JP2008068278A - 光照射装置及び光照射方法 - Google Patents
光照射装置及び光照射方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008068278A JP2008068278A JP2006247652A JP2006247652A JP2008068278A JP 2008068278 A JP2008068278 A JP 2008068278A JP 2006247652 A JP2006247652 A JP 2006247652A JP 2006247652 A JP2006247652 A JP 2006247652A JP 2008068278 A JP2008068278 A JP 2008068278A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- irradiation
- emitting device
- workpiece
- light emitting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
【課題】照射量が測定可能で小型化が可能となる光照射装置及び光照射方法を提供する。
【解決手段】基板7〜10の表面に紫外線を照射する紫外線照射装置1に関する。紫外線照射装置1は、紫外線を発光する発光装置17と、発光装置17が発光する紫外線の光強度を制御するUV光源制御装置18と、基板7〜10を搭載するテーブル4と、紫外線の照射量を測定する照射測定装置19とを備えている。照射測定装置19は受光部11〜14を有し、受光部11〜14は、テーブル4において、紫外線が基板7〜10に遮光される場所に配置される。
【選択図】図1
【解決手段】基板7〜10の表面に紫外線を照射する紫外線照射装置1に関する。紫外線照射装置1は、紫外線を発光する発光装置17と、発光装置17が発光する紫外線の光強度を制御するUV光源制御装置18と、基板7〜10を搭載するテーブル4と、紫外線の照射量を測定する照射測定装置19とを備えている。照射測定装置19は受光部11〜14を有し、受光部11〜14は、テーブル4において、紫外線が基板7〜10に遮光される場所に配置される。
【選択図】図1
Description
本発明は、光照射装置及び光照射方法に関するものである。
被加工物の表面に光照射して、光化学反応を起こす技術は、様々な工業製品の製造工程において広く利用されている技術である。例えば、インクジェットヘッドのノズルプレートの様に、金属等からなる被加工物の表面に撥液性をもたせる為に、被加工物の表面に撥液性の膜を成膜する技術が広く活用されている。例えば、特許文献1に開示されている方法では、まず、被加工物の表面にシリコンを用いてプラズマ重合し、重合膜を成膜する。続いてアニール処理を行い、架橋反応を促進する。次に、紫外線(以下UV光(UltraViolet)とも称す)を照射し、重合膜の終端のメチル基を切断する。そして、酸化及び水素を含む気体に曝して、OH基(水酸基)を結合させる。続いて、被加工物を、長鎖RF基(パーフルオロアルキル基)を有するアルコキシシランを含む溶液に浸し、脱水縮合させて、被加工物の表面に長鎖RF基を有する分子膜を成膜する。以上の方法により撥液性の膜が形成される。
被加工物に紫外線を照射するとき、紫外線の照射する光線の光量を管理する必要がある。例えば、特許文献2に開示されている方法では、紫外線の照度を測定するセンサ部を、ステージに沿って移動するセンサユニットを配置する方法を採用している。つまり、センサユニットは、センサ部を移動して、センサ部を照射する紫外線の照射量を測定し、調整することにより、照射光量不足を防止していた。
紫外線の照射光量を測定するとき、センサ部を移動して、収納するセンサユニットを光照射装置に配置すると、光照射装置は、センサユニットの占める容積に相当する容積が必要となり、大きな装置になるという課題を有していた。
本発明は、このような従来の課題に着目してなされたもので、その目的は、照射量が測定可能で小型化が可能となる光照射装置及び光照射方法を提供することにある。
上記課題を解決するために、本発明の光照射装置は、被加工物の表面に光線を照射する光照射装置であって、光線を発光する発光装置と、発光装置が発光する光線の光強度を制御する光線制御装置と、被加工物を搭載する載置台と、光線の照射量を測定する照射測定装置とを有し、照射測定装置は受光部を有し、受光部は、載置台において、光線が被加工物に遮光される場所に配置されることを特徴とする。
この光照射装置によれば、発光装置が発光する光線を、受光部が受光する。受光部が受光する光線の照射量を、照射測定装置が測定する。光線制御装置は、照射量の測定値と設定値とを比較して、発光装置が発光する光線の光強度を制御する。光照射装置は被加工物を搭載する載置台を備え、受光部は、被加工物に遮光される場所に配置されている。
被加工物に光線を照射するとき、受光部は、被加工物に遮光される。一方、照射量を測定するとき、被加工物は搭載されない。よって、受光部は光線が照射され、照射量を測定することができる。載置台に被加工物を搭載する場所と、受光部を配置する場所とを別に配置するとき、載置台に必要な面積は、被加工物が占める面積と受光部が占める面積との和以上の面積が必要となる。一方、受光部が、被加工物に遮蔽される場所に配置されるとき、受光部と被加工物とは対向する場所に配置される。従って、載置台が必要とする面積は、被加工物が占める面積以上であれば良い。つまり、載置台に被加工物を搭載する場所と、受光部を配置する場所とを別に配置するときに比べて、受光部の占める面積に相当する面積を少なくすることができる。その結果、光照射装置を小型にすることができる。
本発明の光照射装置は、発光装置と、載置台とを相対移動して、被加工物に光線を照射することを特徴とする。
