本発明の製造方法で用いるアルキルフェノン誘導体とは一般式(III)にて示される化合物及びこれから誘導される物質であり、反射防止フィルム中では高分子末端にラジカル発生剤として付加して存在していてもよい。
−C(O)−R 一般式(III)
(上記一般式中のRは4級炭素であり、環状でも良い)
これらのアルキルフェノン誘導体は、1種あるいは2種以上を同時に使用しても良い。塗料の安定性や良好な表面耐擦傷性を得るためには、上記一般式(III)においてR部位がアルキル化合物でありその末端に水酸基を有するヒドロキシアルキルフェノン誘導体を用いることが好ましい。ヒドロキシアルキルフェノン誘導体の具体例としては、1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニル−ケトンなどが挙げられる。
The alkylphenone derivative used in the production method of the present invention is a compound represented by the general formula (III) and a substance derived therefrom. In the antireflection film, it is added as a radical generator to the polymer terminal. May be.
C 6 H 5 -C (O) -R 5 Formula (III)
(R 5 in the above general formula is quaternary carbon and may be cyclic)
These alkylphenone derivatives may be used alone or in combination of two or more. In order to obtain the stability of the coating material and good surface scratch resistance, it is preferable to use a hydroxyalkylphenone derivative in which R 5 is an alkyl compound in the above general formula (III) and has a hydroxyl group at its terminal. Specific examples of the hydroxyalkylphenone derivative include 1-hydroxycyclohexyl-phenyl-ketone and the like.

本発明で用いる塗料組成物は、前述のようにバインダー成分、溶剤、開始剤、硬化剤、触媒、各種シランカップリング剤、界面活性剤、増粘剤、レベリング剤などの添加剤を必要に応じて適宜添加しても良い。なお塗料組成物中のバインダー樹脂成分としては、複数のバインダーを用いることも可能であるが、相溶性の観点から1種のバインダーのみを含有する塗料組成物がより好ましい。   As described above, the coating composition used in the present invention contains additives such as a binder component, a solvent, an initiator, a curing agent, a catalyst, various silane coupling agents, a surfactant, a thickener, and a leveling agent as necessary. May be added as appropriate. A plurality of binders can be used as the binder resin component in the coating composition, but a coating composition containing only one binder is more preferable from the viewpoint of compatibility.

次に、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。   Next, although this invention is demonstrated based on an Example, this invention is not necessarily limited to these.

[製造例]
[高屈折率成分(a)の調整]
高屈折率成分としてアンチモン含有酸化スズであるオプスターTU4005(JSR社製)を固形分濃度6%となるようにメチルエチルケトン:イソプロパノール混合液(混合比=1:1)にて希釈して用いた。
[Production example]
[Adjustment of high refractive index component (a)]
As a high refractive index component, antimony-containing tin oxide Opstar TU4005 (manufactured by JSR) was diluted with a methyl ethyl ketone: isopropanol mixed solution (mixing ratio = 1: 1) so as to have a solid content concentration of 6%.

[高屈折率成分(b)の調整]
高屈折率成分として酸化ジルコニウムであるTYZ67−H01(東洋インキ株式会社製)固形分濃度3.2重量%となるようにメチルイソブチルケトンを加え希釈した。
[Adjustment of high refractive index component (b)]
Methyl isobutyl ketone was diluted by adding TYZ67-H01 (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.), which is zirconium oxide as a high refractive index component, so that the solid content concentration was 3.2% by weight.

[低屈折率成分の調整]
[低屈折率成分(a)の調整]
中空シリカであるスルーリアTR−113(触媒化成工業株式会社製:固形分20重量%)20gにメタクリロキシプロピルトリメトキシシラン4.4gと5重量%蟻酸水溶液1.8gを混合し70℃にて1時間撹拌した。ついで、2−ペルフルオロオクチルエチルアクリレート4.6g及び2,2−アゾビスイソブチロニトリル0.2gを加えた後、30分間70℃にて加熱撹拌した。その後、イソプロピルアルコールを333g加え希釈し、固形分3.8重量%の低屈折率成分(a)とした。
[Adjustment of low refractive index component]
[Adjustment of low refractive index component (a)]
A hollow silica sulria TR-113 (manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd .: 20 wt% solid content) was mixed with 4.4 g of methacryloxypropyltrimethoxysilane and 1.8 g of 5 wt% aqueous formic acid solution at 70 ° C. Stir for hours. Next, after adding 4.6 g of 2-perfluorooctylethyl acrylate and 0.2 g of 2,2-azobisisobutyronitrile, the mixture was heated and stirred at 70 ° C. for 30 minutes. Thereafter, 333 g of isopropyl alcohol was added and diluted to obtain a low refractive index component (a) having a solid content of 3.8% by weight.