この光照射装置によれば、発光装置と被加工物とを相対移動して、光線を照射している。つまり、発光装置において発光部が円柱状のとき、発光部の長さと、発光部と被加工物とが相対移動する長さとの積に相当する面積に光線を照射することができる。従って、被加工物を覆う面積に相当する光線の発光装置は必要なく、少ない本数の発光部で、広い面積を照射することができる。つまり、少ない発光部で、広い被加工物を照射することができる為、発光部に供給する電力を少なくすることができる。その結果、省エネルギーな光照射装置とすることができる。
本発明の光照射装置は、照射測定装置が光線の照射量を測定するとき、光線を発光している発光装置と、受光部を備える載置台とを相対移動し、受光部は、光線が照射される領域を通過して、光線の積算照射量を測定することを特徴とする。
ここで、積算照射量とは、所定の時間内に照射される照射量を積分した量を示す。つまり、被加工物が照射装置に搭載されて、除材されるまでの間に照射される照射量の総量を示している。
この光照射装置によれば、光線の照射量を測定するとき、発光装置と、載置台とを相対移動して、受光部を照射する。これは、被加工物が光線を照射される条件と同じ条件で、受光部が照射されることとなる。従って、被加工物が照射される積算照射量と同じ積算照射量を測定することができる。その結果、精度良く積算照射量を測定することができる。
この光照射装置によれば、光線の照射量を測定するとき、発光装置と、載置台とを相対移動して、受光部を照射する。これは、被加工物が光線を照射される条件と同じ条件で、受光部が照射されることとなる。従って、被加工物が照射される積算照射量と同じ積算照射量を測定することができる。その結果、精度良く積算照射量を測定することができる。
本発明の光照射装置は、光線は、紫外線であることを特徴とする。
この光照射装置によれば、光線は紫外線であることから、被加工物の表面に照射して、被加工物の表面を活性化して光化学反応を起こすことができる。
本発明の光照射装置では、発光装置は、エキシマを形成するキセノン、もしくはキセノンを主成分とする放電用ガスを充した誘電体バリア放電エキシマランプを放電して、紫外線を発光することを特徴とする。
この光照射装置によれば、発光装置は、エキシマを形成するキセノン、もしくはキセノンを主成分とする放電用ガスを充した誘電体バリア放電エキシマランプを用いている。これにより、紫外線の波長が180nmより短い光を照射することができる。従って、紫外線は、光子のエネルギーが強く、被加工物の表面にある物質の分子結合を切断し、被加工物の表面を活性化することができる。
上記課題を解決するために、本発明の光照射方法は、被加工物の表面に光線を照射する光照射方法であって、発光装置が発光する光線を照射測定装置の受光部に照射して、光線の照射量を、測定する光線測定工程と、照射量の測定結果に基づき、発光装置が発光する光線の照射量を調整する調整工程と、発光装置が発光する光線を被加工物の表面に照射する照射工程とを有し、照射工程では、被加工物が受光部を遮蔽することを特徴とする。
この光照射方法によれば、光線測定工程において、発光装置に光線を発光させ、照射測定装置の受光部を照射する。照射測定装置は、受光部に照射される光線の照射量を測定する。調整工程では、照射量の測定結果に基づき、発光装置が発光する光線の照射量を調整する。照射工程では、受光部を遮蔽する場所に被加工物を配置する。続いて、発光装置が発光する光線を被加工物の表面に照射する。
受光部は、照射される光線の照射量に応じた電気信号を出力するものであり、光線の照射を受けて、除々に劣化する。照射工程では、受光部を遮蔽する場所に被加工物を配置することから、受光部は遮光される。従って、被加工物を配置することで、受光部が遮光されることから、受光部を遮光する工程を別途必要しない為、受光部の劣化防止が生産性良く行われる方法とすることができる。
本発明の光照射方法は、発光装置と、被加工物とを相対移動して、被加工物に光線を照射することを特徴とする。
この光照射方法によれば、発光装置と被加工物とを相対移動して、光線を照射している。つまり、発光装置において発光部が円柱状のとき、発光部の長さと、発光部と被加工物とが相対移動する長さとの積に相当する面積に光線を照射することができる。従って、被加工物を覆う面積に相当する光線の発光装置は必要なく、少ない本数の発光部で、広い面積を照射することができる。つまり、少ない発光部で、広い被加工物を照射することができる為、発光部に供給する電力を少なくすることができる。その結果、消費エネルギーの少ない光照射方法とすることができる。
本発明の光照射方法は、光線測定工程において、発光装置と、受光部を備える載置台とを相対移動し、受光部は、光線が照射される領域を通過して、光線の積算照射量を測定することを特徴とする。
この光照射方法によれば、光線の照射量を測定するとき、発光装置と、載置台とを相対移動して、受光部を照射する。これは、被加工物が光線を照射される条件と同じ条件で、受光部が照射されることとなる。従って、被加工物が照射される積算照射量と同じ積算照射量を測定することができる。その結果、精度良く積算照射量を測定することができる。
本発明の光照射方法では、光線は、紫外線であることを特徴とする。
この光照射方法によれば、光線は紫外線であることから、被加工物の表面を活性化して光化学反応を起こすことができる。
本発明の光照射方法では、発光装置は、エキシマを形成するキセノン、もしくはキセノンを主成分とする放電用ガスを充した誘電体バリア放電エキシマランプを放電して、紫外線を発光することを特徴とする。
この光照射方法によれば、発光装置は、エキシマを形成するキセノン、もしくはキセノンを主成分とする放電用ガスを充した誘電体バリア放電エキシマランプを用いている。これにより、紫外線の波長が180nmより短い光を照射することができる。従って、紫外線は、光子のエネルギーが強く、被加工物の表面にある物質の分子結合を切断し、被加工物の表面を活性化することができる。