[低屈折率成分(b)の調整]
中空シリカであるスルーリアTR−113(触媒化成工業株式会社製:固形分20重量%)20gにメタクリロキシプロピルトリメトキシシラン4.4gと5重量%蟻酸水溶液1.8gを混合し70℃にて1時間撹拌した。その後、イソプロピルアルコールを221g加え希釈し、固形分3.6重量%の低屈折率成分(b)とした。
[Adjustment of low refractive index component (b)]
A hollow silica sulria TR-113 (manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd .: 20 wt% solid content) was mixed with 4.4 g of methacryloxypropyltrimethoxysilane and 1.8 g of 5 wt% aqueous formic acid solution at 70 ° C. Stir for hours. Thereafter, 221 g of isopropyl alcohol was added and diluted to obtain a low refractive index component (b) having a solid content of 3.6% by weight.

[低屈折率成分(c)の調整]
中空シリカであるスルーリアTR−113(触媒化成工業株式会社製:固形分20重量%)20gにイソプロピルアルコールを113g加え希釈し、固形分3.1重量%の低屈折率成分(c)とした。
〔低屈折率成分(d)の調整〕
中空シリカであるスルーリアTR−113(触媒化成工業株式会社製:固形分20重量%)20gにメタクリロキシプロピルトリメトキシシラン2.75gと10重量%蟻酸水溶液0.34gを混合し70℃にて1時間撹拌した。ついで、2−ペルフルオロ−7−メチルオクチルエチルアクリレート2.76g及び2,2−アゾビスイソブチロニトリル0.115gを加えた後、1時間90℃にて加熱撹拌した。得られた液を、イソプロピルアルコールで希釈し、固形分濃度3.6重量%の低屈折率成分(d)とした。
[Adjustment of low refractive index component (c)]
113 g of isopropyl alcohol was added to 20 g of through silica TR-113 (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: solid content 20 wt%), which was hollow silica, and diluted to obtain a low refractive index component (c) having a solid content of 3.1 wt%.
[Adjustment of low refractive index component (d)]
2.75 g of methacryloxypropyltrimethoxysilane and 0.34 g of 10 wt% formic acid aqueous solution were mixed with 20 g of through silica TR-113 (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: solid content 20 wt%), which is a hollow silica, at 70 ° C. Stir for hours. Then, 2.76 g of 2-perfluoro-7-methyloctylethyl acrylate and 0.115 g of 2,2-azobisisobutyronitrile were added, followed by heating and stirring at 90 ° C. for 1 hour. The obtained liquid was diluted with isopropyl alcohol to obtain a low refractive index component (d) having a solid concentration of 3.6% by weight.

〔低屈折率成分(e)の調整〕
中空シリカであるスルーリアTR−113(触媒化成工業株式会社製:固形分20重量%)20gにメタクリロキシプロピルトリメトキシシラン2.75gと10重量%蟻酸水溶液0.34gを混合し70℃にて1時間撹拌した。ついで、2−ペルフルオロヘキシルエチルアクリレート2.76g及び2,2−アゾビスイソブチロニトリル0.115gを加えた後、1時間90℃にて加熱撹拌した。得られた液を、イソプロピルアルコールで希釈し、固形分濃度3.6重量%の低屈折率成分(e)とした。
[Adjustment of low refractive index component (e)]
2.75 g of methacryloxypropyltrimethoxysilane and 0.34 g of 10 wt% formic acid aqueous solution were mixed with 20 g of through silica TR-113 (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: solid content 20 wt%), which is a hollow silica, at 70 ° C. Stir for hours. Then, 2.76 g of 2-perfluorohexylethyl acrylate and 0.115 g of 2,2-azobisisobutyronitrile were added, and the mixture was heated and stirred at 90 ° C. for 1 hour. The obtained liquid was diluted with isopropyl alcohol to obtain a low refractive index component (e) having a solid content concentration of 3.6% by weight.

[塗剤1]
低屈折率成分(a)と高屈折率成分(a)をそれぞれ重量比にて4:6となるように混合した溶液100重量部に、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オンを1重量部添加した。
[Coating 1]
2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane- was added to 100 parts by weight of a solution in which the low refractive index component (a) and the high refractive index component (a) were mixed at a weight ratio of 4: 6. 1 part by weight of 1-one was added.

[塗剤2]
低屈折率成分(a)と高屈折率成分(a)をそれぞれ重量比にて4:6となるように混合した溶液100重量部に、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オンを3重量部添加した。
[Coating agent 2]
2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane- was added to 100 parts by weight of a solution in which the low refractive index component (a) and the high refractive index component (a) were mixed at a weight ratio of 4: 6. 3 parts by weight of 1-one was added.

[塗剤3]
低屈折率成分(a)と高屈折率成分(a)をそれぞれ重量比にて4:6となるように混合した溶液100重量部に、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オンを5重量部添加した。
[Coating agent 3]
2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane- was added to 100 parts by weight of a solution in which the low refractive index component (a) and the high refractive index component (a) were mixed at a weight ratio of 4: 6. 5 parts by weight of 1-one was added.

[塗剤4]
低屈折率成分(a)と高屈折率成分(a)をそれぞれ重量比にて4:6となるように混合した溶液100重量部に、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オンを7重量部添加した。
[Coating 4]
2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane- was added to 100 parts by weight of a solution in which the low refractive index component (a) and the high refractive index component (a) were mixed at a weight ratio of 4: 6. 7 parts by weight of 1-one was added.

[塗剤5]
低屈折率成分(a)と高屈折率成分(a)をそれぞれ重量比にて4:6となるように混合した溶液100重量部に、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オンを10重量部添加した。
[Coating agent 5]
2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane- was added to 100 parts by weight of a solution in which the low refractive index component (a) and the high refractive index component (a) were mixed at a weight ratio of 4: 6. 10 parts by weight of 1-one was added.

[塗剤6]
低屈折率成分(a)と高屈折率成分(a)をそれぞれ重量比にて4:6となるように混合した。
[Coating agent 6]
The low refractive index component (a) and the high refractive index component (a) were mixed at a weight ratio of 4: 6.

[塗剤7]
低屈折率成分(a)と高屈折率成分(a)をそれぞれ重量比にて4:6となるように混合した溶液100重量部に、ビス(2.4.6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイドを1重量部添加した。
[塗剤8]
低屈折率成分(b)と高屈折率成分(a)をそれぞれ重量比にて4:6となるように混合した溶液100重量部に、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オンを1重量部添加した。
[Coating agent 7]
Bis (2.4.6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine was added to 100 parts by weight of a solution in which the low refractive index component (a) and the high refractive index component (a) were mixed at a weight ratio of 4: 6. 1 part by weight of fin oxide was added.
[Coating 8]
2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane- was added to 100 parts by weight of a solution in which the low refractive index component (b) and the high refractive index component (a) were mixed at a weight ratio of 4: 6. 1 part by weight of 1-one was added.

[塗剤9]
低屈折率成分(c)と高屈折率成分(a)をそれぞれ重量比にて4:6となるように混合した溶液100重量部に、メチルベンゾイルホルメイトを1重量部添加した。
[Coating agent 9]
1 part by weight of methylbenzoyl formate was added to 100 parts by weight of a solution in which the low refractive index component (c) and the high refractive index component (a) were mixed at a weight ratio of 4: 6.

[塗剤10]
低屈折率成分(a)のみ100重量部に、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オンを1重量部添加した。
[Coating agent 10]
1 part by weight of 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one was added to 100 parts by weight of only the low refractive index component (a).

〔塗剤11〕
低屈折率成分(a)と高屈折率成分(b)をそれぞれ重量比にて4:6となるように混合した溶液100重量部に、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オンを1重量部添加した。
[Coating agent 11]
2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane- was added to 100 parts by weight of a solution in which the low refractive index component (a) and the high refractive index component (b) were mixed at a weight ratio of 4: 6. 1 part by weight of 1-one was added.

〔塗剤12〕
低屈折率成分(d)と高屈折率成分(a)をそれぞれ重量比にて4:6となるように混合した溶液100重量部に、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オンを1重量部添加した。
[Coating agent 12]
2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane- was added to 100 parts by weight of a solution in which the low refractive index component (d) and the high refractive index component (a) were mixed at a weight ratio of 4: 6. 1 part by weight of 1-one was added.