以下、本発明を具体化した実施例について図面に従って説明する。
尚、各図面における各部材は、各図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材毎に縮尺を異ならせて図示している。
尚、各図面における各部材は、各図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材毎に縮尺を異ならせて図示している。
(第1の実施形態)
本実施形態では、本発明の特徴的な紫外線照射装置と、この紫外線照射装置を用いて表面改質する場合の例について図1〜図5に従って説明する。
本実施形態では、本発明の特徴的な紫外線照射装置と、この紫外線照射装置を用いて表面改質する場合の例について図1〜図5に従って説明する。
(紫外線照射装置)
最初に、紫外線照射装置について説明する。図1は、紫外線照射装置の構成を示す模式斜視図である。光照射装置としての紫外線照射装置1により、紫外線が照射され、ワークの表面が改質される。
図1に示すように、紫外線照射装置1には、直方体形状に形成される基台2が備えられている。本実施形態では、この基台2の長手方向をY方向とし、同Y方向と直交する方向をX方向とする。
最初に、紫外線照射装置について説明する。図1は、紫外線照射装置の構成を示す模式斜視図である。光照射装置としての紫外線照射装置1により、紫外線が照射され、ワークの表面が改質される。
図1に示すように、紫外線照射装置1には、直方体形状に形成される基台2が備えられている。本実施形態では、この基台2の長手方向をY方向とし、同Y方向と直交する方向をX方向とする。
基台2の上面2aには、Y方向に延びる一対の案内レール3a,3bが同Y方向全幅にわたり凸設されている。その基台2の上側には、一対の案内レール3a,3bに対応する直動機構を備えた載置台としてのテーブル4が取付けられている。そのテーブル4の直動機構は、例えば案内レール3a,3bに沿ってY方向に延びるネジ軸(駆動軸)と、同ネジ軸と螺合するボールナットを備えたネジ式直動機構であって、その駆動軸が、所定のパルス信号を受けてステップ単位で正逆転するY軸モータ(図示しない)に連結されている。そして、所定のステップ数に相対する駆動信号がY軸モータに入力されると、Y軸モータが正転又は逆転して、テーブル4が同ステップ数に相当する分だけ、Y軸方向に沿って所定の速度で往動又は、復動するようになっている。
さらに、基台2の上面2aには、案内レール3a,3bと平行にテーブル位置検出器5が配置され、テーブル4の位置が計測できるようになっている。
そのテーブル4の上面には、載置面6が形成され、その載置面6には、図示しない吸引式の基板チャック機構が設けられている。そして、載置面6に被加工物としての基板7〜10を載置すると、基板チャック機構によって、その基板7〜10が載置面6の所定位置に位置決め固定されるようになっている。さらに、載置面6において、基板7〜10と対応する各場所には、受光部11〜14が配置されている。
基台2のX方向両側には、一対の支持台15a,15bが立設され、その一対の支持台15a,15bには、X方向に延びる支持部材16が架設されている。支持部材16のテーブル4側には、発光装置17が配置されている。
発光装置17は、図4(a)に示すように密閉された矩形のランプハウス17hが形成され、そのランプハウスの内部にキセノンガスを封入した誘電体バリアランプ17a、図示しない冷却装置及び反射板17bを備えている。誘導体バリアランプ17aは、波長172nmの紫外線を、テーブル4に向けて照射可能となっている。発光装置17は、ランプハウスの内部に、不活性ガス17cが充填され、紫外線が不活性ガス17cに吸収されにくくなっている。又、冷却装置は、冷却液が流動する配管が誘電体バリアランプ17a及び反射板17bに配置された構成となっている。冷却装置は、誘導体バリアランプ17aの温度が上昇し過ぎて、寿命が短くなることを防止している。さらに、冷却装置は、反射板17bを冷却し、発光装置17全体の温度上昇を抑えて、操作者が火傷しないようになっている。
図1に戻って、紫外線照射装置1は、基台2のX方向と反対方向の側に光線制御装置としてのUV光源制御装置18、照射測定装置19を備え、基台2のX方向の側に、紫外線照射装置1を制御する制御装置20を備えている。
UV光源制御装置18は、発光装置17に電力を供給すると共に、誘導体バリアランプ17aを冷却して、温度管理を行う装置である。又、照射測定装置19は、受光部11〜14に照射される紫外線の照射量を測定する装置である。
UV光源制御装置18は、発光装置17に電力を供給すると共に、誘導体バリアランプ17aを冷却して、温度管理を行う装置である。又、照射測定装置19は、受光部11〜14に照射される紫外線の照射量を測定する装置である。
制御装置20は、紫外線照射装置1を制御する装置であり、装置の状況を表示するモニタ21や、制御装置20に加工条件や、動作の開始や停止を指示する入力装置22を備えている。
紫外線照射装置1は、全体がカバー23に囲われており、カバー23内の気体は図示しない排気ダクトを通じて排気される。カバー23の図中Y方向の反対方向には、開閉カバー24が配置されている。開閉カバー24は、図示しない蝶番を備え、開閉可能となっている。そして、紫外線照射装置1から基板7〜10を取り出すときと、紫外線照射装置1へ基板7〜10を設置するときには、開閉カバー24を開き、基板7〜10の取り出し、及び設置を行う。その後、開閉カバー24を閉じることにより、カバー23内は、密閉可能となる。
図2は、紫外線照射装置の電気制御ブロック図である。図2において、紫外線照射装置1はプロセッサとして各種の演算処理を行うCPU(演算処理装置)25と、各種情報を記憶するメモリ26とを有する。
モニタ21、入力装置22、テーブル制御装置27、チャック制御装置28、照射測定装置19、UV光源制御装置18は、入出力インターフェース30およびバス31を介してCPU25に接続されている。
メモリ26は、RAM、ROM等といった半導体メモリや、ハードディスク、CD−ROMといった外部記憶装置を含む概念である。機能的には、紫外線照射装置1の動作の制御手順が記述されたプログラム32を記憶する記憶領域や、紫外線を発光するときの電力の供給する条件などのデータ33を記憶するための記憶領域が設定される。さらに、テーブル4の移動量を記憶するための記憶領域や、CPU25のためのワークエリアやテンポラリファイル等として機能する記憶領域やその他各種の記憶領域が設定される。
CPU25は、メモリ26内に記憶されたプログラム32に従って、基板7〜10の表面に紫外線を照射するための制御を行うものである。プログラム32を詳しく分割すれば、テーブル4を初期位置に移動して、紫外線を照射するときにテーブル4を走査するためのテーブル演算部を有する。さらに、紫外線を照射するタイミングを制御するUV照射手順プログラム34と、紫外線が照射される量を積算する演算を行うUV積算照射量演算プログラム35、等といった各種の機能演算プログラムを有する。
入力装置22は、紫外線照射の際に用いられる紫外線照射条件のデータを入力する装置であり、モニタ21は測定時の各種情報を表示する装置である。CPU25は、入力されるUV照射条件とプログラム32とに従って、紫外線照射を行い、紫外線照射状況をモニタ21に表示する。操作者がモニタ21に表示される各種情報を見て、紫外線照射状況を確認して操作するようになっている。
テーブル制御装置27は、テーブル4の位置情報の取得と、移動及び停止を制御する装置である。テーブル4には、移動距離を検出可能なテーブル位置検出器5が内蔵されており、テーブル制御装置27は、図1に示すテーブル位置検出器5の出力により、テーブル4の位置を認識する。テーブル制御装置27は、テーブル4にパルス信号を送信し、テーブル4を所望の位置に移動することができるようになっている。
基板チャック36は、電気信号を受けて基板7〜10を吸引して固定するチャックであり、チャック制御装置28と接続され、チャック制御装置28に制御される。チャック制御装置28は、入出力インターフェース30およびデータバス31を介してCPU25と接続されている。
受光部11〜14は、紫外線の照射量を測定する為に紫外線を受光するセンサであり、照射測定装置19と接続され、照射測定装置19に制御される。照射測定装置19は、入出力インターフェース30およびデータバス31を介してCPU25と接続されている。受光部11〜14が、受光する紫外線の量に相当する電気信号を、照射測定装置19に送信する。照射測定装置19は電気信号を受けて、紫外線を受光した光照射量に換算して、CPU25に送信する。CPU25は、UV積算照射量演算プログラム35に基づき、紫外線の積算照射量を演算する。
発光装置17は、図1に示す基板7〜10に紫外線を照射する装置であり、UV光源制御装置18と接続される。UV光源制御装置18は、発光装置17が照射する紫外線の開始と停止、紫外線の光強度等を制御する。UV光源制御装置18は、入出力インターフェース30およびデータバス31を介してCPU25と接続されている。
CPU25が、UV光源制御装置18に指示信号を出して、発光装置17から紫外線を照射する。さらに、CPU25がテーブル制御装置27に指示信号を出して、テーブル4を駆動する。受光部11〜14はテーブル4に配置されていることから、受光部11〜14は、発光装置17が紫外線を照射する場所を移動する。発光装置17が照射する紫外線を、受光部11〜14が受光し、照射測定装置19が光照射量に換算する。CPU25は、受光部11〜14が受光する紫外線の積算照射量を演算する。CPU25は予め設定されている基準値と比較し、紫外線の積算照射量が適正値となるように、UV光源制御装置18に指示信号を出力するようになっている。
(紫外線照射方法)
次に本発明の紫外線照射方法について図3〜図6にて説明する。図3は、紫外線照射方法のフローチャートであり、図4〜図6は紫外線照射方法を説明する図である。
次に本発明の紫外線照射方法について図3〜図6にて説明する。図3は、紫外線照射方法のフローチャートであり、図4〜図6は紫外線照射方法を説明する図である。
図3のフローチャートにおいて、ステップS1は光線測定工程に相当し、発光装置17が照射する紫外線の照射量を測定する工程である。次にステップS2に移行する。ステップS2は紫外線の積算照射量が適正かを判断する工程に相当し、ステップS1にて測定する紫外線の照射量を基に積算照射量を演算し、目標値と比較する工程である。目標値と比較した結果、積算照射量が所定の範囲内にあるときは(YESのとき)、ステップS4に移行する。目標値と比較した結果、積算照射量が所定の範囲内にないときは(NOのとき)、ステップS3に移行する。ステップS3は調整工程に相当し、発光装置17が照射する紫外線の照射量を調整する工程である。ステップS4は照射工程に相当し、発光装置17が基板7〜10に紫外線を照射する工程である。以上の工程で基板7〜10へ紫外線照射する工程を終了する。
次に、図4〜図6を用いて、図3に示したステップと対応させて、表面改質方法を詳細に説明する。
図4(a)〜図4(d)は、ステップS1に対応する図である。図4(a)に示すように、テーブル4には、受光部11〜14が配置されている。まず、テーブル4を発光装置17の方向(図中A方向)に移動を開始する。
図4(b)に示すように、発光装置17の誘導体バリアランプ17aから光線としての紫外線37を照射する。紫外線37は、反射板17bに反射してテーブル4を照射する。そして、発光装置17の直下に入り込むようにテーブル4が移動し、テーブル4上に配置される受光部11〜14は、発光装置17に紫外線37を照射される。