〔塗剤13〕
低屈折率成分(e)と高屈折率成分(a)をそれぞれ重量比にて4:6となるように混合した溶液100重量部に、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オンを1重量部添加した。
[Coating agent 13]
2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane- was added to 100 parts by weight of a solution in which the low refractive index component (e) and the high refractive index component (a) were mixed at a weight ratio of 4: 6. 1 part by weight of 1-one was added.

[反射防止フィルムの作製]
支持基材としてPET樹脂フィルム上にハードコート塗料が塗布硬化されているルミクリアSR−HC(東レフィルム加工株式会社製)をもちいた。この支持基材のハードコート塗料が塗布硬化されている面上に、バーコーター(#10)を用いて実施例1から8及び比較例1から5までに記載した塗料を塗布後100℃にて1分間乾燥し、160W/cmの高圧水銀灯ランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度600W/cm、積算光量800mJ/cmの紫外線を、酸素濃度0.1%の下で照射し反射防止フィルムを作製した。
[Preparation of antireflection film]
As a support substrate, Lumiclear SR-HC (manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd.) in which a hard coat paint was applied and cured on a PET resin film was used. On the surface of the supporting substrate on which the hard coat paint is applied and cured, the paint described in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 5 is applied at 100 ° C. using a bar coater (# 10). Dry for 1 minute, and use a 160 W / cm high-pressure mercury lamp lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) to emit UV light with an illuminance of 600 W / cm 2 and an integrated light amount of 800 mJ / cm 2 under an oxygen concentration of 0.1%. Irradiated to produce an antireflection film.

[反射防止フィルムの評価]
作製した反射防止フィルムについて次に示す性能評価を実施し、得られた結果を表1に示した。特に断りのない場合を除き、測定は各実施例・比較例において、1つのサンプルについて場所を変えて3回測定を行い、その平均値を用いた。
[Evaluation of antireflection film]
The manufactured antireflection film was subjected to the following performance evaluation, and the obtained results are shown in Table 1. Unless otherwise specified, in each of the examples and comparative examples, the measurement was performed three times at different locations for one sample, and the average value was used.

[反射防止性能]
反射防止性能の評価は島津製作所製分光光度計UV−3100を用いて400nmから800nmの波長範囲にて行い、光線反射率の最小値(ボトム反射率)とデルタ反射率を測定した。
[Antireflection performance]
The antireflection performance was evaluated using a spectrophotometer UV-3100 manufactured by Shimadzu Corporation in the wavelength range of 400 nm to 800 nm, and the minimum value of light reflectance (bottom reflectance) and delta reflectance were measured.

[耐擦傷性]
反射防止フィルムに250g/cm荷重となるスチールウール(#0000)を垂直にあて、1cmの長さを10往復した際に目視される傷の概算本数を記載した。
[Abrasion resistance]
The steel wool (# 0000) with a load of 250 g / cm 2 was placed vertically on the antireflection film, and the approximate number of scratches observed when the length of 1 cm was reciprocated 10 times was described.

傷の本数 0本以上〜5本未満 ◎
5本以上〜15本未満 ○
15本以上 ×
傷の本数が15本未満を合格とした。
Number of scratches 0 or more and less than 5 ◎
5 or more and less than 15
15 or more ×
If the number of scratches was less than 15, the result was acceptable.

[透明性]
透明性はヘイズ値を測定することにより判定した。測定はJIS K 7136(2000)に基づき、日本電色工業(株)製 ヘイズメーターを用いて測定を行い、1.0%未満は評価○、1.0%以上を評価×とした。
[transparency]
Transparency was determined by measuring the haze value. The measurement was based on JIS K 7136 (2000) using a haze meter manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.

〔耐アルカリ性〕
1重量%のNaOH溶液を反射防止フィルムサンプルの支持基材と反対側の面(低屈折率層側)に滴下させ、15分経過後にガーゼを用いて拭取り作業を行った。拭取り後の表面状態を観察することにより、表面が侵されているかどうか目視で判定した。液滴の跡がなければ評価○、跡が確認できれば評価×とした。なお、一つのサンプルについて場所を変えた3ヶ所について評価したうち、最も多い評価結果を採用する。
[Alkali resistance]
A 1% by weight NaOH solution was dropped on the surface (low refractive index layer side) opposite to the support substrate of the antireflection film sample, and after 15 minutes, wiping was performed using gauze. By observing the surface state after wiping, it was visually determined whether or not the surface was damaged. If there was no trace of the droplet, the evaluation was ○, and if the trace was confirmed, the evaluation was ×. Of the three samples with different locations for one sample, the most evaluated result is adopted.