図2に示すように、受光部11〜14は、照射される紫外線37の光照射量に応じた、電気信号を照射測定装置19に出力する。照射測定装置19は、電気信号を入力して照射光量に変換したデータを出力する。CPU25は、照射光量のデータを、メモリ26内にデータ33として記憶する。これと並行して、テーブル制御装置27が出力するテーブル位置データを、CPU25は、メモリ26内にデータ33として記憶する。
図4(c)に示すように、続いて、テーブル4が、発光装置17の直下から抜け出るようにテーブル4が移動する。つまり、テーブル4は、発光装置17の一方から発光装置17の直下に入り、他方からでるようにA方向へ移動する。この間に、受光部11〜14は、紫外線37を照射される。
図4(d)に示すように、テーブル4が発光装置17の直下から移動して、発光装置17が紫外線37をテーブル4に照射できなくなるとき、発光装置17は、紫外線37の照射を停止する。
図5は、ステップS2に対応する図である。図5において、横軸38aは、テーブルの移動量38を示し、図中右側が図4におけるA方向となっている。縦軸39aは、受光部11に照射される紫外線の照射量39を示している。グラフ内のデータ線40は、受光部11に照射された、紫外線の照射量を示している。データ線40は、ステップS1において、データ33(図2参照)に蓄積された照射光量のデータ及び、テーブル位置データからプロットすることができる。
図2に示すCPU25は、UV積算照射量演算プログラム35を用いて紫外線の積算照射量41を演算する。紫外線の積算照射量41は、データ線40と横軸38aとに囲まれた面積に相当し、紫外線の照射量を積分することで算出することができる。
CPU25は、算出する紫外線の積算照射量41と目標値とを比較して、その差が所定の範囲にあるかを判断する。所定の範囲内にあるときは、ステップS4に進む。所定の範囲内にないときは、ステップS3において、図2に示す、UV光源制御装置18を調整して、発光装置17が照射する紫外線37の照射量を変更する。続いて、ステップS1〜ステップS3を繰り返して、紫外線の積算照射量41が所定の範囲内に入るように調整する。
図5は、受光部11における紫外線の積算照射量41を示したが、受光部12〜14についても同様の処理を行い、UV光源制御装置18を調整する。
図6(a)〜図6(d)は、ステップS4に対応する図である。図6(a)に示すように、テーブル4に基板7〜10を配置し、図2に示す基板チャック36により固定する。基板7〜10は、受光部11〜14を覆うように配置して、受光部11〜14に紫外線37が照射されないようにする。基板7〜10には、紫外線を照射することにより光化学反応が生じる膜が形成されている。続いて、テーブル4を発光装置17の方向(図中A方向)に移動を開始する。
図6(b)に示すように、発光装置17から紫外線37を照射する。そして、発光装置17の直下に入り込むようにテーブル4が移動し、テーブル4上に配置される基板7〜10は、発光装置17に紫外線37を照射される。
図6(c)に示すように、続いて、テーブル4が、発光装置17の直下から抜け出るようにテーブル4が移動する。つまり、テーブル4は、発光装置17の一方から発光装置17の直下に入り、他方からでるように、A方向へ移動する。
図6(d)に示すように、テーブル4が発光装置17の直下から移動して、発光装置17が紫外線37をテーブル4に照射できなくなるとき、発光装置17は、紫外線37の照射を停止する。基板7〜10には、適正量な紫外線の積算照射量が照射され、光化学反応を起こし、紫外線照射を終了する。
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
(1)本実施形態によれば、発光装置17が発光する紫外線37を、受光部11〜14が受光する。受光部11〜14が受光する紫外線37の照射量を、照射測定装置19が測定する。CPU25は、積算照射量の測定値と目標値とを比較して、発光装置17が発光する紫外線37の光強度を制御する。紫外線照射装置1は基板7〜10を搭載する載置面6を備え、受光部11〜14は、基板7〜10に遮光される場所に配置されている。
(1)本実施形態によれば、発光装置17が発光する紫外線37を、受光部11〜14が受光する。受光部11〜14が受光する紫外線37の照射量を、照射測定装置19が測定する。CPU25は、積算照射量の測定値と目標値とを比較して、発光装置17が発光する紫外線37の光強度を制御する。紫外線照射装置1は基板7〜10を搭載する載置面6を備え、受光部11〜14は、基板7〜10に遮光される場所に配置されている。
基板7〜10に紫外線37を照射するとき、受光部11〜14は、基板7〜10に遮光されるが、照射量を測定するときは、基板7〜10を搭載しない。よって、受光部11〜14は紫外線37が照射され、照射量を測定することができる。載置面6に基板7〜10を搭載する場所と、受光部11〜14を配置する場所とを別に配置するとき、載置面6に必要な面積は、基板7〜10が占める面積と受光部11〜14が占める面積の和以上の面積が必要となる。一方、受光部11〜14が、基板7〜10に遮蔽される場所に配置されるとき、受光部11〜14と基板7〜10とは対向する場所に配置される。従って、載置面6が必要となる面積は、基板7〜10が占める面積以上であれば良い。つまり、載置面6に基板7〜10を搭載する場所と、受光部11〜14を配置する場所とを別に配置するときに比べて、受光部11〜14の占める面積に相当する面積を少なくすることができる。その結果、紫外線照射装置1を小型にすることができる。
(2)本実施形態によれば、発光装置17と基板7〜10とを相対移動して、紫外線37を照射している。つまり、発光装置17における誘導体バリアランプ17aが円柱状のとき、誘導体バリアランプ17aの長さと、誘導体バリアランプ17aと基板7〜10とが相対移動する長さとの積に相当する面積に紫外線37を照射することができる。従って、基板7〜10を覆う面積に相当する紫外線37の発光装置17は必要なく、少ない本数の誘導体バリアランプ17aで、広い面積を照射することができる。つまり、少ない誘導体バリアランプ17aで、広い基板7〜10を照射することができる為、誘導体バリアランプ17aに供給する電力を少なくすることができる。その結果、消費エネルギーの少ない紫外線照射装置1とすることができる。
(3)本実施形態によれば、紫外線37の照射量を測定するとき、発光装置17と、テーブル4とを相対移動して、受光部11〜14を照射する。これは、基板7〜10が紫外線37を照射される条件と同じ条件で、受光部11〜14が照射されることとなる。従って、基板7〜10が照射される積算照射量と同じ積算照射量を測定することができる。その結果、精度良く積算照射量を測定することができる。
(4)本実施形態によれば、紫外線照射装置1は紫外線37を照射することから、基板7〜10の表面を活性化して光化学反応を起こすことができる。
(5)本実施形態によれば、発光装置17は、エキシマを形成するキセノン、もしくはキセノンを主成分とする放電用ガスを充した誘導体バリアランプ17aを用いている。これにより、紫外線37の波長が180nmより短い光を照射することができる。従って、紫外線37は、光子のエネルギーが強く、基板7〜10の表面にある物質の分子結合を切断し、基板7〜10の表面を活性化することができる。
(6)本実施形態によれば、ステップS1において、発光装置17に紫外線37を発光させ、受光部11〜14を照射する。照射測定装置19は、受光部11〜14に照射される紫外線37の照射量を測定する。ステップS4では、受光部11〜14を遮蔽する場所に基板7〜10を配置する。続いて、発光装置17が発光する紫外線37を基板7〜10の表面に照射する。
受光部11〜14は、照射される紫外線37の照射量に応じた電気信号を出力するものであり、紫外線37の照射を受けて、除々に劣化する。ステップS4では、受光部11〜14を遮蔽する場所に基板7〜10を配置することから、受光部11〜14は遮光される。従って、基板7〜10を配置することで、受光部11〜14が遮光されることから、受光部11〜14の劣化防止が生産性良く行われる。
(第2の実施形態)
次に、本発明を具体化した紫外線照射装置の一実施形態について図7の紫外線照射装置の模式斜視図を用いて説明する。
この実施形態が第1の実施形態と異なるところは、図1に示したテーブル4が固定され、発光装置17が移動可能となっている点にある。
次に、本発明を具体化した紫外線照射装置の一実施形態について図7の紫外線照射装置の模式斜視図を用いて説明する。
この実施形態が第1の実施形態と異なるところは、図1に示したテーブル4が固定され、発光装置17が移動可能となっている点にある。
すなわち、本実施形態では、図7に示したように、光照射装置としての紫外線照射装置45は、基台2を備え、基台2の上面2aには、テーブル46が固定されて、配置されている。テーブル46の上面46aには、基板7〜10が配置される。また、テーブル46の上面46aにおいて、基板7〜10と対向する場所には、受光部11〜14が配置されている。
基台2の上面2aには、X方向両側の端において、Y方向全幅に延在する案内レール3a,3bが形成されている。案内レール3a,3bの上には、移動テーブル47a,47bが配置され、移動テーブル47a,47bは、案内レール3a,3bに沿って移動可能となっている。また、移動テーブル47a,47bは、図示しない直動機構をそなえ、Y軸方向に沿って所定の速度で往動又は、復動するようになっている。
案内レール3aと並行して、位置検出器5が形成され、移動テーブル47aの位置が検出可能となっている。
移動テーブル47a,47bの上には、一対の支持台15a,15bが立設され、その一対の支持台15a,15bには、X方向に延びる支持部材16が架設されている。支持部材16の基台2側には、発光装置17が配置されている。
ステップS1においては、基板7〜10が配置されていない状態で、受光部11〜14に紫外線を照射して、紫外線の照射量を測定する。ステップS3においては、受光部11〜14を覆うように、基板7〜10を配置して、基板7〜10に紫外線を照射する。
上述したように、本実施形態によれば、第1の実施形態の効果(1)〜(6)に加えて、以下の効果を有する。
(1)本実施形態によれば、基板7〜10を載置するテーブル46を固定し、発光装置17を移動している。基板7〜10の重量が大きいとき、テーブル46を移動するためには、大きなエネルギーを必要とするが、本実施形態では、発光装置17を移動していることから、基板7〜10の重量が大きいときには、テーブル46を移動する方法に比べて、少ないエネルギーで、表面改質を行うことができる。従って、消費エネルギーの少ない紫外線照射装置45とすることができる。
(1)本実施形態によれば、基板7〜10を載置するテーブル46を固定し、発光装置17を移動している。基板7〜10の重量が大きいとき、テーブル46を移動するためには、大きなエネルギーを必要とするが、本実施形態では、発光装置17を移動していることから、基板7〜10の重量が大きいときには、テーブル46を移動する方法に比べて、少ないエネルギーで、表面改質を行うことができる。従って、消費エネルギーの少ない紫外線照射装置45とすることができる。
(第3の実施形態)
次に、本発明を具体化した紫外線照射装置の一実施形態について図3及び図8の紫外線照射装置の模式斜視図を用いて説明する。
この実施形態が第1の実施形態と異なるところは、図1に示したテーブル4がベルトコンベア上に配置されている点にある。
次に、本発明を具体化した紫外線照射装置の一実施形態について図3及び図8の紫外線照射装置の模式斜視図を用いて説明する。