〔無機粒子の屈折率〕
無機粒子の分散液をエバポレーターに採り、分散媒を蒸発させる。これを120℃で乾燥し、粉末とする。屈折率が既知である標準屈折液を2,3滴ガラス板上に滴下し、これに上記粉末を混合する。上記の操作を種々の標準屈折液で行い、混合液(多くの場合はペースト状が透明になったとき)の標準屈折液を無機粒子の屈折率として測定した。
[2層の界面の有無]
透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて断面を観察することにより、2層の界面の有無を判断した。界面の有無の判断は以下の方法に従い判断した。TEMにより20万倍の倍率で撮影した画像を、スキャナーを用いてプレゼンテーションソフトウェア(Microsoft Power Point2003)に貼付した。次いで貼付した写真のイメージコントロール処理(コントラストを90%とする)を行い、コントラストを強調した。この際に、1つの層と他の層との界面に明確な境界を引くことができる場合を、明確な界面があるとみなした。
[2層個々の屈折率]
本発明における2層個々の屈折率は、反射分光膜厚計(大塚電子製、商品名[FE−3000])により、300〜800nmの範囲での反射率を測定し、該装置付属のソフトウェア[FE−Analysis]を用い、大塚電子株式会社製[膜厚測定装置 総合カタログP6(非線形最小二乗法)]に記載の方法に従い、550nmにおける屈折率を求めた。
[Refractive index of inorganic particles]
The dispersion liquid of inorganic particles is taken in an evaporator and the dispersion medium is evaporated. This is dried at 120 ° C. to obtain a powder. A standard refracting liquid having a known refractive index is dropped onto a glass drop of a few drops, and the above powder is mixed therewith. The above operation was carried out with various standard refractive liquids, and the standard refractive liquid of the mixed liquid (in many cases when the paste became transparent) was measured as the refractive index of the inorganic particles.
[Presence or absence of two-layer interface]
By observing the cross section using a transmission electron microscope (TEM), the presence or absence of the interface between the two layers was determined. The presence / absence of the interface was determined according to the following method. An image taken by a TEM at a magnification of 200,000 times was attached to presentation software (Microsoft Power Point 2003) using a scanner. Next, image control processing (contrast was set to 90%) of the attached photograph was performed to enhance the contrast. At this time, when a clear boundary could be drawn at the interface between one layer and the other layer, it was considered that there was a clear interface.
[Individual refractive index of two layers]
The refractive index of each of the two layers in the present invention is measured with a reflection spectral film thickness meter (trade name [FE-3000], manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.). Using FE-Analysis], the refractive index at 550 nm was determined according to the method described in [Film thickness measuring apparatus general catalog P6 (nonlinear least squares method)] manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.

屈折率の波長分散の近似式としてCauchyの分散式(式1)を用い最小二乗法(カーブフィッティング法)により、光学定数(C,C、C)を計算し、550nmにおける屈折率を測定した。
[粒子の数平均粒子径]
粒子の数平均粒子径は、透過型電子顕微鏡により求めた。倍率を50万倍とし、その画面内に存在する10個の粒子の外径を測定し、その平均値とした。画面内に10個の粒子が存在しない場合は、同じ条件で別の箇所を観察し、その画面内に存在する粒子の外径を測定して、合計で10個の粒子の外径を測定して平均値とした。
The optical constants (C 1 , C 2 , C 3 ) are calculated by the least square method (curve fitting method) using Cauchy's dispersion formula (Formula 1) as an approximate expression of the wavelength dispersion of the refractive index, and the refractive index at 550 nm is calculated. It was measured.
[Number average particle diameter of particles]
The number average particle diameter of the particles was determined with a transmission electron microscope. The magnification was set to 500,000, and the outer diameters of 10 particles existing in the screen were measured and taken as the average value. If there are no 10 particles in the screen, observe another spot under the same conditions, measure the outer diameter of the particles present in the screen, and measure the outer diameter of 10 particles in total. Averaged.

ここで外径とは、粒子の最大の径(つまり粒子の長径であり、粒子中の最も長い径を示す)を表し、内部に空洞を有する粒子の場合も同様に、粒子の最大の径を表す。   Here, the outer diameter means the maximum diameter of the particle (that is, the longest diameter of the particle and indicates the longest diameter in the particle). Similarly, in the case of a particle having a cavity inside, the maximum diameter of the particle is also defined. To express.

Figure 2009075576
Figure 2009075576

表1において、フッ素処理無機粒子の数平均粒子径は、フッ素処理前の無機粒子の数平均粒子径である。   In Table 1, the number average particle size of the fluorinated inorganic particles is the number average particle size of the inorganic particles before the fluorination treatment.

表1から明らかなように、アルキルフェノン誘導体を含む場合(実施例1〜8)では、反射防止性、耐擦傷性、耐アルカリ性、透明性に優れたバランスのよいフィルムであった。またアルキルフェノン誘導体を含まない場合(比較例1、2)では、反射防止性、透明性が良好なものの、耐擦傷性、耐アルカリ性に欠けるものであった。   As is apparent from Table 1, when the alkylphenone derivative was included (Examples 1 to 8), the film was a well-balanced film excellent in antireflection properties, scratch resistance, alkali resistance and transparency. In the case where the alkylphenone derivative was not included (Comparative Examples 1 and 2), the antireflection property and transparency were good, but the scratch resistance and alkali resistance were insufficient.

低屈折率成分において、フッ素化合物による表面処理がなされていない場合、(比較例3、4)では、透明性が良好なものの、耐擦傷性、反射防止性、耐アルカリ性に欠けるものであった。また、高屈折率成分を含まない場合(比較例5)でも、透明性が良好なものの、耐擦傷性、反射防止性、耐アルカリ性に欠けるものであった。   In the case where the surface treatment with a fluorine compound was not performed in the low refractive index component, in Comparative Examples 3 and 4, the transparency was good, but the scratch resistance, antireflection property, and alkali resistance were lacking. Even when the high refractive index component was not included (Comparative Example 5), although the transparency was good, the scratch resistance, antireflection property and alkali resistance were insufficient.

Claims (11)