この実施形態が第1の実施形態と異なるところは、図1に示したテーブル4がベルトコンベア上に配置されている点にある。
すなわち、本実施形態では、図8に示したように、光照射装置としての紫外線照射装置50は、基台51を備え、基台51の内部には、ベルトコンベア52が配置され、ベルトコンベア52はY方向に移動可能となっている。ベルトコンベア52上には載置台53〜59が配置され、載置台54〜58の上面54a〜58aには、基板60が配置される。また、載置台54の上面54aにおいて、基板60と対向する場所には、受光部61,62が配置されている。
基板60は、載置台54の位置において、配置され、ベルトコンベア52の移動と共に、Y方向に移動し、載置台58の場所において、除材されるようになっている。載置台54に配置されている受光部61,62も、ベルトコンベア52の移動と共に、Y方向へ移動するようになっている。
基台51の側面には、X方向両側の端において、一対の支持台15a,15bが立設され、その一対の支持台15a,15bには、X方向に延びる支持部材16が架設されている。支持部材16の基台51側には、発光装置17が配置されている。
図3に示すステップS1においては、基板60が配置されていない状態で、受光部61,62に紫外線を照射して、紫外線の照射量を測定する。ステップS4においては、受光部61,62を覆うように、基板60を配置して、基板60に紫外線を照射する。両方のステップにおいて、ベルトコンベア52を移動して、基板60又は受光部61,62を移動し、発光装置17から紫外線を基板60又は受光部61,62に照射する。
上述したように、本実施形態によれば、第1の実施形態の効果(1)〜(6)に加えて、以下の効果を有する。
(1)本実施形態によれば、紫外線照射装置50は、載置台54の場所で給材し、載置台58の場所で除材している。つまり、基板60を給材する場所と除材する場所とが異なる場所に配置されている。従って、給材と紫外線照射と除材とが連続して行うことができる為、生産性良く紫外線を基板60に照射することができる。
(1)本実施形態によれば、紫外線照射装置50は、載置台54の場所で給材し、載置台58の場所で除材している。つまり、基板60を給材する場所と除材する場所とが異なる場所に配置されている。従って、給材と紫外線照射と除材とが連続して行うことができる為、生産性良く紫外線を基板60に照射することができる。
尚、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、種々の変更や改良を加えることも可能である。変形例を以下に述べる。
(変形例1)
前記第1の実施形態では、紫外線を照射したが、紫外線以外の光線を照射しても良い。例えば露光装置のように、可視光に反応する光化学反応に応用しても良い。
前記第1の実施形態では、紫外線を照射したが、紫外線以外の光線を照射しても良い。例えば露光装置のように、可視光に反応する光化学反応に応用しても良い。
(変形例2)
前記第1の実施形態では、1回の紫外線照射で終了としているが、複数回、紫外線を照射しても良い。また、往復で照射しても良い。発光装置17が照射する紫外線の強度を調整することで、照射回数を調整しても良い。
前記第1の実施形態では、1回の紫外線照射で終了としているが、複数回、紫外線を照射しても良い。また、往復で照射しても良い。発光装置17が照射する紫外線の強度を調整することで、照射回数を調整しても良い。
1,45,50…光照射装置としての紫外線照射装置、4…載置台としてのテーブル、7,8,9,10…被加工物としての基板、11,12,13,14…受光部、17a…誘導体バリアランプ、18…光線制御装置としてのUV光源制御装置、19…照射測定装置、37…光線としての紫外線。
Claims (10)
- 被加工物の表面に光線を照射する光照射装置であって、
前記光線を発光する発光装置と、
前記発光装置が発光する前記光線の光強度を制御する光線制御装置と、
前記被加工物を搭載する載置台と、
前記光線の照射量を測定する照射測定装置とを有し、
前記照射測定装置は受光部を有し、前記受光部は、前記載置台において、前記光線が前記被加工物に遮光される場所に配置されることを特徴とする光照射装置。 - 請求項1に記載の光照射装置であって、
前記発光装置と、前記載置台とを相対移動して、前記被加工物に前記光線を照射することを特徴とする光照射装置。 - 請求項2に記載の光照射装置であって、
前記照射測定装置が前記光線の照射量を測定するとき、
前記光線を発光している前記発光装置と、前記受光部を備える前記載置台とを相対移動し、前記受光部は、光線が照射される領域を通過して、光線の積算照射量を測定することを特徴とする光照射装置。 - 請求項1〜3のいずれか一項に記載の光照射装置であって、
前記光線は、紫外線であることを特徴とする光照射装置。 - 請求項4に記載の光照射装置であって、
前記発光装置は、エキシマを形成するキセノン、もしくはキセノンを主成分とする放電用ガスを充した誘電体バリア放電エキシマランプを放電して、前記紫外線を発光することを特徴とする光照射装置。 - 被加工物の表面に光線を照射する光照射方法であって、
発光装置が発光する前記光線を照射測定装置の受光部に照射して、前記光線の照射量を、測定する光線測定工程と、
前記照射量の測定結果に基づき、発光装置が発光する光線の前記照射量を調整する調整工程と、
発光装置が発光する光線を前記被加工物の前記表面に照射する照射工程とを有し、
前記照射工程では、前記被加工物が前記受光部を遮蔽することを特徴とする光照射方法。 - 請求項6に記載の光照射方法であって、
前記発光装置と、前記被加工物とを相対移動して、前記被加工物に前記光線を照射することを特徴とする光照射方法。 - 請求項7に記載の光照射方法であって、
前記光線測定工程において、