支持基材の少なくとも片面に、屈折率の異なる2層を有する反射防止フィルムの製造方法であって、
塗料組成物を支持基材の少なくとも片面上に1回塗布乾燥硬化する工程を含み、
該塗料組成物が2種類以上の無機粒子を含み、
該2種類以上の無機粒子における少なくとも一種類の無機粒子が、フッ素化合物により表面処理された無機粒子であり、
さらにアルキルフェノン誘導体を含むことを特徴とする、反射防止フィルムの製造方法。
A method for producing an antireflection film having two layers having different refractive indexes on at least one surface of a supporting substrate,
A step of applying and drying and curing the coating composition once on at least one surface of the supporting substrate,
The coating composition contains two or more kinds of inorganic particles,
At least one kind of inorganic particles in the two or more kinds of inorganic particles are inorganic particles whose surface is treated with a fluorine compound,
Furthermore, the manufacturing method of the antireflection film characterized by including an alkylphenone derivative.
前記アルキルフェノン誘導体がヒドロキシアルキルフェノン誘導体であることを特徴とする、請求項1に記載の反射防止フィルムの製造方法。   The method for producing an antireflection film according to claim 1, wherein the alkylphenone derivative is a hydroxyalkylphenone derivative. 前記フッ素化合物により表面処理された無機粒子が、シリカ粒子をフッ素化合物により表面処理した粒子(以後、フッ素化合物により表面処理されたシリカ粒子を、フッ素処理シリカ粒子とよぶ)であり、
フッ素処理シリカ粒子を除いた他の無機粒子が、該シリカ粒子よりも屈折率が高い無機粒子であることを特徴とする請求項1または2に記載の反射防止フィルムの製造方法。
The inorganic particles surface-treated with the fluorine compound are particles obtained by surface-treating silica particles with a fluorine compound (hereinafter, silica particles surface-treated with a fluorine compound are referred to as fluorine-treated silica particles),
3. The method for producing an antireflection film according to claim 1, wherein the other inorganic particles excluding the fluorinated silica particles are inorganic particles having a higher refractive index than the silica particles.
前記フッ素処理シリカ粒子を得るための表面処理方法が、シリカ粒子を下記一般式(I)で示される化合物で処理し、更に一般式(II)で示される化合物で処理することを特徴とする、請求項3に記載の反射防止フィルムの製造方法。
A−R−SiR (OR3−n 一般式(I)
B−R−Rf 一般式(II)
(上記一般式中のA、Bは反応性二重結合基を示し、R、Rは炭素数1から3のアルキレン基及びそれらから導出されるエステル構造を示し、R、Rは水素又は炭素数が1から4のアルキル基を示し、Rfはフルオロアルキル基を示し、nは0又は1又は2のいずれかを示し、それぞれ側鎖を構造中に持っても良い。)
The surface treatment method for obtaining the fluorine-treated silica particles is characterized in that the silica particles are treated with a compound represented by the following general formula (I) and further treated with a compound represented by the general formula (II): The manufacturing method of the antireflection film of Claim 3.
A-R 1 -SiR 2 n ( OR 3) 3-n Formula (I)
B—R 4 —Rf Formula (II)
(A and B in the above general formula represent a reactive double bond group, R 1 and R 4 represent an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms and an ester structure derived therefrom, and R 2 and R 3 represent Hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Rf represents a fluoroalkyl group, n represents 0, 1 or 2 and each may have a side chain in the structure.
前記シリカ粒子が、内部に空洞を有するシリカ粒子、及び/または、細孔を有するシリカ粒子であって、
該シリカ粒子の数平均粒子径が1nmから200nmである、請求項3または4に記載の反射防止フィルムの製造方法。
The silica particles are silica particles having cavities therein and / or silica particles having pores,
The method for producing an antireflection film according to claim 3 or 4, wherein the number average particle diameter of the silica particles is from 1 nm to 200 nm.
前記シリカ粒子よりも、屈折率が高い無機粒子が、数平均粒子径が1nm〜150nm、屈折率が1.60から2.80である金属酸化物からなることを特徴とする、請求項3から5のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。   The inorganic particles having a higher refractive index than the silica particles are made of a metal oxide having a number average particle diameter of 1 nm to 150 nm and a refractive index of 1.60 to 2.80. 6. A method for producing an antireflection film according to any one of 5 above. 前記金属酸化物が、インジウム含有酸化スズ(ITO)及び/またはアンチモン含有酸化スズ(ATO)であることを特徴とする請求項6に記載の反射防止フィルムの製造方法。   The method for producing an antireflection film according to claim 6, wherein the metal oxide is indium-containing tin oxide (ITO) and / or antimony-containing tin oxide (ATO). 請求項1から7のいずれかに記載の製造方法にて得られうる反射防止フィルム。   The antireflection film which can be obtained with the manufacturing method in any one of Claim 1 to 7. 請求項8の反射防止フィルムを設けたことを特徴とする画像表示装置。   An image display device comprising the antireflection film according to claim 8. 2種類以上の無機粒子、及びアルキルフェノン誘導体を含む塗料組成物であって、
該2種類以上の無機粒子が、フッ素化合物により表面処理されたシリカ粒子(フッ素処理シリカ粒子)、及び金属酸化物を含むことを特徴とする、塗料組成物。
A coating composition comprising two or more kinds of inorganic particles and an alkylphenone derivative,
The coating composition, wherein the two or more kinds of inorganic particles include silica particles (fluorinated silica particles) surface-treated with a fluorine compound and a metal oxide.
前記フッ素処理シリカ粒子を得るための表面処理が、シリカ粒子を下記一般式(I)で示される化合物で処理し、更に一般式(II)で示される化合物で処理することを特徴とする、請求項10に記載の塗料組成物。
A−R−SiR (OR3−n 一般式(I)
B−R−Rf 一般式(II)
(上記一般式中のA、Bは反応性二重結合基を示し、R、Rは炭素数1から3のアルキレン基及びそれらから導出されるエステル構造を示し、R、Rは水素又は炭素数が1から4のアルキル基を示し、Rfはフルオロアルキル基を示し、nは0又は1又は2のいずれかを示し、それぞれ側鎖を構造中に持っても良い。)
The surface treatment for obtaining the fluorine-treated silica particles is characterized in that the silica particles are treated with a compound represented by the following general formula (I) and further treated with a compound represented by the general formula (II): Item 11. The coating composition according to Item 10.
A-R 1 -SiR 2 n ( OR 3) 3-n Formula (I)
B—R 4 —Rf Formula (II)
(A and B in the above general formula represent a reactive double bond group, R 1 and R 4 represent an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms and an ester structure derived therefrom, and R 2 and R 3 represent Hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Rf represents a fluoroalkyl group, n represents 0, 1 or 2 and each may have a side chain in the structure.
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