前記発光装置と、前記受光部を備える前記載置台とを相対移動し、前記受光部は、光線が照射される領域を通過して、光線の積算照射量を測定することを特徴とする光照射方法。 - 請求項6〜8のいずれか一項に記載の光照射方法であって、
前記光線は、紫外線であることを特徴とする光照射方法。 - 請求項9に記載の光照射方法であって、
前記発光装置は、エキシマを形成するキセノン、もしくはキセノンを主成分とする放電用ガスを充した誘電体バリア放電エキシマランプを放電して、前記紫外線を発光することを特徴とする光照射方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006247652A JP2008068278A (ja) | 2006-09-13 | 2006-09-13 | 光照射装置及び光照射方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006247652A JP2008068278A (ja) | 2006-09-13 | 2006-09-13 | 光照射装置及び光照射方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008068278A true JP2008068278A (ja) | 2008-03-27 |
Family
ID=39290338
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006247652A Withdrawn JP2008068278A (ja) | 2006-09-13 | 2006-09-13 | 光照射装置及び光照射方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008068278A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014208623A1 (ja) * | 2013-06-26 | 2014-12-31 | 株式会社ミマキエンジニアリング | インクジェットプリンター、インクジェット印刷方法およびインクジェット印刷システム |
-
2006
- 2006-09-13 JP JP2006247652A patent/JP2008068278A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014208623A1 (ja) * | 2013-06-26 | 2014-12-31 | 株式会社ミマキエンジニアリング | インクジェットプリンター、インクジェット印刷方法およびインクジェット印刷システム |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9972516B2 (en) | Exposure device, substrate processing apparatus, exposure method for substrate and substrate processing method | |
US20180110890A1 (en) | Ultraviolet light sterilizer | |
JP6345297B2 (ja) | 紫外線殺菌装置 | |
US10236200B2 (en) | Exposure device and substrate processing apparatus | |
JP2016200425A (ja) | 紫外線照度測定装置および紫外線照射装置 | |
KR102103632B1 (ko) | 노광 장치, 기판 처리 장치, 기판의 노광 방법 및 기판 처리 방법 | |
JP2008068278A (ja) | 光照射装置及び光照射方法 | |
GB2307759A (en) | Illumination apparatus for irradiating dicing tape | |
KR20180100481A (ko) | 노광 장치, 기판 처리 장치, 기판의 노광 방법 및 기판 처리 방법 | |
WO2018159005A1 (ja) | 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法 | |
TW201901307A (zh) | 曝光裝置及基板處理裝置 | |
WO2018173344A1 (ja) | 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法 | |
WO2018159006A1 (ja) | 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法 | |
KR101164523B1 (ko) | 레이저 빔 프로파일러를 구비하는 레이저 가공장치 | |
JP6597149B2 (ja) | 光照射装置 | |
TWI789518B (zh) | 加工裝置 | |
JP2008049256A (ja) | 光照射装置 | |
JP3333068B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP5017975B2 (ja) | 表面改質方法及び表面改質装置 | |
JP2008049574A (ja) | 光照射装置 | |
JP4503328B2 (ja) | 照射距離自動調整方法及びその装置 | |
JP2003275576A (ja) | 紫外線照射装置 | |
JP2008049255A (ja) | 光照射装置 | |
TWI527120B (zh) | 雷射處理裝置及其控制方法 | |
JP2009097906A (ja) | 全反射蛍光x線分析装置およびその装置に用いるプログラム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20091201 |